JPH0360489A - 粒状シリコン供給装置 - Google Patents
粒状シリコン供給装置Info
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- JPH0360489A JPH0360489A JP1193715A JP19371589A JPH0360489A JP H0360489 A JPH0360489 A JP H0360489A JP 1193715 A JP1193715 A JP 1193715A JP 19371589 A JP19371589 A JP 19371589A JP H0360489 A JPH0360489 A JP H0360489A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明はシリコン単結晶引き上げ装置において、るつ
ぼ内に供給する粒状シリコン原料の供給装置に関するも
のである。
ぼ内に供給する粒状シリコン原料の供給装置に関するも
のである。
［従来の技術］
チョクラルスキー法によるシリコン単結晶引き上げ装置
において、粒状原料をるつぼ内に供給しながら、シリコ
ン単結晶の連続引き上げを行う装置が従来から知られて
いる。この場合に原料供給装置として、一般的には、構
造が簡単なことから振動フィーダが考え易い、振動フィ
ーダは、振動板の上に原料粒子を供給し、該振動板を振
動させて原料粒子を供給するもので、供給量の制御は、
振動板の振動振幅あるいは振動数を制御することにより
行われる。特公昭６１−１７５３７では、振動フィーダ
の一種が提案されている。
において、粒状原料をるつぼ内に供給しながら、シリコ
ン単結晶の連続引き上げを行う装置が従来から知られて
いる。この場合に原料供給装置として、一般的には、構
造が簡単なことから振動フィーダが考え易い、振動フィ
ーダは、振動板の上に原料粒子を供給し、該振動板を振
動させて原料粒子を供給するもので、供給量の制御は、
振動板の振動振幅あるいは振動数を制御することにより
行われる。特公昭６１−１７５３７では、振動フィーダ
の一種が提案されている。
その他の供給装置としては、水平な軸に数枚の羽根を取
り付けたロータをケース内で回転し、上部の原料の貯溜
ホッパより排出された原料粒子を羽根とテースの間の空
間に受は入れ、ロータの回転によりケースの下部より順
次排出する。
り付けたロータをケース内で回転し、上部の原料の貯溜
ホッパより排出された原料粒子を羽根とテースの間の空
間に受は入れ、ロータの回転によりケースの下部より順
次排出する。
［発明が解決しようとする課題］
振動フィーダの供給量は、原料粒子の寸法の影響を大き
く受ける。すなわち、粒子径が大きいと供給量が多くな
り、小さいとその逆になる。シリコン粒子は、その寸法
に大きなばらつきがあり、またそれらを完全に混合する
のは困難で、大きな粒子あるいは小さな粒子の偏析は避
けられない。
く受ける。すなわち、粒子径が大きいと供給量が多くな
り、小さいとその逆になる。シリコン粒子は、その寸法
に大きなばらつきがあり、またそれらを完全に混合する
のは困難で、大きな粒子あるいは小さな粒子の偏析は避
けられない。
したがって、振動フィーダでは、原料粒子の偏析による
供給量の変動は避けられない、この変動は、単結晶育成
炉の熱環境を変動させるため、単結晶育成上好ましくな
い。
供給量の変動は避けられない、この変動は、単結晶育成
炉の熱環境を変動させるため、単結晶育成上好ましくな
い。
他方、ロータリバルブは、粒状物質を供給する場合に、
ロータの羽根とケースの間に粒子が噛み込み、ロータの
回転が出来なくなるという問題がある。また、粒子がロ
ータの回転によってケース内を移動する際、粒子と羽根
またはケース内面との摩擦によって羽根またはケース内
面が摩耗し、原料内に不純が混入する虞がある。
ロータの羽根とケースの間に粒子が噛み込み、ロータの
回転が出来なくなるという問題がある。また、粒子がロ
ータの回転によってケース内を移動する際、粒子と羽根
またはケース内面との摩擦によって羽根またはケース内
面が摩耗し、原料内に不純が混入する虞がある。
［課題を解決するための手段］
本発明による粒状シリコン供給装置は、シリコン原料粒
子をるつぼ中に供給しながら、単結晶を育成するシリコ
