JPH0357167B2 - - Google Patents
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- JPH0357167B2 JPH0357167B2 JP59131958A JP13195884A JPH0357167B2 JP H0357167 B2 JPH0357167 B2 JP H0357167B2 JP 59131958 A JP59131958 A JP 59131958A JP 13195884 A JP13195884 A JP 13195884A JP H0357167 B2 JPH0357167 B2 JP H0357167B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- annealing
- decarburization
- oxidation
- decarburization annealing
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D3/00—Diffusion processes for extraction of non-metals; Furnaces therefor
- C21D3/02—Extraction of non-metals
- C21D3/04—Decarburising
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
Description
（産業上の利用分野）
本発明は極めて均一性に富んだ絶縁皮膜と優れ
た磁気特性を得ることのできる方向性電磁鋼板の
脱炭焼鈍方法に関する。 （従来の技術） 方向性電磁鋼板の製造工程においては鋼中のＣ
量の所定量の存在は鋼の金属組織のコントロール
に重要な役割があるため通常0.02〜0.07％を含有
させて鋳込まれる。しかし製品に存在するＣ量は
磁気特性を著しく劣化させるので最終仕上焼鈍前
に0.0030％程度以下にまで減少させる脱炭焼鈍工
程を有しているのが普通である。 この脱炭焼鈍工程は鋼中のＣを鋼板表面に拡散
させ雰囲気中の酸素と結合させ一酸化炭素として
除外する機構からなる。しかし、この脱炭焼鈍工
程では脱炭のみならず後の仕上焼鈍工程でのグラ
ス皮膜形成に重要なSiO2及びフアイヤライト
（Fayalite 2FeO・SiO2）主体の酸化膜の形成と
いう重要な役割があるため雰囲気中の酸化量のコ
ントロールが重要である。 通常は水素或いは水素＋窒素を主体とする混合
ガスを所定温度の水中に通すなどして所定露点を
確保して露点をコントロールすることが多い。こ
の酸化量の表示としての露点は雰囲気ガス中の水
素ガス量により実質内容が異なるので一般には
PH20／PH2値を酸化度として表示する。 従来の方向性電磁鋼板の脱炭焼鈍工程は雰囲気
の酸化度をPH20／PH2値として約0.15〜0.75の範囲
内の一定値とされるのが普通であつた。その後検
討され特公昭57−1575号公報記載の方法では、脱
炭焼鈍工程を前部と後部に分け、脱炭焼鈍温度、
例えば750〜880℃での前部領域の雰囲気の酸化度
PH20／PH2を0.15以上とし、後部領域の雰囲気の
酸化度PH20／PH2を0.75以下でかつ前部領域の酸
化度PH20／PH2より小さくする方法が提案されて
いる。この脱炭焼鈍工程において前部と後部に分
け、後部の雰囲気の酸化度と前部より小さくする
ことにより、製品の磁気特性と皮膜特性が改善さ
れるという作用効果があり有用である。 （発明が解決しようとする問題点） ところで本発明者らは、時代の要請である省エ
ネルギーに対処すべく、方向性電磁鋼板の磁気特
性、皮膜特性ともされに改善し、かつより安定し
た製品が製造されるように脱炭焼鈍工程について
