JPH0359643A - Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment

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JPH0359643A
JPH0359643A JP19718189A JP19718189A JPH0359643A JP H0359643 A JPH0359643 A JP H0359643A JP 19718189 A JP19718189 A JP 19718189A JP 19718189 A JP19718189 A JP 19718189A JP H0359643 A JPH0359643 A JP H0359643A
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JP
Japan
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group
silver halide
antistatic layer
halide photographic
sensitive material
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Application number
JP19718189A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiko Takamukai
保彦 高向
Takeshi Haniyu
武 羽生
Taketoshi Yamada
岳俊 山田
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Abstract

PURPOSE:To obtain a silver halide photographic sensitive material which has an antistatic layer having excellent adhesiveness by having the antistatic layer in which the water soluble conductive polymer contains blocked isocyanate. CONSTITUTION:A plastic film formed by having the antistatic layer consisting of the reaction product of the water soluble conductive polymer, hydrophobic polymer particles and a hardener has the antistatic layer in which the water soluble conductive polymer contains the blocked isocyanate and further, a hydrazine compd. or tetrazolium compd. is incorporated into the photosensitive material. Thus, the silver halide photographic sensitive material which has the antistatic layer having the excellent adhesiveness, is less deteriorated in surface specific resistance and is not desensitized with the lapse of time in spite of using a super high-contrast agent, such as tetrazolium compd. or hydrazine compd., and has high stability is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感光材
料に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a silver halide photographic material having an antistatic layer.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

一般にグラスチイックフィルムは帯電性が強く、これが
使用上多くの制約を与えている例は多い。
Generally, glass films have strong electrostatic properties, and this often imposes many restrictions on their use.

例えばハロゲン化銀写真感光材料においてはポリエチレ
ンテレフタレートのような支持体が一般に使用されるが
1、特に冬季の如き低湿度において帯電し易い。最近の
ように高感度写真乳剤を高速度で塗布したり、高感度の
感光材料を自動プリンターを通して露光処理をする場合
、特に帯電防止対策が重要である。
For example, supports such as polyethylene terephthalate are generally used in silver halide photographic materials, but they tend to become electrically charged, especially at low humidity such as in winter. Antistatic measures are especially important when high-speed photographic emulsions are coated at high speeds or when high-sensitivity photosensitive materials are exposed to light using automatic printers, as has been the case recently.

感光材料が帯電すると、その放電によりスタチックマー
クがでたり、またはゴミ等の異物を付着し、これにより
ピンホールを発生させたりして著しく品質を劣化し、そ
の修正のため非常に作業性をおとしてしまう。このため
、一般に感光材料では帯電防止剤が使用され、最近では
、含フツ素界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面
活性剤、ポリエチレンオキサイド基を含有する界面活性
剤ないし高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分子
内に有するポリマー等が用いられている。
When a photosensitive material is charged, static marks appear due to the discharge, or foreign matter such as dust adheres to it, which causes pinholes and significantly degrades the quality, making it extremely difficult to repair. I'll put it down. For this reason, antistatic agents are generally used in photosensitive materials, and recently, fluorine-containing surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, surfactants or polymer compounds containing polyethylene oxide groups, and sulfonic acid Alternatively, a polymer having a phosphoric acid group in the molecule is used.

特にフッ素系界面活性剤による帯電列調整、あるいは導
電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきてお
り、例えば特開昭49−91165号および同49−1
21523号にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオ
ン型ポリマーを適用する例が開示されている。
In particular, adjusting the charge series using fluorine-based surfactants or improving conductivity using conductive polymers has been widely used, for example, in JP-A-49-91165 and JP-A-49-1.
No. 21523 discloses an example in which an ionic polymer having a dissociative group in the polymer main chain is applied.

しかしながら、これらの従来技術では、現像処理により
、帯電防止能が大幅に劣化してしまう。
However, in these conventional techniques, the antistatic ability is significantly deteriorated by the development process.

これはアルカリを用いる現像工程、酸性の定着工程、水
洗等の工程を経ることにより帯電防止能が失われるもの
と思われる。しI;がって印刷感光材料等のように、処
理済みフィルムをさらに用いてプリントするような場合
に、ゴミの付着によるピンホール発生等の問題を生ずる
。このため例えば特開昭55−84658号、同61−
174542号ではカルボキシル基を有する水溶性導電
性ポリマー カルボキシル基を有する疎水性ポリマー及
び多官能アジリジンからなる帯電防止層が提案されてい
る。この方法によれば処理後にも帯電防止能を残すこと
ができるが、この帯電防止層は、この層の上に塗布され
る親水性コロイド層との接着性が悪く、現像処理中に膜
はがれを生ずるという欠点があった。
This is thought to be because the antistatic ability is lost through processes such as a developing process using an alkali, an acidic fixing process, and washing with water. Therefore, when a processed film is further used for printing, such as with printing photosensitive materials, problems such as pinholes may occur due to adhesion of dust. For this reason, for example, JP-A-55-84658, JP-A-61-
No. 174542 proposes an antistatic layer comprising a water-soluble conductive polymer having a carboxyl group, a hydrophobic polymer having a carboxyl group, and a polyfunctional aziridine. Although this method allows antistatic properties to remain after processing, this antistatic layer has poor adhesion to the hydrophilic colloid layer coated on top of this layer, and the film may peel off during development. There was a drawback that it occurred.

さらにこのような帯電防止層を有するハロゲン化銀写真
感光材料において、ヒドラジン化合物又はテトラゾリウ
ム化合物のような超硬調化剤を使用すると、経時により
減感するという問題があった。
Furthermore, when a super high contrast agent such as a hydrazine compound or a tetrazolium compound is used in a silver halide photographic light-sensitive material having such an antistatic layer, there is a problem that the material becomes desensitized over time.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

上記のような問題に対し、本発明の目的は、現像処理等
の処理後も帯電防止能の劣化が起こらず、しかも接着性
の優れたプラスチイックフィルム用の帯電防止層を有す
るハロゲン化銀写真感光材料提供することであり、別の
目的としては、ヒドラジン化合物又はテトラゾリウム化
合物のような超硬調化剤を使用した場合でも経時で減感
せず、かつ表面比抵抗の変化のない安定性の高いハロゲ
ン化銀写真感光材料を提供することである。
In order to solve the above-mentioned problems, the object of the present invention is to provide a silver halide photograph having an antistatic layer for a plastic film that does not deteriorate in antistatic ability even after processing such as development and has excellent adhesive properties. Another objective is to provide a highly stable photosensitive material that does not desensitize over time and does not change its surface resistivity even when ultrahigh contrast agents such as hydrazine compounds or tetrazolium compounds are used. An object of the present invention is to provide a silver halide photographic material.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明の上記目的は、■水溶性導電性ポリマー■疎水性
ポリマー粒子、■硬化剤の反応生成物からなる帯電防止
層を有してなるプラスチックフィルムにおいて、該水溶
性導電性ポリマーが、ブロック化イソシアネートを含有
する帯電防止層を有し、さらに該感光材料がヒドラジン
化合物又はテトラゾリウム化合物を含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料により達成される。
The above-mentioned object of the present invention is to provide a plastic film having an antistatic layer consisting of (1) a water-soluble conductive polymer, (2) hydrophobic polymer particles, and (2) a reaction product of a curing agent, in which the water-soluble conductive polymer is formed into a block. This is achieved by a silver halide photographic light-sensitive material having an antistatic layer containing an isocyanate and further containing a hydrazine compound or a tetrazolium compound.

以下、本発明の詳細について説明する。The details of the present invention will be explained below.

本発明に用いられる水溶性導電性ポリマーに含有される
ブロック化イソシアネートの構造は下記一般式で表され
る。
The structure of the blocked isocyanate contained in the water-soluble conductive polymer used in the present invention is represented by the following general formula.

