JPH0360680B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0360680B2 JPH0360680B2 JP62185311A JP18531187A JPH0360680B2 JP H0360680 B2 JPH0360680 B2 JP H0360680B2 JP 62185311 A JP62185311 A JP 62185311A JP 18531187 A JP18531187 A JP 18531187A JP H0360680 B2 JPH0360680 B2 JP H0360680B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flash
- speed
- photosensitive surface
- holes
- lamp
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B41/00—Special techniques not covered by groups G03B31/00 - G03B39/00; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
(産業上の利用分野)
本発明は閃光ランプによつて発生される閃光に
よつて線を感光表面上に露出するための光プロツ
ター及び同様の装置に関し、かつ特に多数の異な
る寸法の孔の一つを閃光ランプと共に使用して露
出される線の幅を制御しかつ選択された孔につい
ての線の各増分長さを露出するために使用される
閃光の数を設定しかつ好ましくは変化して作られ
る線の質を制御するようにした装置及び方法に関
する。 本発明の装置及び方法は線を合成するために感
光表面上へ通常は円形の複数個の重合う光点を投
射する閃光ランプ及び関連した孔を使用して線を
感光表面上に露出するいろいろな場合に有用であ
る。よく知られている適用例は感光表面を有する
材料のシートをテーブルの支持表面に保持すると
共に光ヘツドを感光表面上にX及びY座標方向へ
移動させて線を感光表面上に描く光プロツターで
ある。この光ヘツドの線を描く運動が生じる時、
光ヘツド中の閃光ランプは感光表面上へ投射され
る光点が互いに重合いかつ描かれる線を露出する
ような速度で閃光される。 (従来の技術) 閃光ランプはそれが閃光され得る最大達成可能
閃光速度を有し、かつ全体的に光プロツターの場
合に、特に小さい孔について、プロツターの最大
達成可能閃光速度はプロツターのその速度で駆動
している時に投射される光点の重合いを得るに充
分なだけ速い速度でランプを閃光し得るような速
度である。この問題は、異なる寸法の孔の群のど
の一つについても光ヘツドを感光表面に対して相
対的に駆動する速度を、その群の最小の孔で適当
な線を露出し得る速度に制限することによつて過
去に扱われており、この場合、該群の他の孔はそ
れらの一つが選択された孔として使用される時に
線の適当な露出を生じるようにフイルターを取付
けている。すなわち、与えられた寸法範囲をカバ
ーする与えられた群の孔について、光ヘツドは閃
光ランプとの使用に選択される孔にかかわりなく
同じ制限された最大速度で駆動されていた。 与えられた寸法群から選択されるどの孔につい
ても同じ制限された最大速度で光プロツターを駆
動する上記した従来の技術の手順は、該群の最小
の孔を除いて光ヘツドが閃光ランプの最大達成可
能閃光速度によつて与えられる速度より低い最大
速度で駆動されるので、プロツターの処理能力を
減少する欠点を有する。また、従来の技術の構成
では、光ヘツドを異なる速度又は感度の感光表面
に対して又は閃光ランプの出力の時間による劣化
又は交換による変化に対して調節すること及び別
に感光表面の露光を制御することは、そうするこ
とが異なつた孔に関連したフイルターの置換を含
むので、困難である。 また、露出させる線の縁の真直性及び露出の程
度に関する線の質は露出される線の長さの各増分
に対して投射される光点の数又は発生される閃光
の数に依存する。円形の光点について、得られる
質は光点の直径当たりの閃光数によつて示され得
る。小さい幅の線、すなわち0.0508mm(2ミル)
から0.1524mm(6ミル)までの光点から合成され
る線について、許容し得る質の線は多分光点直径
当たり3.5〜5回程の少ない閃光数で作られ得る
が、例えば4.064mm(160ミル)の大きい直径の光
点を使用する時には、直径当たり14回程の多い閃
光数が多分許容し得る線質を作るために必要とさ
れ得る。いずれにしても、光点直径当たりの閃光
数は線質に及ぼす影響を持つておりかつ既知の従
来の技術の光ヘツドでは各孔について光点直径当
たりに発生される閃光の数を個々に設定し又は変
化して質に対する制御を得ることは不可能であつ
た。 線を露出するために使用される光ヘツドはそれ
が関光表面に対して静止して保持されるが個々の
特徴を感光表面上に露出するために一般に使用さ
れている。そのような個々の特徴は一般に「パツ
ド」と言われておりかつしばしば円形の形状を有
する。従来の技術の光プロツターでは、線画の孔
の大部分又は全てがそれらに関連したフイルター
を有しかつパツド閃光の孔の全てがフイルターを
必要としないので、パツド閃光のための与えられ
た寸法の一つの円形孔と線画のための同じ寸法の
一つの孔とを設けることは一般的に必要であつ
た。 (発明が解決しようとする問題点) 本発明の一般的な目的は上記した既知の従来の
技術の光プロツターの欠点を取除いた線露出装置
及び方法を提供することにある。特に、本発明の
目的は、閃光ランプの最大達成可能閃光速度での
又はそれに近い速度での閃光ランプの作動に対応
する最大制限速度で各選択された孔について光ヘ
ツドを駆動することによつて該装置及び方法の処
理能力を大きく増大させた光の閃光による感光表
面上への線の露出装置及び方法を提供することに
ある。 本発明の別の目的は、光点直径又は線長さの他
の増分当たりの発生される閃光数を各孔について
設定を許すことによつて光プロツターによつて露
出される線の質に対して大きな制御を許し、上記
設定が好ましくは光ヘツドを所望の質の変化に、
露光される感光表面の変化に又は他の因子の変化
に対応するように変化し得るようにした前記の特
徴を有する装置及び方法を提供することである。 本発明の更に別の目的は、孔に関連したフイル
ターを必要とせず、このためフイルターの費用を
排除しかつまた各線画孔をパツド閃光孔として使
用し得るようにした前記の特徴を有する装置及び
方法を提供することである。 本発明の他の目的及び利点は添付図面に関連し
た以下の説明及び特許請求の範囲から明らかにな
ろう。 (問題点を解決するための手段及び作用) 本発明は、線を合成するために互いに重合う光
の閃光によつて線を感光表面上へ露出するための
装置及び方法に関する。光ヘツドは感光表面に対
して移動することができかつ閃光ランプと複数個
の異なる寸法の孔とを有し、該孔のいずれか選択
された一つは閃光ランプ及び感光表面の間で移動
されてランプの各閃光によつて露出される光点を
選択された孔の寸法に直接関係した寸法にする。
光ヘツドが感光表面に対して移動する時に、光ヘ
ツド速度に直接に関係した値をもつ速度信号が発
生される。この速度信号は除数すなわち除算因子
によつて除算されて閃光速度指令信号を発生し、
この信号は光ヘツドへ送られて閃光ランプの閃光
速度を制御する。 孔はそれらと1対1基準で関連した複数個の除
