JPH0796133A - 塩素ガスを含有する排ガスの処理方法及び処理装置 - Google Patents
塩素ガスを含有する排ガスの処理方法及び処理装置Info
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- JPH0796133A JPH0796133A JP5239834A JP23983493A JPH0796133A JP H0796133 A JPH0796133 A JP H0796133A JP 5239834 A JP5239834 A JP 5239834A JP 23983493 A JP23983493 A JP 23983493A JP H0796133 A JPH0796133 A JP H0796133A
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】塩素ガス含有排ガスの処理方法及び処理装置
【構成】塩素ガス含有排ガスをアルカリ水溶液（吸収
液）と反応させ生成する塩を含む液を引き抜き、該引き
抜き液に高アルカリ性のままでチオ硫酸ナトリウムを添
加して還元する化学的解毒処理に付し、次にｐＨ調整等
処理系に導入して処理済排水とする。一方上記引き抜き
により減少する吸収液に相当する量を未汚染の吸収液で
補充する。特に好ましくはｐＨ処理調整等処理系に導入
する前に残存チオ硫酸ナトリウムを酸化槽に導き大気と
接触させて酸化させる。従来の亜硫酸ナトリウムによる
還元のようなｐＨや酸化還元電位測定による制御が不要
で装置構成、保守も簡単であるに加え、上記酸化処理に
より還元剤によるｐＨ処理調整用薬品への影響もない。
光ファイバ製造工程の排ガス処理に好適である。
液）と反応させ生成する塩を含む液を引き抜き、該引き
抜き液に高アルカリ性のままでチオ硫酸ナトリウムを添
加して還元する化学的解毒処理に付し、次にｐＨ調整等
処理系に導入して処理済排水とする。一方上記引き抜き
により減少する吸収液に相当する量を未汚染の吸収液で
補充する。特に好ましくはｐＨ処理調整等処理系に導入
する前に残存チオ硫酸ナトリウムを酸化槽に導き大気と
接触させて酸化させる。従来の亜硫酸ナトリウムによる
還元のようなｐＨや酸化還元電位測定による制御が不要
で装置構成、保守も簡単であるに加え、上記酸化処理に
より還元剤によるｐＨ処理調整用薬品への影響もない。
光ファイバ製造工程の排ガス処理に好適である。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は塩素ガス含有排ガスの処
理、詳しくはガス及び／又は蒸気の形態で、塩素ガスを
含む汚染物質を含有する排ガスから汚染物質を除去する
処理方法及び処理装置に関し、特に光ファイバプリフォ
ームの製造等における排ガス中のダストを除去した後の
塩素ガス含有排ガスの精製に利用できるものであり、汚
染物質吸収液のｐＨ調整等処理系による最終処理工程に
おいて、還元されることにより処理性能に影響を及ぼす
化学薬品を使用する場合に適した方法である。
理、詳しくはガス及び／又は蒸気の形態で、塩素ガスを
含む汚染物質を含有する排ガスから汚染物質を除去する
処理方法及び処理装置に関し、特に光ファイバプリフォ
ームの製造等における排ガス中のダストを除去した後の
塩素ガス含有排ガスの精製に利用できるものであり、汚
染物質吸収液のｐＨ調整等処理系による最終処理工程に
おいて、還元されることにより処理性能に影響を及ぼす
化学薬品を使用する場合に適した方法である。
【０００２】
【従来の技術】従来ダスト除去後の塩素ガス含有排ガス
の処理方法としては、例えば特公平３−６２４４２号公
報に記載される方法がある。その概要は、吸収液として
ＮａＯＨ水溶液等のアルカリ水溶液を用いることによ
り、下記化１の(1) に示すように塩素ガスを吸収液と反
応させてＮａＣｌ及びＮａＯＣｌとして反応容器底部か
らＮａＣｌ及びＮａＯＣｌで汚染された吸収液を抜き取
り、且つ排ガス中のＳｉＯ 2 やＧｅＯ2 が吸収液中に析
出しないように吸収液のｐＨを高い状態に維持するため
に、ｐＨ測定装置によりｐＨを測定しながらアルカリ水
溶液を添加する。抜き取られた汚染吸収液は解毒循環系
に送られ、還元剤として亜硫酸水素ナトリウムを添加し
て下記化１の(2) に示すようにＮａＯＣｌをＮａＣｌに
還元する。液中のＣｌＯ- イオンは、下記化１の（3)に
示す可逆反応によりその存在割合が変化し、ｐＨが高い
