JPH0355421B2 - - Google Patents
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- JPH0355421B2 JPH0355421B2 JP18646286A JP18646286A JPH0355421B2 JP H0355421 B2 JPH0355421 B2 JP H0355421B2 JP 18646286 A JP18646286 A JP 18646286A JP 18646286 A JP18646286 A JP 18646286A JP H0355421 B2 JPH0355421 B2 JP H0355421B2
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- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 18
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 10
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 7
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910021397 glassy carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021431 alpha silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000037237 body shape Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000004554 molding of glass Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/03—Press-mould materials defined by material properties or parameters, e.g. relative CTE of mould parts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/22—Non-oxide ceramics
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ガラス（ガラスレンズ、ペンタプリ
ズム、コーナープリズム、コネクターレンズ等）
のプレス成形に用いられるガラス成形型に関す
る。 〔従来の技術〕 冷間の研削、研磨を不要とするガラス成形体の
プレス成形に用いられるガラス成形型に要求され
る条件は、プレス成形時に型面がガラス面にその
まま転写されることから、型面が光学的鏡面に加
工可能なこと、高温でも酸化による肌荒れを起こ
さないこと、被成形ガラスと接触した時にガラス
との融着を起こし難いこと、プレス成形時の衝撃
に耐える機械的強度を持つことなどである。 冷間での研削、研磨が不要なガラス成形体のプ
レス成形型として、特開昭47−11277号公報には、
ガラス状カーボンを用いることが開示されている
が、ガラス状カーボンは酸化し易く、構造的にも
不安定で、ガラス成形中に引つかき傷を生じ易い
欠点を持つている。また、特開昭60−176928号公
報にはアモルフアス炭化珪素（Ａ−sic）、アルフ
ア炭化珪素（α−sic）、及びＡ−sicとα−sicの
混合物から選ばれた膜を被着した型が開示され、
またベータ炭化珪素（β−sic）はプレス成形時
に被成形ガラスと接触した時に融着を起こし易い
旨の開示も成されている。一方で、特開昭60−
176929号公報に開示された如く、β−sicはsicの
中では比較的加工がし易い利点がある。 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、発明者の実験によると、β−sicを
被着した成形型のβ−sic表面の加工（研削・研
磨）時に、引つかき傷の生じ易い構造のβ−sic
膜と引つかき傷の生じ難い構造のβ−sic膜とが
存在し、単にβ−sic膜というだけでは成形型表
面に被着する膜として適しているとは言えない問
題点があつた。 つまり、CVD法によつて合成されるβ−sicは
多結晶体で大別すると表面にピラミツド状の凹凸
のあるフアセツト状の膜と滑らかなコーン状の膜
とが有り、フアセツト状の膜では、膜の研削時に
研削用ダイヤモンドが大きな結晶粒（一般にフア
セツト状の膜の結晶粒の方が、コーン状の膜の結
晶粒よりも大きい）の間に入り込み、膜の研磨を
行つた時に研磨面にダイヤモンド粒が残存した
り、或は、これが脱落して穴となつたり、脱落し
たダイヤモンド粒による引つかき傷が生じて、型
の表面の面粗度を悪くしたり、ガラスの融着を起
こす原因の一つともなり、離型時に面精度を悪化
させる要因ともなつていた。ところが、コーン状
の膜では、膜表面が滑らかな為に膜の研削時に研
削用ダイヤモンドが結晶粒の間に入り込み難く、
面粗度を悪化させる問題点が生じないことが解つ
たのである。更に、発明者がＸ線回析法を用いて
調べたところ、フアセツト状の膜は１１１面配向
性をもつていることが解つた。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は前記問題点を解決する為に成されたも
のであり、少なくとも被成形ガラスの表面に対向
する成形型の型基盤の表面上に主として１１１面
配向性を有するベータ炭化珪素膜が被着されたこ
とを特徴とするガラス成形型である。 〔作用〕 １１１面配向性を有するβ−sic膜を被着する
ことにより、型の研削時に研削用ダイヤモンド粒
が結晶粒の間に入り込み難く、型の研削・研磨時
に引つかき傷を生じ難い。 〔実施例〕 本発明を実施例に基づき詳細に説明する。第１