ン単結晶の連続チョクラルスキー法引き上げ装置におい
て、不活性ガス雰囲気に置換可能な箱体内に、外周部に
複数の突起物または複数のくぼみを有し、回転軸が水平
な回転円筒体と、前記回転円筒体の上方に設けられたシ
リコン粒子の貯溜ホッパーと、を有し、前記貯溜ホッパ
ーの排出口下端と前記回転円筒体の外縁部との距離は、
シリコン粒子の最大径を超えるもので、かつ前記回転円
筒体の回転停止時に、ホッパー下部排出口より排出され
たシリコン粒子が回転円筒体の上側に安息角を形成して
堆積し、その供給が停止されるように定められてあるこ
とを特徴とする。
子をるつぼ中に供給しながら、単結晶を育成するシリコ
ン単結晶の連続チョクラルスキー法引き上げ装置におい
て、不活性ガス雰囲気に置換可能な箱体内に、外周部に
複数の突起物または複数のくぼみを有し、回転軸が水平
な回転円筒体と、前記回転円筒体の上方に設けられたシ
リコン粒子の貯溜ホッパーと、を有し、前記貯溜ホッパ
ーの排出口下端と前記回転円筒体の外縁部との距離は、
シリコン粒子の最大径を超えるもので、かつ前記回転円
筒体の回転停止時に、ホッパー下部排出口より排出され
たシリコン粒子が回転円筒体の上側に安息角を形成して
堆積し、その供給が停止されるように定められてあるこ
とを特徴とする。
［作用］
貯溜ホッパの下部排出口より排出された粒状シリコン原
料は、回転体の外周表面に落下し、前記外周表面には複
数の突起物またはくぼみを設けであるので、粒状のシリ
コン原料は転がり落ちないで前記外周面に滞留し、回転
円筒体の回転によって、下方に落下しるつぼに供給され
る。このときのシリコン原料の供給量は前記回転円筒体
の回転速度によって定められる。
料は、回転体の外周表面に落下し、前記外周表面には複
数の突起物またはくぼみを設けであるので、粒状のシリ
コン原料は転がり落ちないで前記外周面に滞留し、回転
円筒体の回転によって、下方に落下しるつぼに供給され
る。このときのシリコン原料の供給量は前記回転円筒体
の回転速度によって定められる。
また、回転円筒体の停止時には、貯溜ホッパの下部排出
口から排出された粒状シリコン原料は、粒子の安息角に
より円筒体外周面上に堆積し、るつぼ内への供給が停止
される。貯溜ホッパーの排出口下端と前記回転円筒体の
外縁部との距離は、シリコン粒子の最大径より小さいと
シリコン粒子の排出に支障を生じ、またこの距離が安息
角が形成されないほど大きいと、前記回転円筒体の停止
時にシリコン粒子の排出が止まらない虞がある。
口から排出された粒状シリコン原料は、粒子の安息角に
より円筒体外周面上に堆積し、るつぼ内への供給が停止
される。貯溜ホッパーの排出口下端と前記回転円筒体の
外縁部との距離は、シリコン粒子の最大径より小さいと
シリコン粒子の排出に支障を生じ、またこの距離が安息
角が形成されないほど大きいと、前記回転円筒体の停止
時にシリコン粒子の排出が止まらない虞がある。
シリコン粒子の供給量に影響を及ぼす因子は、貯溜ホッ
パ下部の排出口と回転円筒体外周面との距離および回転
円筒体の回転速度で５原料粒子径の影響は殆ど受けない
、したがって、操業上、シリコン粒子の供給量制御は、
回転円筒体の回転数制御により行われる。
パ下部の排出口と回転円筒体外周面との距離および回転
円筒体の回転速度で５原料粒子径の影響は殆ど受けない
、したがって、操業上、シリコン粒子の供給量制御は、
回転円筒体の回転数制御により行われる。
［実施例］
本発明の実施例を添付の図面を参照しながら詳細に説明
する。第１図は本実施例のシリコン原料供給装置の縦断
面図である。シリコン単結晶引き上げ装置のチャンバ３
０の開口部２４の上部に、仕切り弁２３を介して、前記
チャンバ３ｏと連通する箱体１１を設け、箱体１１の内
部と同様に、不活性ガス雰囲気に置換可能とするととも
に、箱体１１の上部には、シリコン粒子２７補充用の開
閉用蓋２０を設け、前記開閉用蓋２０は箱体１１とＯリ
ング２１を介してボルト締めされている。
する。第１図は本実施例のシリコン原料供給装置の縦断
面図である。シリコン単結晶引き上げ装置のチャンバ３
０の開口部２４の上部に、仕切り弁２３を介して、前記
チャンバ３ｏと連通する箱体１１を設け、箱体１１の内
部と同様に、不活性ガス雰囲気に置換可能とするととも
に、箱体１１の上部には、シリコン粒子２７補充用の開
