JPH0360732A - 微粉末の製造方法と装置ならびにその利用方法 - Google Patents

微粉末の製造方法と装置ならびにその利用方法

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、微粉末の製造とくにメツキ、溶射。
ＣＶＤ、ＰＶＩ）、スプレー形成法等のように、基体表
面に積層するのに適した各種金属化合物、セラミックス
等の微粉末の製造方法と装置、およびその直接利用によ
り基体上に微粉末を積層する方法に関する。
〔従来の技術〕
従来から、かかる粉末の製造方法として、例えば、実開
昭６０−６０４３０号公報に記載されているように、鉄
やニッケル等の被溶解物を水素ガス、窒素ガス雰囲気中
でのアーク放電部の高温で溶解してアーク加熱により蒸
発させ、壁面に付着させる方法、高周波溶解で高温溶融
物表面から蒸発した蒸気を冷却する方法等が知られてい
る。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、何れの方法も微粉末の多量製造と、鋼板
等への連続積層めっきの場合のように、多量に製出する
微粉末を連続使用に適用することは不可能であった。
また、その利用面から見ると、表面処理やある材料上に
異なる材料を積層する方法としてのメツキは、一般に積
層厚さが厚くなると材料ロスが高くなる。また溶射では
ポーラスなものが生じやすい。ＣＶ’Ｄ、ＰＶＤ等では
、やはり積層厚さが厚くなるとコストが高くなる。さら
にスプレー成形法では、ＩＯμｍ程度の厚さの均一な堆
積は液滴をかなり細かくしないと困難であるし、また、
滑らかな表面を得るのが容易ではない。
本発明において解決しようとする課題は、１μｍ以下の
微粉末を多量に、連続的に、しかも安全に製造する手段
、ならびにその製出工程を直接利用して基材への積層の
ための手段を確立することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の微粉末の製造方法は、相対する反射面を有する
容器内で出発原料を加熱して、同容器内に担送ガスを導
入して加熱微粉体、蒸気、微小液滴として容器外に搬出
することによって課題を解決した。
上記、加熱気化のために相対する反射面を有する容器と
しては、耐火物あるいは耐熱性セラミックス内壁面を有
する回転円筒体とすることも可能である。
また、被溶解物がチタンの場合のように、溶解温度が高
く、電子ビーム照射の場合のように固体材料から直接気
化物を得る場合には被気化材を板状に形成し、これを熱
反射板として使用することも可能である。
〔作用〕
原材料を溶融気化させる場合には溶融物にガスを吹き込
むと、より効率良く溶融物の蒸気および微小液滴とガス
を噴出させることができる。
この方法で微粉末を製造するときには、単に、室温ある
いは粉末の融点以下の雰囲気中に、上記の蒸気、微小液
滴、ガスの混合物を噴出させれば良い。
また、表面処理や堆積物を直接得るのに利用するために
は、上記の蒸気、微小液滴、ガスの混合物を凝固する以
前に基板上に吹きつけることによって連続処理が可能と
なる。
さらに、本発明の方法に基づいて化学組成の異なる複数
の蒸気、微小液滴噴霧流を作り、同一基板上に交互に積
層させれば多層膜を得ることができる。
この方法では、高温加熱面が互いに向き合っており、熱
放射が有効に素材の表面加熱に利用され、効率良く蒸気
を得ることができる。
さらにガスを溶融層に吹き込み、細かい泡として表面か
ら脱出させれば、泡と共に液滴が飛び出し、さらに泡は
蒸気相あるいは気相の核としても作用して蒸発効率を上
げると共に、蒸気と共に微細液滴をも効率良く生成させ
ることができる。
またさらに、高温加熱面として回転円筒体を使用した場
合には、素材が溶融しても遠心力で溶融素材は容器内に
保持されることになる。また、円筒状の容器であるから
、円筒軸方向に蒸気、液滴を噴出させ易く、必要に応じ
て、一端からガスを供給すれば噴出角度を小さくできる
。この噴出方向の制御は微粉末の捕集を容易にするし、
表面処理、堆積の場合には基板の姿勢の自由度が増える
ため大きな利点となる。例えば、従来の蒸着法では蒸発
源の上部に基板を設置する必要があり、薄板の両面に同
時に蒸着することは困難であるが、本方法では左右から
同時に蒸着できる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を示す添付図に基づいて説明する
。
第１図は本発明の微粉末製造装置■０に積層装置を連結
して、本発明の微粉末製造方法によって得た微粉末を基
体（ｇｌ板Ｓ）上に積層させる例を示す。
同図を参照して、微粉末製造装置ｌＯは枠１に支持され
、図示しないモーターによって回Ｔ＃、駆動するプーリ
ー２と枠ｌに載置された受台３に設けられた軸受け４に
よって回転駆動する回転円筒体５を有する。同回転円筒
体５の枠側端部には回転シール６が設けられ、支持枠１
側の回転シール７とによって完全なシール状態を形成し
ている。
同回転円筒体５内には、先端部分が挟挿されたガス噴き
出し口８を形成し、さらにその側面に複数のガス噴き出
し口９を設けた耐熱セラミックスからなる絶縁パイプ１
１が枠１に固定されている。
その支持枠１側の端部にはアルゴン、窒素等の不活性ガ
ス導入パイプ１２が連結され、この導入ガスＧは回転円
筒体５内、ならびに絶縁パイプｌｌ内を冷却すると共に
、後述の気化物を搬出する担体ガスとしても機能する。
さらに、同絶縁パイプ１ｔの内部には図示しない直流電
源と端子１３を介して接続されたタングステン等ででき
た電極１４が、絶縁体からなる電極支持体１５によって
同絶縁パイプ１１との間にガス通路を形成する間隙を設
けて固定保持されている。
また、回転円筒体５内の先端部には両端にそれぞれ開口
１［ｉ、１７を有する円筒形のるつぼ１８が設けられて
おり、同るつぼ１８の円筒状内面は常に相対する熱エネ
ルギーの反射面として作用する。同るつぼ１８としては
各種セラミックスが利用できるが、チタン等の活性、高
融点材料には水冷銅ハースの使用が都合がよい。
１９は接地電極であって、るつぼ１８内の溶融原料Ｍに
対して電極１４からのアークＡを発生する構造になって
おり、回転円筒体５との間に絶縁体２０を設けてセット
されており、スリップリング２１によって回転円筒体５
０回転に対応できる。
さらに同るつぼ１８の上下側面には溶融原料Ｍの蒸発気
化を促進させるためのバブリングガスの導入部が設けら
れている。同ガス導入部は回転円筒体５外壁に設けられ
、図示しないガス源に通じるガス導管２２と連結された
導入ジャケット２３と、同導入ジャケット２３と連通し
、回転円筒体５とるつぼ１８内の内壁に至る耐熱性の絶
縁ポーラスプラグ２４とからなり、バブリングガスＧを
るつぼ１８内の溶融原料Ｍに導入する。
２５は高温に加熱されるるつぼを冷却して、回転駆動部
や他の設備に影響がないように冷却する冷却機構を示す
。
溶融気化される原材料は、粒状あるいは液状の状態で、
枠１の外方に設けた原料導入部２６から絶縁パイプ１ｔ
の外周空間部を通って、るつぼ１８の端部に開口するシ
ュート２７から供給される。
その供給量の制御は溶融原料Ｍの液面を測定するセンサ
ーがシュート２７の下面に設けられており、るつぼ１８
の下面に形成した溶融原料Ｍの液面を測定して原料の供
給量の制御を行うこともできる。
Ｓはるつぼ１８の外方開口１６に面して設けられ、連続
的に移動する処理鋼板を示すが、微粉末を得るときには
、るつぼ１８の開ロエ６に連続して設置した冷却収納装
置にフィルターを介して微粉末を回収することができる
。
また、上記装置全体を減圧雰囲気中に組み込み、減圧下
で操業することも可能である。
上記構造を有する装置において、原料は供給部から回転
状態にある回転円筒体５の先端に設けられたるつぼ１８
内に供給部２６から供給される。
電極１４に電圧をかけ、電極１４と溶融原料Ｍ間にアー
クＡを発生させる。溶１１ｋｌ料Ｍを流れる電流はスリ
ップリング２１を介して通電される。このアークにより
素材は溶解するが遠心力によりるつぼ１８内に保持され
る。
また、均一なアークが発生しなくても溶融原料Ｍはるつ
ぼ１８の内壁面で均一に加熱され表面から蒸発する。こ
の蒸気は、回転円筒体５の一端のガス供給口から供給さ
れる担体ガスにより、蒸気噴出口から噴出する。また、
溶融した素材にバブリング用ノズルを介してアルゴンガ
ス等を供給して、液面からガスを泡として放出させると
、泡と共に微細液滴が蒸気と一緒に効率良く噴出し、蒸
気噴出口の近くに加熱した基体Ｓを移動させつつ配置し
、ガス供給口から加熱ガスを送り、基板上に蒸気および
液滴を堆積させる。
この装置を使用して、亜鉛微粉末を製出し、これを直接
基体Ｓ上に積層物りとして示すように析出させた。
処理条件は以下のとおりであった。
回転るつぼの内径：　３０ｎｒｍ 回転るつぼの長さ：４０■ 回転数　：　　４００ｒｐｍ アーク電圧；５０ボルト アーク電流＝２０アンペア ガス送風量：　１００Ｎｃ　ｍ”／ｍ　ｉｎこれによっ
て、平均１μｍの亜鉛微粉末が粉末生成速度５００ｇ／
ｈで得られた。
また、るつぼ内の溶融金属にガスバブリングを行ったと
ころ、微粉末生成速度は１０倍となった。
さらに、蒸気噴出口から２０ｍｍの位置に４００℃に加
熱した銅板を置き、平均厚さ１０μｍで鏡面の亜鉛被膜
を形成することができた。
〔発明の効果〕
本発明によって以下の効果を書することができる。
（１）金属、化合物、セラミックス等の微粉末を効率良
く製出することができる。
（２）微粉末の製造に際して得られる加熱微粉末、蒸気
、微小液滴等と担体ガスとの混合物は直接、基材表面へ
と連続積層に適用することができ新材料の開発１表面処
理等に有益である。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明を実施例するための装置の例を示す。 Ｓ：基体　　Ｇ：導入ガス　Ｍ：溶融原料Ａ：アーク　
Ｄ；積層物 １：枠　　　　　　　２：プーリー ３：受台　　　　　　４：軸受け ５：回転円筒体　　　６．７＝回転シール８．９：ガス
噴き出し口 １０：＠粉末製造装置　　ｌｌ：絶縁パイプ１２；ガス
導入パイプ　　１３：端子 １４；電極　　　　　　　１５：電極支持体１６．１７
：るつぼ開口　１８：るつぼ１９：接地電極　　　　　
２０：絶縁体２１　　スリップリング　２２：ガス導管
２３：導入ジャケット ２４：絶縁ポーラスプラグ ２５；冷却機構　　　２６：原料供給部２７：原料シュ
ート

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. １．相対する反射面を有する容器内で出発原料を加熱し
    て、同容器内に担送ガスを導入して加熱微粉体、蒸気、
    微小液滴として容器外に搬出する工程を有する微粉末の
    製造方法。
  2. ２．請求項１の記載において相対する反射面を有する容
    器が回転円筒体である微粉末の製造方法。
  3. ３．請求項１の記載において、出発原料を加熱する手段
    がアークあるいは、プラズマ，電子ビーム，レーザ等の
    電気的加熱手段である微粉末の製造方法。
  4. ４．両端部を開口し、同両開口部を結ぶ線を回転軸とし
    て回転する回転円筒状るつぼと、同るつぼに原料を供給
    する原料供給手段と、同るつぼ内に供給された原料を加
    熱する手段と、前記両開口の中の一方の開口からガスを
    導入する手段とからなる微粉末の製造装置。
  5. ５．請求項４の記載において、回転円筒状るつぼが回転
    筒体の一端に設けられ、且つ原料供給手段が前記回転筒
    体の他端から前記回転筒体の内部を経由して前記回転る
    つぼ内に至るシュートによって形成されている微粉末の
    製造装置。
  6. ６．請求項４の記載において、回転円筒状るつぼにバブ
    リング用ガス導入手段を設けた微粉末の製造装置。
  7. ７．回転しつつある円筒体の一方の開口から連続的に被
    溶解物を供給しつつ、同被溶解物を溶解し、同円筒体に
    連続して導入される担送ガスによって前記円筒体の他方
    の開口端部から加熱微粉体、蒸気、微小液滴と担送ガス
    との加熱状態にある混合物として噴出せしめ、さらに同
    混合物を前記円筒体の他方の開口端部近傍に配置された
    基体上に積層する微粉末積層方法。
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US07/559,271 US5136609A (en) 1989-07-29 1990-07-27 Method of producing finely divided particles or powder, vapor or fine droplets, and apparatus therefor
EP90308363A EP0411875B1 (en) 1989-07-29 1990-07-30 Method of producing finely divided particles or powder, vapour or fine droplets, and apparatus therefor
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5322642A (en) * 1992-07-28 1994-06-21 Ferraz Method of manufacturing semiconductors from homogeneous metal oxide powder
WO1997046727A1 (en) * 1996-06-06 1997-12-11 1179568 Ontario Inc. Apparatus and procedure for depositing materials
US8057203B2 (en) * 2008-10-02 2011-11-15 Gap Engineering LLC Pyrospherelator
CN109108301A (zh) * 2018-11-09 2019-01-01 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 基于激光熔化的金属材料雾化制粉方法
CN111390186B (zh) * 2020-04-16 2022-06-24 北京科技大学顺德研究生院 亚微米球形钽金属粉末的制备方法
CN113042743B (zh) * 2021-04-30 2025-01-28 深圳航科新材料有限公司 粉末制备装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59162110A (ja) * 1983-02-28 1984-09-13 Nippon Denso Co Ltd 微粉末窒化珪素の製造方法
JPS6148044U (ja) * 1984-09-04 1986-03-31 関西ペイント株式会社 高周波プラズマ粉体処理装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE667929C (de) * 1933-06-05 1938-11-23 Risaburo Torikai Verfahren zur Herstellung feiner Pulver
US2754225A (en) * 1951-11-22 1956-07-10 Martin Von Schulthess Method of spray-coating with metals
FR1488206A (fr) * 1963-04-11 1967-07-13 Centre Nat Rech Scient Perfectionnements apportés aux fours, notamment à ceux pour le traitement des matériaux à haute température
US3437734A (en) * 1966-06-21 1969-04-08 Isofilm Intern Apparatus and method for effecting the restructuring of materials
US3504094A (en) * 1966-10-31 1970-03-31 Air Reduction Method and apparatus for feeding particulate material to a rotating vacuum vaporization crucible
US3409529A (en) * 1967-07-07 1968-11-05 Kennecott Copper Corp High current duoplasmatron having an apertured anode comprising a metal of high magnetic permeability
GB1369585A (en) * 1970-07-14 1974-10-09 Nat Res Dev Production of mixed oxides
SE371455B (ja) * 1973-03-26 1974-11-18 Norrbottens Jaernverk Ab
EP0087798B1 (en) * 1982-03-01 1987-05-06 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha A method and apparatus for making a fine powder compound of a metal and another element
DD228193B1 (de) * 1982-11-16 1988-07-27 Adw Ddr Anlage zum kurzzeitsintern von formkoerpern
DE3401700C1 (de) * 1984-01-19 1985-08-14 MTU Motoren- und Turbinen-Union München GmbH, 8000 München Verfahren zur Herstellung von Pulvern unter Weltraumbedingungen
US4654226A (en) * 1986-03-03 1987-03-31 The University Of Delaware Apparatus and method for photochemical vapor deposition
SU1388183A1 (ru) * 1986-10-27 1988-04-15 Отделение N2 Московского Инженерно-Физического Института В Г.Свердловске Установка дл гидродинамического распылени расплава
US4912296A (en) * 1988-11-14 1990-03-27 Schlienger Max P Rotatable plasma torch

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59162110A (ja) * 1983-02-28 1984-09-13 Nippon Denso Co Ltd 微粉末窒化珪素の製造方法
JPS6148044U (ja) * 1984-09-04 1986-03-31 関西ペイント株式会社 高周波プラズマ粉体処理装置

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