JPH0362442B2 - - Google Patents
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- JPH0362442B2 JPH0362442B2 JP62023715A JP2371587A JPH0362442B2 JP H0362442 B2 JPH0362442 B2 JP H0362442B2 JP 62023715 A JP62023715 A JP 62023715A JP 2371587 A JP2371587 A JP 2371587A JP H0362442 B2 JPH0362442 B2 JP H0362442B2
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- JP
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- absorption liquid
- dust
- absorbent
- liquid
- circulation system
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Filtering Materials (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、ダスト、ガスおよび／又は蒸気の形
態で汚染物質を含有する排ガスを精製する方法で
あつて、第１の工程においてダストを除去し、更
に１以上の工程において吸収液循環系を流れる吸
収液の方法によつて上記ダストの除かれた排ガス
からガス状汚染物質を吸収する方法、特に光導波
体プレフオームの製造における排ガスの精製に使
用する方法、およびその方法を実施するのに適し
た装置に関する。そのような方法は、DE−OS34
29 956号明細書に開示されている。
態で汚染物質を含有する排ガスを精製する方法で
あつて、第１の工程においてダストを除去し、更
に１以上の工程において吸収液循環系を流れる吸
収液の方法によつて上記ダストの除かれた排ガス
からガス状汚染物質を吸収する方法、特に光導波
体プレフオームの製造における排ガスの精製に使
用する方法、およびその方法を実施するのに適し
た装置に関する。そのような方法は、DE−OS34
29 956号明細書に開示されている。
［従来の技術］
上記のような方法において、ダストおよびガス
汚染物質を含有する排ガスは、第１の工程におい
てダストを除去し、続いてスクラバ（scrubber）
の工程でガス汚染物質を吸収することによつて、
精製されている。この方法は、石炭燃焼ボイラー
で生じる排ガスを精製するための方法として役立
つ。
汚染物質を含有する排ガスは、第１の工程におい
てダストを除去し、続いてスクラバ（scrubber）
の工程でガス汚染物質を吸収することによつて、
精製されている。この方法は、石炭燃焼ボイラー
で生じる排ガスを精製するための方法として役立
つ。
その方法を非常に細かく分布したダスト汚染物
質例えばSiO2、GeO2、B2O3のダストを有する他
の排ガスの精製のために使用すると、吸収液から
定義されない（undefined）固体が沈澱し、ガス
スクラバがこれらの固体によつて詰まつて効率が
悪くなるという問題が生ずる。この問題は、上記
のダスト酸化物に関してだけではなく、一般に高
揮発性塩化物たとえば原子Si、Ge、Ｂ、Sn、
Ti、Ｖ、Ｗ、Ｐの塩化物の加水分解の間に主に
得られる微細分割酸化物に関して存在する。
質例えばSiO2、GeO2、B2O3のダストを有する他
の排ガスの精製のために使用すると、吸収液から
定義されない（undefined）固体が沈澱し、ガス
スクラバがこれらの固体によつて詰まつて効率が
悪くなるという問題が生ずる。この問題は、上記
のダスト酸化物に関してだけではなく、一般に高
揮発性塩化物たとえば原子Si、Ge、Ｂ、Sn、
Ti、Ｖ、Ｗ、Ｐの塩化物の加水分解の間に主に
得られる微細分割酸化物に関して存在する。
ガス汚染物質たとえば塩素に加えて汚染物質と
してのそのような微細分割された酸化物は、特に
光導波体のプレフオームの製造のための既知の方
法において使用される化学気相反応で発生する排
ガス中に含有している。本発明は、そのような化
学気相反応で生成する排ガスの精製に適用される
ように、説明される。
してのそのような微細分割された酸化物は、特に
光導波体のプレフオームの製造のための既知の方
法において使用される化学気相反応で発生する排
ガス中に含有している。本発明は、そのような化
学気相反応で生成する排ガスの精製に適用される
ように、説明される。
［発明が解決しようとする問題点］
本発明の目的は、ダストおよびガス汚染物質を
含有する排ガスの精製方法であつて、非常に細か
く分布したダストをも満足に精製することができ
るものを提供することである。更に、その方法を
実施するための装置も説明する。
含有する排ガスの精製方法であつて、非常に細か
く分布したダストをも満足に精製することができ