ほど反応は右側に進行する。従って未還元状態で中和処
理を行なうとｐＨが低下して（3)の反応が左側へ進行す
るためＣｌ2 ガスが再発生することになってしまう。従
って解毒循環系での処理はＣｌ2 ガス再発生を防ぐため
にアルカリ状態で実施する必要がある。具体的には解毒
循環系を流れる液体のｐＨを測定して処理中に生じる塩
化水素酸及び硫酸が直ちに中和されるよう、つまり液の
ｐＨが７以下に下がらないようにＮａＯＨの添加を制御
する。また亜硫酸ナトリウムの添加は、解毒循環系を流
れる液体の酸化還元電位を連続的に測定し、この測定値
により遊離の塩素イオンが存在しなくなるまで行なう。
還元処理終了後、ｐＨ調整等処理系に送られ排水として
規定されるｐＨに調整された後、排水される。
の処理方法としては、例えば特公平３−６２４４２号公
報に記載される方法がある。その概要は、吸収液として
ＮａＯＨ水溶液等のアルカリ水溶液を用いることによ
り、下記化１の(1) に示すように塩素ガスを吸収液と反
応させてＮａＣｌ及びＮａＯＣｌとして反応容器底部か
らＮａＣｌ及びＮａＯＣｌで汚染された吸収液を抜き取
り、且つ排ガス中のＳｉＯ 2 やＧｅＯ2 が吸収液中に析
出しないように吸収液のｐＨを高い状態に維持するため
に、ｐＨ測定装置によりｐＨを測定しながらアルカリ水
溶液を添加する。抜き取られた汚染吸収液は解毒循環系
に送られ、還元剤として亜硫酸水素ナトリウムを添加し
て下記化１の(2) に示すようにＮａＯＣｌをＮａＣｌに
還元する。液中のＣｌＯ- イオンは、下記化１の（3)に
示す可逆反応によりその存在割合が変化し、ｐＨが高い
ほど反応は右側に進行する。従って未還元状態で中和処
理を行なうとｐＨが低下して（3)の反応が左側へ進行す
るためＣｌ2 ガスが再発生することになってしまう。従
って解毒循環系での処理はＣｌ2 ガス再発生を防ぐため
にアルカリ状態で実施する必要がある。具体的には解毒
循環系を流れる液体のｐＨを測定して処理中に生じる塩
化水素酸及び硫酸が直ちに中和されるよう、つまり液の
ｐＨが７以下に下がらないようにＮａＯＨの添加を制御
する。また亜硫酸ナトリウムの添加は、解毒循環系を流
れる液体の酸化還元電位を連続的に測定し、この測定値
により遊離の塩素イオンが存在しなくなるまで行なう。
還元処理終了後、ｐＨ調整等処理系に送られ排水として
規定されるｐＨに調整された後、排水される。
【化１】
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の技術によれば、
吸収液の解毒循環系において、上記のようにｐＨ及び還
元剤の酸化還元電位を測定しこの測定値に対応して還元
剤としての亜硫酸水素ナトリウムを添加している。酸化
還元電位の測定は液中の塩濃度やｐＨの影響を受け、液
中の亜塩素酸塩濃度との相関が変化するため、非常に複
雑な制御が必要であると共に、ｐＨ及び酸化還元電位の
測定精度を維持するための日常の保守作業が非常に重要
であった。また、上記のように解毒循環系での処理はＣ
ｌ2 ガス再発生を防ぐためにアルカリ状態で実施する
が、還元剤の亜硫酸ナトリウムはｐＨが高い状態では酸
化されにくい。従って、過剰投入された場合残存してし
まい、ｐＨ調整等処理系で使用する化学薬品、例えば液
中の固形分を固液分離槽にて分離・除去のために添加す
るＦｅ（ＯＨ）3 等を還元してしまい、後工程の処理装
置の処理性能を阻害する。また投入量が不足した場合は
液中に次亜塩素酸塩が残留し、中和処理時に塩素ガスと
して再発生するため、適正な処理状態を維持することが
非常に難しかった。このように従来の液質測定による管
理では安定した還元解毒処理状態を保つことが困難であ
り、手間もかかった。
吸収液の解毒循環系において、上記のようにｐＨ及び還
元剤の酸化還元電位を測定しこの測定値に対応して還元
剤としての亜硫酸水素ナトリウムを添加している。酸化
還元電位の測定は液中の塩濃度やｐＨの影響を受け、液
中の亜塩素酸塩濃度との相関が変化するため、非常に複
雑な制御が必要であると共に、ｐＨ及び酸化還元電位の
測定精度を維持するための日常の保守作業が非常に重要
であった。また、上記のように解毒循環系での処理はＣ
ｌ2 ガス再発生を防ぐためにアルカリ状態で実施する
が、還元剤の亜硫酸ナトリウムはｐＨが高い状態では酸
化されにくい。従って、過剰投入された場合残存してし
まい、ｐＨ調整等処理系で使用する化学薬品、例えば液
中の固形分を固液分離槽にて分離・除去のために添加す
