JPH0362497A - 薄膜エレクトロルミネッセント素子 - Google Patents
薄膜エレクトロルミネッセント素子Info
- Publication number
- JPH0362497A JPH0362497A JP1196978A JP19697889A JPH0362497A JP H0362497 A JPH0362497 A JP H0362497A JP 1196978 A JP1196978 A JP 1196978A JP 19697889 A JP19697889 A JP 19697889A JP H0362497 A JPH0362497 A JP H0362497A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- moisture
- film
- proof
- electroluminescent element
- Prior art date
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- Pending
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は薄膜エレクトロルミネッセント素子(以下薄膜
EL素子と記す)、特に緻密な防湿膜を有する薄膜EL
素子に関する。
EL素子と記す)、特に緻密な防湿膜を有する薄膜EL
素子に関する。
[従来の技術]
薄膜EL素子は、EL発光層に高電界を印加することで
発光を得る発光素子である。EL発光層に用いられる材
料自体は、大気中において不安定な場合が多く、そのた
め素子形成後、背面からガラス板を装着し、薄膜EL素
子とガラス板との間にシリコンオイルなどの封止剤を注
入することで、素子を大気と遮断するという方法が実用
化されている。しかし、この場合、薄膜EL素子の作製
工程が複雑になり、又素子自体の重量および体積が大き
くなるという欠点がある。そのため、薄膜EL素子を大
気中から保護するために、素子が形成された後、防湿膜
を素子全面に形成するという方法が開示されている(例
えば、特開昭81−224290)。防湿膜の条件とし
ては、化学的に安定であり、膜の緻密性が高いことが必
要である。化学的に安定な材料としては、窒化物や炭化
物等があるが、従来技術を用いて作製されたこれらの材
料の防湿膜は未だに実用化には至っていない。
発光を得る発光素子である。EL発光層に用いられる材
料自体は、大気中において不安定な場合が多く、そのた
め素子形成後、背面からガラス板を装着し、薄膜EL素
子とガラス板との間にシリコンオイルなどの封止剤を注
入することで、素子を大気と遮断するという方法が実用
化されている。しかし、この場合、薄膜EL素子の作製
工程が複雑になり、又素子自体の重量および体積が大き
くなるという欠点がある。そのため、薄膜EL素子を大
気中から保護するために、素子が形成された後、防湿膜
を素子全面に形成するという方法が開示されている(例
えば、特開昭81−224290)。防湿膜の条件とし
ては、化学的に安定であり、膜の緻密性が高いことが必
要である。化学的に安定な材料としては、窒化物や炭化
物等があるが、従来技術を用いて作製されたこれらの材
料の防湿膜は未だに実用化には至っていない。
[発明が解決しようとする課題]
本発明は、化学的に安定でしかも緻密性の優れた防湿膜
を有する薄膜EL索子によって上記問題を解決しようと
するものである。
を有する薄膜EL索子によって上記問題を解決しようと
するものである。
[課題を解決するための手段]
上記課題を解決するための本発明の構成は、少くとも片
側に絶縁体層を有するエレクトロルミネッセント発光層
の両側に互いに直交する電極を有する交流薄膜エレクト
ロルミネッセント素子の最外部に形成した防湿膜が、希
土類酸化物を含有する膜厚0.5〜2.0μ口の窒化ケ
イ素または窒化アルミニウムである薄膜エレクトロルミ
ネッセント素子である。
側に絶縁体層を有するエレクトロルミネッセント発光層
の両側に互いに直交する電極を有する交流薄膜エレクト
ロルミネッセント素子の最外部に形成した防湿膜が、希
土類酸化物を含有する膜厚0.5〜2.0μ口の窒化ケ
イ素または窒化アルミニウムである薄膜エレクトロルミ
ネッセント素子である。
この構成によって従来よりも優れたEL特性を示す素子
が得られた。
が得られた。
窒化ケイ素あるいは窒化アルミニウムに希土類酸化物を
添加することで、作製した薄膜の緻密性が改善され、そ
の結果、薄膜の封止効果が向上する。そのため、添加す
る希土類酸化物の濃度は、少くとも 1wt%以上が必
要である。また、5wt%以上では緻密性に変化がみら
れない。
添加することで、作製した薄膜の緻密性が改善され、そ
の結果、薄膜の封止効果が向上する。そのため、添加す
る希土類酸化物の濃度は、少くとも 1wt%以上が必
要である。また、5wt%以上では緻密性に変化がみら
れない。
ゆえに添加する希土類酸化物の濃度範囲は1〜5 vt
%が望ましい。
%が望ましい。
又、防湿膜の膜厚については少くとも0.5μm以上で
なければ、防湿効果が得られなく、2.0μmを越える
と薄膜作製後に剥離が生じる。
なければ、防湿効果が得られなく、2.0μmを越える
と薄膜作製後に剥離が生じる。
そのため、最適膜厚としては0,5〜2.0μmの範囲
が望ましい。
が望ましい。
本発明を構成する際、発光層の形成方法は特に限定する
必要はない。
必要はない。
薄膜EL素子の構造としては、何ら制限されることはな
く、したがって、従来用いられている構造、材料を用い
てもよい。
く、したがって、従来用いられている構造、材料を用い
てもよい。
以下、本発明を実施例によって、具体的に説明する。
[実施例]
ここでは、第1図に示したような構造を有するSrS:
Ce薄膜EL素子を作製した。
Ce薄膜EL素子を作製した。
ガラス基板1上にZnO:Al透明電極2を形成し、次
に絶縁層3としてAINをRFマグネトロンスパッタ法
を用いて作製した。
に絶縁層3としてAINをRFマグネトロンスパッタ法
を用いて作製した。
次に発光層4であるSrS:Ce薄膜を電子ビーム蒸着
法を用いて、基板温度500℃で形成した。そして発光
層形成後、絶縁層5として先程と同様な方法で薄膜形成
を行い、最後に背面電極6として、AI薄膜を形成した
。
法を用いて、基板温度500℃で形成した。そして発光
層形成後、絶縁層5として先程と同様な方法で薄膜形成
を行い、最後に背面電極6として、AI薄膜を形成した
。
最後にAINにY2O3をlvt%添加したターゲット
を用いて、RFマグネトロンスパッタ法で薄膜(防湿膜
7)を作製した。その際、膜厚を0.3.0.5.1.