るものを提供することである。更に、その方法を
実施するための装置も説明する。
［問題点を解決するための手段］
この目的は、乾燥し被覆された布フイルタを上
記ダスト除去のために使用し、上記吸収液体の汚
染物質濃度は連続的に測定し、所定の最大許容汚
染物質濃度に達したとき上記吸収液の一部を上記
吸収液循環系から引き出し分離した解毒循環系に
おいて化学的解毒処理に付しその後に下水系に導
入し、そして上記吸収液循環系において上記吸収
液の引き出した部分を新しい未汚染の吸収液で置
換することによつて達成される。更に本発明に係
る方法の効果的特徴は特許請求の範囲第２項から
６項に記載されている。特許請求の範囲第７項お
よび８項は、本発明に係る方法を実施するための
装置に関する。
記ダスト除去のために使用し、上記吸収液体の汚
染物質濃度は連続的に測定し、所定の最大許容汚
染物質濃度に達したとき上記吸収液の一部を上記
吸収液循環系から引き出し分離した解毒循環系に
おいて化学的解毒処理に付しその後に下水系に導
入し、そして上記吸収液循環系において上記吸収
液の引き出した部分を新しい未汚染の吸収液で置
換することによつて達成される。更に本発明に係
る方法の効果的特徴は特許請求の範囲第２項から
６項に記載されている。特許請求の範囲第７項お
よび８項は、本発明に係る方法を実施するための
装置に関する。
［実施例］
以下添付図面を参照して本発明を詳細に説明す
る。図面は、光導波体プレフオームの製造中に発
生する排ガスを精製するための装置の全体の概略
図である。光導波体プレフオームの製造において
化学的気相反応を使用した場合は（種々の製造方
法の概要は“telcom−Report”Vol.6（1983）付
録“Nachrichtenu¨bertragung mit Licht”、pp、
29−35に見られる）、以下の汚染物質が、部分的
または全体的に進行した化学反応により発生し、
そしてその製造機械の排出空気によつて排出され
る。
る。図面は、光導波体プレフオームの製造中に発
生する排ガスを精製するための装置の全体の概略
図である。光導波体プレフオームの製造において
化学的気相反応を使用した場合は（種々の製造方
法の概要は“telcom−Report”Vol.6（1983）付
録“Nachrichtenu¨bertragung mit Licht”、pp、
29−35に見られる）、以下の汚染物質が、部分的
または全体的に進行した化学反応により発生し、
そしてその製造機械の排出空気によつて排出され
る。
汚染物質 状態
塩素ガス ガス状、湿り（moist）
二酸化シリコン ダスト状
二酸化ゲルマニウム ダスト状
五酸化リン ダスト状
三酸化ホウ素 ダスト状
塩化水素酸 ガス状雲（cloud）
四塩化シリコン 蒸気状
四塩化ゲルマニウム 蒸気状
これらの汚染物質は、以下説明する方法におい
て、清浄な空気および水のための現行法の要求が
充分満足されるように保持（retain）される。
て、清浄な空気および水のための現行法の要求が
充分満足されるように保持（retain）される。
本発明によると、排ガスから細かく分布したダ
ストを除去するために乾燥した布（fabric）フイ
ルタを使用する。
ストを除去するために乾燥した布（fabric）フイ
ルタを使用する。
図面の左手部分は、そのような乾燥布フイルタ
１を示す。精製される排ガスは、排ガス管２から
フイルタ１へ、高圧フアン３に引かれて流れる。
フイルタ１には平行なフイルタ袋４が配置されて
いる。これらのフイルタ袋は被覆された布で製造
され、その上の開部はフイルタ１の清浄空気チヤ
ンバ５に通じている。排ガス中に含有されている
ダストは、フイルタ袋の外側に集まり、一方ダス
トを含まない排ガスは、フイルタ１の清浄空気チ
ヤンバ５および排出接続部６を介してフイルタを
出る。このフイルタの特徴は、フイルタ袋が布材
料あるいは膜フイルタと呼ばれるものであつて、
その外側が被覆されているもの、好ましくはポリ
テトラフルオロエチレン（PTFE）で被覆されて
いるもの、で製造されていることである。そのよ
うなフイルタ袋は商品名GORE TEXとして市販
されている（W.L.Gore、8011Putzbrun near
Munichより）。
１を示す。精製される排ガスは、排ガス管２から
フイルタ１へ、高圧フアン３に引かれて流れる。
フイルタ１には平行なフイルタ袋４が配置されて
いる。これらのフイルタ袋は被覆された布で製造
され、その上の開部はフイルタ１の清浄空気チヤ
ンバ５に通じている。排ガス中に含有されている
ダストは、フイルタ袋の外側に集まり、一方ダス
トを含まない排ガスは、フイルタ１の清浄空気チ
ヤンバ５および排出接続部６を介してフイルタを
出る。このフイルタの特徴は、フイルタ袋が布材
料あるいは膜フイルタと呼ばれるものであつて、
その外側が被覆されているもの、好ましくはポリ
テトラフルオロエチレン（PTFE）で被覆されて
いるもの、で製造されていることである。そのよ
うなフイルタ袋は商品名GORE TEXとして市販
されている（W.L.Gore、8011Putzbrun near
