JPH0361899B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0361899B2 JPH0361899B2 JP58180297A JP18029783A JPH0361899B2 JP H0361899 B2 JPH0361899 B2 JP H0361899B2 JP 58180297 A JP58180297 A JP 58180297A JP 18029783 A JP18029783 A JP 18029783A JP H0361899 B2 JPH0361899 B2 JP H0361899B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure
- gas
- flow rate
- introduction
- sampling gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/22—Devices for withdrawing samples in the gaseous state
- G01N1/24—Suction devices
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0004—Gaseous mixtures, e.g. polluted air
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、サンプリングガス導入装置に係り、
特に圧力変動を生じる被測定物内のガスを分析す
るのに好適なサンプリングガス導入装置に関する
ものである。
特に圧力変動を生じる被測定物内のガスを分析す
るのに好適なサンプリングガス導入装置に関する
ものである。
従来の被測定物からガス分析装置へのサンプリ
ングガス導入技術としては、サンプリングガスを
被測定物から一旦ガス溜めに採り出してからガス
分析装置に導入する技術や、被測定物でのサンプ
リングガス採取条件が整つた状態でサンプリング
ガスをガス分析装置に導入する技術がある。
ングガス導入技術としては、サンプリングガスを
被測定物から一旦ガス溜めに採り出してからガス
分析装置に導入する技術や、被測定物でのサンプ
リングガス採取条件が整つた状態でサンプリング
ガスをガス分析装置に導入する技術がある。
ガス分析されるサンプリングガスは、ガス分析
装置でのサンプリングガス流量許容範囲内の流量
（以下、分析許容流量と略）でガス分析装置に導
入する必要がある。サンプリングガスの流量は被
測定物の圧力に大きく影響され被測定物の圧力変
動により変動する。従つて、サンプリングガスの
流量が被測定物の圧力変動により分析許容流量を
はずれた場合は、ガス分析装置での分析は不都合
なものとなるため、サンプリングガスの流量が分
析許容流量となるまで分析を停止しなければなら
ない。その結果、ガス分析操作に要する時間が長
くなり、被測定物がガス分析結果に基づき緊急な
処理を要するものでは、即応できないといつた欠
点がある。
装置でのサンプリングガス流量許容範囲内の流量
（以下、分析許容流量と略）でガス分析装置に導
入する必要がある。サンプリングガスの流量は被
測定物の圧力に大きく影響され被測定物の圧力変
動により変動する。従つて、サンプリングガスの
流量が被測定物の圧力変動により分析許容流量を
はずれた場合は、ガス分析装置での分析は不都合
なものとなるため、サンプリングガスの流量が分
析許容流量となるまで分析を停止しなければなら
ない。その結果、ガス分析操作に要する時間が長
くなり、被測定物がガス分析結果に基づき緊急な
処理を要するものでは、即応できないといつた欠
点がある。
本発明の目的は、ガス分析操作に要する時間を
短縮することで、被測定物の緊急な処置に即応で
きるサンプリングガス導入装置を提供することに
ある。
短縮することで、被測定物の緊急な処置に即応で
きるサンプリングガス導入装置を提供することに
ある。
本発明は、被測定物とガス分析装置とを連結す
るサンプリングガス導入管を複数に分岐させ、該
分岐させたそれぞれの管路に複数に異なつた圧力
変動範囲内のうち所定の圧力変動範囲内でガス分
析装置に導入される流量を制御する導入弁と、真
空容器に設けた圧力測定手段と連動し真空容器の
圧力が導入弁の対応する圧力変動範囲を外れた時
点で導入弁への流量を遮断する弁とからなるサン
プリングガス流量制御手段を設けたことを特徴と
するもので、圧力変動する被測定物からガス分析
装置へサンプリングガスを分析許容流量に制御し
て導入することで、ガス分析操作に要する時間を
短縮しようとしたものである。
るサンプリングガス導入管を複数に分岐させ、該
分岐させたそれぞれの管路に複数に異なつた圧力
変動範囲内のうち所定の圧力変動範囲内でガス分
析装置に導入される流量を制御する導入弁と、真
空容器に設けた圧力測定手段と連動し真空容器の