るＦｅ（ＯＨ）3 等を還元してしまい、後工程の処理装
置の処理性能を阻害する。また投入量が不足した場合は
液中に次亜塩素酸塩が残留し、中和処理時に塩素ガスと
して再発生するため、適正な処理状態を維持することが
非常に難しかった。このように従来の液質測定による管
理では安定した還元解毒処理状態を保つことが困難であ
り、手間もかかった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の手段として、本発明は塩素ガスを含む汚染物質を含有
する排ガスをアルカリ水溶液からなる吸収液の循環系を
通過させて、該吸収液と上記排ガスとの化学反応により
生成される塩を含有する吸収液の一部を引き抜き、該引
き抜いた液を解毒系において還元剤による化学的解毒処
理に付し、次に化学的解毒処理後の液をｐＨ調整等処理
系に導入して処理済排水とし、一方上記吸収液の循環系
において上記引き抜きにより減少する吸収液に相当する
量を未汚染の吸収液で補充することにより上記排ガスを
精製する処理方法において、上記還元剤としてチオ硫酸
ナトリウムを使用することを特徴とする。本発明におい
ては、上記チオ硫酸ナトリウムは塩素ガスとアルカリ水
溶液の反応により発生しうる次亜塩素酸塩の最大量を還
元するに足りる量以上を定量供給し、且つ化学的解毒処
理後の液はｐＨ調整等処理系に導入する前に余剰のチオ
硫酸ナトリウムを酸化させることによりｐＨ調整等処理
系で使用する化学薬品の還元を防止することが特に望ま
しい。また、本発明の処理装置は塩素ガスを含む汚染
物質を含有する排ガスをアルカリ水溶液からなる吸収液
と接触させる吸収塔を有する吸収処理系、該吸収塔下
部から汚染吸収液の一部を引き抜き還元解毒槽に移送す
るための管に連通し且つチオ硫酸ナトリウム供給，混合
手段を有する還元解毒槽、該還元解毒槽の後流に設け
られた還元解毒処理済液中の残存チオ硫酸ナトリウムを
酸化させる酸化処理槽、該酸化処理槽に連通したｐＨ
調整等処理系、及び引き抜き液量に対応した未汚染の
吸収液を吸収処理系に補充する手段、からなる。本発明
装置において、上記汚染吸収液の引き抜き及び未汚染吸
収液の補充は定量供給ポンプによるものが特に好ましい
実施態様である。
の手段として、本発明は塩素ガスを含む汚染物質を含有
する排ガスをアルカリ水溶液からなる吸収液の循環系を
通過させて、該吸収液と上記排ガスとの化学反応により
生成される塩を含有する吸収液の一部を引き抜き、該引
き抜いた液を解毒系において還元剤による化学的解毒処
理に付し、次に化学的解毒処理後の液をｐＨ調整等処理
系に導入して処理済排水とし、一方上記吸収液の循環系
において上記引き抜きにより減少する吸収液に相当する
量を未汚染の吸収液で補充することにより上記排ガスを
精製する処理方法において、上記還元剤としてチオ硫酸
ナトリウムを使用することを特徴とする。本発明におい
ては、上記チオ硫酸ナトリウムは塩素ガスとアルカリ水
溶液の反応により発生しうる次亜塩素酸塩の最大量を還
元するに足りる量以上を定量供給し、且つ化学的解毒処
理後の液はｐＨ調整等処理系に導入する前に余剰のチオ
硫酸ナトリウムを酸化させることによりｐＨ調整等処理
系で使用する化学薬品の還元を防止することが特に望ま
しい。また、本発明の処理装置は塩素ガスを含む汚染
物質を含有する排ガスをアルカリ水溶液からなる吸収液
と接触させる吸収塔を有する吸収処理系、該吸収塔下
部から汚染吸収液の一部を引き抜き還元解毒槽に移送す
るための管に連通し且つチオ硫酸ナトリウム供給，混合
手段を有する還元解毒槽、該還元解毒槽の後流に設け
られた還元解毒処理済液中の残存チオ硫酸ナトリウムを
酸化させる酸化処理槽、該酸化処理槽に連通したｐＨ
調整等処理系、及び引き抜き液量に対応した未汚染の
吸収液を吸収処理系に補充する手段、からなる。本発明
装置において、上記汚染吸収液の引き抜き及び未汚染吸
収液の補充は定量供給ポンプによるものが特に好ましい
実施態様である。
【０００５】
【作用】本発明者等は、解毒処理系においてチオ硫酸ナ
トリウムを添加すれば引き抜いた液そのままの高いｐＨ
状態で次亜塩素酸塩の中和処理が可能となること、及び
余剰に供給されたチオ硫酸ナトリウムをｐＨ調整系に導
入する前にバブリング等により酸化処理することを考え
つき、本発明に到達した。本発明の方法で処理を行う場
合、還元剤は製造工程での使用原料量から理論的に発生
しうる次亜塩素酸塩の最大量を処理できる量以上を定量