図は実施例の型の縦断面図であり、両凸レンズの
プレス成形に用いられる型である。１は上型で炭
化珪素の焼決体を直径17mm、長さ28mmの円柱状に
加工し、ガラスと対向する面を曲率半径300mmの
凹面に加工した型基盤１ａに、１１１面配向性を
有するβ−sic膜１ｂを被着したものを面精度が
100Å以下の光学鏡面にダイヤモンド砥石にて加
工したものである。２は下型である。下型２は、
上型１と同材料、同形状で、２ａは型基盤、２ｂ
は１１１面配向性を有するβ−sic膜である。３
は炭化珪素の焼結体の胴型であり、４は被形成ガ
ラスである。 次に、実施例の型基盤１ａ，２ａに１１１面配
向性を有するβ−sic膜を被着する方法について
述べる。第２図は、実施例の型の製作１１１面配
向性を有するβ−sic膜の被着）に用いられる
CVD装置の説明図である。縦型の石英反応管５
の一方にガス供給系６を、他方に真空排気系７を
それぞれ配置する。石英反応管５の内部にセツト
したカーボンヒーターを15kw、400kHzの高周波
誘導加熱により所定温度に加熱し、そのカーボン
ヒーターからの間接加熱で基体（本実施例におい
ては型基盤１ａ）を加熱する。８はワークコイル
である。ガス供給系６内の原料ガスはそれぞれ流
量計９ａ，９ｂ，９ｃを通つて下部より反応管５
に供給されるが、原料のsicl4用バブラー１０は20
℃の恒温槽１１の中にセツトされ、原料ガスsicl4
は流路１２，１３を通つたH2ガスにより反応管
５内へキヤリアされる。sicl4、H2及びC3H8を混
合器１４で混合した後、反応管５内に導入すると
共に全体のH2量を一定に保つ為に別系統のH2ラ
イン（流路１５）を用意して直接石英反応管５に
供給する。排気は反応管上部から油回転ポンプ
（リキツドシールドタイプポンプ）１６ａ，１６
ｂにより行う。油回転ポンプ１６ａ，１６ｂと反
応管５の間にトラツプ１７を設け未反応sicl4及び
反応副生成物のHClを除去する。また、反応管内
の圧力はマノメーター１８を用いて制御する。
sicl4＋H2（モル比にしてsicl4：H2＝１：２）を
900ml／min及びC3H8を60ml／minずつ供給管１
９から供給し、H2を450ml／minずつ供給管１５
から供給する。基体加熱温度（Td）1300℃〜
1650℃、炉内全圧力（Ptot）5Torr〜300Torrで
60分間β−sic膜を合成した。この合成したβ−
sic膜の折出面の配向性をＸ線回折で調べた結果
を表１に示す。尚、図中２０はバルブ、２１は３
方バルブ、２２は減圧弁である。
ズム、コーナープリズム、コネクターレンズ等）
のプレス成形に用いられるガラス成形型に関す
る。 〔従来の技術〕 冷間の研削、研磨を不要とするガラス成形体の
プレス成形に用いられるガラス成形型に要求され
る条件は、プレス成形時に型面がガラス面にその
まま転写されることから、型面が光学的鏡面に加
工可能なこと、高温でも酸化による肌荒れを起こ
さないこと、被成形ガラスと接触した時にガラス
との融着を起こし難いこと、プレス成形時の衝撃
に耐える機械的強度を持つことなどである。 冷間での研削、研磨が不要なガラス成形体のプ
レス成形型として、特開昭47−11277号公報には、
ガラス状カーボンを用いることが開示されている
が、ガラス状カーボンは酸化し易く、構造的にも
不安定で、ガラス成形中に引つかき傷を生じ易い
欠点を持つている。また、特開昭60−176928号公
報にはアモルフアス炭化珪素（Ａ−sic）、アルフ
ア炭化珪素（α−sic）、及びＡ−sicとα−sicの
混合物から選ばれた膜を被着した型が開示され、
またベータ炭化珪素（β−sic）はプレス成形時
に被成形ガラスと接触した時に融着を起こし易い
旨の開示も成されている。一方で、特開昭60−
176929号公報に開示された如く、β−sicはsicの
中では比較的加工がし易い利点がある。 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、発明者の実験によると、β−sicを
被着した成形型のβ−sic表面の加工（研削・研
磨）時に、引つかき傷の生じ易い構造のβ−sic
膜と引つかき傷の生じ難い構造のβ−sic膜とが
存在し、単にβ−sic膜というだけでは成形型表
面に被着する膜として適しているとは言えない問
題点があつた。 つまり、CVD法によつて合成されるβ−sicは
多結晶体で大別すると表面にピラミツド状の凹凸
のあるフアセツト状の膜と滑らかなコーン状の膜
とが有り、フアセツト状の膜では、膜の研削時に
研削用ダイヤモンドが大きな結晶粒（一般にフア
セツト状の膜の結晶粒の方が、コーン状の膜の結
晶粒よりも大きい）の間に入り込み、膜の研磨を
行つた時に研磨面にダイヤモンド粒が残存した
り、或は、これが脱落して穴となつたり、脱落し
たダイヤモンド粒による引つかき傷が生じて、型
の表面の面粗度を悪くしたり、ガラスの融着を起
こす原因の一つともなり、離型時に面精度を悪化
させる要因ともなつていた。ところが、コーン状
の膜では、膜表面が滑らかな為に膜の研削時に研
削用ダイヤモンドが結晶粒の間に入り込み難く、
面粗度を悪化させる問題点が生じないことが解つ
たのである。更に、発明者がＸ線回析法を用いて
調べたところ、フアセツト状の膜は１１１面配向
性をもつていることが解つた。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は前記問題点を解決する為に成されたも
のであり、少なくとも被成形ガラスの表面に対向
する成形型の型基盤の表面上に主として１１１面
配向性を有するベータ炭化珪素膜が被着されたこ
とを特徴とするガラス成形型である。 〔作用〕 １１１面配向性を有するβ−sic膜を被着する
ことにより、型の研削時に研削用ダイヤモンド粒
が結晶粒の間に入り込み難く、型の研削・研磨時
に引つかき傷を生じ難い。 〔実施例〕 本発明を実施例に基づき詳細に説明する。第１