圧力が導入弁の対応する圧力変動範囲を外れた時
点で導入弁への流量を遮断する弁とからなるサン
プリングガス流量制御手段を設けたことを特徴と
するもので、圧力変動する被測定物からガス分析
装置へサンプリングガスを分析許容流量に制御し
て導入することで、ガス分析操作に要する時間を
短縮しようとしたものである。
本発明の一実施例を図面により説明する。
図面で、被測定物、例えば真空容器１０には、
真空排気装置２０が排気管３０で連結され、真空
計４０が設けられている。排気管３０の途中から
は、サンプリングガス導入管５０が分岐し、サン
プリングガス導入管５０の端部からは、この場
合、２本のサンプリングガス導入管５１，５２が
分岐されている。サンプリングガス導入管５１，
５２の端部はサンプリングガス導入管５３に合流
連結され、サンプリングガス導入管５３はガス分
析装置６０に連結されている。
真空排気装置２０が排気管３０で連結され、真空
計４０が設けられている。排気管３０の途中から
は、サンプリングガス導入管５０が分岐し、サン
プリングガス導入管５０の端部からは、この場
合、２本のサンプリングガス導入管５１，５２が
分岐されている。サンプリングガス導入管５１，
５２の端部はサンプリングガス導入管５３に合流
連結され、サンプリングガス導入管５３はガス分
析装置６０に連結されている。
サンプリングガス導入管５１，５２には、真空
容器１０の圧力変動に応じてガス分析装置６０に
導入されるサンプリングガス流量を分析許容流量
に制御するサンプリングガス流量制御手段７０，
７１が設けられている。
容器１０の圧力変動に応じてガス分析装置６０に
導入されるサンプリングガス流量を分析許容流量
に制御するサンプリングガス流量制御手段７０，
７１が設けられている。
サンプリングガス流量制御手段７０，７１は、
真空容器１０のそれぞれ異なつた。この場合は、
２段階に異なつた圧力変動範囲内でガス分析装置
６０に導入されるサンプリングガス流量を分析許
容流量に制御する。例えば、導入弁７２ａ，７２
ｂと、導入遮断弁７３ａ，７３ｂとで構成されて
いる。この場合、導入弁７２ａは、２段階に異な
つた圧力変動範囲内のうち高い方の圧力変動範囲
内でサンプリングガス流量を分析許容流量に制御
する機能を有し、導入弁７２ｂは、低い方の圧力
変動範囲内でサンプリングガス流量を分析許容流
量に制御する機能を有している。また、導入遮断
弁７３ａは、真空容器１０の圧力が導入弁７２ａ
の対応する圧力変動範囲をはずれた時点で、導入
弁７２ａへのサンプリングガスの流通を遮断する
機能を有し、導入遮断弁７３ｂは、真空容器１０
の圧力が導入弁７２ｂの対応する圧力変動範囲を
はずれた時点で導入弁７２ｂへのサンプリングガ
スの流通を遮断する機能を有し、導入遮断弁７３
ａ，７３ｂの弁開閉操作は真空計４０にインター
ロツクされている。
真空容器１０のそれぞれ異なつた。この場合は、
２段階に異なつた圧力変動範囲内でガス分析装置
６０に導入されるサンプリングガス流量を分析許
容流量に制御する。例えば、導入弁７２ａ，７２
ｂと、導入遮断弁７３ａ，７３ｂとで構成されて
いる。この場合、導入弁７２ａは、２段階に異な
つた圧力変動範囲内のうち高い方の圧力変動範囲
内でサンプリングガス流量を分析許容流量に制御
する機能を有し、導入弁７２ｂは、低い方の圧力
変動範囲内でサンプリングガス流量を分析許容流
量に制御する機能を有している。また、導入遮断
弁７３ａは、真空容器１０の圧力が導入弁７２ａ
の対応する圧力変動範囲をはずれた時点で、導入
弁７２ａへのサンプリングガスの流通を遮断する
機能を有し、導入遮断弁７３ｂは、真空容器１０
の圧力が導入弁７２ｂの対応する圧力変動範囲を
はずれた時点で導入弁７２ｂへのサンプリングガ
スの流通を遮断する機能を有し、導入遮断弁７３
ａ，７３ｂの弁開閉操作は真空計４０にインター
ロツクされている。
このような構成において、真空容器１０は、真
空排気装置２０により真空排気される。この排気
により真空容器１０内は所定圧力まで減圧される
ことになるか、この減圧過程の任意の圧力になつ
て時点より真空容器１０に残留しているガスの分
析をガス分析装置６０で行うものとする。そこ
で、まず、分析が開始される任意の圧力（以下、
任意圧力と略）から所定圧力までの圧力範囲を、
この場合、２段階の圧力範囲に分割する。この分
割される境界の圧力を中間圧力という。その後、
導入弁７２ａの弁開度を任意圧力から中間圧力ま
での圧力範囲においてサンプルガスの流量が分析
許容流量となる開度に予め設定し、又、導入弁７
２ｂの弁開度を中間圧力から所定圧力までの圧力
範囲においてサンプルガスの流量が分析許容流量
となる開度に予め設定する。
空排気装置２０により真空排気される。この排気
により真空容器１０内は所定圧力まで減圧される
ことになるか、この減圧過程の任意の圧力になつ
て時点より真空容器１０に残留しているガスの分
析をガス分析装置６０で行うものとする。そこ
で、まず、分析が開始される任意の圧力（以下、
任意圧力と略）から所定圧力までの圧力範囲を、
この場合、２段階の圧力範囲に分割する。この分
割される境界の圧力を中間圧力という。その後、
導入弁７２ａの弁開度を任意圧力から中間圧力ま
での圧力範囲においてサンプルガスの流量が分析
許容流量となる開度に予め設定し、又、導入弁７
２ｂの弁開度を中間圧力から所定圧力までの圧力
範囲においてサンプルガスの流量が分析許容流量
となる開度に予め設定する。
真空容器１０の圧力が任意圧力になつた時点で
導入遮断弁７３ａは開弁し真空容器１０からは分
析許容流量に導入弁７２ａで流量制御されてサン
プリングガスがガス分析装置６０に導入されガス
分析が開始される。真空容器１０の圧力が任意圧
力から中間圧力までの圧力範囲にある場合は、こ
の状態が持続される。尚、このような圧力範囲で
は、導入遮断弁７３ｂは閉止され導入弁７２ｂへ
のサンプリングガスの流通は遮断されている。そ
の後、真空容器１０の圧力が中間圧力以下になつ
た時点で導入遮断弁７３ａは閉止され導入弁７２
ａへのサンプリングガスの流通が遮断される。こ
れと同時に、導入遮断弁７３ｂが開弁され、サン
プリングガスは導入弁７２ｂ分析許容流量に流量
制御されてガス分析装置６０に導入されガス分析
が続行される。真空容器１０の圧力が中間圧力か
ら所定圧力までの圧力範囲にある場合は、この状
態が持続される。
導入遮断弁７３ａは開弁し真空容器１０からは分
析許容流量に導入弁７２ａで流量制御されてサン
プリングガスがガス分析装置６０に導入されガス
分析が開始される。真空容器１０の圧力が任意圧
力から中間圧力までの圧力範囲にある場合は、こ
の状態が持続される。尚、このような圧力範囲で
は、導入遮断弁７３ｂは閉止され導入弁７２ｂへ
のサンプリングガスの流通は遮断されている。そ
の後、真空容器１０の圧力が中間圧力以下になつ
た時点で導入遮断弁７３ａは閉止され導入弁７２
ａへのサンプリングガスの流通が遮断される。こ
れと同時に、導入遮断弁７３ｂが開弁され、サン
プリングガスは導入弁７２ｂ分析許容流量に流量
制御されてガス分析装置６０に導入されガス分析
が続行される。真空容器１０の圧力が中間圧力か
ら所定圧力までの圧力範囲にある場合は、この状
態が持続される。
本実施例のようなサンプリングガス導入装置を
用いた場合は、次のような効果が得られる。
用いた場合は、次のような効果が得られる。
(1) 真空容器の圧力が変動、つまり、大気圧から
所定圧力まで変化しても真空容器からガス分析
装置へサンプリングガスを分析許容流量に制御
して導入することができるので、ガス分析装置
でのガス分析を停止することなしに連続して行
うことができガス分析操作に要する時間を短縮
することができる。
所定圧力まで変化しても真空容器からガス分析
装置へサンプリングガスを分析許容流量に制御
して導入することができるので、ガス分析装置
でのガス分析を停止することなしに連続して行
うことができガス分析操作に要する時間を短縮
することができる。
(2) 真空容器はガス分析結果に基づき緊急な処置
を要するものであるが、ガス分析操作に要する
時間を短縮できるので、緊急な処置に即応する
ことができる。
を要するものであるが、ガス分析操作に要する
時間を短縮できるので、緊急な処置に即応する
ことができる。
(3) 真空容器の任意の圧力におけるガス分析を行
うことができる。尚、本実施例では、被測定物
である真空容器の圧力変動を２段階の圧力変動
範囲に分割しているが、更に多くの段階で分割
しても良い。又、導入弁に替えてオリフイスを
使用しても良い。
うことができる。尚、本実施例では、被測定物
である真空容器の圧力変動を２段階の圧力変動
範囲に分割しているが、更に多くの段階で分割
しても良い。又、導入弁に替えてオリフイスを
使用しても良い。
本発明は、以上説明したように、被測定物とガ
ス分析装置とを連結するサンプリングガス導入管
を複数に分岐させ、該分岐させたそれぞれの管路
に複数に異なつた圧力変動範囲内のうち所定の圧
力変動範囲内でガス分析装置に導入される流量を
制御する導入弁と、真空容器に設けた圧力測定手
段と連動し真空容器の圧力が導入弁の対応する圧
力変動範囲を外れた時点で導入弁への流量を遮断
する弁とからなるサンプリングガス流量制御手段
を設けたことで被測定物の圧力変動によらずガス
分析装置でのガス分析を連続して行うことができ
るので、ガス分析操作に要する時間を短縮でき、
被測定物の緊急な処置に即応できる効果がある。
ス分析装置とを連結するサンプリングガス導入管
を複数に分岐させ、該分岐させたそれぞれの管路
に複数に異なつた圧力変動範囲内のうち所定の圧
力変動範囲内でガス分析装置に導入される流量を
制御する導入弁と、真空容器に設けた圧力測定手
段と連動し真空容器の圧力が導入弁の対応する圧
力変動範囲を外れた時点で導入弁への流量を遮断
する弁とからなるサンプリングガス流量制御手段
を設けたことで被測定物の圧力変動によらずガス
分析装置でのガス分析を連続して行うことができ
るので、ガス分析操作に要する時間を短縮でき、
被測定物の緊急な処置に即応できる効果がある。
図面は、本発明によるサンプリングガス導入装
置の一実施例を示す構成図である。 １０……真空容器、４０……真空計、５０ない
し５３……サンプリングガス導入管、６０……ガ
ス分析装置、７０，７１……サンプリングガス流
量制御手段、７２ａ，７２ｂ……導入弁、７３
ａ，７３ｂ……導入遮断弁。
置の一実施例を示す構成図である。 １０……真空容器、４０……真空計、５０ない
し５３……サンプリングガス導入管、６０……ガ
ス分析装置、７０，７１……サンプリングガス流
量制御手段、７２ａ，７２ｂ……導入弁、７３
ａ，７３ｂ……導入遮断弁。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 真空容器からガス分析装置にサンプリングガ
スを導入する装置において、 前記真空容器と前記ガス分析装置とを連結する
サンプリングガス導入管を複数に分岐させた管路
を備え、該分岐させたそれぞれの管路に複数に異
なつた圧力変動範囲内のうち所定の圧力変動範囲
内でガス分析装置に導入される流量を制御する導
入弁と、前記真空容器に設けた圧力測定手段と連
動し真空容器の圧力が導入弁の対応する圧力変動
範囲を外れた時点で導入弁への流量を遮断する弁
とからなるサンプリングガス流量制御手段を設け
たことを特徴とするサンプリングガス導入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18029783A JPS6073336A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | サンプリングガス導入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18029783A JPS6073336A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | サンプリングガス導入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6073336A JPS6073336A (ja) | 1985-04-25 |
| JPH0361899B2 true JPH0361899B2 (ja) | 1991-09-24 |
Family
ID=16080740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18029783A Granted JPS6073336A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | サンプリングガス導入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6073336A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2590385B2 (ja) * | 1990-09-22 | 1997-03-12 | 株式会社島津製作所 | 試料ガスのサンプリング装置 |
| JPWO2003036696A1 (ja) * | 2001-10-24 | 2005-02-17 | 株式会社ニコン | 濃度計測方法及びその装置、露光方法及びその装置、並びにデバイスの製造方法 |
| GB2537914B (en) * | 2015-04-30 | 2019-03-20 | Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh | Flow reduction system for isotope ratio measurements |
| GB2618073B (en) * | 2022-04-22 | 2025-01-08 | Smiths Detection Watford Ltd | Detector inlet and method |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57146131A (en) * | 1981-03-05 | 1982-09-09 | Toshiba Corp | Sampling device |
-
1983
- 1983-09-30 JP JP18029783A patent/JPS6073336A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6073336A (ja) | 1985-04-25 |
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