閉用蓋２０を設け、前記開閉用蓋２０は箱体１１とＯリ
ング２１を介してボルト締めされている。
箱体１１の内部には、シリコン粒子２７を貯溜し、下部
の排出口から排出する貯溜ホッパ１２、前記、貯溜ホッ
パ１２を保持する貯溜ホッパ受は台１８、水平な回転軸
１６を有する回転円筒体１４、第１のロート状案内管１
７および案内管受け台１９が設けられ、チャンバＭ２４
の開口部には、シリコン粒子をるつぼに導く第２のロー
ト状案内管２５が設けられている。
の排出口から排出する貯溜ホッパ１２、前記、貯溜ホッ
パ１２を保持する貯溜ホッパ受は台１８、水平な回転軸
１６を有する回転円筒体１４、第１のロート状案内管１
７および案内管受け台１９が設けられ、チャンバＭ２４
の開口部には、シリコン粒子をるつぼに導く第２のロー
ト状案内管２５が設けられている。
また、回転円筒体１４の外周表面には、シリコン粒子２
７が転がり落ちないように、複数の突起物またはくぼみ
１５が設けられている。第２図乃至第９図は前記突起物
またはくぼみを示す見取り図または断面図である。
７が転がり落ちないように、複数の突起物またはくぼみ
１５が設けられている。第２図乃至第９図は前記突起物
またはくぼみを示す見取り図または断面図である。
第２図は歯車の歯形状突起物１５を設けた場合の見取り
図、第３図は第２図の突起物を設けた回転円筒体１４と
ホッパ下部排出口１３の縦断面図である。第４図乃至第
９図は回転円筒体１４の外周部に前記突起物またはくぼ
みを設けた実施例を示すもので、それぞれ板状の突起物
（第４図〉、棒状の突起物（第５図〉、すし状のくぼみ
（第６図〉、編目状のくぼみ（第７図）、穴状のくぼみ
（第８図）、棒状の突起物と穴状のくぼみ（第９図）を
設けた例である。
図、第３図は第２図の突起物を設けた回転円筒体１４と
ホッパ下部排出口１３の縦断面図である。第４図乃至第
９図は回転円筒体１４の外周部に前記突起物またはくぼ
みを設けた実施例を示すもので、それぞれ板状の突起物
（第４図〉、棒状の突起物（第５図〉、すし状のくぼみ
（第６図〉、編目状のくぼみ（第７図）、穴状のくぼみ
（第８図）、棒状の突起物と穴状のくぼみ（第９図）を
設けた例である。
以上のように構成された本実施例の作用について説明す
る。貯溜ホッパ１２内に装入されたシリコン粒子２７は
貯溜ホッパ１２の下部排出口１３から連続的に排出され
、排出口１３の真下にに設けられた回転円筒体１４の外
周部に供給される。
る。貯溜ホッパ１２内に装入されたシリコン粒子２７は
貯溜ホッパ１２の下部排出口１３から連続的に排出され
、排出口１３の真下にに設けられた回転円筒体１４の外
周部に供給される。
供給されたシリコン粒子は、回転円筒体１４の外周表部
に設けられた複数の突起物またはくぼみにより、転がり
落ちることなく、回転円筒体１４の外周部に滞留し、回
転円筒体１４の回転によって移動され、順次重力によっ
て前記外周部から下方に落下する。落下したシリコン粒
子は第１および第２のロート上案内管を経てるつぼに供
給される。
に設けられた複数の突起物またはくぼみにより、転がり
落ちることなく、回転円筒体１４の外周部に滞留し、回
転円筒体１４の回転によって移動され、順次重力によっ
て前記外周部から下方に落下する。落下したシリコン粒
子は第１および第２のロート上案内管を経てるつぼに供
給される。
シリコン粒子１２の供給量は、貯溜ホッパ１２の下部排
出口１３の下端と回転円筒体１４の外周表面との距離お
よび回転円筒体１４の回転速度によって決まるので、回
転円筒体１４の回転速度を制御することにより制御する
ことが出来る。
出口１３の下端と回転円筒体１４の外周表面との距離お
よび回転円筒体１４の回転速度によって決まるので、回
転円筒体１４の回転速度を制御することにより制御する
ことが出来る。
回転円筒体１４の回転を停止した場合には、貯溜ホッパ
の下部は排出口１３より排出されたシリコン粒子は、回
転円筒体１４の上部に一定の安息角で堆積し、移動が停
止されて、るつぼへの供給が止まる。
の下部は排出口１３より排出されたシリコン粒子は、回
転円筒体１４の上部に一定の安息角で堆積し、移動が停
止されて、るつぼへの供給が止まる。
本実施例による粒状シリコン供給装置では、従来の振動
フィーダのように供給量が原料寸法の影響を受けないの
で、品質の優れた単結晶が安定して生産される。