供給することにより、投入量の不足という事態は防止さ
れる。しかも引き抜き液のｐＨは高いままでよいから従
来の亜硫酸水素ナトリウムの場合のようなｐＨ測定や酸
化還元電位の測定は不要である。従って、複雑な制御系
及び日常の保守作業の必要なｐＨ、酸化還元電位の測定
装置が不要となるため、装置を殆ど保守することなく安
定な除外処理状態を維持することができる。またチオ硫
酸ナトリウムはｐＨが高い状態でも酸化させることがで
きるので余剰分をバブリング等で酸化処理すれば、ｐＨ
調整処理系で使用する化学薬品が還元されてその性能が
阻害されるのを防止できる。
トリウムを添加すれば引き抜いた液そのままの高いｐＨ
状態で次亜塩素酸塩の中和処理が可能となること、及び
余剰に供給されたチオ硫酸ナトリウムをｐＨ調整系に導
入する前にバブリング等により酸化処理することを考え
つき、本発明に到達した。本発明の方法で処理を行う場
合、還元剤は製造工程での使用原料量から理論的に発生
しうる次亜塩素酸塩の最大量を処理できる量以上を定量
供給することにより、投入量の不足という事態は防止さ
れる。しかも引き抜き液のｐＨは高いままでよいから従
来の亜硫酸水素ナトリウムの場合のようなｐＨ測定や酸
化還元電位の測定は不要である。従って、複雑な制御系
及び日常の保守作業の必要なｐＨ、酸化還元電位の測定
装置が不要となるため、装置を殆ど保守することなく安
定な除外処理状態を維持することができる。またチオ硫
酸ナトリウムはｐＨが高い状態でも酸化させることがで
きるので余剰分をバブリング等で酸化処理すれば、ｐＨ
調整処理系で使用する化学薬品が還元されてその性能が
阻害されるのを防止できる。
【０００６】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが本発明はこれに限定されるものではない。 〔実施例〕本発明の一具体例を示す図１により本発明を
詳細に説明する。塩素ガス含有の排ガスを吸収塔１へ導
入し、また吸収液循環ポンプ２及びアルカリ水溶液供給
定量ポンプ３により吸収液を吸収塔１に供給する。ここ
で、上記排ガス内の塩素ガス塔の汚染物質の除害処理の
ために、ｐＨ値が少なくとも１０〜１２の水酸化ナトリ
ウム（ＮａＯＨ）水溶液を吸収液として使用する。吸収
塔１内のスプレーノズル１５によりスプレーされた吸収
液、及び吸収液により湿った吸収塔充填物１６との接触
により、精製される排ガスを吸収塔１内で吸収液と良く
混合する。これにより、化２に示す式(1) の化学的吸収
反応が生じる。
るが本発明はこれに限定されるものではない。 〔実施例〕本発明の一具体例を示す図１により本発明を
詳細に説明する。塩素ガス含有の排ガスを吸収塔１へ導
入し、また吸収液循環ポンプ２及びアルカリ水溶液供給
定量ポンプ３により吸収液を吸収塔１に供給する。ここ
で、上記排ガス内の塩素ガス塔の汚染物質の除害処理の
ために、ｐＨ値が少なくとも１０〜１２の水酸化ナトリ
ウム（ＮａＯＨ）水溶液を吸収液として使用する。吸収
塔１内のスプレーノズル１５によりスプレーされた吸収
液、及び吸収液により湿った吸収塔充填物１６との接触
により、精製される排ガスを吸収塔１内で吸収液と良く
混合する。これにより、化２に示す式(1) の化学的吸収
反応が生じる。
【化２】 Cl2 + NaOH → NaCl + NaOCl + H2O ・・(1) 上記(1) の吸収反応の結果として、ＮａＣｌ（普通の
塩）及びＮａＣｌＯ（次亜塩素酸ナトリウム）で汚染さ
れた吸収液を、吸収塔１の低部より汚染吸収液移送ポン
プ３により常時定量引き抜き、他方で移送配管内の還元
剤供給定量ポンプ５より常時定量混合するチオ硫酸ナト
リウム（Ｎａ2 Ｓ2 Ｏ3 ）とともに還元解毒槽６に送
る。槽６内で還元解毒槽撹拌機により汚染吸収液とチオ
硫酸ナトリウムを良く混合し、化３に示す式(4) の化学
反応による解毒処理を行う。
塩）及びＮａＣｌＯ（次亜塩素酸ナトリウム）で汚染さ
れた吸収液を、吸収塔１の低部より汚染吸収液移送ポン
プ３により常時定量引き抜き、他方で移送配管内の還元
剤供給定量ポンプ５より常時定量混合するチオ硫酸ナト
リウム（Ｎａ2 Ｓ2 Ｏ3 ）とともに還元解毒槽６に送
る。槽６内で還元解毒槽撹拌機により汚染吸収液とチオ
硫酸ナトリウムを良く混合し、化３に示す式(4) の化学
反応による解毒処理を行う。
【化３】 4NaClO + Na2S2O3 + 2NaOH → 2Na2SO4 + 4NaCl + H2O ・・(4) 上記(3) の化学反応から明らかなように、Ｃｌ2 （塩素
