JPH0355974B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0355974B2 JPH0355974B2 JP22838582A JP22838582A JPH0355974B2 JP H0355974 B2 JPH0355974 B2 JP H0355974B2 JP 22838582 A JP22838582 A JP 22838582A JP 22838582 A JP22838582 A JP 22838582A JP H0355974 B2 JPH0355974 B2 JP H0355974B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dry plate
- hard dry
- hard
- stand
- photomask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(1) 発明の技術分野
本発明は露光装置、詳しくはステツパーまたは
フオトマスクリピーターにおけるウエハまたはガ
ラス乾板(ハード乾板)位置ぎめおよび解放用の
芯出し機構に関する。
フオトマスクリピーターにおけるウエハまたはガ
ラス乾板(ハード乾板)位置ぎめおよび解放用の
芯出し機構に関する。
(2) 技術の背景
例えばフオトマスクの製造においては、フオト
マスクリピーターを用いハード乾板に対して露光
を行う。かかるフオトマスクリピーターは第1図
の概略断面図に示される構造のものであり、同図
において、Lはレンズ1aの上方位置におかれた
水銀灯からの光、1a,1b,1cはレンズ、2
は実際に形成されるパターンの例えば10倍のパタ
ーンが作られたレチクル、3は本体、4はレンズ
カバー、5はハード乾板、6は金属性の台(ステ
ージ)を示し、ハード乾板5はソーダガラスのの
上にクロム(Cr)膜が、またこのクロム膜の上
にフオトレジスト膜が塗布されたものであり、ハ
ード乾板5上にレチクル2のパターンが順次縮小
投影される。台6は図示しない駆動源に接続され
てXY方向の動きをなし、レチクル2のパターン
が一駒ずつ順次ハード乾板5上に縮小投影される
ことを可能にし、所定の露光が終ると現像工程、
エツチング工程等を経てフオトマスクが完成され
る。かかるフオトマスクは例えばウエハの露光に
用いられるものである。
マスクリピーターを用いハード乾板に対して露光
を行う。かかるフオトマスクリピーターは第1図
の概略断面図に示される構造のものであり、同図
において、Lはレンズ1aの上方位置におかれた
水銀灯からの光、1a,1b,1cはレンズ、2
は実際に形成されるパターンの例えば10倍のパタ
ーンが作られたレチクル、3は本体、4はレンズ
カバー、5はハード乾板、6は金属性の台(ステ
ージ)を示し、ハード乾板5はソーダガラスのの
上にクロム(Cr)膜が、またこのクロム膜の上
にフオトレジスト膜が塗布されたものであり、ハ
ード乾板5上にレチクル2のパターンが順次縮小
投影される。台6は図示しない駆動源に接続され
てXY方向の動きをなし、レチクル2のパターン
が一駒ずつ順次ハード乾板5上に縮小投影される
ことを可能にし、所定の露光が終ると現像工程、
エツチング工程等を経てフオトマスクが完成され
る。かかるフオトマスクは例えばウエハの露光に
用いられるものである。
第2図は台6の平面図であり、この台6の上に
ハード乾板5が配置される。同図において7は台
6の中心、8は溝、9は図示しない排気装置に連
結された排気孔を示し、溝8と排気孔9はハード
乾板5が台6上に置かれるとき、排気孔8から排
気することによりハード乾板5を台6に接し真空
吸着する如き真空吸着手段を構成する。ここでハ
ード乾板5が正しく位置ぎめしてセツトされるこ
とが前記した露光のために重要であり、その目的
で位置ぎめピンのための孔10a,10b…が設
けられる。
ハード乾板5が配置される。同図において7は台
6の中心、8は溝、9は図示しない排気装置に連
結された排気孔を示し、溝8と排気孔9はハード
乾板5が台6上に置かれるとき、排気孔8から排
気することによりハード乾板5を台6に接し真空
吸着する如き真空吸着手段を構成する。ここでハ
ード乾板5が正しく位置ぎめしてセツトされるこ
とが前記した露光のために重要であり、その目的
で位置ぎめピンのための孔10a,10b…が設
けられる。
ハード乾板5は、1辺が例えば10.16cm(4イ
ンチ)、12.7cm(5インチ)、15.24cm(6インチ)
の長さの方形のもので(これらを以下には4イン
チハード乾板…と略称する)、それの位置ぎめの
ために、中心7から一定の距離の点10a,10
b…に穴を形成しておき、ハード乾板5の寸法に
応じ3点例えば10a,10b,10cにピンを
挿入し、3点固定法によつてハード乾板5を位置
ぎめする。ハード乾板5が位置ぎめされてセツト
されると、それは前記した真空チヤツクによつて
