JPH0358380A - electronic equipment - Google Patents
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- JPH0358380A JPH0358380A JP1191427A JP19142789A JPH0358380A JP H0358380 A JPH0358380 A JP H0358380A JP 1191427 A JP1191427 A JP 1191427A JP 19142789 A JP19142789 A JP 19142789A JP H0358380 A JPH0358380 A JP H0358380A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子装置に関し,特に、半導体記憶装置をl
つのメモリシステムとして実装基板に複数個規則的に配
置する電子装置に適用して有効な技術に関するものであ
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to electronic devices, and in particular to semiconductor memory devices.
The present invention relates to a technique that is effective when applied to an electronic device in which a plurality of memory systems are regularly arranged on a mounting board.
コンピュータのメモリボードは,1つのメモリシステム
として実装基板に複数個の半導体記憶装置を規則的に配
置して構成される。前記半導体記憶装置は実装密度を十
分高める必要性が有る場合はDRAM(Dynamic
Random Access Memory)で構成
される。A computer memory board is configured by regularly arranging a plurality of semiconductor memory devices on a mounting board as one memory system. The semiconductor memory device may be a DRAM (Dynamic RAM) if there is a need to sufficiently increase the packaging density.
Random Access Memory).
前記コンピュータの演算処理速度の高速化は前記半導体
記憶装置のアクセスタイムの高速化に比例するため、こ
のアクセスタイムの高速化が重要な技術的l!!題の1
つとされている6最近、前述のアクセスタイムの高速化
を図る目的で、半導体記憶装置にE C L ( E
n+itter C oupled L ogic)イ
ンターフェイス回路を搭載する技術の検討が行われてい
る。Since the increase in the arithmetic processing speed of the computer is proportional to the increase in the access time of the semiconductor storage device, the increase in the access time is an important technical point! ! Title 1
Recently, in order to speed up the access time mentioned above, ECL (E
A technology for mounting an interface circuit (n+itter coupled logic) is being studied.
第6図(ブロック構或図)に示すように、前記技術を採
用するメモリボード100は実装基板101の実装面に
複数個の半導体記憶装置(D R p. M)102が
規則的に配置される。半導体記憶装置102は、第6図
にその構或を明確に示していないが、例えば半導体ペレ
ット(D R A M)をSOJ型の樹脂封止型パッケ
ージで封止したものである。As shown in FIG. 6 (block configuration diagram), a memory board 100 employing the above technology has a plurality of semiconductor memory devices (DRP.M) 102 regularly arranged on the mounting surface of a mounting board 101. Ru. Although the structure of the semiconductor memory device 102 is not clearly shown in FIG. 6, it is, for example, a semiconductor pellet (DRAM) sealed in an SOJ type resin-sealed package.
前記実装基仮101の実装面上には共通アドレス信号線
CAL、共通クロック信号線(図示しない)、入力デー
タ信号線DL等の入力信号線が配置される。前記共通ア
ドレス信号線CALは複数個の半導体記憶装置102に
共通のアドレス信号線としてアドレス信号ADを伝達す
る。この共通アドレス信号線CALの終端にはそれに接
続された複数個の半導体記憶装置102に共通の終端抵
抗素子ARが設けられる。終端抵抗素子ARは入力信号
の反射を低減する目的で共通アドレス信号線CALと電
源Vttとの間に接続される。終端抵抗素子ARは、共
通アドレス信号線の特性インピーダンスとのマッチング
をとるように50(又は75’)[Ω]のような抵抗値
にされ、前記実装基板101の実装面に外付けされる。On the mounting surface of the temporary mounting board 101, input signal lines such as a common address signal line CAL, a common clock signal line (not shown), and an input data signal line DL are arranged. The common address signal line CAL transmits an address signal AD to a plurality of semiconductor memory devices 102 as a common address signal line. A terminating resistance element AR common to a plurality of semiconductor memory devices 102 connected thereto is provided at the end of this common address signal line CAL. Termination resistance element AR is connected between common address signal line CAL and power supply Vtt for the purpose of reducing reflection of input signals. The terminating resistance element AR has a resistance value of 50 (or 75') [Ω] to match the characteristic impedance of the common address signal line, and is externally attached to the mounting surface of the mounting board 101.