検討した。 （問題点を解決するための手段） その結果、これまでは脱炭焼鈍に際して均熱後
の冷却帯の雰囲気には着目されていなかつたもの
をこの冷却帯における750℃以下の雰囲気の酸化
度PH20／PH2を0.008以下にすると、鋼板は追加酸
化されることがなく脱炭焼鈍温度つまり均熱帯で
形成されたフアイライト（Fayalite）層の一部が
シリカ（Silica）層に変化する反応があつて鋼板
表面の酸化膜層中のFe酸化物を低減しSiO2比率
を高め、SiO2主体の緻密な酸化膜層が形成され、
製品の磁気特性、皮膜特性がともに改善されるこ
とを見出した。 以下に本発明を詳細に述べる。 通常、脱炭焼鈍工程においては鋼板の脱炭性及
び酸化膜形成の点から脱炭焼鈍時の昇温中及び均
熱時の雰囲気ガス、その流量、酸化度、均熱温度
と時間等のコントロールは重要であり種々検討さ
れて来た。 近年では方向性電磁鋼板は高Si化に伴つて２次
再結晶の安定化等の目的で鋼成分としてSb、Cu、
Sn、Mo等の種々の元素がインヒビターとしてあ
るいはインヒビター強化の目的で添加されてい
る。これらの微量の添加元素は何れも脱炭性を阻
害する傾向がある。雰囲気の酸化度、脱炭温度、
時間等の通板条件は重要であり脱炭反応と酸化膜
形成の主反応域である脱炭焼鈍炉での鋼板の昇温
および均熱過程については充分な検討がなされて
来たが、均熱終了後の冷却帯の雰囲気条件につい
ては従来あまり検討がなされていなかつた。この
ため脱炭焼鈍工程での昇温過程、均熱過程の雰囲
気条件を充分管理してもガラス皮膜形成及び磁性
が変動することが多かつた。 この原因について検討したところ、脱炭焼鈍炉
内の冷却帯の雰囲気の変動が原因していることが
判つた。そこで冷却帯での鋼板温度と雰囲気ガス
の酸化度との関係について種々検討した。これを
実験データを参照して述べる。 供試材としてＣ：0.073％、Si：3.30％、Mn：
0.075％、Ｓ：0.024％、Al：0.026％、Ｎ：0.008
％をベース成分とするスラブを、公知の方法によ
り、熱間圧延→熱延板焼鈍→冷間圧延して0.225
mm厚とした鋼板を用いた。 この鋼板をN2：50％＋H2：50％、酸化度
PH20／PH20.52の雰囲気ガス中で840℃×２分間脱
炭焼鈍し、この脱炭焼鈍の冷却帯にて750℃から
200℃以下に冷却するさいの雰囲気ガスの酸化度
PH20／PH2を0.001〜0.5に変えて通板した。 この脱炭焼鈍後の鋼板にMg100重量部にTiO2
を３重量部配合した焼鈍分離剤を塗布し、1200℃
で20時間の最終仕上焼鈍を行なつた。 この鋼板の鉄損値W17/50を測定し、その結果を
第１図に示す。この図から明らかなように、鉄損
値に冷却過程の雰囲気ガスの酸化度PH20／PH2が
大きな影響を及ぼし、該酸化度PH20／PH2を0.008
以下に低減して冷却すると鉄損値が大幅に改善さ
れて低く、その値も変動が少なく安定することが
見出された。この図には示していないが、酸化度
PH20／PH2を0.008以下で冷却すると、皮膜特性が
格段に優れ、金属光沢斑点模様、ガスマーク状な
どが全くなくて全板幅にわたつて外観及び密着性
とも極めて優れている。 本発明が適用される方向性電磁鋼板の鋼成分は
特別な規制は必要ではなく、Ｃ：0.02〜0.10％、
Si：2.5〜4.0％にインヒビターを形成するMn、
Ｓ、Al、ＮやCu、Sn、Se、Sb等を１種または２
種以上が含まれうるものである。 またスラブの熱間圧延に先立つ加熱温度や、熱
間圧延の条件、熱延板焼鈍の条件、冷間圧延条件
は公知のものでよい。さらに１回冷間圧延または
中間焼鈍をはさんで２回以上の冷間圧延により最
終板厚とする方法であつてもよい。 次いで行なう脱炭焼鈍は公知の温度範囲、例え
ば850℃以上で２分間以上行なわれ、該脱炭焼鈍