ガス）１モルに対してそれより発生する１モルのＮａＣ
ｌＯは１／４モルのＮａ2 Ｓ2 Ｏ3 にて還元されるた
め、吸収塔１に負荷されうる最大塩素ガス量の１／４モ
ル以上のチオ硫酸ナトリウムを常時定量供給することに
より、発生する亜塩素酸ナトリウムは残存することなく
全て解毒処理される。また、Ｃｌ2 発生量、使用量が少
ない場合に、余剰となるチオ硫酸ナトリウムを、酸化処
理槽８において空気供給ポンプ９より供給する空気によ
るバブリングによって化４に示される式（5)の化学反応
による酸化処理を行う。
ガス）１モルに対してそれより発生する１モルのＮａＣ
ｌＯは１／４モルのＮａ2 Ｓ2 Ｏ3 にて還元されるた
め、吸収塔１に負荷されうる最大塩素ガス量の１／４モ
ル以上のチオ硫酸ナトリウムを常時定量供給することに
より、発生する亜塩素酸ナトリウムは残存することなく
全て解毒処理される。また、Ｃｌ2 発生量、使用量が少
ない場合に、余剰となるチオ硫酸ナトリウムを、酸化処
理槽８において空気供給ポンプ９より供給する空気によ
るバブリングによって化４に示される式（5)の化学反応
による酸化処理を行う。
【化４】 Na2S2O3 ＋ 2O2 ＋ 2NaOH → 2Na2SO4 ＋ H2O ・・・(5) ここで解毒処理済汚染吸収液はｐＨの高いアルカリ性の
状態にあるが、チオ硫酸ナトリウムは従来使用されてい
た亜硫酸水素ナトリウムとは異なり、アルカリ性の状態
においても上記酸化反応を行うことが可能である。以上
の解毒処理及び余剰還元剤の酸化処理が完了した後に酸
化処理槽水位計１０による水位制御により運転される解
毒済吸収液引き抜きポンプ１１によりｐＨ調整等処理系
に移送される。
状態にあるが、チオ硫酸ナトリウムは従来使用されてい
た亜硫酸水素ナトリウムとは異なり、アルカリ性の状態
においても上記酸化反応を行うことが可能である。以上
の解毒処理及び余剰還元剤の酸化処理が完了した後に酸
化処理槽水位計１０による水位制御により運転される解
毒済吸収液引き抜きポンプ１１によりｐＨ調整等処理系
に移送される。
【０００７】具体的な例として、最大供給能力が22.4リ
ットル／min の塩素ガス供給装置を有する排ガス発生源
からの排ガスを処理する場合を説明する。塩素ガスは１
モル／min である為、その処理に必要なＮａＯＨは下記
化学式（1)
ットル／min の塩素ガス供給装置を有する排ガス発生源
からの排ガスを処理する場合を説明する。塩素ガスは１
モル／min である為、その処理に必要なＮａＯＨは下記
化学式（1)
【化５】 Cl2 + NaOH → NaCl + NaOCl + H2O ・・・(1) より２モル／min である。従って、図１の吸収液供給定
量ポンプ４にて５％のＮａＯＨを供給するとき必要な吸
収液量は、 2モル／min ×40(NaOH 質量数）／0.05／1.06（5%NaOH
の比重）＝約1.5 リットル／min である。また、このとき発生する塩は前記化学式（1)よ
り１モルのＮａＣｌであり、吸収液中の塩濃度は、 1モル／min ×58.5(NaCl 質量数）／1.5 リットル／min
(液量）＝約39 g／リットル となる。ＮａＣｌの溶解度は 35.7g(0℃）／100g H2O
であるから、吸収液の供給量以上の量を汚染吸収液とし
て引き抜くことにより、汚染吸収液中には析出しない。
本例では1.6 リットル／min の割合で汚染吸収液を汚染
吸収液移送ポンプ３にて連続的に引き抜くことにより汚
染吸収液中に塩が析出することはなく、またこの引き抜
きにより減少する吸収液量 0.1リットル／min を吸収液
補給ポンプ１７で補給する。これにより吸収塔１に供給
される吸収液の総量は全塩素ガスの処理に必要な量以上
となるため、常にｐＨの高いアルカリ状態を維持するこ
とができる。還元解毒槽６に移送される汚染吸収液中の
ＮａＯＣｌはＮａＣｌと同じく１モル／min であるか
ら、これを還元するために必要なＮａ2 Ｓ2 Ｏ3 の量は
下記化学式(4)
量ポンプ４にて５％のＮａＯＨを供給するとき必要な吸
収液量は、 2モル／min ×40(NaOH 質量数）／0.05／1.06（5%NaOH
の比重）＝約1.5 リットル／min である。また、このとき発生する塩は前記化学式（1)よ
り１モルのＮａＣｌであり、吸収液中の塩濃度は、 1モル／min ×58.5(NaCl 質量数）／1.5 リットル／min