算因子を有し、かつ選択された孔と関連した除算
因子は除算作用を速度信号に行つて閃光速度指令
信号を発生するために使用される除算因子であ
る。これは光点直径当たりの閃光数を各孔につい
て個個に設定させる。 また、本発明は各孔によつて発生される線の質
に操作者の正確な制御を与えるように除算因子を
操作者の意志によつて容易に変化し得るコンピユ
ータの記憶装置又は他の手段によつて複数個の除
算因子を得ることにある。 本発明は最大達成可能閃光速度を有する閃光ラ
ンプにありかつ閃光ランプの最大達成可能閃光速
度での又はそれより僅かに遅い速度での閃光速度
で閃光ランプを作動する速度まで光ヘツドの速度
を制限するために使用される速度制限量又は信号
を例えばコンピユータ記憶装置によつて各孔に関
連させるための装置にある。 (実施例及び発明の効果) 本発明を具現化した装置が第1図に10で全体的
に示されておりかつ基本的に光プロツター12及
び関連した制御システム14を有する。 光プロツター12は向上き関光表面22を有す
るシート20を支持する上向き水平支持表面18
を有するテーブル16を含む。X−シヤリツジ2
4は関連した駆動モータ26によつて図示したX
座標方向へ移動することができる。例えば、駆動
モータ26は、キヤリツジ24の両端に配置され
かつそれぞれがテーブルの関連した側縁に沿つて
延びるラツクに係合する二つのピニオン(図示す
ぜ)と一致して回転することができる。X−キヤ
リツジ24はY−キヤリツジ28を図示したY座
標方向へX−キヤリツジに対して相対的に移動し
得るように支持し、そのような運動のための動力
は例えばキヤリツジ24によつて支持された関連
したモータ30であり、それはキヤリツジ24に
よつて支持された親ねじ32を廻す。光ヘツド3
4はY−キヤリツジ28によつて支持されており
かつ感光表面22上へ光点36を繰返し投射する
閃光様式で作動し得る。それ故、キヤリツジ24
及びキヤリツジ28X及びY座標方向へ同時に駆
動することによつてシート20に対して光ヘツド
34を所望の線またはトレース(痕跡)に沿つて
移動させることによつて、光ヘツドが光点を繰返
し投射するように作動される間に、線38のよう
な線が、感光表面22上に露出されるが、但し感
光表面に対する光ヘツドの速度は投射された光点
が感光表面上で互いに重合うように光ヘツドの閃
光速度を関係付けられている。 感光表面22上への線の露出は通常は印刷回路
マスクの図形のような若干の種類の図形をシート
20上に作るためになされ、かつそのような図形
は通常は多くの異なる幅の線の画を含む。異なる
幅の線を露出させるために、光ヘツド34は多数
の異なる寸法の孔を有し、そのいずれか一つが閃
光ランプ及び感光表面の間に選択的に配置されて
ランプの各閃光によつて露出される光点36の寸
法を制御する。孔を選択する構成及び様式は大き
く変更し得る。例として第2図は光ヘツド34の
部分を形成しかつその外周部にそつて配置された
複数個の孔板42,42を含む孔輪40によつて
提供される孔を示しており、各孔板42は孔44
を有し、その寸法は孔板によつて変化している。
孔輪の上方に配置された閃光ランプ(電球)46
が孔輪40に関連してある。孔輪は入力ライン5
2に現れる孔選択信号に応答してモータ駆動され
る孔選択機構50によつて垂直軸線48の周りに
回転して孔輪の孔44,44の選択された一つを
各閃光中に閃光ランプによつて放射される光の経
路中へ導くことができる。選択された孔44を通
過した光は次に投射レンズ系54によつてシート
20の感光表面22上へ投射され、それにより集
束された光点36はランプの各閃光中の感光表面
上へ作像され、光点は選択された孔44の寸法に
直接に関係した寸法を有する。本発明の広い観点
内では、孔はいろいろな形状を有するが、通常の
場合には図示したように孔は形状が円形であるの
で、それらの寸法は以下で行つているようにそれ
らの直径によつて又は孔によつて露出される光点
の直径によつて規定され得る。以下、孔の「寸
法」は感光表面22上に生じる光点36の直径を
とる。すなわち、0.762mm(30ミル)の孔は0.762
mm(30ミル)の直径を有する光点を作る孔であ
る。 第2図に示したように、閃光ランプ46の閃光
は入力ライン58に現れる閃光速度指令信号によ
つて指令される速度をランプ46を閃光させる閃
光回路56によつて制御される。この点で、その
閃光回路との組合せにおいて閃光ランプは最大達
成可能閃光速度を有する。すなわち、より速い速
度で閃光ランプを駆動する試みはランプが閃光を
失し、弱い閃光を発生し又はそうでなければ誤動
作する。図示した場合に、閃光ランプ46に対す
る最大達成可能閃光速度は5KCにされる。 第1図を再び参照すると、光プロツター12の
制御システム14は細部において変更することが
できるが、基本的にはコンピユータを有する制御
器60を含み、この制御器はX及びY座標方向へ
のシート20に対する光ヘツド34の移動を制御
しかつ別に光ヘツド34の機能を制御しかつ監視
して所望の線をシート20上に露出させる全体的
に既知の構造のものである。モータ26及び30
は制御器60によつて供給されるアナログ信号に
応動するサーボモータであり得るが、図示した場
合では、それらは制御器60からライン62及び
64をそれぞれ通るステツピングパルスをそれぞ
れ供給されるステツプモータである。制御器60
に回転速度計装置66が関連しており、この回転
速度計装置は感光表面22に対する光ヘツド34
の速度に直接関係した値を有する速度信号をライ
ン68に与える。この回転速度計装置は光ヘツド
を移動させるために使用される駆動系の性質に依
存する各種の異なる形をとり得るが、図示した場
合には、例として、回路速度系装置66はライン
62に関連したX−回転速度計70と、ライン6
4に関連したY−回転速度計72とを含む。X−
回転速度計はライン62に現れるステツピングパ
ルスを感知し、かつライン62のステツピングパ
ルスの周波数に関係し従つて光ヘツドをX座標方
向へ駆動する速度に関係する出力信号Xをライン
62に発生する。同様に、Y−回転速度計72は
Y座標方向への光ヘツド34の移動速度に関係し
た信号Yをライン76に発生する。これら二つの
信号X及びYは次に計算回路78中で結合されて
感光表面に対する光ヘツドの合成速度に関係した
値を有する出力電圧信号Vを発生する。この電圧
信号Vは電圧対周波数回路80へ供給され、この
電圧対周波数回路は感光表面に対する光ヘツドの
速度に直線関係した繰返速度を有する一連の速度
パルス82,82を速度信号としてライン68に
発生する。 閃光ランプ46は感光表面に対する光プロツタ
−34の速度に依存する速度で閃光される。これ
を達成するために、ライン68に現れる速度信号
は除数又は除算因子によつて除算されてライン5
2へ供給される閃光速度指令信号を発生する。第
1図のシステムでは、この除算は記憶装置88に
よつてライン86を通して供給される除算因子を
使用する除算回路84によつて行われる。記憶装
置88は孔輪40の孔44,44と1対1基準で
関連した複数個の除算因子を格納し、かつライン
52に現れる孔選択信号によつて特定の孔を選択
してその孔に関連した除算因子をライン86を通
して除算回路84へ供給する時に作動する。 光ヘツドの与えられた移動速度に対して閃光ラ
ンプを閃光させる速度との関連において選択され
た孔の寸法は光点直径当たりに発生される閃光の
数を決定し、このため各選択された孔について記
憶装置88によつて除算回路84へ送られる除算