の冷却過程では750℃以下を雰囲気ガスの酸化度
PH20／PH2を0.008以下として冷却する。 冷却帯雰囲気酸化度を750℃以下の温度で
PH20／PH2≦0.008に規定した理由はPH20／PH2が
0.008超ではフアイライト（Fayalite）或いはウ
スタイト（Wustite）形成域であり鋼板酸化膜層
の変質、追加酸化の影響で酸化膜中のFe酸化物
量を増大してグラス皮膜形成条件にバラツキをも
たらし、極端な場合には仕上焼鈍でのコイルラツ
プ間雰囲気の酸化度を高めるのと同じ悪影響によ
り金属斑点模様等の皮膜欠陥を生じる。このよう
な欠陥の発生を完全に防止し、外観及び密着性と
もに優れた皮膜を得るには酸化度PH20／PH2を
0.008以下とする必要がある。また当該酸化度以
下にて冷却すると、酸化膜層はSiO2主体の緻密
なものとなり、次工程の仕上焼鈍の昇温時にイン
ヒビターの変質分解等が防止され、２次再結晶が
高度に安定し磁気特性も優れる。 冷却過程において雰囲気酸化度を規定する温度
を750℃以下とするのは750℃超では脱炭及び酸化
膜形成がさかんな温度域であるのに対し、これ以
下では段階的ではあるが脱炭及び酸化膜形成反応
が弱まり有効な温度域とならないからである。 脱炭焼鈍の後は、MgOを主成分としTiO2等の
Ti酸化物やアンチモンやSrS等の硫化物等の１種
または２種以上が配合された焼鈍分離剤が鋼板に
塗布され、次いで仕上焼鈍される。 本発明によると、脱炭焼鈍工程での冷却帯で鋼
板の追加酸化が生じない上に均熱過程で形成され
たフアイヤライトの一部がシリカ層に変化する反
応が起つて鋼板表面の酸化膜層中のSiO2比率が
高くなりSiO2主体の緻密な酸化膜層となる。こ
のため仕上焼鈍昇温過程でのコイルラツプ間の露
点を下げ、雰囲気ガスによる酸化、還元反応を受
け難くし、脱炭焼鈍時に形成したSiO2主体の酸
化膜は変質することなくグラス皮膜形成反応が生
じ良質のガラス皮膜を形成する。 又このSiO2主体の酸化膜は仕上焼鈍昇温過程
での雰囲気ガスによるインヒビターの変質、分離
等からの保護作用があるため２次再結晶を安定化
し、磁性も向上するものと思われる。 （実施例） 次に実施例を示す。 実施例 １ Ｃ：0.068％、Si：3.15％、Mn：0.070％、Al：
0.026％、Cu：0.08％、Sn：0.10％、Ｎ：0.008％、
Ｓ：0.025％のスラブを公知の方法により熱間圧
延−熱延板焼鈍−冷間圧延により0.29mmの鋼板と
した。 この鋼板を連続焼鈍炉で840℃にてN225％＋
H275％、PH20／PH2＝0.52の雰囲気ガスで２分間
脱炭焼鈍後、冷却帯における750℃からの冷却を
雰囲気ガスN225％＋H275％でPH20／PH2を0.5、
0.2、0.08、0.008、0.001にて行つた。このときの
冷却帯750〜200℃までの冷却帯通過時間は60秒で
あつた。 この脱炭焼鈍後の鋼板MgO100重量部にTiO25
重量部を配合した焼鈍分離剤を塗布後、1200℃、
20時間の最終仕上焼鈍を行つた。このときの鋼板
表面の酸化膜の酸素量及び磁性、皮膜特性の測定
結果を第１表に示す。
た磁気特性を得ることのできる方向性電磁鋼板の
脱炭焼鈍方法に関する。 （従来の技術） 方向性電磁鋼板の製造工程においては鋼中のＣ
量の所定量の存在は鋼の金属組織のコントロール
に重要な役割があるため通常0.02〜0.07％を含有
させて鋳込まれる。しかし製品に存在するＣ量は
磁気特性を著しく劣化させるので最終仕上焼鈍前
に0.0030％程度以下にまで減少させる脱炭焼鈍工
程を有しているのが普通である。 この脱炭焼鈍工程は鋼中のＣを鋼板表面に拡散
させ雰囲気中の酸素と結合させ一酸化炭素として
除外する機構からなる。しかし、この脱炭焼鈍工
程では脱炭のみならず後の仕上焼鈍工程でのグラ
ス皮膜形成に重要なSiO2及びフアイヤライト