前記共通クロック信号線は複数個の半導体記憶装置10
2に共通のクロック信号線としてクロツク信号を伝達す
る。この共通クロツク信号線の終端には図示しないが共
通アドレス信号線CALと同様に共通の終端抵抗素子が
設けられる。この終端抵抗素子は同様に実装基板101
の実装面に外付けされる。The common clock signal line is connected to a plurality of semiconductor memory devices 10.
A clock signal is transmitted as a common clock signal line to the two. Although not shown, a common terminating resistance element is provided at the end of this common clock signal line, similar to the common address signal line CAL. This terminating resistor element is also mounted on the mounting board 101.
is externally attached to the mounting surface.
前記データ入力信号線DLは前記半導体記憶装置102
のデータ入力信号端子Dinに半導体記憶装置102毎
に個別に入力データ信号を伝達する。前記データ入力信
号端子DinにはECLインターフェイス回路が接続さ
れる。前記データ入力信号線DLを伝達するデータ入力
信号は制御装置(コントロールゲート)CGで制御され
る。前記データ入力信号線DLには、半導体記憶装置1
02の夫々に入力されるデータ入力信号が異なるので、
半導体記憶装置102毎に終端抵抗素子DRが設けられ
る。また、データ入力信号線DLは半導体記憶装置10
2のデータ入力信号数に応じて1〜4本配置されるので
、終端抵抗素子DRはデータ入力信号線DLの配置本数
毎に夫々般けられる。つまり、データ入力信号線DLに
は、1個の半導体記憶装置102に対し、そのデータ入
力信号数に応じてl〜4個の終端抵抗素子DRが配置さ
れる。この終端抵抗素子DRは前記終端抵抗素子ARと
同様に実装基板101の実装面に外付けされる。The data input signal line DL is connected to the semiconductor memory device 102.
The input data signal is individually transmitted to the data input signal terminal Din of each semiconductor memory device 102. An ECL interface circuit is connected to the data input signal terminal Din. The data input signal transmitted through the data input signal line DL is controlled by a control device (control gate) CG. The data input signal line DL includes a semiconductor memory device 1.
Since the data input signals input to each of 02 are different,
A terminating resistance element DR is provided for each semiconductor memory device 102. Further, the data input signal line DL is connected to the semiconductor memory device 10.
Since one to four terminal resistive elements DR are arranged according to the number of data input signal lines DL, one terminal resistance element DR is provided for each number of data input signal lines DL arranged. That is, 1 to 4 terminating resistance elements DR are arranged on the data input signal line DL, depending on the number of data input signals for one semiconductor memory device 102. This terminating resistor element DR is externally attached to the mounting surface of the mounting board 101 similarly to the terminating resistor element AR.
なお、ECLインターフエイス回路が搭載された半導体
装置については、例えば特開昭60−171758号公
報に記載されている。Note that a semiconductor device equipped with an ECL interface circuit is described in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 171758/1983.
前述の第6図に示すメモリボード100は、実装基板1
01の実装面に半導体記憶装置102とは別に外付けの
複数の終端抵抗素子AR.DRの夫々を配置するので、
実装密度が低下するという問題があった,特に、終端抵
抗素子DRは半導体記憶装置102毎にしかもそのデー
タ入力信号数に応じて配置されるので、実装密度は終端
抵抗素子DRの配置数に相当する分の低下が大きい。The memory board 100 shown in FIG.
A plurality of external termination resistance elements AR.01 are mounted on the mounting surface of AR. Since each DR is placed,
There was a problem that the packaging density decreased. In particular, since the terminating resistor elements DR are arranged for each semiconductor storage device 102 and in accordance with the number of data input signals, the packaging density is equivalent to the number of terminating resistor elements DR arranged. There is a large decrease in the amount of
また、前記メモリボード100は、前記終端抵抗素子A
R.DRの夫々の配置数に相当する分、実装基板101
の実装面に実装される部品点数が多い。Further, the memory board 100 includes the terminating resistance element A.
R. The mounting board 101 corresponds to the number of DRs arranged.
The number of components mounted on the mounting surface is large.
このため、部品の実装不良の確率や部品の電気的接続不
良の確率が増大し、メモリボード100の電気的信頼性
が低下するという問題があった。Therefore, there is a problem in that the probability of component mounting defects and the probability of component electrical connection defects increases, and the electrical reliability of the memory board 100 decreases.
本発明の目的は,入力信号用外部端子にECLインター
フェイス回路が接続された半導体記憶装置を1つのメモ
リシステムとして実装基板に複数個規則的に配置した電
子装置において、実装密度を向上することが可能な技術
を提供することにある。An object of the present invention is to improve the packaging density in an electronic device in which a plurality of semiconductor storage devices each having an ECL interface circuit connected to an external terminal for an input signal are regularly arranged on a mounting board as one memory system. The aim is to provide the latest technology.
本発明の他の目的は、前記電子装置の電気的信頼性を向
上することが可能な技術を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a technique that can improve the electrical reliability of the electronic device.
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば,下記のとおりである。A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.
入力信号用外部端子にECLインターフェイス回路が設
けられた半導体記憶装置を1つのメモリシステムとして
実装基板に複数個規則的に配置した電子装置において、
前記半導体記憶装置に個別に入力されるデータ信号又は
アドレス信号が印加される、前記半導体記憶装置の入力
信号用外部端子とECLインターフェイス回路との間に
並列に終端抵抗素子を内蔵する。この終端抵抗素子は半
導体記憶装置の半導体基板の主面に構成される。In an electronic device in which a plurality of semiconductor memory devices each having an ECL interface circuit provided at an external terminal for an input signal are regularly arranged on a mounting board as one memory system,
A terminating resistor element is built in parallel between an input signal external terminal of the semiconductor memory device and an ECL interface circuit, to which a data signal or an address signal that is individually input to the semiconductor memory device is applied. This termination resistance element is formed on the main surface of the semiconductor substrate of the semiconductor memory device.
上述した手段によれば、前記半導体記憶装置に内蔵され
る終端抵抗素子は半導体基板の占有面積内に形成され、
半導体パッケージの実質的な面積の増加とならないよう
にすることができるので、前記電子装置(例えばメモリ
ボード)の実装基板の実装面に外付けされる終端抵抗素
子の占有面積に相当する分、電子装置の実装密度を向上
することができる。また、実装基板の実装面に実装され
る部品点数を低減し、不良の確率を低減することができ
るので、電子装置の電気的信頼性を向上することができ
る。According to the above-mentioned means, the termination resistance element built into the semiconductor memory device is formed within the area occupied by the semiconductor substrate,
Since the area of the semiconductor package can be prevented from increasing substantially, electronic The packaging density of the device can be improved. Furthermore, the number of components mounted on the mounting surface of the mounting board can be reduced and the probability of defects can be reduced, so the electrical reliability of the electronic device can be improved.
以下、本発明の構或について、ECLインターフェイス
回路を有するDRAMを半導体記憶装置として実装する
電子装置(メモリボード)に本発明を適用したー実施例
とともに説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The structure of the present invention will be described below along with an embodiment in which the present invention is applied to an electronic device (memory board) in which a DRAM having an ECL interface circuit is mounted as a semiconductor memory device.
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能
を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は
省略する。In addition, in all the figures for explaining the embodiment, parts having the same functions are given the same reference numerals, and repeated explanations thereof will be omitted.
本発明の一実施例である電子装置(メモリボード)の概
略構或を第1図(ブロック構或図)で示す。The schematic structure of an electronic device (memory board) which is an embodiment of the present invention is shown in FIG. 1 (block structure diagram).
第1図に示すように、メモリボード(電子装置)100
は、実装基板101の実装面に半導体記憶装置102を
複数個規則的に配置し、lつのメモリシステムを構成す
る。As shown in FIG. 1, a memory board (electronic device) 100
In this example, a plurality of semiconductor memory devices 102 are regularly arranged on the mounting surface of a mounting board 101 to form one memory system.
前記実装基板101は例えばエボキシ系樹脂基板の表面
に配線が施されたプリント配線基板である.前記半導体
記憶装置102はDRAMで構成される。この半導体記
憶装置102は、DRAM機能を有する半導体ペレット
を例えば樹脂封止型パッケージで封止したものである。The mounting board 101 is, for example, a printed wiring board with wiring provided on the surface of an epoxy resin board. The semiconductor memory device 102 is composed of a DRAM. This semiconductor memory device 102 is a semiconductor pellet having a DRAM function sealed in, for example, a resin-sealed package.
樹脂封止型パッケージは例えばSOJ型、ZIP型、D
IP型等の構造で構威される。このサイズに限定されな
いが、半導体記憶装置102(そのパッケージサイズ)
は例えば400X750[milコで構威される.前記
半導体ペレットに搭載されるDRAMのメモリセルは、
1[bitlの情報を記憶し、メモリセル選択用M工S
FETと情報蓄積用容量素子との直列回路で構成される
。Examples of resin-sealed packages include SOJ type, ZIP type, and D.
This can be done with a structure such as an IP type. Although not limited to this size, the semiconductor storage device 102 (its package size)
For example, 400X750 [mil] is used. The DRAM memory cell mounted on the semiconductor pellet is
1 [Bitl information is stored and memory cell selection M]
It consists of a series circuit of an FET and an information storage capacitive element.
前記実装基板101の実装面上には共通アドレス信号線
CAL、共通クロック信号M(図示しない)、入力デー
タ信号線DL等の入力信号線が配置される。前記共通ア
ドレス信号線CALは、複数本のアドレス信号線で構威
され、複数個の半導体記憶装置102に共通のアドレス
信号線としてアドレス信号ADを伝達する。この共通ア
ドレス信号線CALの終端にはそれに接続された複数個
の半導体記憶装置102に共通の終端抵抗素子ARが設
けられる。終端抵抗素子ARは共通アドレス信号線CA
Lと電源Vttとの間に並列に接続される。終端抵抗素
子ARは、例えば50(又は75)[Ω]の抵抗値で形
成され、前記実装基板101の実装面に外付けされる。Input signal lines such as a common address signal line CAL, a common clock signal M (not shown), and an input data signal line DL are arranged on the mounting surface of the mounting board 101. The common address signal line CAL is made up of a plurality of address signal lines, and transmits an address signal AD to a plurality of semiconductor memory devices 102 as a common address signal line. A terminating resistance element AR common to a plurality of semiconductor memory devices 102 connected thereto is provided at the end of this common address signal line CAL. Termination resistance element AR is connected to common address signal line CA
It is connected in parallel between L and the power supply Vtt. The terminating resistance element AR is formed with a resistance value of, for example, 50 (or 75) [Ω], and is externally attached to the mounting surface of the mounting board 101.
この外付けされる終端抵抗素子ARは、このサイズに限
定されないが、例えば約300X750[milコで構
成される。前記電源Vttは例えば1.75[V]であ
る。This externally attached terminating resistance element AR is, for example, approximately 300×750 mils, although the size thereof is not limited to this size. The power supply Vtt is, for example, 1.75 [V].
前記共通クロック信号線は複数個の半導体記憶装置10
2に共通のクロック信号線としてクロック信号を伝達す
る。この共通クロック信号線の終端には図示しないが共
通アドレス信号線CALと同様に共通の終端抵抗素子が
設けられる。この終端抵抗素子は同様に実装基板101
の実装面に外付けされる。The common clock signal line is connected to a plurality of semiconductor memory devices 10.
A clock signal is transmitted as a common clock signal line to both. Although not shown, a common terminating resistance element is provided at the end of this common clock signal line, similar to the common address signal line CAL. This terminating resistor element is also mounted on the mounting board 101.
is externally attached to the mounting surface.
前記データ入力信号線DLは前記半導体記憶装置102
のデータ入力信号端子Dinに半導体記憶装置102毎
に個別に入力データ信号を伝達する。前記データ入力信
号端子DinにはECLインターフェイス回路(111
)が接続される。前記データ入力信号線DLを伝達す
るデータ入力信号は制御装置(コントロールゲート)C
Gで制御される。The data input signal line DL is connected to the semiconductor memory device 102.
The input data signal is individually transmitted to the data input signal terminal Din of each semiconductor memory device 102. The data input signal terminal Din is connected to an ECL interface circuit (111
) are connected. The data input signal transmitted through the data input signal line DL is transmitted by a control device (control gate) C.
Controlled by G.
第2図(等価回路図)に前記ECLインターフェイス回
路111の一例を示す。ECLインターフェイス回路1
11は半導体記憶装置102の半導体ペレットの主面に
配置された入力信号用外部端子110に接続される。E
CLインターフェイス回路111は、主に静電気破壊防
止回路、ECL回路、論理回路及び出力段回路で構或さ
れる。静電気破壊防止回路は主に保護抵抗素子、電圧ク
ランプ用nチャネルMISFET及び複数個のダイオー
ド素子の夫々で構或される。Vsubは基板電位である
。FIG. 2 (equivalent circuit diagram) shows an example of the ECL interface circuit 111. ECL interface circuit 1
11 is connected to an input signal external terminal 110 arranged on the main surface of the semiconductor pellet of the semiconductor memory device 102 . E
The CL interface circuit 111 mainly includes an electrostatic breakdown prevention circuit, an ECL circuit, a logic circuit, and an output stage circuit. The electrostatic breakdown prevention circuit mainly includes a protective resistance element, an n-channel MISFET for voltage clamping, and a plurality of diode elements. Vsub is the substrate potential.
ECL回路は主にnpn型バイボーラトランジスタ及び
抵抗素子で構成される。Vrefは基準電位である。論
理回路は主にnpn型バイボーラトランジスタ、nチャ
ネルMISFET及びpチャネルMISFETで構威さ
れる.Vgは固定電位である。出力段回路はnpn型パ
イボーラトランジスタで形成されたプルダウン回路で構
或される。The ECL circuit is mainly composed of an npn type bibolar transistor and a resistance element. Vref is a reference potential. The logic circuit mainly consists of npn-type bibolar transistors, n-channel MISFETs, and p-channel MISFETs. Vg is a fixed potential. The output stage circuit is composed of a pull-down circuit formed of an npn type pibora transistor.
この出力段回路の出力信号は内部回路(Write G
an)に出力される。The output signal of this output stage circuit is sent to the internal circuit (Write G
an).
前記第1図に示すように、前記データ入力信号線DLに
は、半導体記憶装置102の夫々に入力されるデータ入
力信号が異なるので、半導体記憶装置102毎に終端抵
抗素子DRが設けられる。また、データ入力信号線DL
は半導体記憶装置102のデータ入力信号数に応じて例
えば1〜4本配置されるので、終端抵抗素子DRはデー
タ入力信号線DLの配置本数毎に夫々設けられる。つま
り、データ入力信号線DLには、1個の半導体記憶装置
102に対し、そのデータ入力信号数に応じてl〜4個
の終端抵抗素子DRが配置される。As shown in FIG. 1, the data input signal line DL is provided with a termination resistance element DR for each semiconductor memory device 102 because the data input signal input to each semiconductor memory device 102 is different. In addition, the data input signal line DL
For example, one to four terminal resistance elements DR are arranged depending on the number of data input signal lines DL of the semiconductor memory device 102, so a termination resistance element DR is provided for each number of data input signal lines DL arranged. That is, 1 to 4 terminating resistance elements DR are arranged on the data input signal line DL, depending on the number of data input signals for one semiconductor memory device 102.
第l図及び第2図に示すように、前記終端抵抗素子DR
は、データ入力信号端子DinとECLインターフェイ
ス回路111との間に並列に配置される。つまり,終端
抵抗素子DRは半導体記憶装置102に内蔵される。こ
の終端抵抗素子DRは、端がデータ入力信号端子Din
とECLインターフェイス回路111とを接続する信号
線に接続され、他端が電源用外部端子(VttB12に
接続される。As shown in FIGS. 1 and 2, the terminating resistance element DR
are arranged in parallel between the data input signal terminal Din and the ECL interface circuit 111. That is, the termination resistance element DR is built into the semiconductor memory device 102. This termination resistance element DR has an end connected to the data input signal terminal Din.
and the ECL interface circuit 111, and the other end is connected to an external terminal for power supply (VttB12).
この電源用外部端子(vtt)112に印加される電源
Vttは例えば1.75[Vコである。The power supply Vtt applied to this external power supply terminal (vtt) 112 is, for example, 1.75 [V].
この終端抵抗素子DRの具体的な構或を第3図(要部平
面図)及び第4図(第3図のrV−IV切断線で切った
断面図)で示す。The specific structure of this terminating resistor element DR is shown in FIG. 3 (a plan view of essential parts) and FIG. 4 (a sectional view taken along the rV-IV cutting line in FIG. 3).
前記終端抵抗素子DRは、第3図及び第4図に示すよう
に、半導体記憶装置102の半導体ペレットであるp型
半導体基板1(又はウエル領域)の主面に構成される。The termination resistance element DR is formed on the main surface of the p-type semiconductor substrate 1 (or well region), which is a semiconductor pellet of the semiconductor memory device 102, as shown in FIGS. 3 and 4.
つまり、終端抵抗素子DRは、フィールド絶縁膜2で周
囲を囲まれた領域内において、p型半導体基板1の主面
部に形或されたn型半導体領域(拡散層)3で構成され
る。このn型半導体領域3は、例えばDRAMのメモリ
セル又は周辺回路素子を構或するnチャネルMISFE
Tのソース領域、ドレイン領域の夫々と同一製造工程で
形成される。終端抵抗素子DRであるn型半導体領域3
は、その不純物濃度やpn接合深さにより異なるが,例
えば100[μmコ程度の抵抗長で形或される。しかも
、終端抵抗素子DRであるn型半導体領域3は、半導体
ペレットの周辺部分の空領域を利用して形戊されるので
、実質的な半導体ペレットの占有面積の増加がない。That is, the termination resistance element DR is constituted by an n-type semiconductor region (diffusion layer) 3 formed on the main surface of the p-type semiconductor substrate 1 in a region surrounded by the field insulating film 2 . This n-type semiconductor region 3 is for example an n-channel MISFE that constitutes a memory cell of a DRAM or a peripheral circuit element.
It is formed in the same manufacturing process as the source region and drain region of T. n-type semiconductor region 3 which is the termination resistance element DR
Although it varies depending on the impurity concentration and the pn junction depth, it is formed with a resistance length of, for example, about 100 μm. Moreover, since the n-type semiconductor region 3, which is the terminating resistor element DR, is formed using the empty area around the semiconductor pellet, there is no substantial increase in the area occupied by the semiconductor pellet.
前記終端抵抗素子DRであるn型半導体領域3の一端は
層間絶縁膜4に形成された接続孔5を通して配線7に接
続される。この配線7は層間絶縁膜8に形或された接続
孔9を通してデータ入力信号端子(Din)110であ
る配線10に接続される。一方、終端抵抗素子DRであ
るn型半導体領域3の他端は配線7を介在させて電源用
外部端子(Vtt)112である配線10に接続される
。配線7、10の夫々は例えばアルミニウム合金膜で形
或される。アルミニウム合金膜にはCu、又はCu及び
Siが添加される。この構造に限定されないが、前記n
型半導体領域3の一端、他端の夫々と配線7との間には
n型半導体領域6を介在させている。n型半導体領域6
は、DRAMのメモリセルのメモリセル選択用MISF
ETと相補性データ線(7)との接続の際に、前記相補
性データ線とp型半導体基板1との短絡を防止するため
に形或される。One end of the n-type semiconductor region 3, which is the termination resistance element DR, is connected to the wiring 7 through a connection hole 5 formed in the interlayer insulating film 4. This wiring 7 is connected to a wiring 10, which is a data input signal terminal (Din) 110, through a connection hole 9 formed in an interlayer insulating film 8. On the other hand, the other end of the n-type semiconductor region 3, which is the terminating resistance element DR, is connected to the wiring 10, which is the external terminal for power supply (Vtt) 112, with the wiring 7 interposed therebetween. Each of the wirings 7 and 10 is formed of, for example, an aluminum alloy film. Cu or Cu and Si are added to the aluminum alloy film. Although not limited to this structure, the n
An n-type semiconductor region 6 is interposed between one end and the other end of the type semiconductor region 3 and the wiring 7. n-type semiconductor region 6
is the MISF for memory cell selection of DRAM memory cells.
It is formed in order to prevent a short circuit between the complementary data line and the p-type semiconductor substrate 1 when the ET and the complementary data line (7) are connected.
前記終端抵抗素子DRは、多結晶珪素膜で形或した抵抗
素子で形或してもよいが、それに比べてn型半導体領域
3は抵抗値の制御性が高いので、本実施例ではn型半導
体領域3で構成される。また、n型半導体領域3は不純
物の導入量を制御することにより高い精度で抵抗値を自
由に制御することができる特徴がある。また、終端抵抗
素子DRは、npn型バイボーラトランジスタの各動作
領域であるエミッタ領域或はコレクタ領域と同一製造工
程で、又はn型ウエル領域と同一製造工程で形成しても
よい。The termination resistance element DR may be formed of a resistance element formed of a polycrystalline silicon film, but since the resistance value of the n-type semiconductor region 3 can be controlled more easily than that, in this embodiment, it is formed of an n-type semiconductor region 3. It is composed of a semiconductor region 3. Furthermore, the n-type semiconductor region 3 has a feature that its resistance value can be freely controlled with high precision by controlling the amount of impurity introduced. Further, the terminating resistance element DR may be formed in the same manufacturing process as the emitter region or the collector region, which are each operating region of the npn-type bibolar transistor, or in the same manufacturing process as the n-type well region.
このように、入力信号用外部端子(Din)110にE
CLインターフェイス回路111が接続された半導体記
憶装置102を1つのメモリシステムとして実装基板1
01に複数個規則的に配置したメモリボード(電子装置
)100において、前記半導体記憶装置102に個別に
入力されるデータ入力信号が印加される、前記半導体記
憶装置102の入力信号用外部端子( D in)11
0とECLインターフェイス回路111 との間に並列
に終端抵抗素子DRを内蔵する。In this way, E is connected to the input signal external terminal (Din) 110.
The semiconductor storage device 102 to which the CL interface circuit 111 is connected is used as one memory system on the mounting board 1.
In a memory board (electronic device) 100 in which a plurality of memory boards (electronic devices) are arranged regularly at 01, external terminals for input signals of the semiconductor memory device 102 (D in) 11
A terminating resistance element DR is built in parallel between 0 and the ECL interface circuit 111.
この終端抵抗素子DRは半導体記憶装置102の半導体
基板1の主面に構威される。この構或により、前記半導
体記憶装置102に内蔵される終端抵抗素子DRはp型
半導体基板1の占有面積内に形或され、実質的な面積の
増加とならないので、前記メモリボード100の実装基
板101の実装面に外付けされる終端抵抗素子DRの占
有面積に相当する分、メモリボード100の実装密度を
向上することができる。また、メモリボード100の実
装基板101の実装面に実装される部品点数を終端抵抗
素子DRに相当する分低減し、実装不良や電気的接続不
良の発生確率を低減することができるので、メモリボー
ド100の電気的信頼性を向上することができる。This termination resistance element DR is arranged on the main surface of the semiconductor substrate 1 of the semiconductor memory device 102. With this structure, the termination resistance element DR built into the semiconductor memory device 102 is formed within the area occupied by the p-type semiconductor substrate 1, and the area does not increase substantially, so that the mounting substrate of the memory board 100 The mounting density of the memory board 100 can be improved by an area corresponding to the area occupied by the termination resistor element DR externally attached to the mounting surface of the memory board 101. Furthermore, the number of components mounted on the mounting surface of the mounting board 101 of the memory board 100 can be reduced by an amount corresponding to the termination resistor element DR, and the probability of occurrence of mounting defects and electrical connection defects can be reduced. 100 electrical reliability can be improved.
また、前記終端抵抗素子DRは第5図(等価回路図)に
示すように半導体記憶装置102の入力信号用外部端子
(Din)110と電源用外部端子(Vtt)112と
の間に挿入してもよい。半導体記憶装置102の入力信
号用外部端子(Din)110は実際にはボンディング
ワイヤを介在させてリードに接続され、このリードを介
在させて半導体記憶装置102を実装基板101の実装
面に実装しているので、前記終端抵抗素子DRは前記リ
ード(外部端子或は外部ピン)とECLインターフェイ
ス回路111との間に並列に配置されていることになる
。また,このような終端抵抗素子DRの配置は抵抗値の
低い配線7哉は配線10を使用しているので可能となる
。Further, the terminating resistance element DR is inserted between the input signal external terminal (Din) 110 and the power supply external terminal (Vtt) 112 of the semiconductor storage device 102, as shown in FIG. 5 (equivalent circuit diagram). Good too. The input signal external terminal (Din) 110 of the semiconductor memory device 102 is actually connected to a lead via a bonding wire, and the semiconductor memory device 102 is mounted on the mounting surface of the mounting board 101 with the lead interposed. Therefore, the termination resistance element DR is arranged in parallel between the lead (external terminal or external pin) and the ECL interface circuit 111. Further, such arrangement of the termination resistance element DR is possible because the wiring 10 is used as the wiring 7 having a low resistance value.
以上、本発明者によってなされた発明を、前記実施例に
基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲にお
いて種々変更可能であることは勿論である。As above, the invention made by the present inventor has been specifically explained based on the above embodiments, but the present invention is not limited to the above embodiments, and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Of course.
例えば,本発明は,前記半導体記憶装置102にアドレ
ス信号を個別に入力する場合、半導体記憶装i!102
のアドレス信号用外部端子とそれに直列に接続されるE
CLインターフェイス回路との間に並列に終端抵抗素子
を内蔵させてもよい。For example, in the present invention, when address signals are individually input to the semiconductor memory device 102, the semiconductor memory device i! 102
external terminal for address signal and E connected in series with it.
A terminating resistance element may be built in in parallel with the CL interface circuit.
また、本発明は、ECLインターフェイス回路を有する
SRAMを半導体記憶装置とするメモリボード(電子装
置)に適用することができる。Further, the present invention can be applied to a memory board (electronic device) using an SRAM having an ECL interface circuit as a semiconductor memory device.
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.
電子装置の実装密度を向上することができる。The packaging density of electronic devices can be improved.
また、前記電子装置の電気的信頼性を向上することがで
きる。Moreover, the electrical reliability of the electronic device can be improved.
第l図は、本発明の一実施例である電子装置のブロック
構或図、
第2図は,前記電子装置の半導体記憶装置に内蔵された
ECLインターフェイス回路の等価回路図、
第3図は、前記半導体記憶装置に内蔵された終端抵抗素
子の要部平面図、
第4図は、前記終端抵抗素子の要部断面,第5図は、本
発明の他の実施例である電子装置の半導体記憶装置に内
蔵されたECLインターフェイス回路の等価回路、
第6図は、従来の電子装置のブロック構或図である。
図中、100・・・電子装置、102・・・半導体記憶
装置、110 , D in・・・入力信号用外部端子
、111・・・ECLインターフェイス回路、DL・・
・データ入力信号線、DR・・・終端抵抗素子である。FIG. 1 is a block diagram of an electronic device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of an ECL interface circuit built in a semiconductor memory device of the electronic device, and FIG. FIG. 4 is a plan view of a main part of the terminating resistance element built in the semiconductor memory device, FIG. 4 is a cross-sectional view of the main part of the terminating resistance element, and FIG. Equivalent circuit of the ECL interface circuit built into the device. FIG. 6 is a block diagram of a conventional electronic device. In the figure, 100...electronic device, 102...semiconductor storage device, 110, Din...external terminal for input signal, 111...ECL interface circuit, DL...
-Data input signal line, DR...terminal resistance element.
Claims (1)
が接続された半導体記憶装置を1つのメモリシステムと
して実装基板に複数個規則的に配置した電子装置におい
て、前記半導体記憶装置に個別に入力されるデータ信号
又はアドレス信号が印加される、前記半導体記憶装置の
入力信号用外部端子とECLインターフェイス回路との
間に、並列に終端抵抗素子を内蔵したことを特徴とする
電子装置。 2、前記終端抵抗素子は、前記半導体記憶装置の半導体
基板の主面部に形成された拡散層抵抗素子で構成された
ことを特徴とする請求項1に記載の電子装置。 3、前記半導体記憶装置に共通に入力されるクロック系
信号用の終端抵抗素子は前記実装基板に外付けされたこ
とを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の電子装置
。[Scope of Claims] 1. In an electronic device in which a plurality of semiconductor memory devices each having an ECL interface circuit connected to an external terminal for an input signal are arranged regularly on a mounting board as one memory system, each of the semiconductor memory devices has an ECL interface circuit connected to an external terminal for input signals. 1. An electronic device comprising a terminal resistance element built in parallel between an input signal external terminal of the semiconductor memory device and an ECL interface circuit to which a data signal or an address signal input to the semiconductor memory device is applied. 2. The electronic device according to claim 1, wherein the termination resistance element is a diffusion layer resistance element formed on a main surface of a semiconductor substrate of the semiconductor memory device. 3. The electronic device according to claim 1 or 2, wherein a terminating resistor element for a clock-related signal commonly input to the semiconductor memory device is externally attached to the mounting board.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1191427A JPH0358380A (en) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | electronic equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1191427A JPH0358380A (en) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | electronic equipment |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0358380A true JPH0358380A (en) | 1991-03-13 |
Family
ID=16274435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1191427A Pending JPH0358380A (en) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | electronic equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0358380A (en) |
-
1989
- 1989-07-26 JP JP1191427A patent/JPH0358380A/en active Pending
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