JPH0356748B2 - - Google Patents
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- JPH0356748B2 JPH0356748B2 JP59163589A JP16358984A JPH0356748B2 JP H0356748 B2 JPH0356748 B2 JP H0356748B2 JP 59163589 A JP59163589 A JP 59163589A JP 16358984 A JP16358984 A JP 16358984A JP H0356748 B2 JPH0356748 B2 JP H0356748B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- laser beam
- irradiation
- light
- irradiated
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- Laser Surgery Devices (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は特定波長域のレーザー光線をリウマ
チ、関節炎等の患部に照射することによつて治療
するレーザー光線治療器に関するものである。
チ、関節炎等の患部に照射することによつて治療
するレーザー光線治療器に関するものである。
「従来の技術」
近年、特定の波長域、すなわち赤色可視光域お
よび近赤外線域に属する光線をリウマチ、関節炎
等の患部に照射すると、病状の好転が見られるこ
とが知見され、この原理を利用した光線治療器が
提案されている。従来知られている光線治療器
は、光源を赤外線裸電球または炭素アーク光と
し、これらの光源からの光線を所定距離はなした
患部に直接照射する構造のものである。
よび近赤外線域に属する光線をリウマチ、関節炎
等の患部に照射すると、病状の好転が見られるこ
とが知見され、この原理を利用した光線治療器が
提案されている。従来知られている光線治療器
は、光源を赤外線裸電球または炭素アーク光と
し、これらの光源からの光線を所定距離はなした
患部に直接照射する構造のものである。
「発明が解決しようとする問題点」
従来の光線治療器の光源は、赤外線裸電球また
は炭素アークであり、その発生光線は自然放出光
であるため、種々波長の光線の集りであり、しか
も位相の整然とした波は10-8〜10-9秒程度で、長
さにして１ｍくらいしか続かず、このような切れ
切れの波の集りである。そのため、従来の光線治
療器には、光源に所定量の電圧を印加しても、発
生する光線中に含まれる治療に好適な波長の光線
量が比較的少なく、しかもその指向性、集束度が
低く、被照射部（患部）に与えるエネルギーも少
なく、有効光線の照射効率が低く、所要の効果を
得るためのランニングコストが高いという欠点が
ある。さらに、この従来の光線治療器において
は、効果的な集光装置が設けられていないので、
より一層照射効率の低下につながつている。
は炭素アークであり、その発生光線は自然放出光
であるため、種々波長の光線の集りであり、しか
も位相の整然とした波は10-8〜10-9秒程度で、長
さにして１ｍくらいしか続かず、このような切れ
切れの波の集りである。そのため、従来の光線治
療器には、光源に所定量の電圧を印加しても、発
生する光線中に含まれる治療に好適な波長の光線
量が比較的少なく、しかもその指向性、集束度が
低く、被照射部（患部）に与えるエネルギーも少
なく、有効光線の照射効率が低く、所要の効果を
得るためのランニングコストが高いという欠点が
ある。さらに、この従来の光線治療器において
は、効果的な集光装置が設けられていないので、
より一層照射効率の低下につながつている。
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、
有効光線の照射効率が高く、かつランニングコス
トの安価な光線治療器を提供することを目的とす
るものである。
有効光線の照射効率が高く、かつランニングコス
トの安価な光線治療器を提供することを目的とす
るものである。
「問題点を解決するための手段」
上記目的を達成するため、本発明のレーザー光
線治療器は、赤色可視光域、または赤色可視光域
および近赤外線域の波長のレーザー光束を発する
レーザー発生装置と、このレーザー発生装置から
発せられたレーザー光束を複数の凸レンズを組み
合わせて拡径するビーム・エキスパンダーと、こ
のビーム・エキスパンダーによつて拡径されたレ
ーザー光束を被照射部に向けて収束させる集光レ
ンズと、上記レーザー発生装置の出力と照射時間
を制御して被照射部に連続して与えるエネルギー
を調整する制御装置と、前記集光レンズと被照射
部との間に介在してレンズ光束の照射方向を連続
的に変更せしめるスキヤニング装置とから構成さ
れ、該スキヤニング装置は、互いに異なる方向に
向けられた軸を中心に回動動作することによつて
それぞれ反射方向が変更せしめられる複数の反射
鏡からなる構成としてなるものである。
線治療器は、赤色可視光域、または赤色可視光域
および近赤外線域の波長のレーザー光束を発する
レーザー発生装置と、このレーザー発生装置から
発せられたレーザー光束を複数の凸レンズを組み
合わせて拡径するビーム・エキスパンダーと、こ
のビーム・エキスパンダーによつて拡径されたレ
ーザー光束を被照射部に向けて収束させる集光レ
ンズと、上記レーザー発生装置の出力と照射時間
を制御して被照射部に連続して与えるエネルギー
を調整する制御装置と、前記集光レンズと被照射
部との間に介在してレンズ光束の照射方向を連続
的に変更せしめるスキヤニング装置とから構成さ
れ、該スキヤニング装置は、互いに異なる方向に
向けられた軸を中心に回動動作することによつて
それぞれ反射方向が変更せしめられる複数の反射
鏡からなる構成としてなるものである。
「作用」
上記構成によれば、光源がレーザー発生装置で
あるので、治療に最適な波長の光線のみを選択的
に発生させることができ、しかもその光束は位相
のそろつた、いわゆるコヒーレントなもので、指
向性、収束度が高く、その結果、所定の印加電力
に対し、密度の高い、効率的な照射が可能とな
る。また、凸レンズの組み合わせによるビーム・
エキスパンダーおよび集光レンズの組み合わせに
よりレーザービームを５〜10倍に拡径した後集光
することができ、照射効率を一層高めることがで
きる。また、スキヤニング装置は、互いに回転中
心のことなる反射鏡の回転により、所定の特性に
調製されたレーザービームの方向を所定範囲内で
移動させることにより、レーザー光源自体を何ら
機械的に変位させることなくスキヤニングするこ
とができる。
あるので、治療に最適な波長の光線のみを選択的
に発生させることができ、しかもその光束は位相
のそろつた、いわゆるコヒーレントなもので、指
向性、収束度が高く、その結果、所定の印加電力
に対し、密度の高い、効率的な照射が可能とな
る。また、凸レンズの組み合わせによるビーム・
エキスパンダーおよび集光レンズの組み合わせに
よりレーザービームを５〜10倍に拡径した後集光
することができ、照射効率を一層高めることがで
きる。また、スキヤニング装置は、互いに回転中
心のことなる反射鏡の回転により、所定の特性に
調製されたレーザービームの方向を所定範囲内で
移動させることにより、レーザー光源自体を何ら
機械的に変位させることなくスキヤニングするこ
とができる。
以下、この発明を実施例によりさらに詳しく説
明する。
明する。
「実施例」
この実施例のレーザー光線治療器は、図に示す
ように、レーザー発生装置１、ビーム・エキスパ
ンダー２、集光レンズ３、スキヤニング装置４お
よび制御装置５とから構成されている。
ように、レーザー発生装置１、ビーム・エキスパ
ンダー２、集光レンズ３、スキヤニング装置４お
よび制御装置５とから構成されている。
上記レーザー発生装置１は、赤色可視光域、ま
たは赤色可視光域および近赤外線域にある波長の
レーザービームを発生することのできる装置であ
る。赤色可視光域のレーザービーム発生源として
は、波長0.632μｍの赤色レーザービームを出す
He：Neガスレーザーがあり、近赤外線域のレー
ザービーム発生源としては、波長0.65〜1.0μｍの
レーザービームを出すInGaPや、波長0.7〜1.0μ
ｍのレーザービームを出すAlGaAsなどの半導体
レーザーがある。発生するレーザービームは赤色
可視光域のものでも、近赤外線域のものでも治療
効果があるので、どちらを使用してもよいが、装
置の製造や保守のときに光源が発振しているかど
うかを一目で確認し、調整や位置合せを容易にす
るために近赤外線域のレーザービームを使用する
時には赤色可視光域のレーザービームを同時に使
用することが必要である。なお、先に赤色可視光
域のレーザービームと近赤外線域のレーザービー
ムとは共に治療効果があると述べたが、それぞれ
の治療効果は、疾患の種類や部位によつて互いに
ある程度の差があることが最近判明してきてい
る。従つて、広範囲の治療効果を得ようとする場
合は、赤色可視光域のレーザービームと近赤外線
域のレーザービームとを同時に発生できるように
装置を構成する必要がある。
たは赤色可視光域および近赤外線域にある波長の
レーザービームを発生することのできる装置であ
る。赤色可視光域のレーザービーム発生源として
は、波長0.632μｍの赤色レーザービームを出す
He：Neガスレーザーがあり、近赤外線域のレー
ザービーム発生源としては、波長0.65〜1.0μｍの
レーザービームを出すInGaPや、波長0.7〜1.0μ
ｍのレーザービームを出すAlGaAsなどの半導体
レーザーがある。発生するレーザービームは赤色
可視光域のものでも、近赤外線域のものでも治療
効果があるので、どちらを使用してもよいが、装
置の製造や保守のときに光源が発振しているかど
うかを一目で確認し、調整や位置合せを容易にす
るために近赤外線域のレーザービームを使用する
時には赤色可視光域のレーザービームを同時に使
用することが必要である。なお、先に赤色可視光
域のレーザービームと近赤外線域のレーザービー
ムとは共に治療効果があると述べたが、それぞれ
の治療効果は、疾患の種類や部位によつて互いに
ある程度の差があることが最近判明してきてい
る。従つて、広範囲の治療効果を得ようとする場
合は、赤色可視光域のレーザービームと近赤外線
域のレーザービームとを同時に発生できるように
装置を構成する必要がある。
上記ビーム・エキスパンダー２は、治療を目的
とする照射に好適な照度を得るために集光レンズ
３によつて上記レーザービームを集光させた場
合、発生時のビーム径が小さいため（He：Neガ
スレーザーでは0.83mmφ）、集光スポツトが小さ
くなり過ぎるのを防止するためのもので、周知の
ように焦点距離の異なる２つの凸レンズを組合せ
てビーム径を拡径する装置である。He：Neガス
レーザーの場合のこのビーム・エキスパンダー２
の拡径率を５〜10倍としておけば、好適な照度を
得るために集光した後の焦点スポツト径を0.1〜
0.01mmφ程度に抑えることができる。
とする照射に好適な照度を得るために集光レンズ
３によつて上記レーザービームを集光させた場
合、発生時のビーム径が小さいため（He：Neガ
スレーザーでは0.83mmφ）、集光スポツトが小さ
くなり過ぎるのを防止するためのもので、周知の
ように焦点距離の異なる２つの凸レンズを組合せ
てビーム径を拡径する装置である。He：Neガス
レーザーの場合のこのビーム・エキスパンダー２
の拡径率を５〜10倍としておけば、好適な照度を
得るために集光した後の焦点スポツト径を0.1〜
0.01mmφ程度に抑えることができる。
上記スキヤニング装置４は、上記0.1〜0.01mm
φのレーザービームを患部に満遍なく照射するた
めのもので、照射方向を決定するＸ軸、Ｙ軸をそ
れぞれ担当する２つの反射鏡と、これら反射鏡を
それぞれ独立に変位させるためのマイクロモータ
とから構成されており、これらマイクロモータの
駆動制御は制御装置５によつて行なわれるように
構成されている。このスキヤニング装置４のビー
ム照射方法は、まず患部の中心にビームの焦点が
くるように距離を設定し、患部の面積に応じて可
動範囲を０〜50mmφまで調整し、渦巻状にスキヤ
ンすることにより行なう。スキヤンスピードは、
例えば１〜50Hzで可変とし、照射時間は疾患の種
類、部位等に応じて１秒ないし30分の範囲で調整
可能とする。
φのレーザービームを患部に満遍なく照射するた
めのもので、照射方向を決定するＸ軸、Ｙ軸をそ
れぞれ担当する２つの反射鏡と、これら反射鏡を
それぞれ独立に変位させるためのマイクロモータ
とから構成されており、これらマイクロモータの
駆動制御は制御装置５によつて行なわれるように
構成されている。このスキヤニング装置４のビー
ム照射方法は、まず患部の中心にビームの焦点が
くるように距離を設定し、患部の面積に応じて可
動範囲を０〜50mmφまで調整し、渦巻状にスキヤ
ンすることにより行なう。スキヤンスピードは、
例えば１〜50Hzで可変とし、照射時間は疾患の種
類、部位等に応じて１秒ないし30分の範囲で調整
可能とする。
上記制御装置５は光源の出力（ｍＷ）および発
振時間（照射時間）の制御と、上記スキヤニング
装置４の駆動を制御するもので、患部への連続照
射エネルギーが60ｍＷ／mm2〜60W／mm2となるよう
にプログラムが組まれてなるものである。この60
ｍＷ／mm2〜60W／mm2という照射エネルギー値は、
臨床実験の結果決定されたもので、良好な治療効
果が得られるエネルギー値である。なお、60W／
mm2という上限値は、患者にあつい等の不快感を与
えない限界値である。ここで、発生ビームエネル
ギーレベルは、約２ｍＷから約50ｍＷで可変であ
り、これにビーム径と照射時間のそれぞれを変数
として、疾患の種類、状況、部位に応じて、上記
照射エネルギー値を決定する。
振時間（照射時間）の制御と、上記スキヤニング
装置４の駆動を制御するもので、患部への連続照
射エネルギーが60ｍＷ／mm2〜60W／mm2となるよう
にプログラムが組まれてなるものである。この60
ｍＷ／mm2〜60W／mm2という照射エネルギー値は、
臨床実験の結果決定されたもので、良好な治療効
果が得られるエネルギー値である。なお、60W／
mm2という上限値は、患者にあつい等の不快感を与
えない限界値である。ここで、発生ビームエネル
ギーレベルは、約２ｍＷから約50ｍＷで可変であ
り、これにビーム径と照射時間のそれぞれを変数