強固に台6上に吸着固定され、しかる後に露光が
行われる。以上にはフオトマスクの製造に用いる
フオトマスクリピーターについて説明したが、ウ
エハの露光に際してはステツパーが用いられる。
しかし、ステツパーも上記のリピーターと同一構
成であり、ウエハを台6上に固定するについても
全く同様の機構が用いられる。
ンチ)、12.7cm(5インチ)、15.24cm(6インチ)
の長さの方形のもので(これらを以下には4イン
チハード乾板…と略称する)、それの位置ぎめの
ために、中心7から一定の距離の点10a,10
b…に穴を形成しておき、ハード乾板5の寸法に
応じ3点例えば10a,10b,10cにピンを
挿入し、3点固定法によつてハード乾板5を位置
ぎめする。ハード乾板5が位置ぎめされてセツト
されると、それは前記した真空チヤツクによつて
強固に台6上に吸着固定され、しかる後に露光が
行われる。以上にはフオトマスクの製造に用いる
フオトマスクリピーターについて説明したが、ウ
エハの露光に際してはステツパーが用いられる。
しかし、ステツパーも上記のリピーターと同一構
成であり、ウエハを台6上に固定するについても
全く同様の機構が用いられる。
(3) 従来技術と問題点
上記したフオトマスクリピーターは一般に良好
に作動するが、のハード乾板5の位置ぎめおよび
それの露光後の取出しにおいて問題がある。
に作動するが、のハード乾板5の位置ぎめおよび
それの露光後の取出しにおいて問題がある。
第2図に戻りハード乾板の位置ぎめに関し説明
すると前記した如くハード乾板の寸法に応じてそ
の都度所定の穴10a…にピンの入れ替えを行わ
なければならない。フオトマスクの種類が頻繁に
代えられたとすると、かかるピンの入れ替えに余
分の時間を要し、フオトマスクリピーターの作業
性が低下する原因となる。
すると前記した如くハード乾板の寸法に応じてそ
の都度所定の穴10a…にピンの入れ替えを行わ
なければならない。フオトマスクの種類が頻繁に
代えられたとすると、かかるピンの入れ替えに余
分の時間を要し、フオトマスクリピーターの作業
性が低下する原因となる。
ハード乾板5の露光が終ると、それを台6から
取り出さなければならない。第1図に戻ると、ハ
ード乾板5の上表面とレンズカバー4の先端部分
との間隔はきわめて小であり、ハード乾板5上の
フオトレジスト膜を剥離することなく引き出すに
は、ハード乾板5を台5にほぼ平行に出さなけれ
ばならない。
取り出さなければならない。第1図に戻ると、ハ
ード乾板5の上表面とレンズカバー4の先端部分
との間隔はきわめて小であり、ハード乾板5上の
フオトレジスト膜を剥離することなく引き出すに
は、ハード乾板5を台5にほぼ平行に出さなけれ
ばならない。
ところが、ハード乾板5は台6に接して真空吸
着されているので、引き出すときにハード乾板5
の台6と接している裏面が台6とこすり合う。台
6は前記したように金属性のものであるので、ハ
ード乾板5がこすられたとき裏面に傷が付くこと
がある。かかる傷はフオトマスクを用いて露光す
るときの被照射体例えばウエハ上に転写されるの
で、不良品の原因となるおそれがある。
着されているので、引き出すときにハード乾板5
の台6と接している裏面が台6とこすり合う。台
6は前記したように金属性のものであるので、ハ
ード乾板5がこすられたとき裏面に傷が付くこと
がある。かかる傷はフオトマスクを用いて露光す
るときの被照射体例えばウエハ上に転写されるの
で、不良品の原因となるおそれがある。
(4) 発明の目的
本発明は上記従来の問題点に鑑み、乾板または
ウエハを、容易にかつ正確に位置ぎめしてセツト
し、またそれを傷付けることなく容易に取り出す
ことが可能な露光装置を提供するにある。
ウエハを、容易にかつ正確に位置ぎめしてセツト
し、またそれを傷付けることなく容易に取り出す
ことが可能な露光装置を提供するにある。
(5) 発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、複数の気体
通路と、該気体通路の圧力に応じて上下動する複
数の位置決めピンを有する試料台を備え、該位置
決めピンを複数の被露光乾板のサイズに対応して
配置し、被露光乾板のサイズに応じて該気体通路
の圧力を切り換え、該位置決めピンを選択的に該
試料台上に突出させるようにしたことを特徴とす
る露光装置を提供することによつて達成され、ま
た該露光装置において、前記位置決めピンの1ま
たは数個は、最も小なる乾板のための位置決めピ
ンよりは試料台の中心に近い位置に配置され、乾
板の取出しの際に該試料台の表面の上に突出する
構成としてもよい。
通路と、該気体通路の圧力に応じて上下動する複
数の位置決めピンを有する試料台を備え、該位置
決めピンを複数の被露光乾板のサイズに対応して
配置し、被露光乾板のサイズに応じて該気体通路
の圧力を切り換え、該位置決めピンを選択的に該
試料台上に突出させるようにしたことを特徴とす