（Fayalite 2FeO・SiO2）主体の酸化膜の形成と
いう重要な役割があるため雰囲気中の酸化量のコ
ントロールが重要である。 通常は水素或いは水素＋窒素を主体とする混合
ガスを所定温度の水中に通すなどして所定露点を
確保して露点をコントロールすることが多い。こ
の酸化量の表示としての露点は雰囲気ガス中の水
素ガス量により実質内容が異なるので一般には
PH20／PH2値を酸化度として表示する。 従来の方向性電磁鋼板の脱炭焼鈍工程は雰囲気
の酸化度をPH20／PH2値として約0.15〜0.75の範囲
内の一定値とされるのが普通であつた。その後検
討され特公昭57−1575号公報記載の方法では、脱
炭焼鈍工程を前部と後部に分け、脱炭焼鈍温度、
例えば750〜880℃での前部領域の雰囲気の酸化度
PH20／PH2を0.15以上とし、後部領域の雰囲気の
酸化度PH20／PH2を0.75以下でかつ前部領域の酸
化度PH20／PH2より小さくする方法が提案されて
いる。この脱炭焼鈍工程において前部と後部に分
け、後部の雰囲気の酸化度と前部より小さくする
ことにより、製品の磁気特性と皮膜特性が改善さ
れるという作用効果があり有用である。 （発明が解決しようとする問題点） ところで本発明者らは、時代の要請である省エ
ネルギーに対処すべく、方向性電磁鋼板の磁気特
性、皮膜特性ともされに改善し、かつより安定し
た製品が製造されるように脱炭焼鈍工程について
検討した。 （問題点を解決するための手段） その結果、これまでは脱炭焼鈍に際して均熱後
の冷却帯の雰囲気には着目されていなかつたもの
をこの冷却帯における750℃以下の雰囲気の酸化
度PH20／PH2を0.008以下にすると、鋼板は追加酸
化されることがなく脱炭焼鈍温度つまり均熱帯で
形成されたフアイライト（Fayalite）層の一部が
シリカ（Silica）層に変化する反応があつて鋼板
表面の酸化膜層中のFe酸化物を低減しSiO2比率
を高め、SiO2主体の緻密な酸化膜層が形成され、
製品の磁気特性、皮膜特性がともに改善されるこ
とを見出した。 以下に本発明を詳細に述べる。 通常、脱炭焼鈍工程においては鋼板の脱炭性及
び酸化膜形成の点から脱炭焼鈍時の昇温中及び均
熱時の雰囲気ガス、その流量、酸化度、均熱温度
と時間等のコントロールは重要であり種々検討さ
れて来た。 近年では方向性電磁鋼板は高Si化に伴つて２次
再結晶の安定化等の目的で鋼成分としてSb、Cu、
Sn、Mo等の種々の元素がインヒビターとしてあ
るいはインヒビター強化の目的で添加されてい
る。これらの微量の添加元素は何れも脱炭性を阻
害する傾向がある。雰囲気の酸化度、脱炭温度、
時間等の通板条件は重要であり脱炭反応と酸化膜
形成の主反応域である脱炭焼鈍炉での鋼板の昇温
および均熱過程については充分な検討がなされて
来たが、均熱終了後の冷却帯の雰囲気条件につい
ては従来あまり検討がなされていなかつた。この
ため脱炭焼鈍工程での昇温過程、均熱過程の雰囲
気条件を充分管理してもガラス皮膜形成及び磁性
が変動することが多かつた。 この原因について検討したところ、脱炭焼鈍炉
内の冷却帯の雰囲気の変動が原因していることが
判つた。そこで冷却帯での鋼板温度と雰囲気ガス
の酸化度との関係について種々検討した。これを
実験データを参照して述べる。 供試材としてＣ：0.073％、Si：3.30％、Mn：
0.075％、Ｓ：0.024％、Al：0.026％、Ｎ：0.008
％をベース成分とするスラブを、公知の方法によ
り、熱間圧延→熱延板焼鈍→冷間圧延して0.225
mm厚とした鋼板を用いた。 この鋼板をN2：50％＋H2：50％、酸化度
PH20／PH20.52の雰囲気ガス中で840℃×２分間脱
炭焼鈍し、この脱炭焼鈍の冷却帯にて750℃から
200℃以下に冷却するさいの雰囲気ガスの酸化度