〔式中、R1は水素原子、非置換又は置換アルキル基を
表す。R2は非置換又は置換アルキル基、非置換又は置
換アリール基を表し、R1と結合して環を形成してもよ
い。〕 本発明に用いられる水溶性導電性ポリマーの化合物例を
以下に挙げるがこれに限定されるもので−1 −2 M勾1.2万 −5 A−6 −7 Mn−0,7万 −8 −9 −10 −11 Mn−1,5万 Mn=0.5万  −12 −14 −15 6問。
[In the formula, R1 represents a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted alkyl group. R2 represents an unsubstituted or substituted alkyl group or an unsubstituted or substituted aryl group, and may be combined with R1 to form a ring. ] Examples of compounds of the water-soluble conductive polymer used in the present invention are listed below, but are not limited thereto. 8 -9 -10 -11 Mn-1, 50,000 Mn = 0,500 -12 -14 -15 6 questions.

M″q2.5万  −16 A  −17 −18 9 CI。M″q25,000 −16 A-17 -18 9 C.I.

M叫3万 A−20 A−21 −22 M’+1,5万 尚、上記(1)〜(22)において、X+F+ zはそ
れぞれ単量体成分のモル%を、又Mは平均分子量(本明
細書中、平均分子量とは数平均分子量を示す。)を表す
M 30,000 A-20 A-21 -22 M'+1,50,000 In the above (1) to (22), X+F+ z is the mole% of the monomer component, and M is the average molecular weight (main In the specification, average molecular weight refers to number average molecular weight.

これらのポリマーは市販又は常法によって得られる七ツ
マ−を重合することにより合皮することが出来る。
These polymers can be made into synthetic leather by polymerizing commercially available or conventionally obtained 7-mer.

次に本発明の水溶性導電性ポリマー層中に含有させる疎
水性ポリマー粒子は、実質的に水に溶解しない所謂ラテ
ックス状で含有されている。この疎水性ポリマーは、ス
チレン、スチレン誘導体、アルキルアクリレート、アル
キルメタクリレート、オレフィン誘導体、ハロゲン化エ
チレン誘導体、アクリルアミド誘導体、メタクリルアミ
ド誘導体、ビニルエステル誘導体、アクリロニトリル等
の中から任意の組み合わせで選ばれたモノマーを重合し
て得られる。特にスチレン誘導体、アルキルアクリレー
ト、アルキルメタクリレートが少なくとも30モル%含
有されているのが好ましい。特に50モル%以上が好ま
しい。
Next, the hydrophobic polymer particles contained in the water-soluble conductive polymer layer of the present invention are contained in a so-called latex form that is substantially insoluble in water. This hydrophobic polymer contains monomers selected from styrene, styrene derivatives, alkyl acrylates, alkyl methacrylates, olefin derivatives, halogenated ethylene derivatives, acrylamide derivatives, methacrylamide derivatives, vinyl ester derivatives, acrylonitrile, etc. in any combination. Obtained by polymerization. In particular, it is preferable that at least 30 mol% of styrene derivatives, alkyl acrylates, and alkyl methacrylates are contained. Particularly preferred is 50 mol% or more.

疎水性ポリマーをラテックス状にするには乳化重合をす
る、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を留去するという2つの方法があるが粒径が細か
く、しかもそろったものができるとリラ点で乳化重合す
ることが好ましい。
There are two methods to make a hydrophobic polymer into a latex form: emulsion polymerization, or dissolving a solid polymer in a low boiling point solvent, finely dispersing it, and then distilling off the solvent. Once a product is produced, it is preferable to carry out emulsion polymerization at the Lira point.

乳化重合の際に用いる界面活性剤としては、アニオン性
、ノニオン性を用いるのが好ましく、モノマーに対し1
0重量%以下が好ましい。多量の界面活性剤は導電性層
をくもらせる原因となる。
As the surfactant used during emulsion polymerization, it is preferable to use an anionic or nonionic surfactant.
It is preferably 0% by weight or less. A large amount of surfactant causes clouding of the conductive layer.

疎水性ポリマーの分子量は3000以上であれば良く、
分子量による透明性の差はほとんどない。
The molecular weight of the hydrophobic polymer may be 3000 or more,
There is almost no difference in transparency depending on molecular weight.

 −  − 5 10 −11 2 CH。− − 5 10 -11 2 CH.

C00C11゜ C00C,H@ −n OOH −13 B  −14 I3 −15 本発明では導電性層が透明支持体上に塗設される。透明
支持体は写真用のもの全てが使えるが好ましくは、可視
光を90%以上透過するように作られたポリエチレンテ
レフタレート又はセルローストリアセテートである。
C00C11°C00C,H@ -n OOH -13 B -14 I3 -15 In the present invention, a conductive layer is coated on a transparent support. Although any photographic transparent support can be used, polyethylene terephthalate or cellulose triacetate, which is made to transmit 90% or more of visible light, is preferable.

これらの透明支持体は、当業者に良く知られた方法で作
成されるものであるが、場合によっては光透過を実質的
に阻害しないように染料を若干添加して青味付けしたり
しても良い。
These transparent supports are prepared by methods well known to those skilled in the art, but in some cases, a slight amount of dye may be added to give them a blue tint so as not to substantially inhibit light transmission. good.

本発明の支持体は、コロナ放電処理をした後ラテックス
ポリマーを含有する下引層が塗設されていてもよい。コ
ロナ放電処理は、エネルギー値としてl IIW−I 
KW/m”minが特に好ましく適用される。
The support of the present invention may be coated with a subbing layer containing a latex polymer after being subjected to a corona discharge treatment. Corona discharge treatment has an energy value of l IIW-I
KW/m"min is particularly preferably applied.

又特に好ましくは、ラテックス下引層塗布後導電性層を
塗設する前にコロナ放電処理を再度行うと良い。
Particularly preferably, corona discharge treatment is performed again after applying the latex undercoat layer and before applying the conductive layer.

本発明の導電性層を硬化する化合物としては、多官能の
アジリジンが好ましい。特に2官能、3官能で分子量が
600以下のものが好ましい。
As the compound for curing the conductive layer of the present invention, polyfunctional aziridine is preferred. Particularly preferred are those having bifunctional or trifunctional properties and a molecular weight of 600 or less.

本発明の導電性層は感光性層より支持体側にあってもよ
いし、感光層に対し支持体の反対側、いわゆる背面にあ
ってもよい。
The conductive layer of the present invention may be located closer to the support than the photosensitive layer, or may be located on the opposite side of the support to the photosensitive layer, ie, on the back surface.

好ましい添加量は架橋剤に対して、5〜200wt%で
ある。
A preferable addition amount is 5 to 200 wt% based on the crosslinking agent.

本発明に用いられるヒドラジン化合物は、好ましくは下
記一般式(H)で表される化合物である。
The hydrazine compound used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (H).

一般式(H) R,−N  −N −C−R。General formula (H) R, -N -N -C-R.

式中、R,は1価の有機残基を表し、R8は水素原子ま
たは1価の有機残基を表し、Q、及びQ、は水素原子、
アルキルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、
アリールスルホニル基(置換基を有するものも含む)を
表し、xlは酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式
(H)で表される化合物のうち、X、が酸素原子であり
、かつR1が水素原子である化合物が更に好ましい。
In the formula, R represents a monovalent organic residue, R8 represents a hydrogen atom or a monovalent organic residue, Q and Q represent a hydrogen atom,
Alkylsulfonyl group (including those with substituents),
It represents an arylsulfonyl group (including one having a substituent), and xl represents an oxygen atom or a sulfur atom. Among the compounds represented by the general formula (H), compounds in which X is an oxygen atom and R1 is a hydrogen atom are more preferred.