因子は露出される線に沿う移動の各直径について
発生される閃光数について正確な値を設定する。
好ましくは、記憶装置はその中に格納される情報
が操作者の意志で容易に変化されて各孔と関連す
る除算因子の値を変更し得るように構成されてい
る。このため、第1図に示したように、記憶装置
は操作者が格納された情報を変化させ得るキーボ
ード90又は同様の装置をそれと関連させて有す
る。 各選択された孔についての除算因子を除算回路
84に供給することに加えて、記憶装置88は、
各選択された孔について、ライン92上の速度制
限信号を制御器60へ提供する。この速度制限信
号は、光ヘツド34を感光表面22に対して駆動
する制限速度に直接関係した値を有するデイジタ
ル符号化された量のような大きさの変数を有す
る。この制限速度は、光ヘツドが制限速度で駆動
される時に閃光ランプが最大達成可能閃光速度に
等しい速度で又はそれにより僅かに遅い速度で閃
光されるように、選択された孔の寸法、除算因子
及び閃光ランプの最大達成可能閃光速度に関係付
けられている。このため、各選択された孔につい
て、光ヘツドは閃光ランプの最大達成可能閃光速
度及び露出される線の所望の質を考慮してできる
だけ最大速度に近い速さで駆動される。 記憶装置88は複数個の孔に対する複数個の除
算因子を別々に格納(記憶)しかつ孔に対する複
数個の速度制限信号を別々に格納することがで
き、又はそれを記憶装置に格納された他の量から
上記因子及び信号の一つ又は他の一つを計算する
計算回路を含むことができる。選択された孔の寸
法、光ヘツドの最大達成可能速度又は回転速度及
び閃光ランプの最大達成可能閃光速度が与えられ
ると、(1)除新因子、(2)速度制限信号及び(3)光点当
たりの閃光数は、これら三つの量の一つだけを選
択して記憶装置に格納することを必要とし、他の
二つの値を選択された一つから計算し得るように
相互関係付けられる。 除算回路84の設計の簡単化するために、除算
因子は好ましくは整数に限定されかつ第一に操作
者によつて直接に変更される量である。 与えられた孔と共に使用する所望の除算因子が
与えられると、孔に関連した速度制限は次式で求
められる。 VL=DF・VHn・FLn/FTn (式1) 式中、 VL=与えられた孔についての感光表面に対する
光ヘツドの速度制限(インチ/分)、 DF=除算因子 VHn=感光表面に対する光ヘツドの最大達成可
能速度(トレース速度)(インチ/分)、 FLn=閃光ランプの最大達成可能閃光速度(閃光
数/秒)、 FTn=シートに対する光ヘツドの速度パルスの繰
返速度(パルス数/達成可能速度(VHn))、 である。 また、与えられた孔と共に使用する除算因子が
あたえられると、それが発生する光点直径当たり
の閃光数は次式によつて与えられる。 N=FTn・D・60/VHn・DF (式2) 式中、 N=光点直径当りの閃光数、 D=光点直径(インチ)、 である。 最大達成可能閃光速度FLnを5KCとし、最大ト
レース速度VHnを91440mm/分(3600インチ/
分)とし、回転速度計の最大出力FTnを450KCと
すると、一組の孔に関連した除算因子、速度制限
及び光点直径当たりの閃光数の典型的な表は例え
ば次の通りである。
よつて線を感光表面上に露出するための光プロツ
ター及び同様の装置に関し、かつ特に多数の異な
る寸法の孔の一つを閃光ランプと共に使用して露
出される線の幅を制御しかつ選択された孔につい
ての線の各増分長さを露出するために使用される
閃光の数を設定しかつ好ましくは変化して作られ
る線の質を制御するようにした装置及び方法に関
する。 本発明の装置及び方法は線を合成するために感
光表面上へ通常は円形の複数個の重合う光点を投
射する閃光ランプ及び関連した孔を使用して線を
感光表面上に露出するいろいろな場合に有用であ
る。よく知られている適用例は感光表面を有する
材料のシートをテーブルの支持表面に保持すると
共に光ヘツドを感光表面上にX及びY座標方向へ
移動させて線を感光表面上に描く光プロツターで
ある。この光ヘツドの線を描く運動が生じる時、
光ヘツド中の閃光ランプは感光表面上へ投射され
る光点が互いに重合いかつ描かれる線を露出する
ような速度で閃光される。 (従来の技術) 閃光ランプはそれが閃光され得る最大達成可能
閃光速度を有し、かつ全体的に光プロツターの場
合に、特に小さい孔について、プロツターの最大
達成可能閃光速度はプロツターのその速度で駆動
している時に投射される光点の重合いを得るに充
分なだけ速い速度でランプを閃光し得るような速
度である。この問題は、異なる寸法の孔の群のど
の一つについても光ヘツドを感光表面に対して相
対的に駆動する速度を、その群の最小の孔で適当
な線を露出し得る速度に制限することによつて過
去に扱われており、この場合、該群の他の孔はそ
れらの一つが選択された孔として使用される時に
線の適当な露出を生じるようにフイルターを取付
けている。すなわち、与えられた寸法範囲をカバ
ーする与えられた群の孔について、光ヘツドは閃
光ランプとの使用に選択される孔にかかわりなく
同じ制限された最大速度で駆動されていた。 与えられた寸法群から選択されるどの孔につい
ても同じ制限された最大速度で光プロツターを駆
動する上記した従来の技術の手順は、該群の最小
の孔を除いて光ヘツドが閃光ランプの最大達成可
能閃光速度によつて与えられる速度より低い最大
速度で駆動されるので、プロツターの処理能力を
減少する欠点を有する。また、従来の技術の構成
では、光ヘツドを異なる速度又は感度の感光表面
に対して又は閃光ランプの出力の時間による劣化
又は交換による変化に対して調節すること及び別
に感光表面の露光を制御することは、そうするこ
とが異なつた孔に関連したフイルターの置換を含
むので、困難である。 また、露出させる線の縁の真直性及び露出の程
度に関する線の質は露出される線の長さの各増分
に対して投射される光点の数又は発生される閃光
の数に依存する。円形の光点について、得られる
質は光点の直径当たりの閃光数によつて示され得
る。小さい幅の線、すなわち0.0508mm(2ミル)
から0.1524mm(6ミル)までの光点から合成され
る線について、許容し得る質の線は多分光点直径
当たり3.5〜5回程の少ない閃光数で作られ得る
が、例えば4.064mm(160ミル)の大きい直径の光
点を使用する時には、直径当たり14回程の多い閃
光数が多分許容し得る線質を作るために必要とさ
れ得る。いずれにしても、光点直径当たりの閃光
数は線質に及ぼす影響を持つておりかつ既知の従
来の技術の光ヘツドでは各孔について光点直径当
たりに発生される閃光の数を個々に設定し又は変
化して質に対する制御を得ることは不可能であつ
た。 線を露出するために使用される光ヘツドはそれ
が関光表面に対して静止して保持されるが個々の
特徴を感光表面上に露出するために一般に使用さ
れている。そのような個々の特徴は一般に「パツ
ド」と言われておりかつしばしば円形の形状を有
する。従来の技術の光プロツターでは、線画の孔
の大部分又は全てがそれらに関連したフイルター
を有しかつパツド閃光の孔の全てがフイルターを
必要としないので、パツド閃光のための与えられ
た寸法の一つの円形孔と線画のための同じ寸法の
一つの孔とを設けることは一般的に必要であつ
た。 (発明が解決しようとする問題点) 本発明の一般的な目的は上記した既知の従来の
技術の光プロツターの欠点を取除いた線露出装置
及び方法を提供することにある。特に、本発明の
目的は、閃光ランプの最大達成可能閃光速度での
又はそれに近い速度での閃光ランプの作動に対応