(液量）＝約39 g／リットル となる。ＮａＣｌの溶解度は 35.7g(0℃）／100g H2O
であるから、吸収液の供給量以上の量を汚染吸収液とし
て引き抜くことにより、汚染吸収液中には析出しない。
本例では1.6 リットル／min の割合で汚染吸収液を汚染
吸収液移送ポンプ３にて連続的に引き抜くことにより汚
染吸収液中に塩が析出することはなく、またこの引き抜
きにより減少する吸収液量 0.1リットル／min を吸収液
補給ポンプ１７で補給する。これにより吸収塔１に供給
される吸収液の総量は全塩素ガスの処理に必要な量以上
となるため、常にｐＨの高いアルカリ状態を維持するこ
とができる。還元解毒槽６に移送される汚染吸収液中の
ＮａＯＣｌはＮａＣｌと同じく１モル／min であるか
ら、これを還元するために必要なＮａ2 Ｓ2 Ｏ3 の量は
下記化学式(4)
【化６】 4NaClO + Na2S2O3 + 2NaOH → 2Na2SO4 + 4NaCl + H2O ・・(4) により、 1/4 モル／min × 113(Na2S2O3質量数）＝約28.3 g／mi
n となる。また、供給するＮａ2 Ｓ2 Ｏ3 の全量が余剰と
なった場合を考慮して、酸化処理槽８で酸化処理するた
めに必要な酸素量は、下記化学式(5）
n となる。また、供給するＮａ2 Ｓ2 Ｏ3 の全量が余剰と
なった場合を考慮して、酸化処理槽８で酸化処理するた
めに必要な酸素量は、下記化学式(5）
【化７】 Na2S2O3 ＋ 2O2 ＋ 2NaOH → 2Na2SO4 ＋ H2O ・・・(5) からＮａ2 Ｓ2 Ｏ3 の２倍のモル量であるから、 28.3 g／min ／113 ×2 ×22.4リットル／モル＝11.2リ
ットル／min となる。ここで空気中の酸素濃度は約20％であるから、
バブリングに使用する空気供給ポンプ９にて供給する空
気の必要量は、 11.2リットル／min ／0.2 ＝56リットル／min となる。従って、還元解毒槽６に28.3 g／min のＮａ2
Ｓ2 Ｏ3 を還元剤供給定量ポンプ５にて定量供給し、酸
化処理槽８に56リットル／min 以上の空気を空気供給ポ
ンプ９にて供給することにより、ＣｌＯは全て還元処理
され、また余剰な還元剤も全て酸化できる。
ットル／min となる。ここで空気中の酸素濃度は約20％であるから、
バブリングに使用する空気供給ポンプ９にて供給する空
気の必要量は、 11.2リットル／min ／0.2 ＝56リットル／min となる。従って、還元解毒槽６に28.3 g／min のＮａ2
Ｓ2 Ｏ3 を還元剤供給定量ポンプ５にて定量供給し、酸
化処理槽８に56リットル／min 以上の空気を空気供給ポ
ンプ９にて供給することにより、ＣｌＯは全て還元処理
され、また余剰な還元剤も全て酸化できる。
【発明の効果】以上説明したように、本発明の方法，装
置にて処理を行う場合、還元剤は発生しうる次亜塩素酸
塩の最大量を処理しうる量以上を定量供給することによ
り、投入量の不足という事態を十分防止することがで
き、且つチオ硫酸ナトリウムはｐＨが高い状態でも酸化
させることが可能であるため、バブリング等の酸化処理
により余剰量を全て酸化させることができ、ｐＨ調整等
処理系で使用する化学薬品が還元されその除害性能を阻
害される事態を十分に防止できる。また、同時に、複雑
な制御系及び日常の保守作業の必要なｐＨ、酸化還元電
位の測定装置を使用する必要がなく、装置を運転するこ
とが可能となるため、装置を殆ど保守することなく、安
定な除害処理状態を維持することができる。
置にて処理を行う場合、還元剤は発生しうる次亜塩素酸
塩の最大量を処理しうる量以上を定量供給することによ
り、投入量の不足という事態を十分防止することがで
き、且つチオ硫酸ナトリウムはｐＨが高い状態でも酸化
させることが可能であるため、バブリング等の酸化処理
により余剰量を全て酸化させることができ、ｐＨ調整等
処理系で使用する化学薬品が還元されその除害性能を阻
害される事態を十分に防止できる。また、同時に、複雑
な制御系及び日常の保守作業の必要なｐＨ、酸化還元電
位の測定装置を使用する必要がなく、装置を運転するこ
とが可能となるため、装置を殆ど保守することなく、安
定な除害処理状態を維持することができる。
【図１】 本発明の一実施例を説明する概略説明図であ
る。
る。
１ 吸収塔、 ２ 吸収塔循環ポンプ、 ３ 汚染
吸収液移送ポンプ、４ 吸収液供給定量ポンプ、 ５
還元剤供給定量ポンプ、 ６ 還元解毒槽、 ７
還元解毒槽撹拌機、 ８ 酸化処理槽、 ９ 空