Munichより）。
圧縮空気の方法で定期的にフイルタ袋を洗浄す
ることにより、フイルタ袋に強く付着したダスト
粒子を、通常の方法で落としてダストチヤンバ７
に収集することができる。ダスト粒子は、時々こ
のダストチヤンバから出して、更に処理するのに
適した器に入れる。
ることにより、フイルタ袋に強く付着したダスト
粒子を、通常の方法で落としてダストチヤンバ７
に収集することができる。ダスト粒子は、時々こ
のダストチヤンバから出して、更に処理するのに
適した器に入れる。
これらの器において、ダストを濃くし
（thicken）適当な液体の添加によりダストを中和
することによつて、環境破壊を生じることなく、
ごみ（dump）の廃棄物のダスト除去処理が可能
となる。廃棄物が価値ある原料ゲルマニウムをあ
る濃度で含有している場合、適当な方法でこれを
リサイクルすることは価値がある。
（thicken）適当な液体の添加によりダストを中和
することによつて、環境破壊を生じることなく、
ごみ（dump）の廃棄物のダスト除去処理が可能
となる。廃棄物が価値ある原料ゲルマニウムをあ
る濃度で含有している場合、適当な方法でこれを
リサイクルすることは価値がある。
本発明に従つて被覆された布フイルタを使用す
ることの利点は、フイルタ袋の外側に収集された
ダスト粒子を既知の機械的方法で容易にその布表
面から除去できること、さらに、広い温度範囲に
おいて、ダスト除去は、処理される排ガスの温度
に無関係なことである。上限温度は150℃である。
ることの利点は、フイルタ袋の外側に収集された
ダスト粒子を既知の機械的方法で容易にその布表
面から除去できること、さらに、広い温度範囲に
おいて、ダスト除去は、処理される排ガスの温度
に無関係なことである。上限温度は150℃である。
強調すべきことは、細かく分布したダストの上
記排ガスからの除去は、以下に説明するガス汚染
物質の除去とは独立して、その目的を排ガスから
の微細分布ダストの除去とするものならば任意の
用途に適用できることである。
記排ガスからの除去は、以下に説明するガス汚染
物質の除去とは独立して、その目的を排ガスから
の微細分布ダストの除去とするものならば任意の
用途に適用できることである。
ダストフイルタのより詳細は使用されるフイル
タ袋以外については、これらは例えば広告印刷物
（Mikro Puhl、5000Ko¨ln90）により既知なので
説明しない。
タ袋以外については、これらは例えば広告印刷物
（Mikro Puhl、5000Ko¨ln90）により既知なので
説明しない。
ガスおよび蒸気の汚染物質を更に精製するため
に、高圧フアン３は、乾燥フイルタ１から発する
ダストの除去されたガスを、エントレインメント
（entrainment）分離器３０を伴うガススクラバ
（gas scrubber）８へ流す。
に、高圧フアン３は、乾燥フイルタ１から発する
ダストの除去されたガスを、エントレインメント
（entrainment）分離器３０を伴うガススクラバ
（gas scrubber）８へ流す。
ガススクラバ８は、好ましくは既知の市販で入
手できる設計のクロスフロースクラバ又は向流ス
クラバである。吸収液は、ポンプ１０によつて、
吸収液タンク９からスクラバへ流され、そしてス
プレーノズル１１によつて、精製されるべき排ガ
ス流へスプレーされる。上記のガスおよび蒸気の
汚染物質のために、PH値が少なくとも10から12の
水酸化ナトリウム水溶液（NaOH）を、吸収液
（スクラブ液ともいう）として使用する。スプレ
ーされた吸収液により、および吸収液で湿つたパ
ツキングの表面との接触により、精製される排ガ
スは、スクラバ内で吸収液と良く混合され、以下
の化学的吸収反応が生じる。
手できる設計のクロスフロースクラバ又は向流ス
クラバである。吸収液は、ポンプ１０によつて、
吸収液タンク９からスクラバへ流され、そしてス
プレーノズル１１によつて、精製されるべき排ガ
ス流へスプレーされる。上記のガスおよび蒸気の
汚染物質のために、PH値が少なくとも10から12の
水酸化ナトリウム水溶液（NaOH）を、吸収液
（スクラブ液ともいう）として使用する。スプレ
ーされた吸収液により、および吸収液で湿つたパ
ツキングの表面との接触により、精製される排ガ
スは、スクラバ内で吸収液と良く混合され、以下
の化学的吸収反応が生じる。
Cl2＋2NaOH→NaCl＋NaOCl
HCl＋NaOH→NaCl＋H2O
SiCl4＋2H2O→SiO2＋4HCl
GeCl4＋2H2O→GeO2＋4HCl
後者の２つの反応は量的には重要ではない。と
いうのはSiCl4の化学気相反応で使用されなかつ
た部分は既に大部分は、スクラバまでの途中で排
ガス中の湿気と反応しているからであり、またド
ーパントの原料としてのGeCl4は、出口からは低
濃度でしか存在しないからである。それらの濃度
が低いことおよび吸収液のPH値が高いことによ
り、酸化物SiO2およびGeO2は、吸収液中に溶解
して残り、固体は沈澱しない。
いうのはSiCl4の化学気相反応で使用されなかつ
た部分は既に大部分は、スクラバまでの途中で排