する最大制限速度で各選択された孔について光ヘ
ツドを駆動することによつて該装置及び方法の処
理能力を大きく増大させた光の閃光による感光表
面上への線の露出装置及び方法を提供することに
ある。 本発明の別の目的は、光点直径又は線長さの他
の増分当たりの発生される閃光数を各孔について
設定を許すことによつて光プロツターによつて露
出される線の質に対して大きな制御を許し、上記
設定が好ましくは光ヘツドを所望の質の変化に、
露光される感光表面の変化に又は他の因子の変化
に対応するように変化し得るようにした前記の特
徴を有する装置及び方法を提供することである。 本発明の更に別の目的は、孔に関連したフイル
ターを必要とせず、このためフイルターの費用を
排除しかつまた各線画孔をパツド閃光孔として使
用し得るようにした前記の特徴を有する装置及び
方法を提供することである。 本発明の他の目的及び利点は添付図面に関連し
た以下の説明及び特許請求の範囲から明らかにな
ろう。 (問題点を解決するための手段及び作用) 本発明は、線を合成するために互いに重合う光
の閃光によつて線を感光表面上へ露出するための
装置及び方法に関する。光ヘツドは感光表面に対
して移動することができかつ閃光ランプと複数個
の異なる寸法の孔とを有し、該孔のいずれか選択
された一つは閃光ランプ及び感光表面の間で移動
されてランプの各閃光によつて露出される光点を
選択された孔の寸法に直接関係した寸法にする。
光ヘツドが感光表面に対して移動する時に、光ヘ
ツド速度に直接に関係した値をもつ速度信号が発
生される。この速度信号は除数すなわち除算因子
によつて除算されて閃光速度指令信号を発生し、
この信号は光ヘツドへ送られて閃光ランプの閃光
速度を制御する。 孔はそれらと1対1基準で関連した複数個の除
算因子を有し、かつ選択された孔と関連した除算
因子は除算作用を速度信号に行つて閃光速度指令
信号を発生するために使用される除算因子であ
る。これは光点直径当たりの閃光数を各孔につい
て個個に設定させる。 また、本発明は各孔によつて発生される線の質
に操作者の正確な制御を与えるように除算因子を
操作者の意志によつて容易に変化し得るコンピユ
ータの記憶装置又は他の手段によつて複数個の除
算因子を得ることにある。 本発明は最大達成可能閃光速度を有する閃光ラ
ンプにありかつ閃光ランプの最大達成可能閃光速
度での又はそれより僅かに遅い速度での閃光速度
で閃光ランプを作動する速度まで光ヘツドの速度
を制限するために使用される速度制限量又は信号
を例えばコンピユータ記憶装置によつて各孔に関
連させるための装置にある。 (実施例及び発明の効果) 本発明を具現化した装置が第1図に10で全体的
に示されておりかつ基本的に光プロツター12及
び関連した制御システム14を有する。 光プロツター12は向上き関光表面22を有す
るシート20を支持する上向き水平支持表面18
を有するテーブル16を含む。X−シヤリツジ2
4は関連した駆動モータ26によつて図示したX
座標方向へ移動することができる。例えば、駆動
モータ26は、キヤリツジ24の両端に配置され
かつそれぞれがテーブルの関連した側縁に沿つて
延びるラツクに係合する二つのピニオン(図示す
ぜ)と一致して回転することができる。X−キヤ
リツジ24はY−キヤリツジ28を図示したY座
標方向へX−キヤリツジに対して相対的に移動し
得るように支持し、そのような運動のための動力
は例えばキヤリツジ24によつて支持された関連
したモータ30であり、それはキヤリツジ24に
よつて支持された親ねじ32を廻す。光ヘツド3
4はY−キヤリツジ28によつて支持されており
かつ感光表面22上へ光点36を繰返し投射する
閃光様式で作動し得る。それ故、キヤリツジ24
及びキヤリツジ28X及びY座標方向へ同時に駆
動することによつてシート20に対して光ヘツド
34を所望の線またはトレース(痕跡)に沿つて
移動させることによつて、光ヘツドが光点を繰返
し投射するように作動される間に、線38のよう
な線が、感光表面22上に露出されるが、但し感
光表面に対する光ヘツドの速度は投射された光点
が感光表面上で互いに重合うように光ヘツドの閃
光速度を関係付けられている。 感光表面22上への線の露出は通常は印刷回路
マスクの図形のような若干の種類の図形をシート
20上に作るためになされ、かつそのような図形
は通常は多くの異なる幅の線の画を含む。異なる
幅の線を露出させるために、光ヘツド34は多数
の異なる寸法の孔を有し、そのいずれか一つが閃
光ランプ及び感光表面の間に選択的に配置されて
ランプの各閃光によつて露出される光点36の寸
法を制御する。孔を選択する構成及び様式は大き
く変更し得る。例として第2図は光ヘツド34の
部分を形成しかつその外周部にそつて配置された
複数個の孔板42,42を含む孔輪40によつて
提供される孔を示しており、各孔板42は孔44
を有し、その寸法は孔板によつて変化している。
孔輪の上方に配置された閃光ランプ(電球)46
が孔輪40に関連してある。孔輪は入力ライン5
2に現れる孔選択信号に応答してモータ駆動され
る孔選択機構50によつて垂直軸線48の周りに
回転して孔輪の孔44,44の選択された一つを
各閃光中に閃光ランプによつて放射される光の経
路中へ導くことができる。選択された孔44を通
過した光は次に投射レンズ系54によつてシート
20の感光表面22上へ投射され、それにより集
束された光点36はランプの各閃光中の感光表面
上へ作像され、光点は選択された孔44の寸法に
直接に関係した寸法を有する。本発明の広い観点
内では、孔はいろいろな形状を有するが、通常の
場合には図示したように孔は形状が円形であるの
で、それらの寸法は以下で行つているようにそれ
らの直径によつて又は孔によつて露出される光点
の直径によつて規定され得る。以下、孔の「寸
法」は感光表面22上に生じる光点36の直径を
とる。すなわち、0.762mm(30ミル)の孔は0.762
mm(30ミル)の直径を有する光点を作る孔であ
る。 第2図に示したように、閃光ランプ46の閃光
は入力ライン58に現れる閃光速度指令信号によ
つて指令される速度をランプ46を閃光させる閃
光回路56によつて制御される。この点で、その
閃光回路との組合せにおいて閃光ランプは最大達
成可能閃光速度を有する。すなわち、より速い速
度で閃光ランプを駆動する試みはランプが閃光を
失し、弱い閃光を発生し又はそうでなければ誤動
作する。図示した場合に、閃光ランプ46に対す
る最大達成可能閃光速度は5KCにされる。 第1図を再び参照すると、光プロツター12の
制御システム14は細部において変更することが
できるが、基本的にはコンピユータを有する制御
器60を含み、この制御器はX及びY座標方向へ
のシート20に対する光ヘツド34の移動を制御
しかつ別に光ヘツド34の機能を制御しかつ監視
して所望の線をシート20上に露出させる全体的
に既知の構造のものである。モータ26及び30
は制御器60によつて供給されるアナログ信号に
応動するサーボモータであり得るが、図示した場
合では、それらは制御器60からライン62及び
64をそれぞれ通るステツピングパルスをそれぞ
れ供給されるステツプモータである。制御器60
に回転速度計装置66が関連しており、この回転
速度計装置は感光表面22に対する光ヘツド34
の速度に直接関係した値を有する速度信号をライ
ン68に与える。この回転速度計装置は光ヘツド
を移動させるために使用される駆動系の性質に依
存する各種の異なる形をとり得るが、図示した場
合には、例として、回路速度系装置66はライン