る露光装置を提供することによつて達成され、ま
た該露光装置において、前記位置決めピンの1ま
たは数個は、最も小なる乾板のための位置決めピ
ンよりは試料台の中心に近い位置に配置され、乾
板の取出しの際に該試料台の表面の上に突出する
構成としてもよい。
(6) 発明の実施例
以下本発明実施例を図面によつて詳述する。
第3図に本発明にかかる露光装置機構、すなわ
ちフオトマスクリピーターの台の平面図が示さ
れ、この台は以下に説明する芯出し機構を除くと
第2図に示した従来の台6と同じ構成のものであ
るので、第3図において既に図示した部分と同じ
部分は同一符号を付して示す。
ちフオトマスクリピーターの台の平面図が示さ
れ、この台は以下に説明する芯出し機構を除くと
第2図に示した従来の台6と同じ構成のものであ
るので、第3図において既に図示した部分と同じ
部分は同一符号を付して示す。
台6には、第2図の実施の例の穴10a,10
b…に対応する位置に、芯出し機構20a,20
b…を設ける。すなわち図において、芯出し機構
20a,20b,20cは4インチハード乾板の
ためのものであり、20d,20e,20fは次
のより大なる寸法の5インチハード乾板のための
ものであり、順次同様にして異なる寸法のハード
乾板を位置ぎめするように芯出し機構を配置す
る。
b…に対応する位置に、芯出し機構20a,20
b…を設ける。すなわち図において、芯出し機構
20a,20b,20cは4インチハード乾板の
ためのものであり、20d,20e,20fは次
のより大なる寸法の5インチハード乾板のための
ものであり、順次同様にして異なる寸法のハード
乾板を位置ぎめするように芯出し機構を配置す
る。
芯出し機構20aは第4図に示される構成のも
ので、同図において11は気体通路、12は切替
スイツチで、流路11は気体例えば窒素(N2)
ガスまたはドライエアの供給源(図示せず)に連
結されている。切替スイツチには処理されるべき
ハード乾板の寸法に対応して認識符号を付けてお
き、与えられたハード乾板に対して切り替えられ
るべきスイツチが容易に認識されうるようにす
る。
ので、同図において11は気体通路、12は切替
スイツチで、流路11は気体例えば窒素(N2)
ガスまたはドライエアの供給源(図示せず)に連
結されている。切替スイツチには処理されるべき
ハード乾板の寸法に対応して認識符号を付けてお
き、与えられたハード乾板に対して切り替えられ
るべきスイツチが容易に認識されうるようにす
る。
第4図の芯出し機構20a…は突出位置にあ
り、その1つの詳細は第5図aに示される。それ
は、弁部21、ピン部22、封止部23から成
り、、例えばドライエアが第5図aに矢印で示す
方向に送られると、弁部21が持ち上げられてピ
ン部22が台6の上表面の上に突出する。その状
態が第4図に示されるが、この位置で所定の例え
ば4インチハード乾板が位置ぎめされうる。すな
わち、操作者は、ハード乾板の1辺は芯出し機構
20a,20bに、他の1辺は芯出し機構20c
に接するようハード乾板を押し付けると、3点固
定の原理でハード乾板の中心は台6の中心7と一
致する。
り、その1つの詳細は第5図aに示される。それ
は、弁部21、ピン部22、封止部23から成
り、、例えばドライエアが第5図aに矢印で示す
方向に送られると、弁部21が持ち上げられてピ
ン部22が台6の上表面の上に突出する。その状
態が第4図に示されるが、この位置で所定の例え
ば4インチハード乾板が位置ぎめされうる。すな
わち、操作者は、ハード乾板の1辺は芯出し機構
20a,20bに、他の1辺は芯出し機構20c
に接するようハード乾板を押し付けると、3点固
定の原理でハード乾板の中心は台6の中心7と一
致する。
他の例えば5インチハード乾板を位置ぎめした
いときは、第5図bに矢印で示される方向にドラ
イエアが流れるようにスイツチを切り替えると、
弁部21が下がり、それと共にピン部22の頂部
は台6の表面と同一面上に位置し、また封止部2
3が流路11の孔を封じ、芯出し機構20aは台
内に隠れることになる。次いで、5インチハード
乾板のための切替スイツチを切り替えて、芯出し
機構20d,20e,20fを第4図、第5図a
に示される如くに突出させる。かくして、与えら
れたハード乾板に対し、それの位置ぎめのために
は、従来技術における位置ぎめピンの入れ替え等
をなすことなく、切替スイツチの操作のみによつ
て位置ぎめ用の芯出し機構を容易に台6の上表面
の上に突出させまたは台6内に隠させることが可
能になり、それによつて異なつた寸法のハード乾
板の位置ぎめが容易に、かつ、正確になされう
る。なお、特定のハード乾板に関して芯出し機構
の数と配置をいかにするかは前以つて選定してお
けばよいが、図示の3個の芯出し機構の配置で満
足すべき操作が可能となつた。
いときは、第5図bに矢印で示される方向にドラ
イエアが流れるようにスイツチを切り替えると、