ガス中の湿気と反応しているからであり、またド
ーパントの原料としてのGeCl4は、出口からは低
濃度でしか存在しないからである。それらの濃度
が低いことおよび吸収液のPH値が高いことによ
り、酸化物SiO2およびGeO2は、吸収液中に溶解
して残り、固体は沈澱しない。
上記吸収反応の結果としてNaCl（普通の塩）お
よびNaOCl（次亜塩素酸ナトリウム、塩素漂白
剤）で汚染された吸収液は、その底部の出口を介
してクロスフロースクラバを出て、ソレノイド弁
１２（これが開いている限り）を通つて、吸収液
タンク９へ戻る。この方法で、吸収液は吸収液循
環系を連続的に循環する。別のソレノイド弁１３
が、スクラバの出口から第２のタンク１４へつな
がる管に設けられている。この弁１３は、弁１２
が開いていて吸収液が吸収液循環系を循環してい
る限り閉じられる。
よびNaOCl（次亜塩素酸ナトリウム、塩素漂白
剤）で汚染された吸収液は、その底部の出口を介
してクロスフロースクラバを出て、ソレノイド弁
１２（これが開いている限り）を通つて、吸収液
タンク９へ戻る。この方法で、吸収液は吸収液循
環系を連続的に循環する。別のソレノイド弁１３
が、スクラバの出口から第２のタンク１４へつな
がる管に設けられている。この弁１３は、弁１２
が開いていて吸収液が吸収液循環系を循環してい
る限り閉じられる。
エントレインメント分離器３０に続く高圧フア
ンにより、スクラバで精製されるべき排ガスは、
スクラバを通りさらに該エントレインメント分離
器中を流れる。エントレインメント分離器は、液
滴随伴された（entrainment吸収液の液滴からガ
ス流を遊離する。こうして分離された液体は、ス
クラバ（図示せず）から出る液体へ導入される。
ンにより、スクラバで精製されるべき排ガスは、
スクラバを通りさらに該エントレインメント分離
器中を流れる。エントレインメント分離器は、液
滴随伴された（entrainment吸収液の液滴からガ
ス流を遊離する。こうして分離された液体は、ス
クラバ（図示せず）から出る液体へ導入される。
スクラバ内での汚染物質の吸収の結果として、
高圧フアン１５によつて大気へ吹き出される排ガ
スは、充分精製され、Cl2／m3の標準濃度
0.5ppm、Cl2／m3の最大濃度1.5ppmであり、これ
は許容される最大制限値より充分低い。より大き
いガススクラバを使用した場合、残存の塩素含量
は、容易にさらに低下することができる。（より
長い保持時間）。
高圧フアン１５によつて大気へ吹き出される排ガ
スは、充分精製され、Cl2／m3の標準濃度
0.5ppm、Cl2／m3の最大濃度1.5ppmであり、これ
は許容される最大制限値より充分低い。より大き
いガススクラバを使用した場合、残存の塩素含量
は、容易にさらに低下することができる。（より
長い保持時間）。
吸収液循環系で要求される少なくとも10から12
という高いPH値は、絶えず、PH測定制御装置１６
によつて測定される。この装置は、PH値を一定に
保つため、制御されたたポンプ１７を介しての
NaOHタンク１８から吸収液タンクへの制御さ
れた添加により、使用済みNaOHを置換する。
という高いPH値は、絶えず、PH測定制御装置１６
によつて測定される。この装置は、PH値を一定に
保つため、制御されたたポンプ１７を介しての
NaOHタンク１８から吸収液タンクへの制御さ
れた添加により、使用済みNaOHを置換する。
任意のガス洗浄方法と同様に、上記の方法も汚
染された吸収液を解毒しなければならないという
困難を有している。上記の技術分野における方法
が、汚染された吸収液を取出して分離した方法で
処理しなければならず、またガススクラバを時々
汚染された吸収液を引出すために中断しなければ
ならないのとは対照的に、本発明では、汚染され
た吸収液の引出し、その解毒、および未汚染の吸
収液の再充填は、以下のようにして行なう。
染された吸収液を解毒しなければならないという
困難を有している。上記の技術分野における方法
が、汚染された吸収液を取出して分離した方法で
処理しなければならず、またガススクラバを時々
汚染された吸収液を引出すために中断しなければ
ならないのとは対照的に、本発明では、汚染され
た吸収液の引出し、その解毒、および未汚染の吸
収液の再充填は、以下のようにして行なう。
測定制御装置１９は、吸収液循環系を循環して
いる吸収液の汚染物質濃度を連続的に測定し、所
定の最大許容汚染物質濃度に達したときに、吸収
液循環系のソレノイド弁１２を閉じて同時にソレ
ノイド弁１３を開くように、ソレノイド弁１２お
よび１３を制御する。こうして、スクラバを出た
吸収液は、今度は吸収液タンク９ではなくタンク
１４へ導入される。さらにポンプ１０は、吸収液
タンク９から吸収液をスクラバへ流し、ここから
タンク１４へ流す。これは、吸収液タンク９内の
吸収液の容積が半分まで減つてタンク９の浮きが
ソレノイド弁１３を閉じて、同時にソレノイド弁
１２を再び開くまでなされる。
いる吸収液の汚染物質濃度を連続的に測定し、所
定の最大許容汚染物質濃度に達したときに、吸収
液循環系のソレノイド弁１２を閉じて同時にソレ