62に関連したX−回転速度計70と、ライン6
4に関連したY−回転速度計72とを含む。X−
回転速度計はライン62に現れるステツピングパ
ルスを感知し、かつライン62のステツピングパ
ルスの周波数に関係し従つて光ヘツドをX座標方
向へ駆動する速度に関係する出力信号Xをライン
62に発生する。同様に、Y−回転速度計72は
Y座標方向への光ヘツド34の移動速度に関係し
た信号Yをライン76に発生する。これら二つの
信号X及びYは次に計算回路78中で結合されて
感光表面に対する光ヘツドの合成速度に関係した
値を有する出力電圧信号Vを発生する。この電圧
信号Vは電圧対周波数回路80へ供給され、この
電圧対周波数回路は感光表面に対する光ヘツドの
速度に直線関係した繰返速度を有する一連の速度
パルス82,82を速度信号としてライン68に
発生する。 閃光ランプ46は感光表面に対する光プロツタ
−34の速度に依存する速度で閃光される。これ
を達成するために、ライン68に現れる速度信号
は除数又は除算因子によつて除算されてライン5
2へ供給される閃光速度指令信号を発生する。第
1図のシステムでは、この除算は記憶装置88に
よつてライン86を通して供給される除算因子を
使用する除算回路84によつて行われる。記憶装
置88は孔輪40の孔44,44と1対1基準で
関連した複数個の除算因子を格納し、かつライン
52に現れる孔選択信号によつて特定の孔を選択
してその孔に関連した除算因子をライン86を通
して除算回路84へ供給する時に作動する。 光ヘツドの与えられた移動速度に対して閃光ラ
ンプを閃光させる速度との関連において選択され
た孔の寸法は光点直径当たりに発生される閃光の
数を決定し、このため各選択された孔について記
憶装置88によつて除算回路84へ送られる除算
因子は露出される線に沿う移動の各直径について
発生される閃光数について正確な値を設定する。
好ましくは、記憶装置はその中に格納される情報
が操作者の意志で容易に変化されて各孔と関連す
る除算因子の値を変更し得るように構成されてい
る。このため、第1図に示したように、記憶装置
は操作者が格納された情報を変化させ得るキーボ
ード90又は同様の装置をそれと関連させて有す
る。 各選択された孔についての除算因子を除算回路
84に供給することに加えて、記憶装置88は、
各選択された孔について、ライン92上の速度制
限信号を制御器60へ提供する。この速度制限信
号は、光ヘツド34を感光表面22に対して駆動
する制限速度に直接関係した値を有するデイジタ
ル符号化された量のような大きさの変数を有す
る。この制限速度は、光ヘツドが制限速度で駆動
される時に閃光ランプが最大達成可能閃光速度に
等しい速度で又はそれにより僅かに遅い速度で閃
光されるように、選択された孔の寸法、除算因子
及び閃光ランプの最大達成可能閃光速度に関係付
けられている。このため、各選択された孔につい
て、光ヘツドは閃光ランプの最大達成可能閃光速
度及び露出される線の所望の質を考慮してできる
だけ最大速度に近い速さで駆動される。 記憶装置88は複数個の孔に対する複数個の除
算因子を別々に格納(記憶)しかつ孔に対する複
数個の速度制限信号を別々に格納することがで
き、又はそれを記憶装置に格納された他の量から
上記因子及び信号の一つ又は他の一つを計算する
計算回路を含むことができる。選択された孔の寸
法、光ヘツドの最大達成可能速度又は回転速度及
び閃光ランプの最大達成可能閃光速度が与えられ
ると、(1)除新因子、(2)速度制限信号及び(3)光点当
たりの閃光数は、これら三つの量の一つだけを選
択して記憶装置に格納することを必要とし、他の
二つの値を選択された一つから計算し得るように
相互関係付けられる。 除算回路84の設計の簡単化するために、除算
因子は好ましくは整数に限定されかつ第一に操作
者によつて直接に変更される量である。 与えられた孔と共に使用する所望の除算因子が
与えられると、孔に関連した速度制限は次式で求
められる。 VL=DF・VHn・FLn/FTn (式1) 式中、 VL=与えられた孔についての感光表面に対する
光ヘツドの速度制限(インチ/分)、 DF=除算因子 VHn=感光表面に対する光ヘツドの最大達成可
能速度(トレース速度)(インチ/分)、 FLn=閃光ランプの最大達成可能閃光速度(閃光
数/秒)、 FTn=シートに対する光ヘツドの速度パルスの繰
返速度(パルス数/達成可能速度(VHn))、 である。 また、与えられた孔と共に使用する除算因子が
あたえられると、それが発生する光点直径当たり
の閃光数は次式によつて与えられる。 N=FTn・D・60/VHn・DF (式2) 式中、 N=光点直径当りの閃光数、 D=光点直径(インチ)、 である。 最大達成可能閃光速度FLnを5KCとし、最大ト
レース速度VHnを91440mm/分(3600インチ/
分)とし、回転速度計の最大出力FTnを450KCと
すると、一組の孔に関連した除算因子、速度制限
及び光点直径当たりの閃光数の典型的な表は例え
ば次の通りである。
【表】
【表】
上記した表の条件を仮定して、0.762mm(30ミ
ル)孔(光点寸法)で線を引く場合及び2.032mm
(80ミル)孔(光点寸法)で別の線を引く場合の
第1図のシステムの作動は、第3図は図示され
る。0.762mm(30ミル)孔で引いた線を考察する
と、プロツター34は線の始端において零速度で
出発する。速度は、プロセスの「上向傾斜」部分
中に、記憶装置88によつてコンピユータ60へ
供給される速度制限信号によつて指令されるよう
に25400mm/分(1000インチ/分)の速度制限速
度に達するまで、制御器60によつて徐々に増加
される。点Aはこの制限速度に達することを示
し、かつこの制限速度は点Bに達するまで維持さ
れ、その後プロツター速度は線の端が点Cに到達
するまで徐々に減少し、点Bから点Cまでの段階
はプロセスの「下向傾斜」部分である。本発明の
特徴は、この線引プロセスの全ての段階中に、す
なわち「上向傾斜」部分OA中、一定速度部分
AB中、及び「下向傾斜」部分BC中に、光点直
径当たりの閃光数が一定のままであり、第3図の
0.762mm(30ミル)孔についての光点直径当たり
の閃光数は9であることである。 第3図に例示した2.032mm(80ミル)孔の場合
に、線引プロセスは光ヘツドがより高い制限速度
に達することを除いて0.762mm(30ミル)孔の場
合の線引プロセスと実質的に同じてある。すなわ
ち、2.032mm(80ミル)孔で線を引く時、光プロ
ツター34は、記憶装置88によつて制御器60
へ供給される速度制限信号によつて指令される
50800mm/分(2000インチ/分)の制限速度に達
するまで点O及びDの間で速度の徐々の増加を受
ける。この制限速度は点Dまで維持され、その後
光ヘツド速度は点E及びFの間で徐々に減少され
る。2.032mm(80ミル)孔によるこの線引きの全
ての段階中に、露出は表に示したように光点直径
当たり12閃光の速度で生じる。勿論、除算因子を
上の表に示した除算因子から変えることによつ
て、他の光点直径当たりの閃光数をどの孔につい
ても得ることができ、その孔によつて露出される
線の質を変えることができる。
ル)孔(光点寸法)で線を引く場合及び2.032mm
(80ミル)孔(光点寸法)で別の線を引く場合の
第1図のシステムの作動は、第3図は図示され
る。0.762mm(30ミル)孔で引いた線を考察する
と、プロツター34は線の始端において零速度で
出発する。速度は、プロセスの「上向傾斜」部分