PH20／PH2を0.001〜0.5に変えて通板した。 この脱炭焼鈍後の鋼板にMg100重量部にTiO2
を３重量部配合した焼鈍分離剤を塗布し、1200℃
で20時間の最終仕上焼鈍を行なつた。 この鋼板の鉄損値W17/50を測定し、その結果を
第１図に示す。この図から明らかなように、鉄損
値に冷却過程の雰囲気ガスの酸化度PH20／PH2が
大きな影響を及ぼし、該酸化度PH20／PH2を0.008
以下に低減して冷却すると鉄損値が大幅に改善さ
れて低く、その値も変動が少なく安定することが
見出された。この図には示していないが、酸化度
PH20／PH2を0.008以下で冷却すると、皮膜特性が
格段に優れ、金属光沢斑点模様、ガスマーク状な
どが全くなくて全板幅にわたつて外観及び密着性
とも極めて優れている。 本発明が適用される方向性電磁鋼板の鋼成分は
特別な規制は必要ではなく、Ｃ：0.02〜0.10％、
Si：2.5〜4.0％にインヒビターを形成するMn、
Ｓ、Al、ＮやCu、Sn、Se、Sb等を１種または２
種以上が含まれうるものである。 またスラブの熱間圧延に先立つ加熱温度や、熱
間圧延の条件、熱延板焼鈍の条件、冷間圧延条件
は公知のものでよい。さらに１回冷間圧延または
中間焼鈍をはさんで２回以上の冷間圧延により最
終板厚とする方法であつてもよい。 次いで行なう脱炭焼鈍は公知の温度範囲、例え
ば850℃以上で２分間以上行なわれ、該脱炭焼鈍
の冷却過程では750℃以下を雰囲気ガスの酸化度
PH20／PH2を0.008以下として冷却する。 冷却帯雰囲気酸化度を750℃以下の温度で
PH20／PH2≦0.008に規定した理由はPH20／PH2が
0.008超ではフアイライト（Fayalite）或いはウ
スタイト（Wustite）形成域であり鋼板酸化膜層
の変質、追加酸化の影響で酸化膜中のFe酸化物
量を増大してグラス皮膜形成条件にバラツキをも
たらし、極端な場合には仕上焼鈍でのコイルラツ
プ間雰囲気の酸化度を高めるのと同じ悪影響によ
り金属斑点模様等の皮膜欠陥を生じる。このよう
な欠陥の発生を完全に防止し、外観及び密着性と
もに優れた皮膜を得るには酸化度PH20／PH2を
0.008以下とする必要がある。また当該酸化度以
下にて冷却すると、酸化膜層はSiO2主体の緻密
なものとなり、次工程の仕上焼鈍の昇温時にイン
ヒビターの変質分解等が防止され、２次再結晶が
高度に安定し磁気特性も優れる。 冷却過程において雰囲気酸化度を規定する温度
を750℃以下とするのは750℃超では脱炭及び酸化
膜形成がさかんな温度域であるのに対し、これ以
下では段階的ではあるが脱炭及び酸化膜形成反応
が弱まり有効な温度域とならないからである。 脱炭焼鈍の後は、MgOを主成分としTiO2等の
Ti酸化物やアンチモンやSrS等の硫化物等の１種
または２種以上が配合された焼鈍分離剤が鋼板に
塗布され、次いで仕上焼鈍される。 本発明によると、脱炭焼鈍工程での冷却帯で鋼
板の追加酸化が生じない上に均熱過程で形成され
たフアイヤライトの一部がシリカ層に変化する反
応が起つて鋼板表面の酸化膜層中のSiO2比率が
高くなりSiO2主体の緻密な酸化膜層となる。こ
のため仕上焼鈍昇温過程でのコイルラツプ間の露
点を下げ、雰囲気ガスによる酸化、還元反応を受
け難くし、脱炭焼鈍時に形成したSiO2主体の酸
化膜は変質することなくグラス皮膜形成反応が生
じ良質のガラス皮膜を形成する。 又このSiO2主体の酸化膜は仕上焼鈍昇温過程
での雰囲気ガスによるインヒビターの変質、分離
等からの保護作用があるため２次再結晶を安定化
し、磁性も向上するものと思われる。 （実施例） 次に実施例を示す。 実施例 １ Ｃ：0.068％、Si：3.15％、Mn：0.070％、Al：
0.026％、Cu：0.08％、Sn：0.10％、Ｎ：0.008％、
Ｓ：0.025％のスラブを公知の方法により熱間圧
延−熱延板焼鈍−冷間圧延により0.29mmの鋼板と
した。 この鋼板を連続焼鈍炉で840℃にてN225％＋
H275％、PH20／PH2＝0.52の雰囲気ガスで２分間
脱炭焼鈍後、冷却帯における750℃からの冷却を
雰囲気ガスN225％＋H275％でPH20／PH2を0.5、
0.2、0.08、0.008、0.001にて行つた。このときの
冷却帯750〜200℃までの冷却帯通過時間は60秒で
あつた。 この脱炭焼鈍後の鋼板MgO100重量部にTiO25
重量部を配合した焼鈍分離剤を塗布後、1200℃、
20時間の最終仕上焼鈍を行つた。このときの鋼板
表面の酸化膜の酸素量及び磁性、皮膜特性の測定
結果を第１表に示す。
【表】
【表】
実施例 ２
Ｃ：0.075％、Si：3.25％、Mn：0.072％、Al：
0.027％、Cu：0.09％、Sn：0.10％、Ｎ：0.008％、
Ｓ：0.025％のスラブを公知の方法により熱間圧
延−熱延板焼鈍−冷間圧延により0.225mm板厚の
鋼板とした。 この鋼板を連続焼鈍炉中で840℃にて雰囲気ガ
スN225％＋H275％、PH20／PH2＝0.52で２分間脱
炭焼鈍後、冷却帯において750℃から200℃以下に
冷却するさい温度の降下につれてN2とH2の混合
されてなる雰囲気のN2の割合を25％から80％に
増加させた雰囲気ガスにて酸化度PH20／PH2を
0.5、0.2、0.08、0.008、0.001として冷却した。 このときの冷却帯750〜200℃までの通過時間は
60秒であつた。この脱炭焼鈍後の鋼板に実施例１
と同様に焼鈍分離剤を塗布し、最終仕上焼鈍を行
つた。かくして得られた鋼板表面の酸化膜の酸素
量、磁気特性、皮膜特性を第２表に示す。
0.027％、Cu：0.09％、Sn：0.10％、Ｎ：0.008％、
Ｓ：0.025％のスラブを公知の方法により熱間圧
延−熱延板焼鈍−冷間圧延により0.225mm板厚の
鋼板とした。 この鋼板を連続焼鈍炉中で840℃にて雰囲気ガ
スN225％＋H275％、PH20／PH2＝0.52で２分間脱
炭焼鈍後、冷却帯において750℃から200℃以下に
冷却するさい温度の降下につれてN2とH2の混合
されてなる雰囲気のN2の割合を25％から80％に
増加させた雰囲気ガスにて酸化度PH20／PH2を
0.5、0.2、0.08、0.008、0.001として冷却した。 このときの冷却帯750〜200℃までの通過時間は
60秒であつた。この脱炭焼鈍後の鋼板に実施例１
と同様に焼鈍分離剤を塗布し、最終仕上焼鈍を行
つた。かくして得られた鋼板表面の酸化膜の酸素
量、磁気特性、皮膜特性を第２表に示す。
【表】
実施例 ３
Ｃ：0.048％、Si：3.18％、Mn：0.068％、Al：
0.010％、Ｓ：0.024％を含有するスラブを公知の
方法により熱延した。これを酸洗後0.68mmまで冷
間圧延し、980℃で中間焼鈍を行つた後、最終板
厚0.27mmまで冷間圧延した。 次いで脱炭焼鈍を連続炉中で実施例１と同様に
して行い、冷却帯における雰囲気の酸化度PH20／
PH2を変えて冷却した。 この脱炭焼鈍後の鋼板に焼鈍分離剤として
MgO100重量部に対しTiO21重量部を添加して塗
布し、1200℃×20hrの最終仕上焼鈍を行つた。こ
のときの磁気特性、皮膜特性を第３表に示す。
0.010％、Ｓ：0.024％を含有するスラブを公知の
方法により熱延した。これを酸洗後0.68mmまで冷
間圧延し、980℃で中間焼鈍を行つた後、最終板
厚0.27mmまで冷間圧延した。 次いで脱炭焼鈍を連続炉中で実施例１と同様に
して行い、冷却帯における雰囲気の酸化度PH20／
PH2を変えて冷却した。 この脱炭焼鈍後の鋼板に焼鈍分離剤として
MgO100重量部に対しTiO21重量部を添加して塗
布し、1200℃×20hrの最終仕上焼鈍を行つた。こ
のときの磁気特性、皮膜特性を第３表に示す。
【表】
以上のように、本発明によると磁気特性がすぐ
れ、皮膜特性にもすぐれた方向性電磁鋼板が製造
される。
れ、皮膜特性にもすぐれた方向性電磁鋼板が製造
される。
第１図は本発明における鉄損値W17/50に及ぼす
脱炭焼鈍の冷却過程における雰囲気ガスの酸化度
PH20／PH2の影響を示す図である。
脱炭焼鈍の冷却過程における雰囲気ガスの酸化度
PH20／PH2の影響を示す図である。
Claims (1)
- １ 方向性電磁鋼板の仕上焼鈍前の脱炭焼鈍工程
において、脱炭焼鈍後に冷却するに際し、750℃
以下を、雰囲気ガスの酸化度PH20／PH2を0.008以
下として冷却することを特徴とする方向性電磁鋼
板の脱炭焼鈍方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13195884A JPS6112823A (ja) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | 方向性電磁鋼板の脱炭焼鈍方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13195884A JPS6112823A (ja) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | 方向性電磁鋼板の脱炭焼鈍方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6112823A JPS6112823A (ja) | 1986-01-21 |
| JPH0357167B2 true JPH0357167B2 (ja) | 1991-08-30 |
Family
ID=15070187
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13195884A Granted JPS6112823A (ja) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | 方向性電磁鋼板の脱炭焼鈍方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6112823A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| CN107072818B (zh) | 2014-09-15 | 2020-03-13 | 3M创新有限公司 | 个人防护系统工具通信适配器 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3017215C2 (de) * | 1980-05-06 | 1983-06-01 | Mayer, Karl, 8050 Freising | Schweißschutzanordnung |
-
1984
- 1984-06-28 JP JP13195884A patent/JPS6112823A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9574249B2 (en) | 2010-02-24 | 2017-02-21 | Jfe Steel Corporation | Method for manufacturing grain oriented electrical steel sheet |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6112823A (ja) | 1986-01-21 |
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