JPH035862Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 この考案は、半導体素材のウエハーに対し、露
光作用を行う工程時に用いるホトレジスト液の供
給源において、吸引管が挿入されたホトレジスト
液充填容器における液残量の検出装置に関するも
のである。

技術的背景 半導体素材のウエハーに露光作業を行う前段階
で、該ウエハーの上面に、ホトレジスト液を5cc
ないし6cc、または、その面積規模に応じて10cc
程度の規定された液量を正確に噴出塗布するもの
で、その形態は、ホトレジスト液の生産段階よ
り、流通段階、そして、消費段階まで一貫した充
填容器が用いられ、中でも最も多用されているの
が硝子あるいは合成樹脂製の通称ガロン瓶と称さ
れている種類のものである。そして、その消費時
は、閉鎖されていた密栓と、吸引管が貫通されて
いる管付栓とを交換し、容器を所定の位置に定置
するとともに、前記吸引管の他端を露光作業前段
の噴出塗布部所のポンプに接続し、ウエハーの流
動に合致させて経時的に容器内のホトレジスト液
を吸引し、且つ、ウエハー上面に定量噴出し塗布
するものである。そして、これらの噴出作業はす
べて自動化されているものである。

従来の技術 半導体の素材となるウエハー上面にホトレジス
ト液の定量を噴出塗布させる工程の大略は前記技
術的背景において述べた通りで、一旦噴出塗布作
業が開始されると、ホトレジスト液がその容器に
無くなるまで続行するもので、その消費時間の大
略はホトレジスト単位噴出塗布作業による消費量
ならびに塗布に要する単位作業時間、間欠時間、
容器の内容量等によつておよその消費時間が算出
されているから、その終了接近時間に容量に近い
ホトレジスト充填容器を新規満杯の容器と交換作
業工程の手順操作を厳守して交換していものであ
る。

考案が解決しようとする問題点 半導体素材となるウエハーに行うホトレジスト
噴出塗布作業において、ホトレジスト液が完全消
費された後までも噴出塗布作業が続行され場合
は、吸引管に空気を呼び込み、ウエハーは不良品
となる。従つて、該不良品の産出を防止する意味
から、容器内のホトレジスト液の残量が比較的多
量にある状態で満杯容器と交換し、残量は廃棄処
分してしまうのが実状である。

しかしながら、このホトレジスト液は非常に高
価である。一方、残量を他の容器に移して再使用
することは、異物混入防止のため、すべて廃棄処
分しなければならないので、その損失は大きい。

そこで、この考案は、容器内のホトレジスト液
の残量をでき得る限り少量になるまで吸引使用を
続行し、且つ空気呼び込み現象発生直前を検知で
きるようにしたものである。

考案によつて解決するための手段 ホトレジスト液を吸引汲み出しを行う吸引管の
下端開口部がとどく容器の底縁部を最下部となる
ように、該容器を傾斜して係合できる容器支持部
材を形成し、その凹所の最深部に近い位置に、前
記容器の最低位置を指向し、検出効果が得られる
位置に静電容量形近接スイツチを設置し、その検
出信号が得られるようにして成るものである。

実施例 次に、この考案の一実施例を図面とともに説明
すれば、密栓１を嵌挿貫通した吸引管２の下端開
口部２′がホトレジスト液３を充填する瓶とうの
容器４内の底縁部５にとどくように設置した前記
容器４を、前記吸引管２の下端開口部２′が最低
位置となるように傾斜させ、且つ、該態形を維持
することができる容器支持部材６を構成し、そこ
に形成された凹所６′の最深部に近い位置に、係
合する容器４の底縁部５に在置する吸引管２の下
端開口部２′の部分を被検出範囲となるように指
向させて静電容量形近接スイツチ７を設けてなる
ものである。

なお図中、符号８は検出信号の制御部９に結線
するリード線を示すものである。

作 用 前記構成のように、容器支持部材６に載置支持
された容器４は、該容器支持部材６の構成された
形状に従い斜状形態を維持されている。閉鎖され
た密栓を貫通した吸引管２の下端開口部２′は傾
斜状態にある容器４底縁部５における最低位置に
あり、その下端開口部２′あたりの液量状況を静
電容量形近接スイツチ７により続み取つている。
その検出状況は信号によつて制御部９に伝達され
ている。この制御部９には予め、残量数値を設定
しておき、設定された残量数値に達した時点で検
出信号を発するようにしたものである。

この検出信号を更に汲み出しポンプ１０の停止
ならびに被加工ウエハーの移動停止の指令を発す
ることができるように電気的連動手段を構成し全
自動化することも任意である。

いずれの場合でも設定残量に達したならば、そ
の検出信号が発せられ、該時点ですべての関連作
業を手動あるいは自動操作によつて停止し、目的
とする空容器と新規満杯の容器とを定められた手
順に従い交換するものである。

この容器交換時の残量限界は、吸引管２がホト
レジスト液３の残量減少によつて空気吸入する現
象の直前時が最も理想とされている。

最も多用される実施態様として、少なくとも２
個、あるいは２個以上の複数の前記構成の容器支
持部材６を用意し、そこにホトレジスト液３を満
杯に容器４をそれぞれに設置し、各々の吸引管２
を１本に結束連結１１してポンプ１０に接続し、
前記結束連結１１箇所と各容器４間の吸引管２に
制御部９からの指令に基いて開閉動作する開閉弁
１２を介装連結してホトレジスト液３の噴出塗布
作業の連続を可能にし、一方、供給閉止状態とな
つた空の容器４と満杯の容器４とを交換してお
き、その吸引管２に介装された開閉弁１２に次回
の開放動作の指令を待つように容器支持部材６上
に配備するものである。

効 果 この考案は、以上のようにしたので、ホトレジ
スト液充填容器をホトレジスト液の消費により減
量されていく状況を静電容量形近接スイツチによ
り、全量汲み上げ直前、即ち、吸引管に空気を呼
び込む直前時に残量検出表示がなされ、該時点で
空状態になつた容器と新規満杯の容器とを交換す
ることができるので、取り外した空状態の容器に
は廃棄するホトレジスト液の残量もごくわずか
で、非常に高価なホトレジスト液の廃棄による損
失も微少に軽減され、また吸引管に空気を呼び込
み、半導体素材となるウエハーに対するホトレジ
スト液噴出塗布作業の不良品産出防止も同時に行
い得る効果あるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は容器支持部材に容器を係合した略断面
図、第２図は容器支持部材の略断面図、第３図は
配置態様図である。 １……密栓、２……吸引管、２′……下端開口
部、３……ホトレジスト液、４……容器、５……
底縁部、６……容器支持部材、６′……凹所、７
……静電容量形近接スイツチ、８……ワード線、
９……制御部。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. ホトレジスト液３を吸引汲み出しを行う吸引管
   ２の下端開口部２′がとどく容器４の底縁部５を
   最下部となるように該容器５を傾斜して係合でき
   る容器支持部材６を形成し、その凹所６′の最深
   部に近い位置に、前記容器４内の最低位置を指向
   し、検出効果が得られる位置に静電容量形近接ス
   イツチ７を設置し、その検出信号が得られるよう
   にして成るこを特徴とする容器内のホトレジスト
   液量検出装置。