気供給ポンプ、 １０ 酸化処理槽水位計、 １１
解毒済吸収液引き抜きポンプ、１２ 吸収塔排風機、
１３ ＮａＯＨ貯槽、 １５ Ｎａ2 Ｓ2 Ｏ3 貯
槽、 １６ 吸収塔充填物、 １７ 吸収液補給ポ
ンプ、 １８ 吸収塔循環槽水位計。
吸収液移送ポンプ、４ 吸収液供給定量ポンプ、 ５
還元剤供給定量ポンプ、 ６ 還元解毒槽、 ７
還元解毒槽撹拌機、 ８ 酸化処理槽、 ９ 空
気供給ポンプ、 １０ 酸化処理槽水位計、 １１
解毒済吸収液引き抜きポンプ、１２ 吸収塔排風機、
１３ ＮａＯＨ貯槽、 １５ Ｎａ2 Ｓ2 Ｏ3 貯
槽、 １６ 吸収塔充填物、 １７ 吸収液補給ポ
ンプ、 １８ 吸収塔循環槽水位計。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｇ０２Ｂ 6/00 ３５６ Ａ 7036−2Ｋ
Claims (5)
- 【請求項１】 塩素ガスを含む汚染物質を含有する排ガ
スをアルカリ水溶液からなる吸収液の循環系を通過させ
て、該吸収液と上記排ガスとの化学反応により生成され
る塩を含有する吸収液の一部を引き抜き、該引き抜いた
液を解毒系に導入して上記塩を還元する化学的解毒処理
に付し、次に化学的解毒処理後の液をｐＨ調整等処理系
に導入して処理済排水とし、一方上記吸収液の循環系に
おいて上記引き抜きにより減少する吸収液に相当する量
を未汚染の吸収液で補充することにより上記排ガスを精
製する処理方法において、上記化学的解毒処理は引き抜
いた液をアルカリ性のままでチオ硫酸ナトリウムと反応
させることにより上記塩を還元することを特徴とする塩
素ガス含有排ガスの処理方法。 - 【請求項２】 上記チオ硫酸ナトリウムは塩素ガスとア
ルカリ水溶液の反応により発生しうる次亜塩素酸塩の最
大量を還元するに足りる量以上を定量供給し、且つ化学
的解毒処理後の液を大気と接触させることにより液中に
残存するチオ硫酸ナトリウムを酸化させた後にｐＨ調整
等処理系に導入することを特徴とする請求項１記載の塩
素ガス含有排ガスの処理方法。 - 【請求項３】 上記塩素ガス含有排ガスが光ファイバ製
造工程からの排ガスであることを特徴とする請求項１又
は請求項２に記載の処理方法。 - 【請求項４】 塩素ガスを含む汚染物質を含有する排
ガスをアルカリ水溶液からなる吸収液と接触させる吸収
塔を有する吸収処理系、該吸収塔下部から汚染吸収液
の一部を引き抜き還元解毒槽に移送するための管に連通
し且つチオ硫酸ナトリウム供給，混合手段を有する還元
解毒槽、該還元解毒槽の後流に設けられた還元解毒処
理済液中の残存チオ硫酸ナトリウムを酸化させる酸化処
理槽、該酸化処理槽に連通したｐＨ調整等処理系、及
び引き抜き液量に対応した未汚染の吸収液を吸収処理
系に補充する手段、からなる塩素ガス含有排ガスの処理
装置。 - 【請求項５】 上記汚染吸収液の引き抜き及び未汚染吸
収液の補充が定量供給ポンプによるものであることを特
徴とする請求項４記載の塩素ガス含有排ガスの処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5239834A JPH0796133A (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | 塩素ガスを含有する排ガスの処理方法及び処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5239834A JPH0796133A (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | 塩素ガスを含有する排ガスの処理方法及び処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0796133A true JPH0796133A (ja) | 1995-04-11 |
Family
ID=17050556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5239834A Pending JPH0796133A (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | 塩素ガスを含有する排ガスの処理方法及び処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0796133A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998025689A1 (en) * | 1996-12-09 | 1998-06-18 | Imperial Chemical Industries Plc | Process for removing chlorine from gas stream |
| FR2762234A1 (fr) * | 1997-04-17 | 1998-10-23 | Cifec | Installation pour la neutralisation de fuites de chlore |
| WO2006027889A1 (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-16 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 無害化方法およびその実施に用いる設備 |
| CN101322904B (zh) | 2008-07-16 | 2010-12-08 | 中国科学技术大学 | 一种氯气洗消剂 |
| CN103599692A (zh) * | 2013-10-17 | 2014-02-26 | 中国石油化工股份有限公司 | 捕消氯气的方法 |
| RU2710197C1 (ru) * | 2019-06-11 | 2019-12-24 | Геворк Вазгенович Арутюнян | Способ нейтрализации аварийных выбросов газообразного хлора и установка для его осуществления |
| CN113491938A (zh) * | 2021-08-03 | 2021-10-12 | 安徽康菲尔检测科技有限公司 | 一种含氯有机废气的处理装置及其使用方法 |
| JP2023182436A (ja) * | 2022-06-14 | 2023-12-26 | 水ｉｎｇ株式会社 | 酸化剤廃液の還元処理方法 |
-
1993
- 1993-09-27 JP JP5239834A patent/JPH0796133A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998025689A1 (en) * | 1996-12-09 | 1998-06-18 | Imperial Chemical Industries Plc | Process for removing chlorine from gas stream |
| FR2762234A1 (fr) * | 1997-04-17 | 1998-10-23 | Cifec | Installation pour la neutralisation de fuites de chlore |
| WO2006027889A1 (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-16 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 無害化方法およびその実施に用いる設備 |
| CN101322904B (zh) | 2008-07-16 | 2010-12-08 | 中国科学技术大学 | 一种氯气洗消剂 |
| CN103599692A (zh) * | 2013-10-17 | 2014-02-26 | 中国石油化工股份有限公司 | 捕消氯气的方法 |
| RU2710197C1 (ru) * | 2019-06-11 | 2019-12-24 | Геворк Вазгенович Арутюнян | Способ нейтрализации аварийных выбросов газообразного хлора и установка для его осуществления |
| CN113491938A (zh) * | 2021-08-03 | 2021-10-12 | 安徽康菲尔检测科技有限公司 | 一种含氯有机废气的处理装置及其使用方法 |
| JP2023182436A (ja) * | 2022-06-14 | 2023-12-26 | 水ｉｎｇ株式会社 | 酸化剤廃液の還元処理方法 |
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