中に、記憶装置88によつてコンピユータ60へ
供給される速度制限信号によつて指令されるよう
に25400mm/分(1000インチ/分)の速度制限速
度に達するまで、制御器60によつて徐々に増加
される。点Aはこの制限速度に達することを示
し、かつこの制限速度は点Bに達するまで維持さ
れ、その後プロツター速度は線の端が点Cに到達
するまで徐々に減少し、点Bから点Cまでの段階
はプロセスの「下向傾斜」部分である。本発明の
特徴は、この線引プロセスの全ての段階中に、す
なわち「上向傾斜」部分OA中、一定速度部分
AB中、及び「下向傾斜」部分BC中に、光点直
径当たりの閃光数が一定のままであり、第3図の
0.762mm(30ミル)孔についての光点直径当たり
の閃光数は9であることである。 第3図に例示した2.032mm(80ミル)孔の場合
に、線引プロセスは光ヘツドがより高い制限速度
に達することを除いて0.762mm(30ミル)孔の場
合の線引プロセスと実質的に同じてある。すなわ
ち、2.032mm(80ミル)孔で線を引く時、光プロ
ツター34は、記憶装置88によつて制御器60
へ供給される速度制限信号によつて指令される
50800mm/分(2000インチ/分)の制限速度に達
するまで点O及びDの間で速度の徐々の増加を受
ける。この制限速度は点Dまで維持され、その後
光ヘツド速度は点E及びFの間で徐々に減少され
る。2.032mm(80ミル)孔によるこの線引きの全
ての段階中に、露出は表に示したように光点直径
当たり12閃光の速度で生じる。勿論、除算因子を
上の表に示した除算因子から変えることによつ
て、他の光点直径当たりの閃光数をどの孔につい
ても得ることができ、その孔によつて露出される
線の質を変えることができる。
第1図は本発明を具現化する装置を示す概略図
であり、第2図は第1図の装置の光プロツター及
び感光表面の一部分を示す斜視図であり、第3図
は二つの異なる孔についての第1図の装置の速度
対時間特性の図形による図である。 10……本発明を具現化した装置、12……光
プロツター、14……制御システム、16……テ
ーブル、20……シート、22……感光表面、2
4……X−キヤリツジ、26……駆動モータ、2
8……Y−キヤリツジ、30……モータ、32…
…親ねじ、34……光ヘツド、36……光点、3
8……線、40……孔輪、42……孔板、44…
…孔、46……閃光ランプ、50……孔選択機
構、54……投射レンズ、56…閃光回路、60
……制御器、66……回転速度計装置、70……
X−回転速度計、72……Y−回転速度計、78
……計算回路、80……電圧対周波数回路、82
……速度パルス、84……除算回路、88……記
憶装置、90……キーボード。
であり、第2図は第1図の装置の光プロツター及
び感光表面の一部分を示す斜視図であり、第3図
は二つの異なる孔についての第1図の装置の速度
対時間特性の図形による図である。 10……本発明を具現化した装置、12……光
プロツター、14……制御システム、16……テ
ーブル、20……シート、22……感光表面、2
4……X−キヤリツジ、26……駆動モータ、2
8……Y−キヤリツジ、30……モータ、32…
…親ねじ、34……光ヘツド、36……光点、3
8……線、40……孔輪、42……孔板、44…
…孔、46……閃光ランプ、50……孔選択機
構、54……投射レンズ、56…閃光回路、60
……制御器、66……回転速度計装置、70……
X−回転速度計、72……Y−回転速度計、78
……計算回路、80……電圧対周波数回路、82
……速度パルス、84……除算回路、88……記
憶装置、90……キーボード。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 閃光によつて線を感光表面上に露出する装置
であつて、感光表面を有する材料を支持する手段
と、閃光ランプ及び複数個の異なる寸法の孔を有
し、該孔の選択された一つが前記閃光ランプ及び
前記感光表面の間に配置されて閃光時に前記閃光
ランプにより前記選択された孔の寸法の直接関係
する寸法を有する光点を前記表面上に露出する光
ヘツドと、光点を前記表面上に露出するために前
記ランプと共に使用される前記複数個の孔の一つ
を選択する手段と、前記材料及び前記光ヘツドを
互いに相対的に移動させて前記光ヘツドにより前
記感光表面上に露出される線をトレースする駆動
手段とを含む装置において、前記感光表面及び光
ヘツドが前記駆動手段によつて互いに相対的に駆
動される速度に直接関係する値を有する速度信号
(V)を発生する手段70,72及び78と、閃
光速度指令信号を発生するために除算因子によつ
て前記速度信号を除算する除算器84と、前記閃
光速度指令信号に直接関係する速度で前記閃光ラ
ンプ46を閃光させる手段56と、互いに独立し
かつ孔によつて変化し得る複数個の除算因子を前
記孔に1対1基準で関連させ、かつ前記選択装置
によつて選択された孔に関連した除算因子を前記
除算器と共に使用する手段60及び88)とを含
むことを特徴とする、閃光によつて線を感光表面
上に露出する装置。 2 特許請求の範囲第1項記載の線を感光表面上
に露出する装置において、前記孔のそれぞれに関
連した除算因子を前記孔の他の孔に関連した除算
因子と無関係に変化させる手段90を含むことを
特徴とする装置。 3 特許請求の範囲第1項記載の装置において、
前記閃光ランプ46が最大達成可能閃光速度を有
し、かつ各選択された孔44について前記駆動手
段が前記感光表面及び前記光ヘツドを互いに駆動
する速度を前記閃光ランプが前記閃光速度指令信
号によつて指令されて前記最大達成可能閃光速度
で又はそれ以下の速度で閃光する速度に制限する
手段88を含むことを特徴とする装置。 4 閃光によつて線を感光表面上に露出する装置
であつて、感光表面を有する材料を支持する手段
と、閃光ランプ及び複数個の異なる寸法の孔を有
し、該孔の選択された一つが前記閃光ランプ及び
前記感光表面の間に配置されて閃光時に前記閃光
ランプにより前記選択された孔の寸法に直接関係
する寸法を有する光点を前記表面上に露出する光
ヘツドと、光点を前記表面上に露出するために前
記ランプと共に作用される前記複数個の孔の一つ
を選択する手段と、前記材料及び前記光ヘツドを
互いに相対的に移動させて前記光ヘツドにより前
記感光表面上に露出される線をトレースする手段
と、前記ランプに連結されて前記ランプを当該回
路へ供給される各閃光指令パルスに応答して一回
閃光させるランプ閃光回路とを含む装置におい
て、前記感光表面及び光ヘツドが前記駆動手段に
よつて互いに相対的に駆動される速度に直接関係
した繰返速度を有する一連の速度パルス82を発
生するための回転速度計手段70,72及び78
と、前記一連の速度パルスを除算因子で除算して
前記ランプ閃光回路へ供給される一連の閃光指令
パルス出力を発生する除算器84と、互いに独立
しかつ孔から孔へ変化し得る複数個の除算因子を
前記孔と1対1基準で関連させかつ前記選択手段
によつて選択された孔に関連した除算因子を前記
除算器と共に使用する手段60及び88とを含む
ことを特徴とする、閃光によつて線を感光表面上
に露出する装置。 5 特許請求の範囲第4項記載の線を感光表面上
に露出する装置において、前記孔のそれぞれに関
連した除算因子を前記孔の他の孔と関連した除算
因子と無関係に変化させる手段90を含むことを
特徴とする装置。 6 特許請求の範囲第4項記載の線を感光表面上
に露出する装置において、複数個の除算因子を前
記孔に関連させる前記手段が除算因子を前記光ヘ
ツドの前記複数個の孔のそれぞれについて記憶す
るコンピユータ記憶装置88を有することを特徴
とする装置。 7 特許請求の範囲第4項記載の線を感光表面上
に露出する装置において、前記コンピユータ記憶
装置88が前記記憶された除算因子の変更を可能
にし、かつ前記記憶装置に記憶される除算因子の
値を操作者の意志で変化させるように前記コンピ
ユータ記憶装置に連結され得るキーボード90を
含む手段を有することを特徴とする装置。 8 特許請求の範囲第4項記載の線を感光表面上
に露出する装置において、前記閃光ランプ46が
最大達成可能閃光速度を有し、前記材料及び光ヘ
ツドを互いに相対的に移動させる前記駆動手段が
大きさの変数を有する速度制限信号に応動し、か
つ前記駆動手段が前記光ヘツドを前記材料に対し
て移動し得る速度を前記大きさの変数に直接関係
した値に制限するように作動し、かつ大きさの変
数を有する速度制限信号を前記孔のそれぞれに関
連させる手段88を有し、前記速度制限信号の前
記大きさの変数の値が前記光ヘツド及び前記感光
表面を前記速度制限信号によつて指令された制限
速度で互いに相対的に移動させる時に前記閃光ラ
ンプが前記最大達成可能閃光速度で又はそれ以下
の速度で閃光するように前記速度制限信号によつ
て指令されるように同じ孔に関連した除算因子に
関係付けられることを特徴とする装置。 9 特許請求の範囲第8項記載の装置において、
複数個の除算因子を前記孔に関連させる前記手段
及び速度制限信号を前記孔のそれぞれに関連させ
る手段が除算因子及び速度制限信号を前記光ヘツ
ドの前記複数個の孔のそれぞれについて記憶する
コンピユータ記憶装置88を有することを特徴と
する装置。 10 線を感光表面上に露出する方法であつて、
感光表面を設けるステツプと、閃光ランプ及び複
数個の異なる寸法の孔を有し、該孔の選択された
一つが前記閃光ランプ及び前記感光表面の間に配
置されて閃光時に前記閃光ランプにより前記選択
された孔の寸法に直接関係する寸法を有する光点
を前記表面上に露出する光ヘツドを設けるステツ
プと、前記閃光ランプと共に使用する前記孔の一
つを選択するステツプと、前記感光表面及び前記
光ヘツドを互いに相対的に駆動して前記光ヘツド
により前記表面上に露出される線をトレースする
ステツプとを含む方法において、前記光ヘツド及
び表面の互いに相対的な前記移動中に前記光ヘツ
ド及び表面の互いに相対的な速度に直接関係する
値を有する速度信号(V)を発生し、互いに独立
しかつ孔によつて変化し得る複数個の除算因子を
前記孔に1対1基準で関連させ、閃光速度指令信
号を発生するために前記閃光ランプと共に使用さ
れる選択された孔に関連した除算因子によつて前
記速度信号を除算し、かつ前記閃光速度指令信号
に直接関係した速度で前記閃光ランプを閃光させ
ることを特徴とする、線を感光表面上に露出する
方法。 11 特許請求の範囲第10項記載の線を感光表
面上に露出する方法において、前記光ヘツド及び
表面を互いに相対的に移動させる速度を、前記ラ
ンプが前記閃光指令信号によつてその最大達成可
能閃光速度で又はそれ以下の速度で閃光するよう
に指令される速度に制限することを特徴とする方
法。 12 線を感光表面上に露出する方法であつて、
感光表面を設けるステツプと、閃光ランプ及び複
数個の異なる寸法の孔を有し、該孔の選択された
一つが前記閃光ランプ及び前記シートの間に配置
されて閃光時に前記閃光ランプにより前記選択さ
れた孔の寸法に直接関係する寸法を有する光点を
前記シート上に露出する光ヘツドを設けるステツ
プ、前記閃光ランプと共に使用する前記孔の一つ
を選択するステツプと、前記光ヘツド及び前記感
光表面を互いに相対的に駆動して前記光ヘツドに
より前記表面上に露出される線をトレースするス
テツプとを含む方法において、前記光ヘツド及び
前記表面の互いに相対的な前記移動中に前記光ヘ
ツド及び前記表面の互いに相対的な速度に直接関
係する値を有する速度信号を発生し、互いに独立
しかつ孔によつて変化し得る複数個の除算因子を
前記孔に1対1基準で関連させ、一連の閃光指令
パルス出力を発生するために前記閃光ランプと共
に使用される選択された孔に関連した除算因子に
よつて前記一連の速度パルスを除算し、かつ前記
閃光指令パルスのそれぞれに応じて前記閃光ラン
プを閃光させることを特徴とする、線を感光表面
上に露出する方法。 13 特許請求の範囲第12項記載の線を感光表
面上に露出する方法において、前記光ヘツド及び
表面を互いに相対的に移動させる速度を、前記ラ
ンプが前記閃光指令パルスによつてその最大達成
可能閃光速度で又はそれ以下の速度で閃光するよ
うに指令される速度に制限することを特徴とする
方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/890,346 US4760412A (en) | 1986-07-25 | 1986-07-25 | Apparatus and method for exposing lines on a photosensitive surface |
| US890346 | 1986-07-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6369699A JPS6369699A (ja) | 1988-03-29 |
| JPH0360680B2 true JPH0360680B2 (ja) | 1991-09-17 |
Family
ID=25396557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62185311A Granted JPS6369699A (ja) | 1986-07-25 | 1987-07-24 | 線を感光表面上に露出する装置及び方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4760412A (ja) |
| JP (1) | JPS6369699A (ja) |
| DE (1) | DE3724195C2 (ja) |
| FR (1) | FR2603720A1 (ja) |
| GB (1) | GB2193002B (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4849777A (en) * | 1988-02-22 | 1989-07-18 | The Gerber Scientific Instrument Company | Lamp driver scheme |
| US5291392A (en) * | 1992-02-19 | 1994-03-01 | Gerber Systems Corporation | Method and apparatus for enhancing the accuracy of scanner systems |
| KR100563283B1 (ko) * | 2004-05-20 | 2006-03-27 | (주)브레인유니온시스템 | 액상형 물질 도포기의 기어 박스 고정 장치 |
| US20070287091A1 (en) * | 2006-06-12 | 2007-12-13 | Jacobo Victor M | System and method for exposing electronic substrates to UV light |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3617125A (en) * | 1969-04-24 | 1971-11-02 | Ncr Co | Automatic generation of microscopic patterns in multiplicity at final size |
| US4209239A (en) * | 1977-09-14 | 1980-06-24 | The Gerber Scientific Instrument Company | Plotting apparatus having an adjustable plotting head |
| US4249807A (en) * | 1979-05-14 | 1981-02-10 | The Gerber Scientific Instrument Company | Color plotting device and method |
| US4343540A (en) * | 1981-02-17 | 1982-08-10 | The Gerber Scientific Instrument Company | Plotting apparatus and method utilizing encoded optical means |
| US4416522A (en) * | 1982-01-25 | 1983-11-22 | The Gerber Scientific Instrument Company | Daylight photoplotting and film therefor |
-
1986
- 1986-07-25 US US06/890,346 patent/US4760412A/en not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-07-07 GB GB8715903A patent/GB2193002B/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-22 DE DE3724195A patent/DE3724195C2/de not_active Expired
- 1987-07-23 FR FR8710471A patent/FR2603720A1/fr not_active Withdrawn
- 1987-07-24 JP JP62185311A patent/JPS6369699A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2193002B (en) | 1990-05-02 |
| JPS6369699A (ja) | 1988-03-29 |
| GB8715903D0 (en) | 1987-08-12 |
| US4760412A (en) | 1988-07-26 |
| FR2603720A1 (fr) | 1988-03-11 |
| DE3724195C2 (de) | 1988-11-10 |
| DE3724195A1 (de) | 1988-02-04 |
| GB2193002A (en) | 1988-01-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0738556B1 (en) | Laser cutter and method for cutting sheet material | |
| US4808790A (en) | Process and apparatus for the production of a screen printing stencil | |
| US6211948B1 (en) | Process and apparatus for photomechanical production of structured surfaces, especially for irradiation of offset press plates | |
| US4416522A (en) | Daylight photoplotting and film therefor | |
| JP2018520379A (ja) | ビームディレクタ | |
| US4249807A (en) | Color plotting device and method | |
| US5767477A (en) | Laser marking apparatus for marking twin-line messages | |
| JPH0360680B2 (ja) | ||
| US4231659A (en) | Method of making an overlay mask and a printing plate therefrom | |
| US3695154A (en) | Variable aperture photoexposure device | |
| US3818496A (en) | Illumination control system | |
| EP0116936A2 (en) | Method for recording data and camera for creating a data record on a photosensitive medium | |
| JPH0144520B2 (ja) | ||
| US3746446A (en) | Exposure control system and method for photoplotters | |
| US3927411A (en) | Adaptive illumination control device | |
| US3702732A (en) | Exposure control apparatus and method utilizing time vs intensity tradeoff servo system | |
| US3721164A (en) | Photoelectric device for recording symbols and for drawing small diagrams at high recording and drawing speed for use in an automatic drafting machine | |
| JP2653782B2 (ja) | レーザ描画装置 | |
| US4849777A (en) | Lamp driver scheme | |
| EP0104285A1 (en) | Method and apparatus for producing images on radiation sensitive recording mediums | |
| US4123763A (en) | Photodrafting equipment | |
| US3747486A (en) | Light-optical apparatus for drafting very small figures with very fine line widths and/or extremely short line lengths | |
| US4577113A (en) | Two axis centering system with oscillating photocells | |
| JPS61273470A (ja) | ワイヤ巻取装置 | |
| JPS6144847Y2 (ja) |