JPH0355789Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0355789Y2 JPH0355789Y2 JP1985121006U JP12100685U JPH0355789Y2 JP H0355789 Y2 JPH0355789 Y2 JP H0355789Y2 JP 1985121006 U JP1985121006 U JP 1985121006U JP 12100685 U JP12100685 U JP 12100685U JP H0355789 Y2 JPH0355789 Y2 JP H0355789Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- air
- intake
- passage
- amount
- valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Characterised By The Charging Evacuation (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この考案は、複数の吸気弁と吸気通路を備えた
内燃機関の吸気装置に関する。
内燃機関の吸気装置に関する。
(従来の技術)
内燃機関の燃費向上等を目的として、燃焼室内
の吸気流動(スワール)を運転状態に応じて可変
制御する技術が種々提案されている(特開昭57−
105534号公報等参照)。
の吸気流動(スワール)を運転状態に応じて可変
制御する技術が種々提案されている(特開昭57−
105534号公報等参照)。
第7図、第8図は、吸気マニホールド1の下流
の吸気通路を副吸気通路2と2つの主吸気通路
3,4とに分割したもので、主吸気通路3,4は
それぞれ吸気弁5,6を介して燃焼室7に接続さ
れ、副吸気通路2は吸気弁5の直前にて一方の主
吸気通路3と合流している。そして、主吸気通路
3,4に機関の低速低負荷時に閉じる遮断弁8,
9が介装されている。
の吸気通路を副吸気通路2と2つの主吸気通路
3,4とに分割したもので、主吸気通路3,4は
それぞれ吸気弁5,6を介して燃焼室7に接続さ
れ、副吸気通路2は吸気弁5の直前にて一方の主
吸気通路3と合流している。そして、主吸気通路
3,4に機関の低速低負荷時に閉じる遮断弁8,
9が介装されている。
遮断弁8,9が閉じる低速低負荷時に、副吸気
通路2からのみ吸気が流入することで、吸気流が
偏ると共に流速が増大し、燃焼室7内に強いスワ
ールを発生する。従つて、燃焼速度が早まり、熱
効率が高まるので、燃費等の機関性能が向上され
る。
通路2からのみ吸気が流入することで、吸気流が
偏ると共に流速が増大し、燃焼室7内に強いスワ
ールを発生する。従つて、燃焼速度が早まり、熱
効率が高まるので、燃費等の機関性能が向上され
る。
また、遮断弁8,9が開く高速高負荷時には、
各通路2,3,4から吸気が流入するので、吸気
に抵抗を与えることがなく、従つて、吸気充填効
率が高まり初期の機関出力が確保される。尚、1
0,11は排気弁を示す。
各通路2,3,4から吸気が流入するので、吸気
に抵抗を与えることがなく、従つて、吸気充填効
率が高まり初期の機関出力が確保される。尚、1
0,11は排気弁を示す。
ところで、主吸気通路3,4のうち一方の通路
4では、遮断弁9の閉時に吸気弁6を通しての燃
焼室7からの燃焼ガスの吹返しにより、遮断弁9
にカーボン等が付着しやすく、遮断弁9が汚れや
すくなつている。
4では、遮断弁9の閉時に吸気弁6を通しての燃
焼室7からの燃焼ガスの吹返しにより、遮断弁9
にカーボン等が付着しやすく、遮断弁9が汚れや
すくなつている。
そこで、この例ではその吹返しを防ぐように、
遮断弁9の下流側に開口する空気通路12を形成
し、図示しない絞弁(スロツトル弁)の上流から
空気を遮断弁9下流側の主吸気通路4へ直接供給
するようにしている。
遮断弁9の下流側に開口する空気通路12を形成
し、図示しない絞弁(スロツトル弁)の上流から
空気を遮断弁9下流側の主吸気通路4へ直接供給
するようにしている。
尚、13,14は空気通路12を開閉する電磁
弁とその制御回路で、電磁弁13は遮断弁8,9
の閉時に空気通路12を開くようになつている。
弁とその制御回路で、電磁弁13は遮断弁8,9
の閉時に空気通路12を開くようになつている。
(考案が解決しようとする問題点)
しかしながら、このような従来例にあつては、
空気通路12の径が一定であるため、次のような
問題を生じる。
空気通路12の径が一定であるため、次のような
問題を生じる。
例えば、空気通路12の径が大きいと、遮断弁
9の汚れ防止には効果的となるが、機関のアイド
リング時のように吸気量が極小さい運転条件で
は、空気通路12からの空気量が多すぎてその分
副吸気通路2から流入する吸気量が少なくなり、
このため燃焼室7にて良好なスワールが得られな
くなつてしまう。
9の汚れ防止には効果的となるが、機関のアイド
リング時のように吸気量が極小さい運転条件で
は、空気通路12からの空気量が多すぎてその分
副吸気通路2から流入する吸気量が少なくなり、
このため燃焼室7にて良好なスワールが得られな
くなつてしまう。
その半面、空気通路12の径が小さいと、吸気
量が大きい運転条件では、燃焼室7から吹返えさ
れるガス量が増加するにもかかわらず、空気通路
12からの空気量が不足するようになり、従つて
遮断弁9の汚れを防止することは難しい。特に汚
れがひどくなると、遮断弁9が作動不良を起こし
たり、固着することもある。
量が大きい運転条件では、燃焼室7から吹返えさ
れるガス量が増加するにもかかわらず、空気通路
12からの空気量が不足するようになり、従つて
遮断弁9の汚れを防止することは難しい。特に汚
れがひどくなると、遮断弁9が作動不良を起こし
たり、固着することもある。
この考案は、運転状態に応じて所定のスワール
を確保しながら遮断弁の汚れを防止することを目
的としている。
を確保しながら遮断弁の汚れを防止することを目
的としている。
(問題点を解決するための手段)
この考案は、第1図に示すように、燃焼室Aに
それぞれ吸気弁B,Cを介して接続する常用の副
吸気通路Dと、高出力用の主吸気通路Eとを設
け、主吸気通路Eに負荷に応じて開閉する遮断弁
Fを介装した内燃機関において、機関の運転状態
を検出する手段G,H,Iと、前記遮断弁Fの下
流側に開口して主吸気通路Eへ空気を供給するバ
イパス空気通路Jと、この供給空気量を制御する
バイパス空気量制御手段Kとを設け、前記運転状
態検出手段G,H,Iからの信号に基づき、前記
遮断弁Fの閉時に吸入空気量が増大するほど前記
供給空気量を増加させるようにしている。
それぞれ吸気弁B,Cを介して接続する常用の副
吸気通路Dと、高出力用の主吸気通路Eとを設
け、主吸気通路Eに負荷に応じて開閉する遮断弁
Fを介装した内燃機関において、機関の運転状態
を検出する手段G,H,Iと、前記遮断弁Fの下
流側に開口して主吸気通路Eへ空気を供給するバ
イパス空気通路Jと、この供給空気量を制御する
バイパス空気量制御手段Kとを設け、前記運転状
態検出手段G,H,Iからの信号に基づき、前記
遮断弁Fの閉時に吸入空気量が増大するほど前記
供給空気量を増加させるようにしている。
(作用)
従つて、遮断弁Fが閉じている状態ではバイパ
ス空気通路Jから遮断弁Fの下流側に供給される
空気量が増加するため、燃焼室Aからの燃焼ガス
の吹返しによる遮断弁Fの汚れが的確に防止さ
れ、他方極低速低負荷状態ではバイパス空気通路
Jからの空気量を少なくして副吸気通路Dからの
流入吸気による良好なスワールの生成が保たれ
る。
ス空気通路Jから遮断弁Fの下流側に供給される
空気量が増加するため、燃焼室Aからの燃焼ガス
の吹返しによる遮断弁Fの汚れが的確に防止さ
れ、他方極低速低負荷状態ではバイパス空気通路
Jからの空気量を少なくして副吸気通路Dからの
流入吸気による良好なスワールの生成が保たれ
る。
(実施例)
第2図、第3図は本考案の実施例を示す概略構
成図とそのa−a断面図で、7は燃焼室、5,6
は吸気弁、3,4は吸気マニホールド1の下流に
て分割された主吸気通路、2は同じく分割され吸
気弁5の直前にて一方の主吸気通路3に合流する
副吸気通路である。
成図とそのa−a断面図で、7は燃焼室、5,6
は吸気弁、3,4は吸気マニホールド1の下流に
て分割された主吸気通路、2は同じく分割され吸
気弁5の直前にて一方の主吸気通路3に合流する
副吸気通路である。
8,9は図示しないアクチユエータにより駆動
され、機関の低速低負荷時に主吸気通路3,4を
閉じる遮断弁である。
され、機関の低速低負荷時に主吸気通路3,4を
閉じる遮断弁である。
ただし、この例では1気筒当たり2つの主吸気
通路3,4と遮断弁8,9を設けているが、副吸
気通路2が合流する主吸気通路3と遮断弁8を設
けず、第1図のようにしても良い。
通路3,4と遮断弁8,9を設けているが、副吸
気通路2が合流する主吸気通路3と遮断弁8を設
けず、第1図のようにしても良い。
そして、遮断弁9の下流側に開口して、図示し
ない絞弁の上流から遮断弁9の下流側の主吸気通
路4に直接空気を供給するバイパス空気通路15
が形成される。
ない絞弁の上流から遮断弁9の下流側の主吸気通
路4に直接空気を供給するバイパス空気通路15
が形成される。
このバイパス空気通路15は、途中が第1の通
路16と第2の通路17とに分割され、第1の通
路16にオリフイス18が、第2の通路17にオ
リフイス19と電磁弁20がそれぞれ介装され
る。
路16と第2の通路17とに分割され、第1の通
路16にオリフイス18が、第2の通路17にオ
リフイス19と電磁弁20がそれぞれ介装され
る。
一方、機関の運転状態を検出する手段として車
速を検出する車速センサ21と、機関回転数を検
出する回転センサ22と、機関吸入空気量を検出
する吸気量センサ23とが設けられる。
速を検出する車速センサ21と、機関回転数を検
出する回転センサ22と、機関吸入空気量を検出
する吸気量センサ23とが設けられる。
これら各センサ21〜23からの検出信号は、
バイパス空気量制御手段としての制御回路24に
入力され、制御回路24はこれらの検出信号に基
づいて前記電磁弁20を開閉制御する。
バイパス空気量制御手段としての制御回路24に
入力され、制御回路24はこれらの検出信号に基
づいて前記電磁弁20を開閉制御する。
例えば、車速、回転数あるいは吸気量が所定値
よりも小さい運転状態では、制御回路24は電磁
弁20を閉じ、所定値以上の運転状態では、電磁
弁20を開くように制御する。
よりも小さい運転状態では、制御回路24は電磁
弁20を閉じ、所定値以上の運転状態では、電磁
弁20を開くように制御する。
次に作用を第4図のフローチヤートに基づいて
説明する。
説明する。
S1にて車速Vと回転数Nと吸気量Qが読込ま
れ、S2にて回転数Nと吸気量Qと定数kとから
機関の燃料供給量Tが算出される。
れ、S2にて回転数Nと吸気量Qと定数kとから
機関の燃料供給量Tが算出される。
そして、S3〜S5にて車速Vと回転数Nと燃
料供給量Tがそれぞれ所定値と比較され、これら
の一つでも所定値よりも小さいときつまり機関の
極低速および低負荷域では、S6にて電磁弁20
が閉じられる。
料供給量Tがそれぞれ所定値と比較され、これら
の一つでも所定値よりも小さいときつまり機関の
極低速および低負荷域では、S6にて電磁弁20
が閉じられる。
従つて、このときバイパス空気通路15から第
1の通路16のみを通つた空気が遮断弁9の下流
側の主吸気通路4に供給されるが、この空気量は
少ないため、副吸気通路2から燃焼室7に流入す
る吸気量に影響を及ぼすことはなくなる。
1の通路16のみを通つた空気が遮断弁9の下流
側の主吸気通路4に供給されるが、この空気量は
少ないため、副吸気通路2から燃焼室7に流入す
る吸気量に影響を及ぼすことはなくなる。
これにより、アイドリングを含む機関の極低速
低負荷時に、燃焼室7から遮断弁9側への燃焼ガ
スの吹返しを防止しつつ、副吸気通路2からの流
入空気により燃焼室7にて良好なスワールを確保
することができる。
低負荷時に、燃焼室7から遮断弁9側への燃焼ガ
スの吹返しを防止しつつ、副吸気通路2からの流
入空気により燃焼室7にて良好なスワールを確保
することができる。
この一方、S3〜S5にて車速Vと回転数Nと
燃料供給量Tのいずれも所定値以上のときには、
S7にて電磁弁20が開かれる。
燃料供給量Tのいずれも所定値以上のときには、
S7にて電磁弁20が開かれる。
すると、遮断弁9の下流側の主吸気通路4に
は、バイパス空気通路15から第1の通路16及
び第2の通路17を通つた空気が供給されること
になり、その空気量が増加される。
は、バイパス空気通路15から第1の通路16及
び第2の通路17を通つた空気が供給されること
になり、その空気量が増加される。
このため、このような運転状態では、燃焼室7
から吹返される燃焼ガスも増加するが、この吹返
しをバイパス空気通路15からの空気によつて的
確に防ぐことができ、これにより遮断弁9の汚れ
を確実に防止することができる。
から吹返される燃焼ガスも増加するが、この吹返
しをバイパス空気通路15からの空気によつて的
確に防ぐことができ、これにより遮断弁9の汚れ
を確実に防止することができる。
尚、この運転状態では、機関の吸気量がある程
度大きくなるため、バイパス空気通路15からの
空気量を増加しても、燃焼室7にて所定のスワー
ルを維持できる。
度大きくなるため、バイパス空気通路15からの
空気量を増加しても、燃焼室7にて所定のスワー
ルを維持できる。
ところで、電磁弁20の開閉条件として第5図
に示すように、車速Vと回転数Nと燃料供給量T
のいずれもが所定値よりも小さいときにのみ、電
磁弁20を閉じるようにしても良い。この場合に
は、例えば極低速域にあつてもある程度負荷が高
い状態であれば、バイパス空気通路15からの空
気量が増加されることから、遮断弁9の汚れ防止
により効果的となる。また、もちろん電磁弁20
の開閉を車速、回転数、吸気量のうち一つのパラ
メータにより制御することも可能である。
に示すように、車速Vと回転数Nと燃料供給量T
のいずれもが所定値よりも小さいときにのみ、電
磁弁20を閉じるようにしても良い。この場合に
は、例えば極低速域にあつてもある程度負荷が高
い状態であれば、バイパス空気通路15からの空
気量が増加されることから、遮断弁9の汚れ防止
により効果的となる。また、もちろん電磁弁20
の開閉を車速、回転数、吸気量のうち一つのパラ
メータにより制御することも可能である。
尚、第6図に示すように、バイパス空気通路1
5の第1、第2の通路16,17に介装されるオ
リフイス18,19の口径を異なつたサイズに設
定しても良い。ただし、25は三方電磁弁で、制
御回路24からの信号により、通路16,17を
選択的に切り換えるものである。
5の第1、第2の通路16,17に介装されるオ
リフイス18,19の口径を異なつたサイズに設
定しても良い。ただし、25は三方電磁弁で、制
御回路24からの信号により、通路16,17を
選択的に切り換えるものである。
(考案の効果)
以上のように本考案によれば、バイパス空気通
路から遮断弁下流の主吸気通路に供給する空気量
を運転状態に応じて増減するようにしたので、副
吸気通路からの流入吸気による燃焼室での良好な
吸気流動を確保しながら、燃焼ガスの吹返しによ
る遮断弁の汚れを的確に防止できるという効果が
ある。
路から遮断弁下流の主吸気通路に供給する空気量
を運転状態に応じて増減するようにしたので、副
吸気通路からの流入吸気による燃焼室での良好な
吸気流動を確保しながら、燃焼ガスの吹返しによ
る遮断弁の汚れを的確に防止できるという効果が
ある。
第1図はクレーム対応図、第2図、第3図は本
考案の実施例を示す概略構成図とそのa−a線断
面図、第4図、第5図はその制御内容を示すフロ
ーチヤート、第6図は本考案の他の実施例を示す
概略構成図、第7図、第8図は従来例の概略構成
図とそのb−b線断面図である。 2……副吸気通路、3,4……主吸気通路、
5,6……吸気弁、7……燃焼室、8,9……遮
断弁、15……バイパス空気通路、16……第1
の通路、17……第2の通路、20……電磁弁、
21……車速センサ、22……回転センサ、23
……吸気量センサ、24……制御回路。
考案の実施例を示す概略構成図とそのa−a線断
面図、第4図、第5図はその制御内容を示すフロ
ーチヤート、第6図は本考案の他の実施例を示す
概略構成図、第7図、第8図は従来例の概略構成
図とそのb−b線断面図である。 2……副吸気通路、3,4……主吸気通路、
5,6……吸気弁、7……燃焼室、8,9……遮
断弁、15……バイパス空気通路、16……第1
の通路、17……第2の通路、20……電磁弁、
21……車速センサ、22……回転センサ、23
……吸気量センサ、24……制御回路。
Claims (1)
- 燃焼室にそれぞれ吸気弁を介して接続する副吸
気通路と、主吸気通路とを設け、主吸気通路に負
荷に応じて開閉する遮断弁を介装した内燃機関に
おいて、機関の運転状態を検出する手段と、前記
遮断弁の下流側に開口して主吸気通路へ空気を供
給するバイパス空気通路と、この供給空気量を制
御するバイパス空気量制御手段とを設け、前記運
転状態検出手段からの信号に基づき、前記遮断弁
閉時に吸入空気量が増大するほど前記供給空気量
を増加させるようにしたことを特徴とする内燃機
関の吸気装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985121006U JPH0355789Y2 (ja) | 1985-08-07 | 1985-08-07 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985121006U JPH0355789Y2 (ja) | 1985-08-07 | 1985-08-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6229443U JPS6229443U (ja) | 1987-02-23 |
| JPH0355789Y2 true JPH0355789Y2 (ja) | 1991-12-12 |
Family
ID=31009864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985121006U Expired JPH0355789Y2 (ja) | 1985-08-07 | 1985-08-07 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0355789Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6060011A (ja) * | 1983-09-12 | 1985-04-06 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 低騒音タイヤ |
-
1985
- 1985-08-07 JP JP1985121006U patent/JPH0355789Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6229443U (ja) | 1987-02-23 |
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