0.2.0μa+の4種類についてそれぞれ作製した(
2,0μmを越える素子については、防湿膜が剥離を起
こしたため、本実施例では考慮しない)。
を用いて、RFマグネトロンスパッタ法で薄膜(防湿膜
7)を作製した。その際、膜厚を0.3.0.5.1.
0.2.0μa+の4種類についてそれぞれ作製した(
2,0μmを越える素子については、防湿膜が剥離を起
こしたため、本実施例では考慮しない)。
このようにして得られたSrS:Ce薄膜EL素子のそ
れぞれの発光輝度の時間変化を第2図に示す。素子の励
起には1kHz 、 100μsの両極性パルス波電
圧を印加した。比較のために、防湿膜を形成していない
同様な素子とY2O3を添加せず、同じ膜厚を有するA
IN膜を防湿膜に用いた素子についても示す。
れぞれの発光輝度の時間変化を第2図に示す。素子の励
起には1kHz 、 100μsの両極性パルス波電
圧を印加した。比較のために、防湿膜を形成していない
同様な素子とY2O3を添加せず、同じ膜厚を有するA
IN膜を防湿膜に用いた素子についても示す。
表
(第2図の説明)
第2図からもわかるように、何れの素子も時間と共に発
光輝度は減少していくが、その程度はY2O3を添加し
た防湿膜を有する素子のほうが小さい。また、それらの
中でも、防湿膜の膜厚が0.5μm以上の素子の特性が
優れていることがわかる。
光輝度は減少していくが、その程度はY2O3を添加し
た防湿膜を有する素子のほうが小さい。また、それらの
中でも、防湿膜の膜厚が0.5μm以上の素子の特性が
優れていることがわかる。
以上のようにAINにY2O3を添加することで従来技
術より優れたEL特性が得られた。
術より優れたEL特性が得られた。
本実施例では、希土類酸化物としてY2O3を用いたが
、他の希土類酸化物、例えばLa2O3、(: e O
2、P r O2、N d 203、Smz 03、G
d2O3、DY203等を用いても同様な効果が得られ
た。
、他の希土類酸化物、例えばLa2O3、(: e O
2、P r O2、N d 203、Smz 03、G
d2O3、DY203等を用いても同様な効果が得られ
た。
また、AINの代わりにSi3N4を用いても、希土類
酸化物の添加効果は同様なものが得られた。
酸化物の添加効果は同様なものが得られた。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば従来の薄膜EL素
子より作製が容易で、しかも寿命が長い素子を提供する
ことができる。
子より作製が容易で、しかも寿命が長い素子を提供する
ことができる。
第1図は本発明の薄膜EL素子の具体的構成を示す断面
の模式図、 第2図は薄膜EL素子の防湿膜の性質とEL素子の発光
強度の経時変化の関係を示すグラフである。 l・・・ガラス基板、2・・・透明電極、3.5・・・
絶縁層、4・・・発光層、 6・・・背面電極、7・・
・防湿膜。
の模式図、 第2図は薄膜EL素子の防湿膜の性質とEL素子の発光
強度の経時変化の関係を示すグラフである。 l・・・ガラス基板、2・・・透明電極、3.5・・・
絶縁層、4・・・発光層、 6・・・背面電極、7・・
・防湿膜。
Claims (1)
- 少くとも片側に絶縁体層を有するエレクトロルミネッ
セント発光層の両側に互いに直交する電極を有する交流
薄膜エレクトロルミネッセント素子の最外部に形成した
防湿膜が、希土類酸化物を含有する膜厚0.5〜2.0
μmの窒化ケイ素または窒化アルミニウムであることを
特徴とする薄膜エレクトロルミネッセント素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1196978A JPH0362497A (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 薄膜エレクトロルミネッセント素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1196978A JPH0362497A (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 薄膜エレクトロルミネッセント素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0362497A true JPH0362497A (ja) | 1991-03-18 |
Family
ID=16366805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1196978A Pending JPH0362497A (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 薄膜エレクトロルミネッセント素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0362497A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7067976B2 (en) | 2001-07-03 | 2006-06-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device, method of manufacturing a light-emitting device, and electronic equipment |
| US9178168B2 (en) | 2001-06-20 | 2015-11-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | White light emitting device |
| CN107555488A (zh) * | 2017-08-25 | 2018-01-09 | 陕西科技大学 | 一种含钴层状钛酸钾板状粒子及其水热制备方法 |
-
1989
- 1989-07-31 JP JP1196978A patent/JPH0362497A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9178168B2 (en) | 2001-06-20 | 2015-11-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | White light emitting device |
| US7067976B2 (en) | 2001-07-03 | 2006-06-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device, method of manufacturing a light-emitting device, and electronic equipment |
| US7129102B2 (en) | 2001-07-03 | 2006-10-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device, method of manufacturing a light-emitting device, and electronic equipment |
| US7372200B2 (en) | 2001-07-03 | 2008-05-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device, method of manufacturing a light-emitting device, and electronic equipment |
| CN107555488A (zh) * | 2017-08-25 | 2018-01-09 | 陕西科技大学 | 一种含钴层状钛酸钾板状粒子及其水热制备方法 |
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