JPH0362512A - 縮小投影型露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は縮小投影型露光装置に関し、特にマスクの回転
ずれの補正機能に関する。

〔従来の技術〕

従来、縮小投影型露光装置におけるずれ自動補正機能は
、Ｘ−Ｙ方向、半導体ウェハ（以下単にウェハという〉
の回転方向、ウェハの伸び縮み方向及びＸ−Ｙステージ
のＹ軸に対しＸ軸が直角に交差していないずれ等を対象
としていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来の縮小投影型露光装置のずれ補正では、前
工程でマスクが回転していた為に発生する回転方向ずれ
を自動補正することが出来ないためパターン不良が多く
なるという欠点がある。装置に於いて突発的に発生する
回転方向ずれ、あるいは半導体製造工程に於いて高集積
化に共ない重ね合せが厳しくなったために発生するずれ
など、通常微量とも考えられるマスクの回転によって発
生する回転方向ずれは、どれも自動的に補正する必要が
ある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の縮小投影型露光装置は、半導体ウェハを保持し
Ｘ−Ｙ方向に移動可能なＸ−Ｙステージと、前記半導体
ウェハ上に前工程で形成されたアライメント用のマーク
を走査するためのレーザ光源と、前記マーク上を走査し
たレーザ光の散乱光を検出するための信号検出部と、前
記信号検出部からの信号を入力し波形処理することによ
り前記工程でのマスクの回転ずれ量を算出するマスクア
ライメントコントロール部と、前記マスクアライメント
コントロール部からの信号により前記マスクの回転ずれ
を補正するマスクアライメント部とを含んで構成される
。

〔実施例〕

次に本発明について図面を参照して説明する。

第１図は本発明の一実施例を示すブロック図である。

縮小投影露光装置は、ウェハ３を乗せて移動するＸ−Ｙ
ステージ５と、そのＸ−Ｙステージ５の移動量を測定す
るステージ移動測長部４と、ウェハ３内に前工程で形成
された位置検出用のマークを走査する為に必要とするレ
ーザ発振器６と、ハーフミラ−７Ａ、７Ｂを介してマー
クを走査するレーザ光の散乱光を検出する受光素子等か
らなる信号検出部１１と、検出した信号を波形処理しマ
スク１の回転量を算出するマスクアライメントコントロ
ール部１２と、このマスクアライメントコントロール部
１２からの信号により、マスク１を再現良く位置決めす
るマスクアライメント部１３とから主に構成されている
。

第２図は第１図のウェハ３に１回の露光で形成されたパ
ターン（以下ワンショットパターンという〉であり、回
転ずれが生じている場合を示している。第３図及び第４
図は、第２図のアライメント用の第１マーク１４と第２
マーク１５がらのレーザの散乱光を信号検出部１１で受
光し、マスクアライメントコントロール部１２で処理し
た波形図である。

前工程でマスク１が回転していた為に発生したワンショ
ットパターンの回転方向ずれに対し、ウェハ３を乗せて
いるＸ−Ｙステージ５をＹ方向に移動し、第１マーク１
４をレーザ光２で走査し、その後Ｘ−Ｙステージ５をＸ
方向に移動し、同じ場所から隣接する第２マーク１５を
Ｙ方向に走査する。そして、第１マーク１４及び第２マ
ーク１５からの散乱光を第１図に示した信号検出部１１
で検出し、次でこの信号をＣＰＵやメモリー等からなる
マスクアライメントコントロール部１２で処理する。第
３図及び第４図は、第１マーク１４及び第２マーク１５
からの信号を波形で表したものであるが、ここで第１マ
ーク１４及び第２マーク１５の位置差ａ、ｂを比較する
ことによりワンショットパターン１０、すなわち前工程
におけるマスク１の回転ずれ量が分る。従ってその値を
チャックやパルスモータ等から構成されるマスクアライ
メント部１３にフィードバックし、再度マスク１の位置
決めを行う。

以上の一連の動作により、前工程で回転したずれに対す
る補正を自動的に行なえるため、マスク１のずれによる
パターン不良をなくすことができる。

〔発明の効果〕

以上説明した様に本発明は、ウェハに形成されたアライ
メント用のマークを走査するためのレーザ光源と、レー
ザ光の散乱光を検出する信号検出部と、その信号を処理
しマスクの回転ずれ量を算出するマスクアライメントコ
ントロール部と、マスクの回転ずれを補正するマスクア
ライメント部とを設けることにより、前工程で突発的に
発生したマスクの回転方向のずれを補正できるため、パ
ターン不良を低減できるという効果がある。更に、製品
の微細化に共い重ね合せが厳しくなるが、その重ね合せ
の精度を向上させることができるという効果もある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示すブロック図、第２図は
ウェハ上に形成された回転ずれを有するワンショットパ
ターンを示す図、第３図及び第４図は第２図における第
１及び第２マークの波形図である。 １・・・マスク、２・・・レーザ光、３・・・ウェハ、
４・・・ステージ移動測長部、５・・・Ｘ−Ｙステージ
、６・・・レーザ発振器、７Ａ、７Ｂ・・・ハーフミラ
−１■０・・・ワンショットパターン、１１・・・信号
検出部、１２・・・マスクアライメントコントロール部
、１３・・・マスクアライメント部、１４・・・第１マ
ーク、１５・・・第２マーク。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 半導体ウェハを保持しＸ−Ｙ方向に移動可能なＸ−Ｙス
   テージと、前記半導体ウェハ上に前工程で形成されたア
   ライメント用のマークを走査するためのレーザ光源と、
   前記マーク上を走査したレーザ光の散乱光を検出するた
   めの信号検出部と、前記信号検出部からの信号を入力し
   波形処理することにより前記工程でのマスクの回転ずれ
   量を算出するマスクアライメントコントロール部と、前
   記マスクアライメントコントロール部からの信号により
   前記マスクの回転ずれを補正するマスクアライメント部
   とを含むことを特徴とする縮小投影型露光装置。