上記R,及びR2の1価の有機残基としては、芳香族残
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
The monovalent organic residues for R and R2 include aromatic residues, heterocyclic residues, and aliphatic residues.

芳香族残基としては、フェニル基、ナフチル基及びこれ
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアノ基、カルボキン基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
ウレア基、チオウレア基など)のついたものを含む。置
換基のついたものの具体例として、例えば、4−メチル
フェニル基、4−エチルフェニル基、4−オキジエチル
フェニル基、4−ドデシルフェニル基、4−カルボキシ
フェニル基、4−ジエチルアミノフェニル基、4−オク
チルアミノフェニル基、4−ベンジルアミノフェニル基
、4−アセトアミド−2−メチルフェニル基、4−(3
−エチルチオウレイド)フェニル基、4−[2−(2,
4−ジーtart−ブチルフェノキシ)ブチルアミド]
フェニル基、4−[2−(2,4−ジーtart−ブチ
ルフェノキシ)ブチルアミド17エ二ル基などを挙げる
ことができる。
Aromatic residues include phenyl groups, naphthyl groups, and substituents thereof (e.g., alkyl groups, alkoxy groups, acylhydrazino groups, dialkylamino groups, alkoxycarbonyl groups, cyano groups, carboxyne groups, nitro groups, alkylthio groups, hydroxy groups). , sulfonyl group, carbamoyl group, halogen atom, acylamino group, sulfonamide group,
urea group, thiourea group, etc.). Specific examples of those with substituents include 4-methylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 4-oxydiethylphenyl group, 4-dodecylphenyl group, 4-carboxyphenyl group, 4-diethylaminophenyl group, 4 -octylaminophenyl group, 4-benzylaminophenyl group, 4-acetamido-2-methylphenyl group, 4-(3
-ethylthioureido)phenyl group, 4-[2-(2,
4-di-tart-butylphenoxy)butyramide]
Examples include phenyl group, 4-[2-(2,4-di-tart-butylphenoxy)butyramido-17enyl group, and the like.

複素環残基としては、酸素、窒素、硫黄、またはセレン
原子のうち少なくとも一つを有する工員もしくは六員の
単環または縮合環で、これらに直換基がついてもよい。
The heterocyclic residue is a membered or six-membered monocyclic or condensed ring having at least one of oxygen, nitrogen, sulfur, or selenium atoms, to which a direct substituent may be attached.

具体的には例えば、ピロリン環、ピリジン環、キノリン
環、インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾー
ル環、ナンドオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾ
イミダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、
ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環なとの残
基を挙げることが出来る。
Specifically, for example, pyrroline ring, pyridine ring, quinoline ring, indole ring, oxazole ring, benzoxazole ring, nandooxazole ring, imidazole ring, benzimidazole ring, thiazoline ring, thiazole ring, benzothiazole ring, naphthothiazole ring, selenazole ring,
Examples include residues such as a benzoselenazole ring and a naphthoselenazole ring.

これらの複素環は、メチル基、エチル基等炭素数1〜4
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等炭素数1〜4
のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、シアノ基、アミノ基等で置換されてい
てもよい。
These heterocycles have 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group or an ethyl group.
Alkyl group, methoxy group, ethoxy group, etc. having 1 to 4 carbon atoms
may be substituted with an alkoxy group, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms such as a phenyl group, a halogen atom such as chloro or bromine, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, an amino group, or the like.

脂肪族残基としては、直鎖及び分岐のアルキル基、シク
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル基及びアルキニル基を含む。
Aliphatic residues include linear and branched alkyl groups, cycloalkyl groups, and those with substituents, as well as alkenyl groups and alkynyl groups.

直鎖及び分岐のアルキル基としては、例えば炭素数1−
18.好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、l−オ
クチル基等である。
Straight-chain and branched alkyl groups include, for example, carbon atoms with 1-
18. Preferably it is an alkyl group of 1 to 8, and specific examples include a methyl group, an ethyl group, an isobutyl group, and a l-octyl group.

シクロアルキル基としては、例えば炭素数3〜lOのも
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロゲン置換フェニル基、アルキル置換フェニル基
)等であり、置換されたものの具体例としては例えば3
−メトキシグロピル基、エトキシカルボニルメチル基、
4−クロロシクロヘキシル基、ヘンシル基、p−メチル
ベンジル基、p−クロロベンジル基などを挙げることが
できる。まt;、アルケニル基としては例えばアリル(
allyl)基、アルキニル基としては例えばプロパル
ギル基を挙げることができる。
Examples of the cycloalkyl group include those having 3 to 10 carbon atoms, such as cyclopropyl, cyclohexyl, adamantyl, and the like. Substituents for alkyl groups and cycloalkyl groups include alkoxy groups (e.g. methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), alkoxycarbonyl groups, carbamoyl groups, hydroxy groups, alkylthio groups, amide groups, acyloxy groups,
Cyano group, sulfonyl group, halogen atom (e.g. chlorine,
bromine, fluorine, iodine, etc.), aryl groups (e.g., phenyl group, halogen-substituted phenyl group, alkyl-substituted phenyl group), etc. Specific examples of substituted groups include 3
-methoxyglopyl group, ethoxycarbonylmethyl group,
Examples include 4-chlorocyclohexyl group, Hensyl group, p-methylbenzyl group, and p-chlorobenzyl group. As an alkenyl group, for example, allyl (
Examples of the allyl) group and the alkynyl group include a propargyl group.

本発明のヒドラジン化合物の好ましい具体例を以下に示
すが、本発明は何等これによって限定されるものではな
い。
Preferred specific examples of the hydrazine compound of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto in any way.

−1 −2 −3 −4 −5 −6 C,H。-1 -2 -3 -4 -5 -6 C,H.

 − −10 −12 3 −14 −15 −16 −17 8 9 −20 21 −22 −23 −24 −25 CH。− -10 -12 3 -14 -15 -16 -17 8 9 -20 21 -22 -23 -24 -25 CH.

−26 1 27 r −28 29 −30 OC14H!# −31 −34 CH。-26 1 27 r -28 29 -30 OC14H! # -31 -34 CH.

35 −38 9 H =40 1 −42 −43 CH。35 -38 9 H =40 1 -42 -43 CH.

−44 −45 −46 一般式(H)で表わされるヒドラジン化合物の添加位置
はハロゲン化銀乳剤層及び/または支持体上のハロゲン
化銀乳剤層側にある非感光層であるが、好ましくは、ハ
ロゲン化銀乳剤層及び/またはその下層である。添加量
は、to−’〜10− ’モル/銀1モルが好ましく、
更に好ましくはlO−′〜1O−2モル/銀1モルであ
る。
-44 -45 -46 The hydrazine compound represented by the general formula (H) is added to the silver halide emulsion layer and/or the non-photosensitive layer on the silver halide emulsion layer side of the support, but preferably, The silver halide emulsion layer and/or its lower layer. The amount added is preferably to-' to 10-' mol/silver 1 mol,
More preferably, it is 1O-' to 1O-2 mol/1 mol of silver.

次に本発明に用いられるテトラゾリウム化合物について
説明する。
Next, the tetrazolium compound used in the present invention will be explained.

テトラゾリウム化合物は下記一般式で示すことができる
The tetrazolium compound can be represented by the following general formula.

一般式〔T〕 本発明において、上記一般式〔T〕で示されるトリフェ
ニルテトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R1,
R2、R1は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメ
ットのシグマ値(σP)が負又は正のものが好ましい。
General formula [T] In the present invention, the phenyl group substituent R1 of the triphenyltetrazolium compound represented by the above general formula [T],
R2 and R1 are preferably hydrogen atoms or those having a negative or positive Hammett's sigma value (σP) indicating the degree of electron attraction.