弁部21が下がり、それと共にピン部22の頂部
は台6の表面と同一面上に位置し、また封止部2
3が流路11の孔を封じ、芯出し機構20aは台
内に隠れることになる。次いで、5インチハード
乾板のための切替スイツチを切り替えて、芯出し
機構20d,20e,20fを第4図、第5図a
に示される如くに突出させる。かくして、与えら
れたハード乾板に対し、それの位置ぎめのために
は、従来技術における位置ぎめピンの入れ替え等
をなすことなく、切替スイツチの操作のみによつ
て位置ぎめ用の芯出し機構を容易に台6の上表面
の上に突出させまたは台6内に隠させることが可
能になり、それによつて異なつた寸法のハード乾
板の位置ぎめが容易に、かつ、正確になされう
る。なお、特定のハード乾板に関して芯出し機構
の数と配置をいかにするかは前以つて選定してお
けばよいが、図示の3個の芯出し機構の配置で満
足すべき操作が可能となつた。
本発明の実施例においては、上記した芯出し機
構と同様の解放用芯出し機構30a,30b…
を、台6上に載置される最も小なる寸法のハード
乾板用の芯出し機構、例えば4インチハード乾板
が最も小なる寸法のものであるときは芯出し機構
20a,20b,20cの内方にすなわちそれよ
りも中心7により近い位置に、1個ないし複数個
設置する。これらの解放用芯出し機構30a…は
第4図、第5図に示した芯出し機構と同様の原理
で働くよう構成する。第3図に戻り、ハード乾板
の処理が終ると(そのときまで機構30a…は第
5図bに示す台6内に隠れた状態にある)、前記
したと同様に、すなわち所定のスイツチ(それに
も認識符号が付けられている)を切り替え、芯出
し機構30a…を台6の上表面の上に突出させ
る。それによつてハード乾板は真空手段により真
空吸着された状態から解放され自由になる。次い
で操作者は自由になつたハード乾板を引き出せば
よく、そのときハード乾板は台6から完全に離れ
ているから、従来例における如くハード乾板の裏
面と台6の表面とがこすり合されハード乾板の裏
面が傷付けられることが防止されうる。
構と同様の解放用芯出し機構30a,30b…
を、台6上に載置される最も小なる寸法のハード
乾板用の芯出し機構、例えば4インチハード乾板
が最も小なる寸法のものであるときは芯出し機構
20a,20b,20cの内方にすなわちそれよ
りも中心7により近い位置に、1個ないし複数個
設置する。これらの解放用芯出し機構30a…は
第4図、第5図に示した芯出し機構と同様の原理
で働くよう構成する。第3図に戻り、ハード乾板
の処理が終ると(そのときまで機構30a…は第
5図bに示す台6内に隠れた状態にある)、前記
したと同様に、すなわち所定のスイツチ(それに
も認識符号が付けられている)を切り替え、芯出
し機構30a…を台6の上表面の上に突出させ
る。それによつてハード乾板は真空手段により真
空吸着された状態から解放され自由になる。次い
で操作者は自由になつたハード乾板を引き出せば
よく、そのときハード乾板は台6から完全に離れ
ているから、従来例における如くハード乾板の裏
面と台6の表面とがこすり合されハード乾板の裏
面が傷付けられることが防止されうる。
上記した解放用芯出し機構は1個ないし数個設
置しうるが、第3図に示す如く方形を構成する如
く4個設置し、または真空チヤツクの溝8の外側
に3個等間隔に設置してもよい。
置しうるが、第3図に示す如く方形を構成する如
く4個設置し、または真空チヤツクの溝8の外側
に3個等間隔に設置してもよい。
(7) 発明の効果
以上、詳細に説明したように、本発明の露光装
置によるときは、フオトマスクリピーターを用い
るフオトマスク用のハード乾板の露光において、
ハード乾板の位置ぎめが容易に、かつ、正確にな
されうるだけでなく、露光の終つた後のハード乾
板の取出しが真空吸着手段の影響を受けることな
く自由な状態でなされ、その際ハード乾板の裏面
が傷付けられることが防止されるので、半導体装
置の製造歩留りと、製造されるフオトマスクの信
頼性向上に効果大である。なお、上記においては
フオトマスクリピーターにおけるハード乾板の位
置ぎめ、取出しについて説明したが、本発明適用
範囲はその場合に限定されるものでなく、ステツ
パーを用いるウエハの処理の場合にも及ぶもので
あることはいうまでもない。更に、本発明の適用
範囲は図示し説明した配置に限定されるものでは
なく、その他の配置を用いる場合にも及ぶもので
ある。
置によるときは、フオトマスクリピーターを用い
るフオトマスク用のハード乾板の露光において、
ハード乾板の位置ぎめが容易に、かつ、正確にな
されうるだけでなく、露光の終つた後のハード乾
板の取出しが真空吸着手段の影響を受けることな
く自由な状態でなされ、その際ハード乾板の裏面
が傷付けられることが防止されるので、半導体装
置の製造歩留りと、製造されるフオトマスクの信
頼性向上に効果大である。なお、上記においては
フオトマスクリピーターにおけるハード乾板の位
置ぎめ、取出しについて説明したが、本発明適用
範囲はその場合に限定されるものでなく、ステツ
パーを用いるウエハの処理の場合にも及ぶもので
あることはいうまでもない。更に、本発明の適用
範囲は図示し説明した配置に限定されるものでは
なく、その他の配置を用いる場合にも及ぶもので
ある。
第1図はフオトマスクリピーターの概略断面
図、第2図は前記フオトマスクリピーターの台の
平面図、第3図は本発明にかかる露光装置を備え
たフオトマスクリピーターの台の平面図、第4図
は第3図の露光装置の一部の断面図、第5図aと
bは第4図の機構の芯出し機構を詳細に示す断面
図である。 5……ハード乾板、6……台(ステージ)、7
……台6の中心、8……溝、9……排気孔、11
……気体流路、12……切替スイツチ、20a,
20b……芯出し機構、21……弁部、22……
ピン部、23……封止部、30a,30b……解
放用芯出し機構。
図、第2図は前記フオトマスクリピーターの台の
平面図、第3図は本発明にかかる露光装置を備え
たフオトマスクリピーターの台の平面図、第4図
は第3図の露光装置の一部の断面図、第5図aと
bは第4図の機構の芯出し機構を詳細に示す断面
図である。 5……ハード乾板、6……台(ステージ)、7
……台6の中心、8……溝、9……排気孔、11
……気体流路、12……切替スイツチ、20a,
20b……芯出し機構、21……弁部、22……
ピン部、23……封止部、30a,30b……解
放用芯出し機構。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 複数の気体通路と、該気体通路の圧力に応じ
て上下動する複数の位置決めピンを有する試料台
を備え、該位置決めピンを複数の被露光乾板のサ
イズに対応して配置し、被露光乾板のサイズに応
じて該気体通路の圧力を切り換え、該位置決めピ
ンを選択的に該試料台上に突出させるようにした
ことを特徴とする露光装置。 2 前記位置決めピンの1または数個は、最も小
なる乾板のための位置決めピンよりは試料台の中
心に近い位置に配置され、乾板の取出しの際に該
試料台の表面の上に突出する構成としたことを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57228385A JPS59119355A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57228385A JPS59119355A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59119355A JPS59119355A (ja) | 1984-07-10 |
| JPH0355974B2 true JPH0355974B2 (ja) | 1991-08-27 |
Family
ID=16875634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57228385A Granted JPS59119355A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59119355A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018087428A1 (en) | 2016-11-08 | 2018-05-17 | Woodio Oy | Compressed articles and methods of manufacturing the same |
| WO2020058579A1 (en) | 2018-09-21 | 2020-03-26 | Woodio Oy | Method of manufacturing moulded articles |
-
1982
- 1982-12-27 JP JP57228385A patent/JPS59119355A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018087428A1 (en) | 2016-11-08 | 2018-05-17 | Woodio Oy | Compressed articles and methods of manufacturing the same |
| WO2020058579A1 (en) | 2018-09-21 | 2020-03-26 | Woodio Oy | Method of manufacturing moulded articles |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59119355A (ja) | 1984-07-10 |
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