図は実施例の型の縦断面図であり、両凸レンズの
プレス成形に用いられる型である。１は上型で炭
化珪素の焼決体を直径17mm、長さ28mmの円柱状に
加工し、ガラスと対向する面を曲率半径300mmの
凹面に加工した型基盤１ａに、１１１面配向性を
有するβ−sic膜１ｂを被着したものを面精度が
100Å以下の光学鏡面にダイヤモンド砥石にて加
工したものである。２は下型である。下型２は、
上型１と同材料、同形状で、２ａは型基盤、２ｂ
は１１１面配向性を有するβ−sic膜である。３
は炭化珪素の焼結体の胴型であり、４は被形成ガ
ラスである。 次に、実施例の型基盤１ａ，２ａに１１１面配
向性を有するβ−sic膜を被着する方法について
述べる。第２図は、実施例の型の製作１１１面配
向性を有するβ−sic膜の被着）に用いられる
CVD装置の説明図である。縦型の石英反応管５
の一方にガス供給系６を、他方に真空排気系７を
それぞれ配置する。石英反応管５の内部にセツト
したカーボンヒーターを15kw、400kHzの高周波
誘導加熱により所定温度に加熱し、そのカーボン
ヒーターからの間接加熱で基体（本実施例におい
ては型基盤１ａ）を加熱する。８はワークコイル
である。ガス供給系６内の原料ガスはそれぞれ流
量計９ａ，９ｂ，９ｃを通つて下部より反応管５
に供給されるが、原料のsicl4用バブラー１０は20
℃の恒温槽１１の中にセツトされ、原料ガスsicl4
は流路１２，１３を通つたH2ガスにより反応管
５内へキヤリアされる。sicl4、H2及びC3H8を混
合器１４で混合した後、反応管５内に導入すると
共に全体のH2量を一定に保つ為に別系統のH2ラ
イン（流路１５）を用意して直接石英反応管５に
供給する。排気は反応管上部から油回転ポンプ
（リキツドシールドタイプポンプ）１６ａ，１６
ｂにより行う。油回転ポンプ１６ａ，１６ｂと反
応管５の間にトラツプ１７を設け未反応sicl4及び
反応副生成物のHClを除去する。また、反応管内
の圧力はマノメーター１８を用いて制御する。
sicl4＋H2（モル比にしてsicl4：H2＝１：２）を
900ml／min及びC3H8を60ml／minずつ供給管１
９から供給し、H2を450ml／minずつ供給管１５
から供給する。基体加熱温度（Td）1300℃〜
1650℃、炉内全圧力（Ptot）5Torr〜300Torrで
60分間β−sic膜を合成した。この合成したβ−
sic膜の折出面の配向性をＸ線回折で調べた結果
を表１に示す。尚、図中２０はバルブ、２１は３
方バルブ、２２は減圧弁である。
本発明によれば、１１１面配向性を有するβ−
sic膜を被着することから、型の研削・研磨時に
引つかき傷を生じ難いガラス成形型が得られる。
sic膜を被着することから、型の研削・研磨時に
引つかき傷を生じ難いガラス成形型が得られる。
第１図は実施例の成形型の縦断面図、第２図は
実施例に用いたCVD装置の説明図である。 １ａ，２ａ……型基盤、１ｂ，２ｂ……１１１
面配向性を有するβ−sic膜。
実施例に用いたCVD装置の説明図である。 １ａ，２ａ……型基盤、１ｂ，２ｂ……１１１
面配向性を有するβ−sic膜。
Claims (1)
- １ 被成形ガラスをプレス成形する上型と下型と
を含有する成形型において、前記被成形ガラスの
表面に対向する前記成形型の型基盤の表面上に、
主として１１１面配向性を有するベータ炭化珪素
膜が被着されたことを特徴とするガラス成形型。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18646286A JPS6345135A (ja) | 1986-08-07 | 1986-08-07 | ガラス成形型 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18646286A JPS6345135A (ja) | 1986-08-07 | 1986-08-07 | ガラス成形型 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6345135A JPS6345135A (ja) | 1988-02-26 |
| JPH0355421B2 true JPH0355421B2 (ja) | 1991-08-23 |
Family
ID=16188889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18646286A Granted JPS6345135A (ja) | 1986-08-07 | 1986-08-07 | ガラス成形型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6345135A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0662307B2 (ja) * | 1989-04-06 | 1994-08-17 | オリンパス光学工業株式会社 | 光学素子成形用型及びその製造方法 |
| US6560994B1 (en) | 1997-07-18 | 2003-05-13 | Hoya Corporation | Mold used for molding glass optical elements process for preparation of glass optical elements and method for rebirth of mold |
-
1986
- 1986-08-07 JP JP18646286A patent/JPS6345135A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6345135A (ja) | 1988-02-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |