JPH0356878A - Electron beam device - Google Patents

Electron beam device

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JPH0356878A
JPH0356878A JP1192024A JP19202489A JPH0356878A JP H0356878 A JPH0356878 A JP H0356878A JP 1192024 A JP1192024 A JP 1192024A JP 19202489 A JP19202489 A JP 19202489A JP H0356878 A JPH0356878 A JP H0356878A
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JP
Japan
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electron beam
sample
frequency
pulse
signal
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Application number
JP1192024A
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Japanese (ja)
Inventor
▲はま▼ 壮一
Soichi Hama
Kazuyuki Ozaki
一幸 尾崎
Akio Ito
昭夫 伊藤
Kazuo Okubo
大窪 和生
Takayuki Abe
貴之 安部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To correct a frequency characteristic and to enhance the reliability of the measuring result by finding a corrected data of the frequency characteristic of the pulse generator output voltage for the generation of electron beam about plural frequencies. CONSTITUTION:The signal elements of output signals 66, 68 from the pulse generators 62, 64 are controlled by a pulse voltage control circuit 58 and simultaneously by a phase control circuit 78 its phase is controlled, and supplied to defectors 52, 54. In such a manner the electron beam 86 is scanned, and a measuring point 88 of a sample 70 is irradiated with the beam. On the other side, to a frequency counter 96, a sample operation clocking signal 76 is supplied from a sample driving circuit 72 and by this frequency counter 96, at the measuring time, the operation frequency of an operation signal 74 of the sample 70 is detected, and the frequency data 98 is supplied to a computer 56. By the computer 56, the corrected data of the frequency characteristic corresponding to this operation frequency is found from a memory 94, and based on this corrected data the frequency characteristic of the output voltage of the generators 62, 64 is corrected.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 電子ビーム装置に関し、 試料の動作周波数の変化にかかわらず、測定結果の信頼
性を向上させることができる電子ビーム装置を目的とし
、 偏向器及び電子ビーム発生用パルスジエネレー夕を含み
、試料の測定個所に対して、該試料の動作信号に同期し
た電子ビームパルスを位相制御して照射し、該試料の測
定個所から得られる2次電子信号を測定する電子ビーム
装置において、前記電子ビーム発生用パルスジエネレー
夕の出力電圧の周波数特性の補正データを複数の周波数
について求める手段と、該補正データを記憶するメモリ
と、試料の動作信号の動作周波数を検出する検出器と、
該検出器からの動作周波数に対応する周波数特性の補正
データをメモリから求め、電子ビーム発生用パルスジエ
ネレー夕の出力電圧の周波数特性を補正する手段と、を
含むように構成する。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] Regarding an electron beam device, the objective is an electron beam device that can improve the reliability of measurement results regardless of changes in the operating frequency of a sample, and includes a deflector and an electron beam generator. An electron beam device that includes a pulse generator and irradiates a measurement point on a sample with an electron beam pulse synchronized with an operation signal of the sample in a controlled manner to measure a secondary electron signal obtained from the measurement point of the sample. means for obtaining correction data of the frequency characteristics of the output voltage of the electron beam generating pulse generator for a plurality of frequencies; a memory for storing the correction data; and a detector for detecting the operating frequency of the operating signal of the sample;
The apparatus is configured to include means for obtaining correction data of frequency characteristics corresponding to the operating frequency from the detector from the memory and correcting the frequency characteristics of the output voltage of the pulse generator for electron beam generation.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は、電子ビーム装置に関するものである。 The present invention relates to an electron beam device.

電子ビーム装置は、試料の測定個所に対して、該試料の
動作信号に同期した電子ビームパルスを位相制御して照
射し、該試料の測定個所から得られる2次電子信号を測
定するものであり、電子ビーム装置によれば、高速に動
作する試料信号の測定が可能である。この電子ビーム装
置においては、電子ビーム発生用パルスジエネレー夕が
使用されており、該パルスジエネレー夕の出力電圧の周
波数特性は一定である。このような場合に、試料の動作
信号の動作周波数が変化すると、電子ビームパルスの発
生頻度、発生タイミングが該動作周波数により変化する
ので、測定結果の信頼性が低下する。そこで、試t1の
動作周波数に比、して、パルスジエネレー夕の出力電圧
の周波数特性を補正し、測定結果の信頼性を向上させる
ことが望まれている。
An electron beam device irradiates a measurement point on a sample with an electron beam pulse synchronized with an operation signal of the sample with phase control, and measures a secondary electron signal obtained from the measurement point on the sample. According to the electron beam device, it is possible to measure sample signals operating at high speed. This electron beam device uses a pulse generator for generating an electron beam, and the frequency characteristics of the output voltage of the pulse generator are constant. In such a case, if the operating frequency of the sample operating signal changes, the frequency and timing of generation of electron beam pulses will change depending on the operating frequency, reducing the reliability of the measurement results. Therefore, it is desired to improve the reliability of the measurement results by correcting the frequency characteristics of the output voltage of the pulse generator compared to the operating frequency of test t1.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第4図には、電子ビームパルス発生装置の構成が示され
ている。
FIG. 4 shows the configuration of the electron beam pulse generator.

第4図において、符号10、12は、電子ビーム発生用
パルスジエネレー夕を示し、該パルスジェネレータ10
、12には、位相制御回路(第4図では図示せず)から
トリガ信号l4が供給されている。パルスジェネレータ
10、12からの出力信号16、18は、それぞれ、静
電型偏向器lO、22に供給され、該偏向器20、22
により、電子ビーム24は、絞り器26とて走査される
。そして、電子ビーム24は、絞り器26の絞り孔28
を通過したときにのみ、試料3oの測定個所32に到達
し、これにより、パルス状の電子ビーム24aが試料3
0の測定個所32に照射されることとなる。
In FIG. 4, reference numerals 10 and 12 indicate pulse generators for generating electron beams.
, 12 are supplied with a trigger signal l4 from a phase control circuit (not shown in FIG. 4). The output signals 16, 18 from the pulse generators 10, 12 are supplied to electrostatic deflectors lO, 22, respectively, which deflectors 20, 22
As a result, the electron beam 24 is scanned by a diaphragm 26 . Then, the electron beam 24 is transmitted through the aperture hole 28 of the diaphragm 26.
The pulsed electron beam 24a reaches the measurement point 32 of the sample 3o only when it passes through the sample 3o.
0 measurement point 32 will be irradiated.

なお、第5図には、パルスジェネレータ出力の位相一電
圧特性が示され、第5図から、電子ビームパルス24a
の発生タイミングが理解される。
Incidentally, FIG. 5 shows the phase-voltage characteristics of the pulse generator output, and from FIG. 5 it can be seen that the electron beam pulse 24a
The timing of occurrence is understood.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

電子ビーム装置において、パルスジエネレー夕の発生す
るパルスの電圧振幅電圧オフセット等がトリが周波数に
より変動するため、試料30の動作信号の動作周波数が
変化すると、次のような問題がある。すなわち、試料3
0の動作周波数の変化によりトリが周波数が変化し、電
子ビームパルス24の発生強度、発生タイミングが変化
し、電子ビーム24が絞り孔28を通過しない場合が生
じ、このため、測定結果の信頼性が低下する。
In an electron beam apparatus, the voltage amplitude, voltage offset, etc. of the pulses generated by the pulse generator vary depending on the frequency. Therefore, when the operating frequency of the operating signal of the sample 30 changes, the following problem occurs. That is, sample 3
Due to the change in the operating frequency of the 0, the frequency of the bird changes, the generation intensity and timing of the electron beam pulse 24 change, and there are cases where the electron beam 24 does not pass through the aperture hole 28, which reduces the reliability of the measurement results. decreases.

なお、上記問題に対し、2次電子信号をサンプリングし
ながら電子ビーム発生手段(これはパルスジエネレー夕
、偏向器等から構成される)を最適化することが提案さ
れているが、これは、高速性、信頼性に問題がある。
In order to solve the above problem, it has been proposed to optimize the electron beam generation means (consisting of a pulse generator, deflector, etc.) while sampling the secondary electron signal. , there are reliability problems.

本発明の目的は、試料の動作周波数の変化にかかわらず
、測定結果の信頼性を向上させることができる電子ビー
ム装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an electron beam device that can improve the reliability of measurement results regardless of changes in the operating frequency of a sample.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明は、偏向器(52、54)及び電子ビーム発生用
パルスジェネレータ(62、64)を含み、試料(70
)の測定個所(88)に対して、該試料(70)の動作
信号(74)に同明した電子ビームパルス(86)を位
相制御して照射し、該試料(70)の測定個所(88)
から得られる2次電子信号を測定する電子ビーム装置に
おいて、前記電子ビーム発生用パルスジェネレータ(6
2、64)の出力電圧の周波数特性の補正データを複数
の周波数について求める手段(56、90)と、該補正
データを記憶するメモリ(94)と、試料(70)の動
作信号(74)の動作周波数を検出する検出器(96)
と、該検出器(96)からの動作周波数に対応する周波
数特性の補正データをメモリ(94)から求め、電子ビ
ーム発生用パルスンエネレータ(62、64)の出力電
圧の周波数特性を補正する手段(65)と、を含むよう
構成する。
The present invention includes a deflector (52, 54) and a pulse generator (62, 64) for generating an electron beam, and includes a sample (70).
) is irradiated with an electron beam pulse (86) identical to the operation signal (74) of the sample (70) with phase control. )
In the electron beam device for measuring secondary electron signals obtained from the electron beam generator, the electron beam generation pulse generator (6
means (56, 90) for obtaining correction data for the frequency characteristics of the output voltage (2, 64) for a plurality of frequencies; a memory (94) for storing the correction data; Detector (96) that detects the operating frequency
and means for correcting the frequency characteristics of the output voltage of the electron beam generation pulsen energizer (62, 64) by obtaining correction data of the frequency characteristics corresponding to the operating frequency from the detector (96) from the memory (94). (65).

〔作用〕[Effect]

本発明においては、電子ビーム発生用パルスンエネレー
タ(62、64)の出力電圧の周波数特性の補正データ
を複数の周波数について求め、この補正データをメモリ
(94)に記憶する。測定時には、試料(70)の動作
信号(74)の動作周波数を検出し、該検出された動作
周波数に対応する周波数特性の補正データをメモリ(9
4)から求め、これにより、電子ビーム発生用パルスジ
ェネレータ(62、64)の出力電圧の周波数特性を補
正する。
In the present invention, correction data of the frequency characteristics of the output voltage of the electron beam generation pulse energizer (62, 64) is obtained for a plurality of frequencies, and this correction data is stored in the memory (94). During measurement, the operating frequency of the operating signal (74) of the sample (70) is detected, and the correction data of the frequency characteristics corresponding to the detected operating frequency is stored in the memory (9).
4), and thereby correct the frequency characteristics of the output voltage of the electron beam generation pulse generator (62, 64).

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面に基づいて本発明の好適な実施例を説明する
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described based on the drawings.

第1図には、本発明の実施例による電子ビーム装置の回
路が示されている。
FIG. 1 shows a circuit of an electron beam device according to an embodiment of the invention.

第1図において、符号50は、電子ビーム(E B)鏡
筒を示し、該電子ビーム鏡筒50は、その内部に偏向器
52、54を含む。また、符号56は、計算機を示し、
該計算機56は、パルス電圧制御回路58に制御信号6
0を供給し、電子ビーム発生用パルスジェネレータ62
、64が所望の出力信号66、68を前記偏向器52、
54に出力するようにする。なお、出力信号66、68
の制御される要素としては、例えば、第2図に示される
ように、電圧振幅、電圧オフセット、及ヒパルス幅の3
つがある。
In FIG. 1, reference numeral 50 indicates an electron beam (E B) column, and the electron beam column 50 includes deflectors 52 and 54 therein. Further, numeral 56 indicates a calculator,
The calculator 56 sends a control signal 6 to the pulse voltage control circuit 58.
0 to a pulse generator 62 for generating an electron beam.
, 64 transmit the desired output signals 66, 68 to the deflector 52,
54. Note that the output signals 66, 68
For example, as shown in FIG. 2, the controlled elements include voltage amplitude, voltage offset, and pulse width.
There is one.

符号70は、試料を示し、該試料70には、試料駆動回
路72から動作信号74が供給される。
Reference numeral 70 indicates a sample, and an operation signal 74 is supplied to the sample 70 from a sample drive circuit 72.

試料駆動回路74からは、試料動作クロック信号76が
位相制御回路78に供給され、該位相制御回路78には
、計算機56からの制御信号79及び発振器80からの
クロック信号82も供給されている。そして、位相制御
回路78は、これらの試料動作クロツク信号76及びク
ロック信号82に基づいて、指定された信号に同期しク
ロツク源と指定位相だけずれたトリが信号84を出力し
、該トリガ信号86は、パルスジェネレータ62、64
に供給される。このトリが信号84により、パルスジェ
ネレータ6 2 、6 4からの出力信号66、68は
、位相制御されることとなる。
A sample operation clock signal 76 is supplied from the sample drive circuit 74 to a phase control circuit 78, and a control signal 79 from the computer 56 and a clock signal 82 from an oscillator 80 are also supplied to the phase control circuit 78. Then, the phase control circuit 78 outputs a signal 84 based on the sample operation clock signal 76 and the clock signal 82, and the trigger signal 84 is synchronized with the designated signal and is shifted from the clock source by the designated phase. are pulse generators 62 and 64
supplied to The phase of the output signals 66 and 68 from the pulse generators 6 2 and 6 4 is controlled by this signal 84 .

以上のように、パルスジェネレータ62、64からの出
力信号66、68は、パルス電圧制御回路58によりそ
の信号要素が制御されるとともに、位相制御回路78に
よりその位相が制御され、偏向器52、54に供給され
る。これにより、電子ビーム鏡筒50においては、電子
ビーム86は、走査され、試料70の測定個所88に照
射される。
As described above, the signal elements of the output signals 66 and 68 from the pulse generators 62 and 64 are controlled by the pulse voltage control circuit 58, and their phases are controlled by the phase control circuit 78. supplied to As a result, in the electron beam column 50, the electron beam 86 is scanned and irradiated onto the measurement location 88 of the sample 70.

前記偏向器52、54には、サンプリングオシロ等の測
定器90が接続されている。この測定器90は、複数の
周波数について、パルスジェネレータ62、64の出力
電圧の周波数特性を測定し、該測定データ92を計算機
56に供給する。計算機56は、測定データ92に基づ
いて、パルスジェネレータ62、64の出力電圧の周波
数特性の補正データを複数の周波数について求め、該補
正データを格納メモリ94に記憶する。
A measuring device 90 such as a sampling oscilloscope is connected to the deflectors 52 and 54. This measuring device 90 measures the frequency characteristics of the output voltages of the pulse generators 62 and 64 for a plurality of frequencies, and supplies the measured data 92 to the computer 56. Calculator 56 calculates correction data for the frequency characteristics of the output voltages of pulse generators 62 and 64 for a plurality of frequencies based on measurement data 92, and stores the correction data in storage memory 94.

一方、周波数カウンタ96には、試料駆動回路72から
試料動作クロック信号76が供給されており、この周波
数カウンタ96は、測定時に、試料70の動作信号74
の動作周波数を検出し、該動作周波数データ98を計算
機56に供給する。
On the other hand, the frequency counter 96 is supplied with the sample operation clock signal 76 from the sample drive circuit 72, and the frequency counter 96 receives the operation signal 76 of the sample 70 during measurement.
detects the operating frequency of and supplies the operating frequency data 98 to the computer 56.

計算機56は、この動作周波数に対応する周波数特性の
補正データを前記メモリ94から求め、該補正データに
基づいて、パルス電圧制御回路58への制御信号60を
補正し、これにより、パルスジェネレータ62、64の
出力電圧の周波数特性を補正する。
The calculator 56 obtains correction data of frequency characteristics corresponding to this operating frequency from the memory 94, corrects the control signal 60 to the pulse voltage control circuit 58 based on the correction data, and thereby the pulse generator 62, The frequency characteristics of the output voltage of 64 are corrected.

以上のように、試料70の動作周波数により、パルスジ
ェネレータ62、64の出力電圧の周波数特性を補正し
ているので、電子ビームパルスの発生強度、発生タイミ
ングが変化することがなく、この結果、測定結果の信頼
性を向上させることができる。
As described above, since the frequency characteristics of the output voltages of the pulse generators 62 and 64 are corrected based on the operating frequency of the sample 70, the generation intensity and timing of the electron beam pulses do not change, and as a result, the measurement The reliability of results can be improved.

次に、第3図には、補正データの登録手順が示されてい
る。
Next, FIG. 3 shows a procedure for registering correction data.

第3図において、スタート100で始まり、ステップ{
02で発振器の起動、及び、位相制御回路のトリガ入力
を行い、ステップ104でEB(′:4子ビーム)パル
スの初期データをセットする。
In FIG. 3, starting with start 100, step {
In step 02, the oscillator is activated and a trigger input is made to the phase control circuit, and in step 104, the initial data of the EB (': quadruple beam) pulse is set.

ココテ、初期データとしては、Al1ll1一〇(振幅
)、0    (オフセット)、及び、Wid−0(パ
ルスIf+−0 幅)である。
The initial data are Al1ll110 (amplitude), 0 (offset), and Wid-0 (pulse If+-0 width).

ステップ106で1−0にセットされ、ステ・ソプ10
8でi>n(rh:設定値)でないと、ステップ110
に進み、周波数f=f  にされ、ステップ112、1
14、116に進む。ステップ 112では、電圧オフ
セットO  調整変化its 分がΔO  にされ、ステップ114では、電圧Its 振幅A  調整変化分がΔA  にされ、ステツmp 
                    mpプ11
6では、パルス幅W 調整変化分がΔW1did にされる。そして、ステップ118でΔOits ≦ε
。[[+” Ampl   ampl’及びΔW1d≦
εvid≦ ε (ε0山” ampl’  wid  設定値)でない
場合には、ステップ112に戻り、このループを収束す
るまで行う。ここで、ステップ112、↓14、116
において3つの調整変化分Δ0  1ΔA  1及び、
ΔWidは、互いに相Its       mpl 関があり、これらを独立して操作できない場合があるの
で、少しずつ値を変化させ、収束するまで、すなわちΔ
O  ≦ε  、ΔA  ≦εlit   oll+ 
   mpl   aiplゝ及びΔW ≦ε  にな
るまで、操作を繰り返す。
It is set to 1-0 in step 106, and
8, if i>n (rh: set value), step 110
, the frequency f=f is set, and step 112, 1
Proceed to 14 and 116. In step 112, the voltage offset O adjustment change its amount is set to ΔO, and in step 114, the voltage offset O adjustment change amount is set to ΔA, and step mp
mppu11
6, the pulse width W adjustment change is set to ΔW1did. Then, in step 118, ΔOits ≦ε
. [[+” Ampl ampl' and ΔW1d≦
If εvid≦ε (ε0 mountain "ampl' wid setting value), return to step 112 and repeat this loop until convergence. Here, step 112, ↓14, 116
Three adjustment changes Δ0 1ΔA 1 and,
ΔWid is related to each other and may not be able to be operated independently. Therefore, change the value little by little until convergence, that is, ΔWid.
O ≦ε, ΔA ≦εlit all+
The operation is repeated until mpl aiplゝ and ΔW≦ε.

+d   vid ステップ118で、ループが収束すると、すなわち、Δ
O  ≦ε  、ΔA  ≦ε  、及11+   o
ff+    mpl    21QPび、ΔW ≦ε
  であると、ステップ120に+d   vid 進み、周波数f での補正データとして、α。11,直 1If   lf+−O   ampl (f”(f.
)=Δo−o,α    1 mpl   mpl−1)   wid  (f” =
ΔWid=ΔA−A,α    1 ”id−Gがメモリに格納される。
+d vid At step 118, once the loop converges, i.e. Δ
O ≦ε, ΔA ≦ε, and 11+ o
ff+mpl 21QP, ΔW ≦ε
If so, the process advances to step 120 and α is used as the correction data at the frequency f. 11, direct 1If lf+-O ampl (f”(f.
) = Δo-o, α 1 mpl mpl-1) wid (f” =
ΔWid=ΔA−A, α 1 ”id−G is stored in memory.

その後、ステップ112に進み、i=i+1とされた後
、ステップ108に進み、i>nでない場合には、上記
と同様の手順を繰り返す。
Thereafter, the process proceeds to step 112, where i=i+1, and then the process proceeds to step 108, and if i>n, the same procedure as above is repeated.

ステップ108で、i>rlである場合には、ステップ
124に進み、補正データの登録手順が終了する。
If i>rl in step 108, the process proceeds to step 124, and the correction data registration procedure ends.

以上のようにして各周波数f.(i=0−n)について
補正データが格納されることになる。
As described above, each frequency f. Correction data will be stored for (i=0-n).

なお、パルスジェネレータの出力電圧の周波数特性は、
連続的に変化するので、上記の補正データの登録手順は
、適当な間隔の周波数ごとに行うだけで充分である。す
なわち、周波数カウンタ(第1図の符号96)で測定さ
れた試料動作クロック信号に対応する補正データがメモ
リ内になくとも、登録された補正データから補完計算に
より、所望の補正データを求めることができる。
The frequency characteristics of the output voltage of the pulse generator are
Since it changes continuously, it is sufficient to perform the above correction data registration procedure for each frequency at an appropriate interval. In other words, even if the correction data corresponding to the sample operation clock signal measured by the frequency counter (numeral 96 in FIG. 1) is not stored in the memory, desired correction data can be obtained by complementary calculation from the registered correction data. can.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明によれば、試料の動作周波
数が変化したとしても、電子ビーム発生用パルスジエネ
レー夕の出力電圧の周波数特性が補正されるので、測定
結果の信頼性を向上させることができる。
As explained above, according to the present invention, even if the operating frequency of the sample changes, the frequency characteristics of the output voltage of the pulse generator for electron beam generation are corrected, so the reliability of measurement results can be improved. can.

なお、本発明において、補正動作は、計算を主としたも
のであり、補正のための測定動作を必要としないため、
高速にしかも安定に行うことができる。
In addition, in the present invention, the correction operation is mainly based on calculation and does not require a measurement operation for correction.
It can be done quickly and stably.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の実施例による電子ビーム装置の回路図
、 第2図は制御されるパルスの要素を示す波形図、第3図
は補正データの登録手順のフローチャート図、 第4図は電子ビームパルス装置の構成説明図、第5図は
パルスジェネレータ出力の位相一電圧特性図である。 50・・・EB(電子ビーム)鏡筒 52、54・・・偏向器 56・・・計算機 58・・・パルス電圧制御回路 62、64・・・電子ビーム発生用パルスジェネレータ 70・・・試料 2・・・試料駆動回路 8・・・位相制御回路 0・・・発振器 6・・・EB(電子ビーム) O・・・サンプリングオシロ等の測定器4・・・補正デ
ータ格納メモリ 6・・・周波数カウンタ OO〜124・・・ステップ 電圧 制御されるパルスの要素を示す波形図 第  2  図 24:t子ビーム 電子ビームパルス装置の構戒説明図 第  4  図 出力 電圧 パルスジェネレータ出カの位相 第  5  図 電圧特性図
Fig. 1 is a circuit diagram of an electron beam device according to an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a waveform diagram showing elements of controlled pulses, Fig. 3 is a flowchart of the correction data registration procedure, and Fig. 4 is an electronic FIG. 5, which is an explanatory diagram of the configuration of the beam pulse device, is a phase-voltage characteristic diagram of the pulse generator output. 50... EB (electron beam) column 52, 54... Deflector 56... Computer 58... Pulse voltage control circuit 62, 64... Pulse generator for electron beam generation 70... Sample 2 ... Sample drive circuit 8 ... Phase control circuit 0 ... Oscillator 6 ... EB (electron beam) O ... Measuring device such as sampling oscilloscope 4 ... Correction data storage memory 6 ... Frequency Counters OO to 124...Waveform diagram showing elements of pulses controlled by step voltage. 2nd figure. 24: Explanatory diagram of structure of t-son beam electron beam pulse device. 4th figure. Output voltage. Phase of pulse generator output. 5th figure. Voltage characteristic diagram

Claims (1)

【特許請求の範囲】  偏向器(52、54)及び電子ビーム発生用パルスジ
ェネレータ(62、64)を含み、試料(70)の測定
個所(88)に対して、該試料(70)の動作信号(7
4)に同期した電子ビームパルス(86)を位相制御し
て照射し、該試料(70)の測定個所(88)から得ら
れる2次電子信号を測定する電子ビーム装置において、
前記電子ビーム発生用パルスジェネレータ (62、64)の出力電圧の周波数特性の補正データを
複数の周波数について求める手段(56、90)と、 該補正データを記憶するメモリ(94)と、試料(70
)の動作信号(74)の動作周波数を検出する検出器(
96)と、 周波数特性の補正データをメモリ(94)から求め、電
子ビーム発生用パルスジェネレータ(62、64)の出
力電圧の周波数特性を補正する手段(56)と、を含む
ことを特徴とする電子ビーム装置。
[Claims] It includes a deflector (52, 54) and a pulse generator (62, 64) for generating an electron beam, and transmits an operation signal of the sample (70) to a measurement point (88) of the sample (70). (7
4) In an electron beam device that measures a secondary electron signal obtained from a measurement point (88) of the sample (70) by irradiating it with an electron beam pulse (86) synchronized with the phase control,
means (56, 90) for obtaining correction data of the frequency characteristics of the output voltage of the electron beam generating pulse generator (62, 64) for a plurality of frequencies; a memory (94) for storing the correction data; and a sample (70).
) detects the operating frequency of the operating signal (74) of the detector (
96), and means (56) for obtaining frequency characteristic correction data from the memory (94) and correcting the frequency characteristic of the output voltage of the electron beam generation pulse generator (62, 64). Electron beam device.
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