特に負のものが好ましい。In particular, negative ones are preferred.

フェニル置換におけるハメットのシグマ値は多くの文献
、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミストリー(
Journal of Medical Chemis
try)第20巻、304頁、1977午、記載のC,
ハンクスCC。
Hammett's sigma values for phenyl substitution are found in many publications, such as the Journal of Medical Chemistry (
Journal of Medical Chemistry
try) Volume 20, page 304, 1977, C,
Hanks CC.

t(a n s c h )等の轍叉等に見ることが出
来、とくに好ましい負のシグマ値を有する基としては、
例えばメチル基(σP=−0..17以下いずれもσP
値)エチル基(−0,15)、シクロプロピル基(−0
,21)、n−プロピル基(−0,13)、isoプロ
ピル基(−0,15)、シクロブチル基(−0,15)
、n−ブチル基(−0,16)、1sO−ブチル基(−
0,20)、n−ペンチル基(−0,15)、シクロヘ
キシル基(−0,22)、アミノ基(−0,66)、ア
セチルアミ7基(−0,15)、ヒドロキシル基(−0
,37)、メトキシ基(−0,27)、エトキシ基C−
0,24)、プロポキシ基(−0,25)、ブトキシ基
(−0,32)、ペントキシ基(−0,34)等が挙げ
られ、これらはいずれも本発明の一般式〔T〕の化合物
の置換基として有用である。
As a group having a particularly preferable negative sigma value, which can be seen in the ruts such as t(a n s h ),
For example, a methyl group (σP = -0..17 or less, all σP
value) ethyl group (-0,15), cyclopropyl group (-0
, 21), n-propyl group (-0,13), isopropyl group (-0,15), cyclobutyl group (-0,15)
, n-butyl group (-0,16), 1sO-butyl group (-
0,20), n-pentyl group (-0,15), cyclohexyl group (-0,22), amino group (-0,66), acetylamine 7 group (-0,15), hydroxyl group (-0
, 37), methoxy group (-0,27), ethoxy group C-
0,24), propoxy group (-0,25), butoxy group (-0,32), pentoxy group (-0,34), etc., all of which are compounds of the general formula [T] of the present invention. is useful as a substituent for

以下本発明に用いられる一般式(T)の化合物の具体例
を挙げるが、本発明の化合物はこれに限定されるもので
は無い。
Specific examples of the compound of general formula (T) used in the present invention are listed below, but the compound of the present invention is not limited thereto.

(例示化合物) 本発明に用いられるテトラゾリウム化合物は、例えばケ
ミカル・レビx −(Chemical Review
s)第55巻、第335頁〜483頁に記載の方法に従
って容易に脅威することができる。
(Exemplary Compound) The tetrazolium compound used in the present invention is, for example, Chemical Review
s) Volume 55, pages 335-483.

本発明のテトラゾリウム化合物は、本発明のハロゲン化
銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1モル当り
約1 rag以上10gまで、好ましくは約10+*g
以上約2gまでの範囲で用いられるのが好ましい。
The tetrazolium compound of the present invention is present in an amount of about 1 rag to 10 g, preferably about 10+*g, per mole of silver halide contained in the silver halide photographic material of the present invention.
It is preferable to use the amount up to about 2 g.

本発明の感光材料に用いるハロゲン化銀乳剤には、ハロ
ゲン化銀として、臭化銀、塩化銀、沃臭化銀、塩臭化銀
、塩沃臭化銀等の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される
任意のものを用いる事ができ、ハロゲン化銀粒子は、酸
性法、中性法及びアンモニア法のいずれで得られたもの
でもよい。
The silver halide emulsion used in the light-sensitive material of the present invention includes conventional silver halide emulsions such as silver bromide, silver chloride, silver iodobromide, silver chlorobromide, and silver chloroiodobromide. Any commonly used silver halide grains can be used, and the silver halide grains may be those obtained by any of the acid method, neutral method, and ammonia method.

ハロゲン化銀粒子は、粒子内において均一なハロゲン化
銀組成分布を有するものでも、粒子の内部と表面層とで
ハロゲン化銀組成が異なるコア/シェル粒子であっても
よく、潜像が主として表面に形成されるような粒子であ
っても、又主として粒子内部に形成されるような粒子で
もよい。
Silver halide grains may have a uniform silver halide composition distribution within the grain, or may be core/shell grains in which the silver halide composition differs between the inside and surface layer of the grain, and the latent image is mainly on the surface. It may be a particle that is formed inside the particle, or it may be a particle that is formed mainly inside the particle.

本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、例えば米国特
許第2,444.607号、同第2.716.062号
、同第3.512.982号、西独国出願公告第1.1
89.380号、同第2.058.626号、同第2.
l18.411号、特公昭43−4133号、米国特許
第3.342,596号、特公昭47−4417号、西
独間出願公告第2.149,789号、特公昭39−2
825号、特公昭49−13566号等の各明細書又は
公報に記載されている化合物、好ましくは、例えば5゜
6−ドリメチレンー7−ヒドロキシンー84リアゾロ 
(1,5−a)ピリミジン、5.6−テトラメチレン=
7−ヒドロキシ−5−)リアゾロ (1,5−a)ピリ
ミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−3−トリアゾロ
(1,5−a)ピリミジン、5−メチル−7−ヒドロキ
シ−8−トリアゾロ (1,5−a)ピリミジン、7−
ヒドロキシン−5−トリアシロン(1,5−a)ピリミ
ジン、5−メチル−6−プロモーノーヒドロキシ−S−
トリアゾロ(1,5−a)ピリミジン、没食子酸エステ
ル(例えば没食子酸イソアミル、没食子酸ドデシル、没
食子酸プロピル、没食子酸ナトリウム)、メルカプタン
類(1フェニル−5−メルカプトテトラゾール、2−メ
ルカプトベンツチアゾール)、ベンゾトリアゾール類(
5−ブロムベンツトリアゾール、5−メチルベンツトリ
アゾール)、ベンツイミダゾール類(6−ニドロベンツ
イミダゾール)等を用いて安定化する。ことができる。
The silver halide emulsions used in the present invention are, for example, U.S. Pat. No. 2,444.607, U.S. Pat.
No. 89.380, No. 2.058.626, No. 2.
l18.411, Japanese Patent Publication No. 43-4133, U.S. Patent No. 3,342,596, Japanese Patent Publication No. 4417-1987, West German Application Publication No. 2,149,789, Japanese Patent Publication No. 39-2
Compounds described in specifications or publications such as No. 825 and Japanese Patent Publication No. 49-13566, preferably, for example, 5゜6-drimethylene-7-hydroxyne-84 liazolo
(1,5-a)pyrimidine, 5,6-tetramethylene=
7-hydroxy-5-)riazolo (1,5-a)pyrimidine, 5-methyl-7-hydroxy-3-triazolo(1,5-a)pyrimidine, 5-methyl-7-hydroxy-8-triazolo (1 , 5-a) pyrimidine, 7-
Hydroxine-5-triacylon(1,5-a)pyrimidine, 5-methyl-6-promonohydroxy-S-
triazolo(1,5-a)pyrimidine, gallic acid esters (e.g. isoamyl gallate, dodecyl gallate, propyl gallate, sodium gallate), mercaptans (1 phenyl-5-mercaptotetrazole, 2-mercaptobenzthiazole), Benzotriazoles (
Stabilization is performed using 5-bromobenztriazole, 5-methylbenztriazole), benzimidazoles (6-nidrobenzimidazole), and the like. be able to.

本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/又は現像
液中には、アミノ化合物を含有することができる。
The silver halide photographic material and/or developer according to the present invention may contain an amino compound.

又現像性を高めるために、フェニドンやハイドロキノン
のような現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。或いは処理液の
処理能力を上げるために、バッキング層に現像主薬や抑
制剤を含有せしめることができる。
Further, in order to improve the developability, a developing agent such as phenidone or hydroquinone or an inhibitor such as benzotriazole may be contained in the emulsion. Alternatively, in order to increase the processing ability of the processing solution, the backing layer may contain a developing agent or an inhibitor.

本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラチ
ンである。
A hydrophilic colloid used with particular advantage in the present invention is gelatin.

本発明に用いられるゼラチンは、アルカリ処理、酸処理
いずれも用いることが出来るが、オセインゼラチンを用
いる場合にはカルシウム或いは鉄分を取り除くことが好
ましい。好ましい含有量としてカルシウム分は1〜99
9pp鳳であるが、更に好ましくは1〜500ppmで
あり、鉄分は0.O1〜50ppmが好ましく、更に好
ましくは0.1〜10ppmである。このようにカルシ
ウム分や鉄分の量を調節する方法は、ゼラチン水溶液を
イオン交換装置に通すことにより遠戚することができる
The gelatin used in the present invention can be treated with either alkali treatment or acid treatment, but when using ossein gelatin, it is preferable to remove calcium or iron. The preferred calcium content is 1-99
The iron content is 9 ppm, more preferably 1 to 500 ppm, and the iron content is 0. O is preferably 1 to 50 ppm, more preferably 0.1 to 10 ppm. The method of adjusting the amounts of calcium and iron in this way can be distantly related by passing an aqueous gelatin solution through an ion exchange device.

本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いら
れる現像主薬としてはカテコール、ピロガロール及びそ
の誘導体ならびにアスコルビン酸、クロロハイドロキノ
ン、ブロモハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2
,3−ジブロモハイドロキノン、2.5−ジエチルハイ
ドロキノン、カテコール、4−クロロカテコール、4−
フェニル−カテコール、3−メトキシ−カテコール、4
−アセチル−ピロガロール、アスコルビン酸ソーダ等が
ある。
Developing agents used in developing the silver halide photographic material according to the present invention include catechol, pyrogallol and its derivatives, ascorbic acid, chlorohydroquinone, bromohydroquinone, methylhydroquinone, 2
, 3-dibromohydroquinone, 2.5-diethylhydroquinone, catechol, 4-chlorocatechol, 4-
Phenyl-catechol, 3-methoxy-catechol, 4
-Acetyl-pyrogallol, sodium ascorbic acid, etc.

又、HO−(C)I−CI)、−NH2型現像剤として
は、オルト及びバラのアミノフェノールが代表的なもの
で、4−アミノフェノール、2〜アミノ−6−フェニル
フェノール、2−7ミノー4−クロロ−6−フェニルフ
ェノール、N−メチル−p−アミノフェニール等がある
In addition, as the HO-(C)I-CI), -NH2 type developer, ortho and rose aminophenols are typical, and 4-aminophenol, 2-amino-6-phenylphenol, 2-7 There are minnow 4-chloro-6-phenylphenol, N-methyl-p-aminophenyl, and the like.

更に、82N−(C8虐C1()、 −NH,型現像剤
としては例えば4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエ
チルアニリン、2.4−ジアミノ=N、N−ジエチルア
ニリン、N−(4−アミノ−3−メチルフェニル)−モ
ルホリン、p−フェニレンジアミン等がある。
Furthermore, examples of the 82N-(C8-C1(), -NH, type developer) include 4-amino-2-methyl-N,N-diethylaniline, 2,4-diamino=N,N-diethylaniline, N- Examples include (4-amino-3-methylphenyl)-morpholine and p-phenylenediamine.

ヘテロ環型現像剤としては、l−フェニル−3−ピラゾ
リドン、l−7エニルー4.4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、l−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドンのような3−ピラゾリドン類、
lフェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン、5−アミノ
ラウシル等を挙げることができる。
Examples of the heterocyclic developer include 3-pyrazolidone, 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-7enyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, and 1-phenyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone. -pyrazolidones,
Examples include 1-phenyl-4-amino-5-pyrazolone and 5-aminolaucil.

T、H,ジェームス著ザ・セオリイ・オブ・ザ・ホトグ
ラフィック・プロセス第4版 (The Theory or Photograph
ic Process FourthEdition)
第291〜334頁及びジャーナル・オブ・ジ・アメリ
カン・ケミカル・ソサエティ(Journal oft
he All1erican Chemical 5o
ciety)第73巻、第3.100頁(1951)に
記載されているごとき現像剤が本発明に有効に使用し得
るものである。これらの現像剤は単独で使用しても2種
以上組み合わせてもよいが、2種以上を組み合わせて用
いる方が好ましい。又本発明にかかる感光材料の現像に
使用する現像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ
、亜硫酸カリ、等の亜硫酸塩を用いても、本発明の効果
が損なわれることはない。又保恒剤としてヒドロキシル
アミン、ヒドラジド化合物を用いることができ、この場
合その使用量は現像液l(当たり5〜500gが好まし
く、より好ましくは20〜200gである。
The Theory of the Photographic Process, 4th Edition, by T. H. James.
ic Process Fourth Edition)
pp. 291-334 and Journal of the American Chemical Society.
he Allerican Chemical 5o
The developer described in vol. 73, p. 3.100 (1951) can be effectively used in the present invention. These developers may be used alone or in combination of two or more types, but it is preferable to use two or more types in combination. Further, even if a sulfite salt such as sodium sulfite or potassium sulfite is used as a preservative in the developer used for developing the photosensitive material according to the invention, the effects of the invention will not be impaired. Further, hydroxylamine or a hydrazide compound can be used as a preservative, and in this case, the amount used is preferably 5 to 500 g, more preferably 20 to 200 g per liter of developer.

又現像液には有機溶媒としてグリコール類を含有させて
もよく、そのようなグリコール類としてはエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール
、トリエチレングリコール、1.4−ブタンジオール、
l、5−ベンタンジオール等があるが、ジエチレングリ
コールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコール
類の好ましい使用量は現像液IQ当たり5〜500gで
、より好ましくは20〜200gである。これらの有機
溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
Further, the developer may contain glycols as an organic solvent, and such glycols include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, 1,4-butanediol,
Among them, diethylene glycol is preferably used. The amount of these glycols used is preferably 5 to 500 g, more preferably 20 to 200 g, per developer IQ. These organic solvents can be used alone or in combination.

本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、上記のごと
き現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理すること
により極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることが
できる。
The silver halide photographic light-sensitive material according to the present invention can be developed with a developer containing the above-mentioned development inhibitor to obtain a light-sensitive material with extremely excellent storage stability.

上記の組成になる現像液のp)(値は好ましくは9〜1
3であるが、保恒性及び写真特性上からpH値はlO〜
12の範囲が更に好ましい。現像液中の陽イオンについ
ては、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現
像液の活性度を高めることができるので好ましい。
p of the developer having the above composition (value is preferably 9 to 1)
3, but the pH value is 1O~ from the viewpoint of storage stability and photographic properties.
A range of 12 is more preferred. Regarding cations in the developer, it is preferable that the ratio of potassium ions is higher than that of sodium because the activity of the developer can be increased.

本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50°C以下が好ましく、特に25°C〜40°C前
後が好ましく、又現像時間は2分以内に終了することが
一般的であるが、特に好ましくは10秒〜50秒が好効
果をもたらすことが多い。又現像以外の処理工程、例え
ば水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、
中和等の工程を採用することは任意であり、これらは適
宜省略することもできる。更に又、これらの処理は皿現
像、枠現像などいわゆる手現像処理でも、ローラー現像
、ハンガー現像など機械現像であってもよい。
The silver halide photographic material according to the present invention can be processed under various conditions. Regarding the processing temperature, for example, the development temperature is preferably 50°C or less, particularly preferably around 25°C to 40°C, and the developing time is generally completed within 2 minutes, particularly preferably 10 seconds. ~50 seconds often produces good results. In addition, processing steps other than development, such as washing, stopping, stabilizing, fixing, and if necessary, pre-hardening,
It is optional to employ steps such as neutralization, and these can be omitted as appropriate. Furthermore, these treatments may be so-called manual development such as plate development or frame development, or mechanical development such as roller development or hanger development.

〔実施例〕〔Example〕

以下実施例によって本発明を具体的に説明する。 EXAMPLES The present invention will be specifically explained below with reference to Examples.

尚、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施例
に限定されるものではない。
It should be noted that, as a matter of course, the present invention is not limited to the embodiments described below.

実施例−1 下引き処理したポリエチレンテレフタレートにコロナ放
電した後下記III戊の帯電防止液を、下記の付量にな
る様に33m/+inの速さでロールフィツトコーティ
ングパン及びエアーナイフを使用して塗布した。
Example-1 After corona discharge was applied to subbed-treated polyethylene terephthalate, the following antistatic liquid was applied in the amount shown below using a roll-fit coating pan and an air knife at a speed of 33 m/+in. Coated.

本発明の水溶性導電性ポリマー(A ) 0.6g/m
”硬膜剤(H) 0−1g/m” 90℃、2分間乾燥し140’0.90秒間熱処理した
Water-soluble conductive polymer of the present invention (A) 0.6 g/m
"Hardening agent (H) 0-1 g/m" It was dried at 90°C for 2 minutes and heat treated at 140' for 0.90 seconds.

この帯電防止層の上にゼラチンを2.0g/m”になる
様に塗布し接着力試験を行った。ゼラチンの硬膜剤とし
ては、ホルマリン、2.4−ジクロロ−6−ヒドロキシ
s−トリアジンナトリウムを用いた。結果を表=1に示
す。
Gelatin was coated on this antistatic layer at a concentration of 2.0 g/m'' and an adhesion test was conducted.As a hardening agent for gelatin, formalin, 2,4-dichloro-6-hydroxy s-triazine, Sodium was used.The results are shown in Table 1.

(1)接着力試験 く乾燥膜付試験〉 試料の乳剤面に、カミソリで流儀を基盤の目状につけ、
その上にセロハン接着テープを圧着したのち該テープを
急激に剥離したときの、セロハンテープの接着面積に対
する乳剤膜の残存率を百分率で示した。
(1) Adhesion test and dry film test> On the emulsion side of the sample, use a razor to apply a pattern to the base.
The remaining rate of the emulsion film relative to the adhesive area of the cellophane tape when the cellophane adhesive tape was pressure-bonded thereon and then rapidly peeled off was expressed as a percentage.

〈処理膜付試験〉 処理浴中で試料の乳剤面にキリ状の鋭利な先端で基盤の
目状に傷をつけて、 その面をこすり、 乳 割膜の残存率を百分率で示した。
<Test with processed film> In the processing bath, the emulsion surface of the sample was scratched in the shape of the substrate with a sharp end, and the surface was rubbed, and the residual rate of the emulsion film was expressed as a percentage.

実用上、 この百 分率が80%以上であれば支障ない。Practically, this hundred There is no problem if the fraction is 80% or more.

(a)特開昭55 84658記載 Mvl=5000 SO,Na 表1の結果から本発明の試料は接着性に優れていること
がわかる。
(a) Described in JP-A-55-84658 Mvl=5000 SO, Na From the results in Table 1, it can be seen that the samples of the present invention have excellent adhesive properties.

実施例−2 (乳剤の調製) pH3,0の酸性雰囲気下でコンドロールドダブルジェ
ット法によりロジウム塩を、銀1モル当たり101モル
含有する平均粒径0.11μm、ハロゲン化銀組成単分
散度15、臭化銀を5モル%含む塩臭化銀粒子を作成し
た。粒子の成長は、ベンジルアデニンを1%のゼラチン
水溶液112当たり30mg含有する系で行った。銀と
ハライドの混合後、6−メチル−4−ヒドロキシ−1,
3,3a、7テトラザインデンをハロゲン化#!1モル
当たり600mg加え、その後水洗、脱塩した。
Example 2 (Preparation of emulsion) Rhodium salt was prepared by Chondrold double jet method in an acidic atmosphere of pH 3.0, containing 101 mol of rhodium salt per mol of silver, average grain size of 0.11 μm, silver halide composition monodispersity. 15. Silver chlorobromide particles containing 5 mol% of silver bromide were prepared. Particle growth was carried out in a system containing 30 mg of benzyladenine per 112 1% aqueous gelatin solution. After mixing silver and halide, 6-methyl-4-hydroxy-1,
Halogenating 3, 3a, 7 tetrazaindene #! 600 mg per mole was added, and then washed with water and desalted.

次いで、ハロゲン化銀1モル当たり60mgの6−メチ
ル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−テトラザイン
デンを加えた後、ハロゲン化銀1モル当たり15mgの
チオ硫酸ナトリウムを加え、60℃でイオウ増感をした
。イオウ増感後安定剤として6−メチル4−ヒドロキシ
−13,3a、7−テトラザインデンをハロゲン化銀1
モル当たり600麿g加えた。
Next, 60 mg of 6-methyl-4-hydroxy-1,3,3a,7-tetrazaindene per mole of silver halide was added, followed by 15 mg of sodium thiosulfate per mole of silver halide, and the mixture was heated at 60°C. I sensitized it with sulfur. After sulfur sensitization, 6-methyl 4-hydroxy-13,3a,7-tetrazaindene was added as a stabilizer to silver halide 1
600 grams per mole was added.

得られた乳剤に添加剤を下記の付量になるように調製添
加し、特開昭59−19941号の実施例−lによりラ
テックス下引処理した厚さ100μ−のポリエチレンテ
レフタレート支持体上に塗布した。
Additives were added to the resulting emulsion in the amounts shown below, and the mixture was coated on a 100 μm thick polyethylene terephthalate support that had been subjected to latex subbing treatment according to Example 1 of JP-A-59-19941. did.

ラテックスポリマー:スチレン−ブチルアクリレート−
アクリル酸3元共重合 ポリマー        1.0 g/m’テトラフェ
ニルホスホニウムクロライド30  mg/讃8 サポニン           20OB/m”ポリエ
チレングリコール    100  mg/m”ハイド
ロキノン         200  mg/m”スチ
レン−マレイン酸共重合体 20  mg/m”ヒドラ
ジン化合物(表−2に示す) 50  mg/m”5−
メチルベンゾトリアゾール  30  mg/m”減感
色素(M)           20  rag/l
アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)1.5 gem
”ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル15  m
g/m” 銀量 2.8 gem” (乳剤層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製し、乳
剤とともに同時重層塗布した。
Latex polymer: styrene-butyl acrylate
Acrylic acid ternary copolymer polymer 1.0 g/m'Tetraphenylphosphonium chloride 30 mg/San8 Saponin 20OB/m"Polyethylene glycol 100 mg/m"Hydroquinone 200 mg/m"Styrene-maleic acid copolymer 20 mg /m" hydrazine compound (shown in Table-2) 50 mg/m"5-
Methylbenzotriazole 30 mg/m” Desensitizing dye (M) 20 rag/l
Alkali-treated gelatin (isoelectric point 4.9) 1.5 gem
”Bis(vinylsulfonylmethyl)ether 15 m
g/m" Silver amount: 2.8 gem" (Emulsion layer protective film) An emulsion layer protective film was prepared in the following amount and coated simultaneously with the emulsion in a multilayer manner.

弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル200mg/
+2 ドデンルベンゼンスルホン酸ナトリウム100+119
/+1” マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3゜5μ
m)             100  mg/+’
硝酸リチウム塩         30  +ag/m
”没食子酸プロピルエステル   300  mg/m
”2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸
ナトリウム          30  mg/m”ア
ルカリ処理ゼラチン(等電点4.9) 1.3 gem
”コロイダルシリカ        30  mg/+
”スチレン−マレイン酸共重合体100  mg/i”
ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル15  mg
/m” つぎに、乳剤層と反対側の支持体上に、あらかじめ30
1/1m1nのパワーでコロナ放電した後、ポリ(スチ
レン−ブチルアクリレート−グリシジルメタクリレート
)ラテックスポリマーをヘキサメチレンアジリジン硬膜
剤の存在下で塗布し、さらに帯電防止層を実施例−1と
同様に塗布し、ついで下記組成のバッキング層を添加剤
が下記付量になるように調製し、塗布した。
Fluorinated dioctyl sulfosuccinate ester 200mg/
+2 Sodium dodenlebenzene sulfonate 100+119
/+1” Matting agent: Polymethyl methacrylate (average particle size 3°5μ
m) 100 mg/+'
Lithium nitrate salt 30 +ag/m
"Gallic acid propyl ester 300 mg/m
"Sodium 2-mercaptobenzimidazole-5-sulfonate 30 mg/m" Alkali-treated gelatin (isoelectric point 4.9) 1.3 gem
“Colloidal silica 30 mg/+
"Styrene-maleic acid copolymer 100 mg/i"
Bis(vinylsulfonylmethyl)ether 15 mg
/m” Next, on the support opposite to the emulsion layer, 30
After corona discharge with a power of 1/1 m1n, poly(styrene-butyl acrylate-glycidyl methacrylate) latex polymer was applied in the presence of hexamethylene aziridine hardener, and an antistatic layer was further applied as in Example-1. Then, a backing layer having the following composition was prepared and applied so that the amount of additives was as shown below.

(バッキング層) ラテックスポリマー:ブチルアクリレート−スチレン共
重合体      0.5 ge1スチレン−マレイン
酸共重合体 100  mg/m”クエン酸(塗布後p
H5,4に調製) 40  mg/m”サポニン   
        200  B/m”バラ キング染料 (a) (b) (c) 03Na アルカリ処理ゼラチン 2.0g/+w” ビス (ビニルスルホニルメチル) エーテル 15+mg八1 (バへキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製し、 グ層上部に同時重層塗布した。
(Backing layer) Latex polymer: butyl acrylate-styrene copolymer 0.5 ge1 styrene-maleic acid copolymer 100 mg/m" citric acid (after coating p
(prepared to H5.4) 40 mg/m”saponin
200 B/m" Baraking dye (a) (b) (c) 03Na Alkali-treated gelatin 2.0g/+w" Bis(vinylsulfonylmethyl) ether 15+mg81 (Balking layer protective film) Additives as shown below. The mixture was prepared in such a manner that the amount was adjusted to the desired amount, and was simultaneously coated in a multilayer on top of the green layer.

ジオクチルスルホコハク酸エステル パツキン 200   mg/+m” マット剤:ポリメタクリル酸メチル (平均粒径4.0μm)50  ■g/m”アルカリ処
理ゼラチン(等電点4.9)1−Og/m” 弗素化ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム           50  mg/s+
”ビス(ビニルスルホニルメチル) エーテル             20 mg/a”
なお、上記塗布液のpHはあらかじめ5.4に調製して
から塗布した。
Dioctylsulfosuccinate ester packaging 200 mg/+m" Matting agent: Polymethyl methacrylate (average particle size 4.0 μm) 50 g/m" Alkali-treated gelatin (isoelectric point 4.9) 1-Og/m" Fluorinated Sodium dodecylbenzenesulfonate 50 mg/s+
"Bis(vinylsulfonylmethyl) ether 20 mg/a"
Note that the pH of the coating solution was adjusted to 5.4 in advance before coating.

以上のようにして得られた試料をそれぞれ2つに分け、
一方は23℃相対湿度55%で3日間保存した。残りの
一方は23°C相対湿度55%で3時間調湿し後、重ね
た状態で防湿袋に封入し、55℃で3日間保存して強制
劣化させ経時代用試料を作成した。
Divide each sample obtained as above into two,
One was stored for 3 days at 23° C. and 55% relative humidity. The remaining one was conditioned for 3 hours at 23° C. and 55% relative humidity, then sealed in a moisture-proof bag in a stacked state, and stored at 55° C. for 3 days for forced deterioration to create an aging sample.

両方の試料を、ステップウェッジを通して露光後、下記
に示す現像液、定着液を使用して現像処理した後、感度
及び表面比抵抗を求めた。なお感度は光学濃度で1.0
になる露光量とし、相対感度で表した。結果を表2に示
した。
After both samples were exposed through a step wedge and developed using the developer and fixer shown below, sensitivity and surface resistivity were determined. The sensitivity is 1.0 in terms of optical density.
The exposure amount is expressed as relative sensitivity. The results are shown in Table 2.

現像処理条件 工程    温度    時間 現像     34°0    15秒定着    3
2°0    10秒 水洗    常温    10秒 現像液処方 ハイドロキノン          25  gl−フ
ェニル−4,4ジメチル−3 ピラゾリドン           0.4g臭化ナト
リウム          3g5−メチルベンゾトリ
アゾール   0.3g5−ニトロインダゾール   
   0.05gジエチルアミノプロパン−1,2−ジ
オール0  g 亜硫酸カリウム 90 5−スルホサリチル酸ナト リウム 5 エチレンジアミン四酢酸ナトリウム 水でlI2に仕上げた。
Development processing conditions Step Temperature Time Development 34°0 15 seconds fixing 3
2°0 10 seconds water wash Room temperature 10 seconds Developer formulation Hydroquinone 25 gl-phenyl-4,4dimethyl-3 pyrazolidone 0.4g Sodium bromide 3g 5-methylbenzotriazole 0.3g 5-nitroindazole
0.05 g Diethylaminopropane-1,2-diol 0 g Potassium sulfite 90 Sodium 5-sulfosalicylate 5 Sodium ethylenediaminetetraacetate Finished to 1I2 with water.

pHは、苛性ソーダで11.5と 定着液処方 (組J*A) チオ硫酸アンモニウム(72,5w% した。The pH is 11.5 with caustic soda. Fixer formulation (Group J*A) Ammonium thiosulfate (72.5w% did.

水溶液) 240  tsQ 7  g 6.5g g g 13.6m(i 亜硫酸ナトリウム 酢酸ナトリウム・3水塩 硼酸 クエン酸ナトリウム・2水塩 酢酸(90w%水溶液) (組成B) 純水(イオン交換水) 硫酸(50W%の水溶液) 硫酸アルミニウム(^a、O,換算含量が8、l曹%の
水溶液) 17  vaQ 4.7g 26.5g 定着液の使用時に水500+mQ中に上記組FRA。
aqueous solution) 240 tsQ 7 g 6.5g g g 13.6m (i Sodium sulfite Sodium acetate, trihydrate boric acid, sodium citrate, dihydrate acetic acid (90w% aqueous solution) (Composition B) Pure water (ion exchange water) Sulfuric acid (50W% aqueous solution) Aluminum sulfate (^a, O, converted content is 8, 1% carbon dioxide aqueous solution) 17 vaQ 4.7g 26.5g When using fixer, the above set FRA in 500+mQ of water.

組 戊Bの順に溶かし、 Qに仕上げて用いた。set Melt in the order of B. It was finished into Q and used.

この 表2の結果から本発明の試料は、経時保存による感度低
下が少なく、また処理後の帯電防止能の劣化も少ないこ
とが分かる。
From the results in Table 2, it can be seen that the samples of the present invention show little decrease in sensitivity due to storage over time, and little deterioration in antistatic ability after processing.

実施例−3 実施例−2と同様にして、ロジウム塩を銀1モル当たり
10−’モルを含有し、平均粒径0.201m1単分散
度20の臭化銀を2モル%含む塩臭化銀粒子を作成した
。これを実施例−2と同様に処理、水洗、脱塩後イオウ
増感を施した。
Example 3 In the same manner as in Example 2, chlorobromide containing 10-' mol of rhodium salt per mol of silver and 2 mol % of silver bromide with an average particle size of 0.201 m and a monodispersity of 20 was prepared. Silver particles were created. This was treated in the same manner as in Example 2, washed with water, desalted, and then sulfur sensitized.

得られた乳剤に添加剤を下記の付量になるように調製添
加し、実施例−1で用いた下引加工済ポリエチレンテレ
フタレート支持体上に塗布した。
Additives were added to the obtained emulsion in the amounts shown below, and the mixture was coated on the undercoated polyethylene terephthalate support used in Example-1.

ラテックスポリマー: スチレン−7′チルアクリレートアクリル3元共重合ポ
リマー        1.0g/m27  エ  ノ
  ー ル                    
                       l 
  B/m”サポニン             20
0mg/+’ドデシルベンゼン スルホン酸ナトリウム       50mg/m”テ
トラゾリウム化合物(表−3に示す) 50mg/m”
化合物(N) 化合物(0) スチレン−マレイン酸共重合体 アルカリ処理ゼラチン(等電点4,9)銀量 ホルマリン 化合物(N) 40mg/m” 50+I1g/m” 20mg/m” 2、Og八へ 3−5g/m2 10a+g/+a2 化合物(0) 尚、塗布液はあらかじめ水酸化ナトリウムpH6,5に
調整したのち塗布した。乳剤保護膜として、添加剤を下
記の付量になるように調製し、乳剤塗布液とともに同時
重層塗布した。
Latex polymer: Styrene-7' tyl acrylate acrylic tertiary copolymer 1.0g/m27 Enol
l
B/m"Saponin 20
0mg/+'Sodium dodecylbenzenesulfonate 50mg/m"Tetrazolium compound (shown in Table-3) 50mg/m"
Compound (N) Compound (0) Styrene-maleic acid copolymer alkali-treated gelatin (isoelectric point 4,9) Silver amount Formalin compound (N) 40mg/m"50+I1g/m"20mg/m" 2. To Og 8 3-5 g/m2 10a+g/+a2 Compound (0) The coating solution was coated after adjusting the pH of sodium hydroxide to 6.5 in advance.As an emulsion protective film, additives were prepared in the amounts shown below. Coating was carried out simultaneously with the emulsion coating solution.

弗素化ジオクチル スルホコハク酸エステル     100mg/m”ジ
オクチルスルホコハク酸エステル 100mg/m”マ
ット剤:不定型シリカ       50mg/+”化
合物(0)             30mg/a”
5−メチルベンゾトリアゾール 化合物(P )             500mg
/+”没食子酸プロピルエステル     300mg
/a”スチレン−マレイン酸共重合体    100m
g/m’アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)   
1.og/m”ホルマリン             
lOmg/m”尚、あらかじめクエン酸でpH5.4に
調整しt;のち塗布した。
Fluorinated dioctyl sulfosuccinate 100 mg/m" Dioctyl sulfosuccinate 100 mg/m" Matting agent: Amorphous silica 50 mg/+" Compound (0) 30 mg/a"
5-methylbenzotriazole compound (P) 500mg
/+”Gallic acid propyl ester 300mg
/a” styrene-maleic acid copolymer 100m
g/m'alkali-treated gelatin (isoelectric point 4.9)
1. og/m” formalin
The pH was adjusted to 5.4 with citric acid in advance, and then applied.

化合物(P) 次に乳剤層とは、反対側の支持体上に、実施例2と全く
同様にして帯電防止層、バッキング層を設けた。ただし
この時のバッキング層の硬膜剤はホルマリンを使用した
Compound (P) Next, an antistatic layer and a backing layer were provided on the support opposite to the emulsion layer in exactly the same manner as in Example 2. However, formalin was used as the hardening agent for the backing layer at this time.

実施例2と同様に処理し、評価した。It was treated and evaluated in the same manner as in Example 2.

ただし、現像液は下記のものを用いた。得られた結果を
表−3に示す。
However, the following developer was used. The results obtained are shown in Table 3.

(組成A) 純水(イオン交換水)         150mff
エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 2gジエチレ
ングリコール         50g亜硫酸カリウム
(55%w/v水溶液)    100m<2炭酸カリ
ウム             50gハイドロキノン
            15g1−7zニル−5−メ
ルカグトテトラゾール 30mg水酸化カリウム 使用
液のpHをlO.4にする1臭化カリウム      
       4.5g(組成B) 純水(イオン交換水)          3mgジエ
チレングリコール         50gエチレンジ
アミン四酢酸二 すトリウム塩           25mg酢酸(9
0%水溶液)          0.3m121−フ
ェニル−3−ピラゾリドン 00mg 現像液の使用時に水500m+2中に上記組成A1組戒 表3の結果からも実施例2のヒドラジン化合物の場合と
同様に本発明の試料は経時保存による感度低下が少なく
、処理後の帯電防止能の劣化も少ない。
(Composition A) Pure water (ion exchange water) 150mff
Ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt 2g diethylene glycol 50g potassium sulfite (55% w/v aqueous solution) 100m<2 potassium carbonate 50g hydroquinone 15g 1-7z nyl-5-mercagutotetrazole 30mg potassium hydroxide Adjust the pH of the working solution to lO. Potassium monobromide to 4
4.5g (composition B) Pure water (ion-exchanged water) 3mg diethylene glycol 50g ethylenediaminetetraacetic acid distrium salt 25mg acetic acid (9
0% aqueous solution) 0.3ml 121-phenyl-3-pyrazolidone 00mg When using a developer, add 500ml of water to 500ml+2 of water.From the results of the above composition A1 group and Table 3, the sample of the present invention is There is little deterioration in sensitivity due to storage over time, and there is little deterioration in antistatic ability after processing.

〔発明の効果〕 本発明により接着性に優れた帯電防止層を有し、テトラ
ゾリウム化合物またはヒドラジン化合物のような超硬調
化剤を使用しても経時で表面比抵抗の劣化が少なく、か
つ減感せず、安定性の高い/・ロゲン化銀写真感光材料
を提供することができた。
[Effects of the Invention] The present invention has an antistatic layer with excellent adhesive properties, and even when ultrahigh contrast agents such as tetrazolium compounds or hydrazine compounds are used, there is little deterioration in surface resistivity over time, and there is no desensitization. However, it was possible to provide a highly stable silver halide photographic material.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)[1]水溶性導電性ポリマー、[2]疎水性ポリ
マー粒子、[3]硬化剤の反応生成物からなる帯電防止
層を有してなるプラスチックフィルムにおいて、該水溶
性導電性ポリマーが、ブロック化イソシアネートを含有
する帯電防止層を有することを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料。
(1) In a plastic film comprising an antistatic layer comprising a reaction product of [1] a water-soluble conductive polymer, [2] hydrophobic polymer particles, and [3] a curing agent, the water-soluble conductive polymer A silver halide photographic light-sensitive material comprising an antistatic layer containing a blocked isocyanate.
(2)請求項1記載のハロゲン化銀写真感光材料がヒド
ラジン化合物又はテトラゾリウム化合物を含有すること
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
(2) The silver halide photographic material according to claim 1, which contains a hydrazine compound or a tetrazolium compound.
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