フィーダのように供給量が原料寸法の影響を受けないの
で、品質の優れた単結晶が安定して生産される。
さらに、ロータリバルブのよにケースがないので、構造
が簡単であるばかりでなく、ケースとロータの間に粒子
が噛み込むという問題も解消される。
が簡単であるばかりでなく、ケースとロータの間に粒子
が噛み込むという問題も解消される。
また、本実施例の原料供給装置では、貯溜ホッパ１２、
回転円筒体１４、ロート上案内管１７．２５その他のシ
リコン粒子を接する部分を石英、シリコンまたはテフロ
ンの材料で構成することにより、シリコン供給の際に、
るつぼ内への不純物の混入を避けることができる。
回転円筒体１４、ロート上案内管１７．２５その他のシ
リコン粒子を接する部分を石英、シリコンまたはテフロ
ンの材料で構成することにより、シリコン供給の際に、
るつぼ内への不純物の混入を避けることができる。
［発明の効果］
本発明の粒状シリコン供給装置によれば、外周部に複数
の突起物またはくぼみを有する回転円筒体が設けられ、
ここに貯溜ホッパから排出された粒状シリコンが供給さ
れて、前記回転円筒体の回転によりるつぼに粒状シリコ
ンが供給されるので、原料供給量が安定し、製造される
シリコン単結晶の品質が向上する。
の突起物またはくぼみを有する回転円筒体が設けられ、
ここに貯溜ホッパから排出された粒状シリコンが供給さ
れて、前記回転円筒体の回転によりるつぼに粒状シリコ
ンが供給されるので、原料供給量が安定し、製造される
シリコン単結晶の品質が向上する。
第１図は本実施例のシリコン原料供給装置の縦断面図、
第２図乃至第９図は本実施例の回転円同体の外周部に設
けられた突起物またはくぼみの図である。 １１・・・箱体、１２・・・貯溜ホッパ、１３・・・排
出口、１４・・・回転円筒体、１５・・・くぼみまたは
突起物、１６・・・回転軸、１７・・・第１のロート状
案内管、１８・・・貯溜ホッパ受は台、１９・・・案内
管受は台、２０・・・開閉用蓋、２１・・・○リング、
２３・・・仕切り弁、２４・・・チャンバの開口部、２
５・・・第２のロート状案内管、 ２７・・・シリコン粒子、３０・・・チャンバ。
第２図乃至第９図は本実施例の回転円同体の外周部に設
けられた突起物またはくぼみの図である。 １１・・・箱体、１２・・・貯溜ホッパ、１３・・・排
出口、１４・・・回転円筒体、１５・・・くぼみまたは
突起物、１６・・・回転軸、１７・・・第１のロート状
案内管、１８・・・貯溜ホッパ受は台、１９・・・案内
管受は台、２０・・・開閉用蓋、２１・・・○リング、
２３・・・仕切り弁、２４・・・チャンバの開口部、２
５・・・第２のロート状案内管、 ２７・・・シリコン粒子、３０・・・チャンバ。
Claims (2)
- （１）シリコン原料粒子をるつぼ中に供給しながら、単
結晶を育成するシリコン単結晶の連続チョクラルスキー
法引き上げ装置において、不活性ガス雰囲気に置換可能
な箱体内に、外周部に複数の突起物または複数のくぼみ
を有し、回転軸が水平な回転円筒体と、前記回転円筒体
の上方に設けられたシリコン粒子の貯溜ホッパーとを有
し、前記貯溜ホッパーの排出口下端と前記回転円筒体の
外縁部との距離は、シリコン粒子の最大径を超えるもの
で、かつ前記回転円筒体の回転停止時に、ホッパー下部
排出口より排出されたシリコン粒子が回転円筒体の上側
に安息角を形成して堆積し、その供給が停止されるよう
に定められてあることを特徴とする粒状シリコン供給装
置 - （２）シリコン粒子と接する部分が、石英、シリコンま
たはテフロンで構成されてあることを特徴とする請求項
１に記載の粒状シリコン供給装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1193715A JP2577259B2 (ja) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | 粒状シリコン供給装置 |
| FI901413A FI901413A7 (fi) | 1989-03-30 | 1990-03-21 | Laite piiyksittäiskiteiden valmistamiseksi |
| MYPI90000473A MY105591A (en) | 1989-03-30 | 1990-03-26 | Apparatus for manufacturing silicon single crystals. |
| EP19900303259 EP0390502A3 (en) | 1989-03-30 | 1990-03-27 | Apparatus for manufacturing silicon single crystals |
| KR1019900004175A KR900014643A (ko) | 1989-03-30 | 1990-03-28 | 실리콘 단결정 제조장치 |
| CN90102476A CN1018002B (zh) | 1989-03-30 | 1990-03-30 | 制造硅单晶的设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1193715A JP2577259B2 (ja) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | 粒状シリコン供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0360489A true JPH0360489A (ja) | 1991-03-15 |
| JP2577259B2 JP2577259B2 (ja) | 1997-01-29 |
Family
ID=16312589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1193715A Expired - Fee Related JP2577259B2 (ja) | 1989-03-30 | 1989-07-26 | 粒状シリコン供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2577259B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004353868A (ja) * | 2004-07-14 | 2004-12-16 | I M N Kk | 回転部支持体における潤滑油供給方法 |
| JP2004353869A (ja) * | 2004-07-14 | 2004-12-16 | I M N Kk | 回転部支持体における潤滑油供給方法 |
| KR100467417B1 (ko) * | 2002-08-09 | 2005-01-24 | 송유철 | 윤활유 자동 주유장치 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101408664B1 (ko) | 2013-02-14 | 2014-06-18 | (주)에스테크 | 잉곳 원료 연속공급방법 및 그 연속공급장치 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51137442U (ja) * | 1975-04-28 | 1976-11-06 |
-
1989
- 1989-07-26 JP JP1193715A patent/JP2577259B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51137442U (ja) * | 1975-04-28 | 1976-11-06 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100467417B1 (ko) * | 2002-08-09 | 2005-01-24 | 송유철 | 윤활유 자동 주유장치 |
| JP2004353868A (ja) * | 2004-07-14 | 2004-12-16 | I M N Kk | 回転部支持体における潤滑油供給方法 |
| JP2004353869A (ja) * | 2004-07-14 | 2004-12-16 | I M N Kk | 回転部支持体における潤滑油供給方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2577259B2 (ja) | 1997-01-29 |
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