ノイド弁１３を開くように、ソレノイド弁１２お
よび１３を制御する。こうして、スクラバを出た
吸収液は、今度は吸収液タンク９ではなくタンク
１４へ導入される。さらにポンプ１０は、吸収液
タンク９から吸収液をスクラバへ流し、ここから
タンク１４へ流す。これは、吸収液タンク９内の
吸収液の容積が半分まで減つてタンク９の浮きが
ソレノイド弁１３を閉じて、同時にソレノイド弁
１２を再び開くまでなされる。
こうして、汚染された吸収液の部分は吸収液循
環系から引き出されて、タンク１４へ導入され、
ここで汚染された吸収液は解毒される。吸収液循
環系から汚染された吸収液の部分を引き出す間、
水タンク（図示せず）からの水が、吸収液タンク
９の量の低下した吸収液へ導入され、こうしてガ
ススクラバで更に使用するための吸収液のNaCl
およびNaOClの濃度を低下させる。同時に、上
記のようにそのPHにより、測定された量の
NaOHが吸収液タンク９に連続的に添加される。
環系から引き出されて、タンク１４へ導入され、
ここで汚染された吸収液は解毒される。吸収液循
環系から汚染された吸収液の部分を引き出す間、
水タンク（図示せず）からの水が、吸収液タンク
９の量の低下した吸収液へ導入され、こうしてガ
ススクラバで更に使用するための吸収液のNaCl
およびNaOClの濃度を低下させる。同時に、上
記のようにそのPHにより、測定された量の
NaOHが吸収液タンク９に連続的に添加される。
吸収液の汚染物質濃度は種々の方法で測定する
ことができる。
ことができる。
その一つは吸収液の導電性を測定する方法であ
る。導電性は塩の濃度に直接比例する。この方法
では、非接触技術により、すなわち交流電界
（electric alternating field）を適用してその減
衰（attenuation）を測定することによつて、測
定する。他の方法では吸収液中の塩の濃度を、イ
オンに感じる電極によつて測定する。
る。導電性は塩の濃度に直接比例する。この方法
では、非接触技術により、すなわち交流電界
（electric alternating field）を適用してその減
衰（attenuation）を測定することによつて、測
定する。他の方法では吸収液中の塩の濃度を、イ
オンに感じる電極によつて測定する。
本発明の重要な見地は、吸収剤の汚染物質濃度
制限を予め調節することによつて、吸収液から引
出される部分の塩の濃度、従つて下水へ導入され
る解毒された吸収液の塩の濃度が、予め決定され
ることである。もし時間単位当りに与えられた容
積を連続的に引き出すならば、解毒されるべき液
体は、不確定な塩濃度を有するだろう。
制限を予め調節することによつて、吸収液から引
出される部分の塩の濃度、従つて下水へ導入され
る解毒された吸収液の塩の濃度が、予め決定され
ることである。もし時間単位当りに与えられた容
積を連続的に引き出すならば、解毒されるべき液
体は、不確定な塩濃度を有するだろう。
吸収液の一部が上記のように吸収液循環系から
引き出されタンク１４に導入され、そして吸収液
タンク９を通る吸収液循環系が再開した後、測定
制御装置９によつて制御された吸収液の次の引き
出しがなされるまでに、タンク１４（解毒タンク
と称する）内の汚染された吸収液の解毒のために
充分な時間があるだろう。
引き出されタンク１４に導入され、そして吸収液
タンク９を通る吸収液循環系が再開した後、測定
制御装置９によつて制御された吸収液の次の引き
出しがなされるまでに、タンク１４（解毒タンク
と称する）内の汚染された吸収液の解毒のために
充分な時間があるだろう。
この解毒は次の通りに行われる。循環ポンプ２
０は連続的に解毒タンク１４の底付近の液体を引
き出し、これをタンクの頂部に戻す。測定制御装
置２１は、ポンプ２０を介する“解毒循環系”を
流れる液体の酸化還元電位を連続的に測定して、
亜硫酸ナトリウム、NaHSO3（還元剤として）の
タンク１４への添加を制御する。これは、下記の
既知の還元処理が完了するまで、すなわち酸化還
元電位が、解毒される液体中に遊離Cl-が存在し
ないことを示すまで行われる。
０は連続的に解毒タンク１４の底付近の液体を引
き出し、これをタンクの頂部に戻す。測定制御装
置２１は、ポンプ２０を介する“解毒循環系”を
流れる液体の酸化還元電位を連続的に測定して、
亜硫酸ナトリウム、NaHSO3（還元剤として）の
タンク１４への添加を制御する。これは、下記の
既知の還元処理が完了するまで、すなわち酸化還
元電位が、解毒される液体中に遊離Cl-が存在し
ないことを示すまで行われる。
NaOCl＋NaHSO3＋NaOH
→Na2SO4＋NaCl＋H2O
第２の測定制御装置２２は、解毒循環系を循環
する液体のPH値を測定する。そして、還元処理中
に生じる塩化水素酸および硫酸が直ちに中和され
るように、NaOHの添加を制御する。すなわち
この装置は、液体のPH値が７以下に下がらないよ
うに、NaOHの添加を制御する。還元処理が完
了した後、水酸化ナトリウム溶液又はHClの添加
が制御される。これは、液体が中和されるよう
に、すなわちPH値が排水の規定されたPH値に対応
する6.5から7.5になるように行われる。この規定
されたPH値が充分な期間測定された場合には、ソ
レノイド弁２３を開いて、解毒タンクの含有物、
還元され中和された液体を、下水に導入する。こ
の液体は、非毒性の塩NaCl（普通の塩）および
Na2SO4（グラウバー塩）を、最大許容制限より
はるかに低い濃度で含有する。
する液体のPH値を測定する。そして、還元処理中
に生じる塩化水素酸および硫酸が直ちに中和され
るように、NaOHの添加を制御する。すなわち
この装置は、液体のPH値が７以下に下がらないよ
うに、NaOHの添加を制御する。還元処理が完
了した後、水酸化ナトリウム溶液又はHClの添加
が制御される。これは、液体が中和されるよう
に、すなわちPH値が排水の規定されたPH値に対応
する6.5から7.5になるように行われる。この規定
されたPH値が充分な期間測定された場合には、ソ
レノイド弁２３を開いて、解毒タンクの含有物、
還元され中和された液体を、下水に導入する。こ
の液体は、非毒性の塩NaCl（普通の塩）および
Na2SO4（グラウバー塩）を、最大許容制限より
はるかに低い濃度で含有する。
図面において、塩化水素酸、水酸化ナトリウム
溶液、および亜硫酸水素ナトリウムの貯蔵タン
ク、および対応する制御可能なメーターポンプ
は、それぞれ参照番号２４から２６、および２７
から２９で示してある。
溶液、および亜硫酸水素ナトリウムの貯蔵タン
ク、および対応する制御可能なメーターポンプ
は、それぞれ参照番号２４から２６、および２７
から２９で示してある。
上記の方法および適当な装置の本質的な効果
は、ガススクラバに導入される吸収液の塩の濃度
が制限されること、その結果、その効率を損うガ
ススクラバの塩の沈澱が排除されることにある。
装置全体は充分に自動化され、保守
（maintenace）はほとんど不要であり、解毒のた
めの化学物の量も比較的少ない。
は、ガススクラバに導入される吸収液の塩の濃度
が制限されること、その結果、その効率を損うガ
ススクラバの塩の沈澱が排除されることにある。
装置全体は充分に自動化され、保守
（maintenace）はほとんど不要であり、解毒のた
めの化学物の量も比較的少ない。
図面は、本発明にしたがつて排ガスを精製する
ための装置の一例である。 １……フイルタ、４……フイルタ袋、８……ガ
ススクラバ、９……吸収液タンク、１０……ポン
プ、１１……スプレーノズル、１２，１３……ソ
レノイド弁、１４……解毒タンク、１６……PH測
定制御装置、１７……ポンプ、１８……NaOH
タンク、２０……ポンプ、２１，２２……測定制
御装置。
ための装置の一例である。 １……フイルタ、４……フイルタ袋、８……ガ
ススクラバ、９……吸収液タンク、１０……ポン
プ、１１……スプレーノズル、１２，１３……ソ
レノイド弁、１４……解毒タンク、１６……PH測
定制御装置、１７……ポンプ、１８……NaOH
タンク、２０……ポンプ、２１，２２……測定制
御装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ダスト、ガス、および／又は蒸気の形態で汚
染物質を含有する排ガスを精製する方法であつ
て、第１の工程においてダストを除去し、更に１
以上の工程において吸収液循環系を流れる吸収液
の方法によつて上記ダストの除かれた排ガスから
ガス状汚染物質を吸収する方法において、 上記ガス状の汚染物質は主成分として塩素ガス
を含有するものであり、乾燥し被覆された布フイ
ルタを上記ダスト除去のために使用し、上記吸収
液はアルカリ水溶液であり該吸収液のPHを常に測
定して高い値に一定に維持し、上記吸収液の汚染
物質濃度を連続的に測定し、所定の最大許容汚染
物質濃度に達したとき上記吸収液の一部を上記吸
収液循環系から引き出し分離した解毒循環系にお
いて還元剤として亜硫酸水素ナトリウムを用いる
化学的解毒処理に付しその後に下水系に導入し、
そして上記吸収液循環系において上記吸収液の引
き出した部分を新しい未汚染の吸収液で置換する
ことを特徴とする方法。 ２ 上記吸収液の汚染物質濃度は、交流誘導技術
を使用する吸収液の導電性の非接触測定によつ
て、又はイオンに感じる電極の方法による吸収液
の塩濃度の測定によつて、決定されることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 上記化学的解毒処理の間、上記汚染された吸
収液を、還元剤の酸化還元電位依存添加および同
時の水酸化ナトリウム溶液のPH値依存添加によつ
て完全に還元し、この還元処理が完了した後、強
酸の添加により規定された排水PHの値に調節する
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２
項記載の方法。 ４ 上記吸収液の汚染物質濃度限界の予めの決定
によつて、上記吸収液の引き出し部分および上記
排水における塩濃度が予め決定される前記特許請
求の範囲のいずれか１項記載の方法。 ５ 上記除去されたダストは液体の添加により別
の処理のために濃化される前記特許請求の範囲の
いずれか１項記載の方法。 ６ ダスト収集器と、ガススクラバと、上記ガス
スクラバを通る吸収液循環を維持するための手段
と、解毒タンクとを備え、第１の工程においてダ
ストを除去し、更に１以上の工程において吸収液
循環系を流れる吸収液の方法によつて上記ダスト
の除かれた排ガスからガス状汚染物質を吸収し、
上記ガス状汚染物質は主成分として塩素ガスを含
有するものであり、乾燥し被覆された布フイルタ
を上記ダスト除去のために使用し、上記吸収液は
アルカリ水溶液であり該吸収液のPHを常に測定し
て高い値に一定に維持し、上記の吸収液の汚染物
質濃度を連続的に測定し、所定の最大許容汚染物
質濃度に達したとき上記吸収液の一部を上記吸収
液循環系から引き出し分離した解毒循環系におい
て還元剤として亜硫酸水素ナトリウムを用いる化
学的解毒処理に付しその後に下水系に導入し、そ
して上記吸収液循環系において上記吸収液の引き
出した部分を新しい未汚染の吸収液で置換する方
法を行うための装置であつて、 上記ダスト収集器はポリテトラフルオロエチレ
ン被覆布フイルタを有するダストフイルタであ
り、 上記吸収液の汚染物質濃度の関数として上記吸
収液循環系から自動的に上記吸収液を引き出し、
上記吸収液を上記解毒タンクへ導入し、そして自
動的に上記吸収液循環系を新しい吸収液で再び満
たすための手段と、 解毒タンクを通る解毒循環を維持し、PH値に応
じて自動的に貯蔵器から上記解毒循環系に還元剤
として亜硫酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム
溶液、および強酸を導入するための手段とを有す
ることを特徴とする装置。 ７ 吸収液循環系を流れる吸収液の汚染物質濃度
を測定し、所定の最大許容汚染物質濃度に達した
ときの上記吸収液循環系から上記吸収液の一部の
引き出し、および上記吸収液の一部の解毒タンク
への導入を制御する測定制御部と、 上記解毒循環系を流れる液体の酸化還元電位を
連続的に測定し、還元が完了したことを示す値に
達するまで還元剤の添加を制御する測定制御部
と、 上記解毒循環系を流れる吸収液のPH値を測定し
て、上記還元処理の間は水酸化ナトリウムの溶液
の添加を、そして還元が終了した後は上記液が中
和されるように水酸化ナトリウム溶液および強酸
の添加を制御する測定制御部とを備えた特許請求
の範囲第６項記載の装置。 ８ 上記化学的解毒処理の間、上記汚染された吸
収液を、還元剤の酸化還元電位依存添加および同
時の水酸化ナトリウム溶液のPH値依存添加によつ
て完全に還元し、この還元処理が完了した後、強
酸の添加により規定された排水PHの値に調節する
手段を備えた特許請求の範囲第６項記載の装置。 ９ 上記吸収液の汚染物質濃度限界の予めの決定
によつて、上記吸収液の引き出し部分および上記
排水における塩濃度が予め決定される手段を備え
た特許請求の範囲第６項記載の装置。 １０ 上記除去されたダストが液体の添加により
別の処理のために濃化される手段を備えた特許請
求の範囲第６項記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3603511.4 | 1986-02-05 | ||
| DE19863603511 DE3603511A1 (de) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | Verfahren und vorrichtung zur entfernung von staub- und gasfoermigen schadstoffen aus abgasen, insbesondere abgasen bei der lichtwellenleiter-vorformherstellung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62186924A JPS62186924A (ja) | 1987-08-15 |
| JPH0362442B2 true JPH0362442B2 (ja) | 1991-09-26 |
Family
ID=6293423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62023715A Granted JPS62186924A (ja) | 1986-02-05 | 1987-02-05 | 排ガスからダストおよびガス汚染物質を除去するための方法および装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4765805A (ja) |
| EP (1) | EP0237464B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62186924A (ja) |
| DE (2) | DE3603511A1 (ja) |
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| JP2769324B2 (ja) * | 1988-08-18 | 1998-06-25 | ソニー株式会社 | 排ガス処理装置 |
| FR2642327B1 (fr) * | 1989-02-01 | 1991-05-17 | Lab Sa | Perfectionnements aux procedes d'epuration des fumees |
| DE3915604A1 (de) * | 1989-05-12 | 1990-11-15 | Basf Ag | Verfahren zur reduktion von hypohalogeniten in alkalischen prozessloesungen |
| DE3921714A1 (de) * | 1989-07-01 | 1991-01-10 | Hoechst Ag | Verfahren zur selektiven absorption von chlor aus co(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts)-haltigen abgasen |
| DE4117382A1 (de) * | 1991-05-28 | 1992-12-03 | Metallgesellschaft Ag | Verfahren zum regeln des ph-wertes einer sauren waschfluessigkeit |
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| US5484471A (en) * | 1992-06-25 | 1996-01-16 | Envirocare International, Inc. | Venturi scrubber and method of using the same |
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| EP1042242A4 (en) | 1997-12-31 | 2003-05-28 | Corning Inc | CAPTURE OF GERMANIUM-CONTAINING PARTICLES IN THE EMISSION GASES OF A GLASS PRODUCTION SYSTEM |
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| US8481449B1 (en) | 2007-10-15 | 2013-07-09 | SDCmaterials, Inc. | Method and system for forming plug and play oxide catalysts |
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| US9149797B2 (en) | 2009-12-15 | 2015-10-06 | SDCmaterials, Inc. | Catalyst production method and system |
| US8557727B2 (en) | 2009-12-15 | 2013-10-15 | SDCmaterials, Inc. | Method of forming a catalyst with inhibited mobility of nano-active material |
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| US8545652B1 (en) | 2009-12-15 | 2013-10-01 | SDCmaterials, Inc. | Impact resistant material |
| US9126191B2 (en) | 2009-12-15 | 2015-09-08 | SDCmaterials, Inc. | Advanced catalysts for automotive applications |
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| US8652992B2 (en) | 2009-12-15 | 2014-02-18 | SDCmaterials, Inc. | Pinning and affixing nano-active material |
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- 1987-01-31 DE DE8787710001T patent/DE3763145D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-02-05 JP JP62023715A patent/JPS62186924A/ja active Granted
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