として、疾患の種類、状況、部位に応じて、上記
照射エネルギー値を決定する。
なお、上記実施例においては、スキヤニング装
置によるスキヤンを渦巻状に行なうようにした
が、これは一般に患部が立体面であることを考慮
して構成したものである。従つて、患部が平面に
近い場合には従来頻用されている水平スキヤン方
式により照射するようにしてもよい。
置によるスキヤンを渦巻状に行なうようにした
が、これは一般に患部が立体面であることを考慮
して構成したものである。従つて、患部が平面に
近い場合には従来頻用されている水平スキヤン方
式により照射するようにしてもよい。
また、上記実施例においては、患部が体表面あ
るいは体表面に近い組織である場合を想定して説
明したが、患部が滑膜などの比較的深部の組織で
ある場合は、図に示すように集光レンズ３からの
ビームを光学系フアイバー６を介して直接患部に
導き、照射するように構成するとよい。
るいは体表面に近い組織である場合を想定して説
明したが、患部が滑膜などの比較的深部の組織で
ある場合は、図に示すように集光レンズ３からの
ビームを光学系フアイバー６を介して直接患部に
導き、照射するように構成するとよい。
「発明の効果」
以上説明したように、この発明によれば下記の
効果を奏する。
効果を奏する。
Ａ 光源がレーザー発生装置であるので、治療に
最適な波長の光線のみを選択的に発生させるこ
とができ、 Ｂ しかもその光束は位相のそろつたいわゆるコ
ヒーレントなもので、指向性、集束度が高く、 Ｃ その結果、所定の印加電圧に対して密度の高
い照射が可能となる。
最適な波長の光線のみを選択的に発生させるこ
とができ、 Ｂ しかもその光束は位相のそろつたいわゆるコ
ヒーレントなもので、指向性、集束度が高く、 Ｃ その結果、所定の印加電圧に対して密度の高
い照射が可能となる。
Ｄ また、凸レンズの組み合わせによるビーム・
エキスパンダーおよび集光レンズの組み合わせ
によりレーザービームを５〜10倍に拡径した後
集光することができ、照射に好適な照度の光束
を得ることができ、照射効率を一層高めること
ができる。
エキスパンダーおよび集光レンズの組み合わせ
によりレーザービームを５〜10倍に拡径した後
集光することができ、照射に好適な照度の光束
を得ることができ、照射効率を一層高めること
ができる。
Ｅ スキヤニング装置によつてレーザー光束を移
動させることにより、被照射部の大きさ、ある
いは疾病状況に応じて、所定のパターンで秩序
よくレーザー光を照射することができる。
動させることにより、被照射部の大きさ、ある
いは疾病状況に応じて、所定のパターンで秩序
よくレーザー光を照射することができる。
Ｆ スキヤニング装置は、ビーム・エキスパンダ
ーおよび集光レンズを経て所定の特性（波長お
よび強さ）に調整されたレーザー光を最終段階
で方向変換するものであるから、レーザー光を
照射すべき対象の表面で任意の二次元的なスキ
ヤニングのパターンを構成することができ、被
照射面の広がり状態、あるいは、疾病の状況に
応じて有効にレーザー光を照射することができ
る。また、所定の特性のレーザー光を得るため
の手段と別体にスキヤニング装置を構成してお
けば、スキヤニングの要否に応じて容易に切り
離すことができる。
ーおよび集光レンズを経て所定の特性（波長お
よび強さ）に調整されたレーザー光を最終段階
で方向変換するものであるから、レーザー光を
照射すべき対象の表面で任意の二次元的なスキ
ヤニングのパターンを構成することができ、被
照射面の広がり状態、あるいは、疾病の状況に
応じて有効にレーザー光を照射することができ
る。また、所定の特性のレーザー光を得るため
の手段と別体にスキヤニング装置を構成してお
けば、スキヤニングの要否に応じて容易に切り
離すことができる。
Ｇ 互いに異なる方向に向けられた軸を中心に回
転する複数の反射鏡によつてレーザー光の照射
方向を変更させているから、反射鏡の回転とい
う極めて小さな機械的変位によつて、必要な範
囲をスキヤニングすることができ、したがつ
て、例えば、レーザー光の発生装置自体を移動
させてスキヤニングする場合に比して、スキヤ
ニングを高速化すること（スキヤニング周期を
短縮すること）が容易であるとともに、スキヤ
ニングを実現するメカニズムも簡略化されて装
置のコストダウンが図られる。また、レーザー
光発生装置、ビーム・エキスパンダー、集光レ
ンズなどのデリケートな構成部品に振動等を与
えることなくスキヤニングすることができる。
転する複数の反射鏡によつてレーザー光の照射
方向を変更させているから、反射鏡の回転とい
う極めて小さな機械的変位によつて、必要な範
囲をスキヤニングすることができ、したがつ
て、例えば、レーザー光の発生装置自体を移動
させてスキヤニングする場合に比して、スキヤ
ニングを高速化すること（スキヤニング周期を
短縮すること）が容易であるとともに、スキヤ
ニングを実現するメカニズムも簡略化されて装
置のコストダウンが図られる。また、レーザー
光発生装置、ビーム・エキスパンダー、集光レ
ンズなどのデリケートな構成部品に振動等を与
えることなくスキヤニングすることができる。
Ｈ 制御装置により、治療に最適な光エネルギー
を患部に照射することができる。
を患部に照射することができる。
Ｉ 安価な低出力光レーザーによるリウマチ性疾
患の光線治療を行うことができる。
患の光線治療を行うことができる。
図はこの発明の一実施例を示す概略構成図であ
る。 １……レーザー発生装置、２……ビーム・エキ
スパンダー、３……集光レンズ、４……スキヤニ
ング装置、５……制御装置、６……光学系フアイ
バー。
る。 １……レーザー発生装置、２……ビーム・エキ
スパンダー、３……集光レンズ、４……スキヤニ
ング装置、５……制御装置、６……光学系フアイ
バー。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 赤色可視光域、または赤色可視光域および近
赤外線域の波長のレーザー光束を発するレーザー
発生装置と、 このレーザー発生装置から発せられたレーザー
光束を複数の凸レンズを組み合わせて拡径するビ
ーム・エキスパンダーと、 このビーム・エキスパンダーによつて拡径され
たレーザー光束を被照射部に向けて収束させる集
光レンズと、 上記レーザー発生装置の出力と照射時間を制御
して被照射部に連続して与えるエネルギーを調整
する制御装置と、 前記集光レンズと被照射部との間に介在してレ
ンズ光束の照射方向を連続的に変更せしめるスキ
ヤニング装置とから構成され、該スキヤニング装
置は、互いに異なる方向に向けられた軸を中心に
回動動作することによつてそれぞれ反射方向が変
更せしめられる複数の反射鏡からなることを特徴
とするレーザー光線治療器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16358984A JPS6141471A (ja) | 1984-08-03 | 1984-08-03 | レ−ザ−光線治療器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16358984A JPS6141471A (ja) | 1984-08-03 | 1984-08-03 | レ−ザ−光線治療器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6141471A JPS6141471A (ja) | 1986-02-27 |
| JPH0356748B2 true JPH0356748B2 (ja) | 1991-08-29 |
Family
ID=15776786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16358984A Granted JPS6141471A (ja) | 1984-08-03 | 1984-08-03 | レ−ザ−光線治療器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6141471A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0728930B2 (ja) * | 1992-04-23 | 1995-04-05 | 光学電子株式会社 | レーザ光を用いた刺激装置 |
| KR20120112795A (ko) * | 2010-01-14 | 2012-10-11 | 마이클 슐로써 | 저준위 레이저 치료 또는 다른 광원 치료를 위한 스캐닝 메커니즘 및 처리 방법 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52152684A (en) * | 1976-06-12 | 1977-12-19 | Oshiro Toshio | Method and device for irradiating curing laser light ray |
| JPS6058982B2 (ja) * | 1978-10-13 | 1985-12-23 | 富士写真光機株式会社 | 光刺激治療装置 |
| JPS6045531B2 (ja) * | 1981-02-25 | 1985-10-09 | 長田電機工業株式会社 | センサ装置付レ−ザ−ハンドピ−ス |
-
1984
- 1984-08-03 JP JP16358984A patent/JPS6141471A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6141471A (ja) | 1986-02-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |