JPH0363239B2 - - Google Patents
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- JPH0363239B2 JPH0363239B2 JP57011859A JP1185982A JPH0363239B2 JP H0363239 B2 JPH0363239 B2 JP H0363239B2 JP 57011859 A JP57011859 A JP 57011859A JP 1185982 A JP1185982 A JP 1185982A JP H0363239 B2 JPH0363239 B2 JP H0363239B2
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- wiring board
- heat
- liquid phase
- package
- substance
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- Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技枝分野〕
本発明は、アルミナ等の配線基板上に少なくと
も1個以上の発熱素子を実装して全体を気密封止
するパツケージの冷却方法に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Technical field to which the invention pertains] The present invention relates to a method for cooling a package in which at least one heating element is mounted on a wiring board made of alumina or the like and the whole is hermetically sealed. be.
近年、電子機器の小型、軽量化、高信頼性化の
要求が様々な分野に於て高まつて来ており、例え
ば、アルミナ等の高密度多層配線基板上に半導体
素子をチツプ状態で複数個実装し、全体を気密封
止する所謂マルチチツプパツケージング技術が開
発されつつある。この様なパツケージに於ては、
小型、軽量化の要求により今後益々高密度化、高
集積化する傾向にある。それに伴ないパツケージ
の単位面積当りの発熱量は益々増加する傾向にあ
り、高密度パツケージの冷却技術の開発が必要不
可欠なものとなつて来ている。
In recent years, demands for electronic equipment to be smaller, lighter, and more reliable have been increasing in various fields. A so-called multi-chip packaging technology is being developed in which the entire chip is mounted and hermetically sealed. In such a package,
Due to the demand for smaller size and lighter weight, there is a trend toward higher density and higher integration in the future. As a result, the amount of heat generated per unit area of packages tends to increase more and more, and the development of cooling technology for high-density packages has become essential.
従来のこの様な高密度パツケージの冷却方法の
断面図を第1図に示す。アルミナ等の多層配線基
板1−1上の表面には発熱素子である半導体チツ
プ1−2及びそれ等複数個の素子全体を気密封止
するべく、例えば半田あるいはエポキシ等の接着
剤を用いて、あるいは溶接手法等により、前記ア
ルミナ等の配線基板1−1と熱膨張率のほぼ等し
い例えばコバールあるいはFe/Ni42アロイ等の
金属性キヤツプ1−3が支持固定されている。こ
こにおいて前記発熱素子である半導体チツプ1−
2のジヤンクシヨン温度をその最大定格動作温度
以下におさえるべくパツケージを冷却する必要が
あり、従来は、第1図に示す如く、例えばアルミ
等の比較的熱伝導性に優れた金属冷却フイン1−
4を半田あるいはエポキシ等の接着剤1−5を用
いて、前記アルミナ等の配線基板1−1の裏面に
支持固定しパツケージ全体としての表面積を著し
く増加させ、パツケージと空気との熱抵抗を減少
せしめ、また必要に応じては、前記金属冷却フイ
ン1−4にフインにて空気を送り強制空冷を行な
つたり、金属冷却フイン1−4をシステムの筐体
にネジ止め等する事により、パツケージで発熱し
た熱を筐体に逃がしたりする事により、発熱素子
である半導体チツプ1−2のジヤンクシヨン温度
を最大定格動作温度以下に低減していた。 A cross-sectional view of a conventional method for cooling such a high-density package is shown in FIG. On the surface of the multilayer wiring board 1-1 made of alumina or the like, an adhesive such as solder or epoxy is used to hermetically seal the semiconductor chip 1-2, which is a heat generating element, and the entire plurality of elements. Alternatively, a metal cap 1-3 made of, for example, Kovar or Fe/Ni42 alloy, which has approximately the same coefficient of thermal expansion as the wiring board 1-1 made of alumina or the like, is supported and fixed by welding or the like. Here, the semiconductor chip 1- which is the heating element is
It is necessary to cool the package in order to keep the junction temperature of 2 below its maximum rated operating temperature. Conventionally, as shown in FIG.
4 is supported and fixed on the back surface of the wiring board 1-1 made of alumina or the like using solder or an adhesive 1-5 such as epoxy, thereby significantly increasing the surface area of the entire package and reducing the thermal resistance between the package and air. In addition, if necessary, the metal cooling fins 1-4 may be forced to cool by sending air through the metal cooling fins 1-4, or the metal cooling fins 1-4 may be screwed to the system housing to cool the package. By dissipating the heat generated in the casing, the junction temperature of the semiconductor chip 1-2, which is a heat generating element, is reduced to below the maximum rated operating temperature.
しかしながらこの様な方法では、例えばシステ
ム全体の大きさに制約があり冷却用のフアンを取
り付けるスペースのない場合あるいは、システム
全体が非常な悪環境化にさらされ、システムの筐
体自身が発熱素子である半導体チツプ1−2の最
大定格動作温度近傍あるいはそれ以上に成る場合
等の場合に於ては、前記パツケージの発熱素子で
ある半導体チツプ1−2のジヤンクシヨン温度を
その最大定格動作温度以下にする事は、ほぼ不可
能となり、この様な高密度、高集積化されたパツ
ケージを設計製造する事自体が、その発熱のため
発熱素子である半導体チツプ1−2を破壊してし
まい、パツケージとしての機能を果たし得なくな
り、無意味な事と成らざるを得なかつた。すなわ
ちこの熱の問題が、電子機器の小型軽量化の限界
をしいる結果となつていた。 However, with this method, for example, there are restrictions on the overall size of the system and there is no space to install a cooling fan, or the entire system is exposed to a very bad environment, and the system casing itself is a heat generating element. In cases where the maximum rated operating temperature of a certain semiconductor chip 1-2 is close to or above the maximum rated operating temperature, the junction temperature of the semiconductor chip 1-2, which is the heating element of the package, is set to be below its maximum rated operating temperature. It has become almost impossible to design and manufacture such a high-density, highly integrated package. It was no longer able to fulfill its function and had to become meaningless. In other words, this heat problem has resulted in the limit of miniaturization and weight reduction of electronic devices.
本発明は、この様な事情を考慮して成されたも
のであり、その目的とする所は、システム全体に
冷却フアン等を取り付けるスペースの無い場合、
あるいはシステム全体が非常に厳しい環境下にさ
らされるため、システムの筐体自体の温度が発熱
素子である半導体チツプの最大定格動作温度近傍
あるいはそれ以上の高温となる様な場合において
も、何等問題無く、高密度パツケージの発熱素子
である半導体チツプのジヤンクシヨン温度をその
最大定格動作温度以下に冷却する事を可能ならし
める事にあり、ひいては高密度、高集積化をある
程度無限に推進する事を可能ならしめる事にあ
る。
The present invention was made in consideration of such circumstances, and its purpose is to solve problems when there is no space to install a cooling fan or the like in the entire system.
Or, because the entire system is exposed to extremely harsh environments, even if the temperature of the system casing itself is close to or even higher than the maximum rated operating temperature of the semiconductor chip, which is the heating element, there will be no problem. The goal is to make it possible to cool the junction temperature of a semiconductor chip, which is a heat generating element in a high-density package, to below its maximum rated operating temperature, and to make it possible to promote high density and high integration to a certain extent indefinitely. It's about tightening.
本発明は、例えばワツクス(固相→液相)ある
いはナフタリン(固相→液相)あるいはフロロカ
ーボン(液相→気相)等の、常温から発熱素子で
ある半導体チツプの最大定格動作温度(コマーシ
ヤル規格=70℃、MIL規格=125℃〜150℃)ま
での比較的低い温度範囲内で、それ自体が固相か
ら液相あるいは液相から気相等の状態変化を起こ
し、それ自体の融解熱あるいは気化熱によつて吸
熱する物質をパツケージのアルミナ等の配線基板
に支持固定する事によつてパツケージを冷却する
事を特徴としている。
The present invention is based on the maximum rated operating temperature (commercial standard = 70℃, MIL standard = 125℃ to 150℃), the substance itself undergoes a state change such as from solid phase to liquid phase or from liquid phase to gas phase, and its own heat of fusion or vaporization It is characterized by cooling the package by supporting and fixing a substance that absorbs heat to the wiring board of the package, such as alumina.
この方法によれば、前記状態変化を起こし、そ
れ自体の融解熱あるいは気化熱により吸熱する物
質のパツケージに支持固定する重量を増加させる
事により吸熱量をいくらでも増加させる事が可能
となり、発熱素子である半導体チツプのジヤンク
シヨン温度を、その最大定格動作温度以下に冷却
する事が可能となる。
According to this method, by increasing the weight supported and fixed on the package of the substance that causes the state change and absorbs heat by its own heat of fusion or heat of vaporization, it is possible to increase the amount of heat absorbed by the heat generating element. It becomes possible to cool the junction temperature of a certain semiconductor chip to below its maximum rated operating temperature.
以下、図面を参照しながら本発明の実施例を説
明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第2図は、本発明による一実施例を示すもので
ある。2−1はアルミナ等の高密度配線基板であ
り、2−2はその表面に半田あるいは導電エポキ
シ等の接着剤にて支持固定された発熱素子である
半導体チツプである。また2−3は、それ等の半
導体チツプ全体を気密封止すべく、アルミナ等の
配線基板2−1の裏面に支持固定するための金属
性キヤツプを示している。また2−6は本発明に
よる金属性タンク内に封入されている例えばワツ
クス、ナフタリンあるいはフロロカーボン等の常
温から発熱素子である半導体チツプの最大定格動
作温度までの比較的低い温度範囲内で固相から液
相あるいは液相から気相等の状態変化を起こし、
それ自体の融解熱あるいは気化熱により吸熱する
物質である。ここに於て前記金属性タンク2−4
の配線基板2−1の裏面に接していない部分の外
壁の厚さは比較的薄く(0.1〜0.25mm)形成し、
金属性タンク2〜4内に封入されたワツクスある
いはナフタリン等の比較的低い温度で固相から液
相に状態変化しその融解熱にて吸熱する物質2−
6が状態変化を起こした際のそれ自体の体積の増
減あるいは圧力の増減をある程度吸収できる様に
するとより良い。また2−6がフロロカーボン等
の比較的低い温度で液相から気相に状態変化を起
こしその気化熱により吸熱する物質の場合は、前
記金属性タンク2−4のアルミナ等の配線基板2
−1に接していない外壁に少なくとも1個以上の
比較的小さな通孔(直径0.2〜1mmφ)を形成し、
当該通孔を吸熱物質2−6の液相から気相への状
態変化による気相部の気圧の増加によりフロロカ
ーボン等の吸熱物質2−6の沸点が上昇し気化し
なくなるのを防止するため、エポキシあるいはシ
リコン等の比較的柔かい樹脂接着剤で封止してお
き、気圧の増加により当該エポキシあるいはシリ
コン等の比較的柔かい樹脂接着剤が破壊される事
により連続的に液相から気相への状態変化が起こ
る事を可能な様な構造すると良い。 FIG. 2 shows an embodiment according to the present invention. 2-1 is a high-density wiring board made of alumina or the like, and 2-2 is a semiconductor chip, which is a heating element, supported and fixed on the surface thereof with solder or adhesive such as conductive epoxy. Reference numeral 2-3 indicates a metal cap for supporting and fixing to the back surface of the wiring board 2-1 made of alumina or the like in order to hermetically seal the entire semiconductor chip. In addition, 2-6 is a material such as wax, naphthalene, or fluorocarbon sealed in the metal tank according to the present invention, which is removed from the solid phase within a relatively low temperature range from room temperature to the maximum rated operating temperature of the semiconductor chip, which is the heating element. Causes a state change such as a liquid phase or from a liquid phase to a gas phase,
It is a substance that absorbs heat due to its own heat of fusion or heat of vaporization. Here, the metal tank 2-4
The thickness of the outer wall of the portion not in contact with the back surface of the wiring board 2-1 is relatively thin (0.1 to 0.25 mm),
A substance 2- such as wax or naphthalene sealed in metal tanks 2 to 4 that changes state from a solid phase to a liquid phase at a relatively low temperature and absorbs heat with the heat of fusion.
It is better if 6 is able to absorb the increase/decrease in its own volume or the increase/decrease in pressure to some extent when the state changes. In addition, if 2-6 is a substance such as fluorocarbon that changes state from a liquid phase to a gas phase at a relatively low temperature and absorbs heat due to the heat of vaporization, the wiring board 2-6 of the metal tank 2-4, such as alumina,
- form at least one relatively small through hole (diameter 0.2 to 1 mmφ) in the outer wall not in contact with 1;
In order to prevent the endothermic substance 2-6 such as fluorocarbon from increasing its boiling point and becoming no longer vaporized due to an increase in the atmospheric pressure in the gas phase due to the change in the state of the endothermic substance 2-6 from the liquid phase to the gas phase, It is sealed with a relatively soft resin adhesive such as epoxy or silicone, and as the pressure increases, the relatively soft resin adhesive such as epoxy or silicone is destroyed and the liquid phase changes continuously from the liquid phase to the gas phase. It is better to have a structure that allows for state changes to occur.
第3図は本発明による他の実施例であり、この
場合はアルミナ等の配線基板3−1の裏面に半田
あるいはエポキシ等の接着剤あるいは溶接等の手
法によりアルミナ等の配線基板3−1と熱膨張率
のほぼ等しい例えばコバールあるいはFe/Ni42
アロイ等の金属性キヤツプ3−4をまず支持固定
する。この図の場合は溶接による手法を示してお
り、3−5が溶接部、3−13は配線基板3−1
とほぼ熱膨張率の等しい例えばコバールあるいは
Fe/Ni42アロイ等の溶接用金属リングであり、
当該溶接用金属リング3−13は配線基板3−1
の裏面にメタライズされた導体パターン3−11
上に例えば銀ロー等の接着剤3−12により接着
固定されている。本発明による金属性キヤツプ3
−4には配線基板3−1に支持固定される前にあ
らかじめ比較的小さな通孔3−7(直径1〜2mm
φ)を形成しておき、当該比較的小さな通孔3−
7(直径1〜2mmφ)より、固相より液相あるい
は液相より気相に常温から発熱素子である半導体
チツプ3−2の最大定格動作電圧までの比較的低
い温度範囲内で状態変化を起こしそれ自体の融解
熱あるいは気化熱により吸熱する物質3−6を液
相状態にて流し込み、配線基盤3−1と本発明に
よる金属性キヤツプ3−4との間に充填した後、
前記比較的小さな通孔3−7(直径1〜2mmφ)
を半田あるいはエポキシ等の接着剤3−8にて封
止する事により前記吸熱する物質3−6を配線基
板3−1裏面に支持固定する。この場合に於ても
本発明による金属性キヤツプ3−4の板厚は第2
図の場合と同様比較的薄く(0.1〜0.25mm)形成
し、吸熱する物質3−6が例えばワツクスあるい
はナフタリン等の比較的低い温度で固相から液相
に状態変化を起こす際の体積の増減あるいは圧力
の増減によるストレスをある程度吸収する様にす
ると良い。また吸熱する物質3−6が例えばフロ
ロカーボン等の比較的低い温度で液相から気相に
状態変化を起こす物質である場合には、気相部3
−14の圧力の増加により吸熱する物質3−6の
沸点が上昇し気相状態への変化が止まらない様あ
らかじめ本発明による金属性キヤツプ3−4に少
なくとも1個以上の比較的小さな通孔(直径0.2
〜1mmφ)3−9を形成しておき、吸熱する物質
3−6を前記比較的小さな通孔(直径1〜2mm
φ)3−7より液相状態でで流し込み、当該比較
的小さな通孔(直径1〜2mmφ)3−7を半田あ
るいはエポキシ等の接着剤3−8で封止した後、
前記少なくとも1個以上の比較的小さな通孔(直
径0.2〜1mmφ)3−9をエポキシあるいはシリ
コン等の比較的柔かい樹脂接着剤3−10にてふ
きぎ、吸熱する物質3−6が状態変化を起こす際
の圧力の増加により当該エポキシあるいはシリコ
ン等の比較的柔かい樹脂接着剤が破壊される事に
より連続的に吸熱物質3−6が液相から気相への
状態変化が起こる事を可能ならしめると良い。
FIG. 3 shows another embodiment according to the present invention, in which a wiring board 3-1 made of alumina or the like is bonded to the back side of the wiring board 3-1 made of alumina or the like by soldering, an adhesive such as epoxy, or a method such as welding. For example, Kovar or Fe/Ni42 with almost equal coefficient of thermal expansion
First, a metal cap 3-4 made of alloy or the like is supported and fixed. This figure shows the welding method, where 3-5 is the welded part and 3-13 is the wiring board 3-1.
For example, Kovar or
A metal ring for welding such as Fe/Ni42 alloy,
The welding metal ring 3-13 is connected to the wiring board 3-1.
Conductor pattern 3-11 metalized on the back side of
It is adhesively fixed on the top with an adhesive 3-12 such as silver solder. Metallic cap 3 according to the invention
-4 has a relatively small through hole 3-7 (1 to 2 mm in diameter) before it is supported and fixed to the wiring board 3-1.
φ) and the relatively small through hole 3-
7 (diameter 1 to 2 mmφ), the state changes from a solid phase to a liquid phase or from a liquid phase to a gas phase within a relatively low temperature range from room temperature to the maximum rated operating voltage of the semiconductor chip 3-2, which is a heating element. After pouring a substance 3-6 that absorbs heat due to its own heat of fusion or vaporization in a liquid state and filling it between the wiring board 3-1 and the metal cap 3-4 according to the present invention,
The relatively small through hole 3-7 (diameter 1-2 mmφ)
By sealing with an adhesive 3-8 such as solder or epoxy, the heat-absorbing substance 3-6 is supported and fixed to the back surface of the wiring board 3-1. Even in this case, the thickness of the metal cap 3-4 according to the present invention is the second
As in the case shown in the figure, the volume increases and decreases when a substance 3-6 that is formed relatively thin (0.1 to 0.25 mm) and absorbs heat undergoes a state change from a solid phase to a liquid phase at a relatively low temperature, such as wax or naphthalene. Alternatively, it would be better to absorb some stress due to increase or decrease in pressure. Furthermore, if the heat-absorbing substance 3-6 is a substance that changes state from a liquid phase to a gas phase at a relatively low temperature, such as fluorocarbon, the gas phase portion 3-6
At least one relatively small through hole ( Diameter 0.2
~1 mmφ) 3-9 is formed, and the heat-absorbing substance 3-6 is passed through the relatively small through hole (1~2 mm in diameter).
After pouring in liquid phase from φ) 3-7 and sealing the relatively small through hole (diameter 1 to 2 mmφ) 3-7 with adhesive 3-8 such as solder or epoxy,
The at least one relatively small through hole (diameter 0.2 to 1 mmφ) 3-9 is wiped with a relatively soft resin adhesive 3-10 such as epoxy or silicone, so that the heat-absorbing substance 3-6 undergoes a state change. The relatively soft resin adhesive, such as epoxy or silicone, is destroyed by the increase in pressure during the raising process, allowing the endothermic substance 3-6 to continuously change its state from the liquid phase to the gas phase. Good.
第4図は本発明によるその他の実施例であり、
第2図、第3図に於ては本発明による状態変化を
起こし吸熱する物質2−6,3−6は、アルミナ
等の配線基板2−1,3−1の裏面に支持固定さ
れていたが、第4図の実施例に於ては、配線基板
4−1の表面の発熱素子である半導体チツプ4−
2の実装されていない部分に支持固定されてい
る。この場合の例では本発明による比較的小さな
通孔(直径1〜2mm)4−7を有する金属性キヤ
ツプ4−4は半田あるいはエポキシ等の接着剤4
−11にて、配線基板4−1上にメタライズされ
た導体パターン4−5に支持固定されている。吸
熱する物質4−6を液相状態で前記比較的小さな
通孔(直径1〜2mm)4−7を通して配線基板4
−1と金属性キヤツプ4−4の間に流し込み、半
田あるいはエポキシ等の接着剤4−8で比較的小
さな通孔4−7を封止している。この第4図の例
の場合は、特に配線基板4−1の熱伝導率が例え
ばSiC基板の如く非常に優れている時に特に有効
となるであろう。尚4−3は発熱素子である半導
体チツプ4−2全体を気密封止すべく半田あるい
はエポキシ等の接着剤、あるいは溶接等の手法に
より、配線基板4−1に支持固定された当該配線
基板とほぼ熱膨張率の等しいコバールあるいは
Fe/Ni42アロイ等の金属性キヤツプである。 FIG. 4 shows another embodiment according to the present invention,
In FIGS. 2 and 3, substances 2-6 and 3-6 that undergo a state change and absorb heat according to the present invention are supported and fixed on the back surfaces of wiring boards 2-1 and 3-1 made of alumina, etc. However, in the embodiment shown in FIG. 4, the semiconductor chip 4-1, which is the heating element on the surface of the wiring board 4-1,
It is supported and fixed to the unmounted part of 2. In this case, a metal cap 4-4 having a relatively small through hole (1 to 2 mm in diameter) 4-7 according to the present invention is used with an adhesive 4 such as solder or epoxy.
-11, it is supported and fixed to a conductor pattern 4-5 metallized on a wiring board 4-1. The heat-absorbing substance 4-6 is passed through the relatively small through hole (1 to 2 mm in diameter) 4-7 in a liquid phase to the wiring board 4.
-1 and a metal cap 4-4, and a relatively small through hole 4-7 is sealed with an adhesive 4-8 such as solder or epoxy. The example shown in FIG. 4 will be particularly effective when the wiring board 4-1 has very good thermal conductivity, such as a SiC board. Note that 4-3 is a wiring board that is supported and fixed to the wiring board 4-1 using solder, an adhesive such as epoxy, or a method such as welding in order to hermetically seal the entire semiconductor chip 4-2, which is a heating element. Kovar or
It is a metal cap such as Fe/Ni42 alloy.
本発明を採用する事により高密度高集積化に伴
なうパツケージの熱の問題を解決する事が可能と
なり、何等問題なく高密度、高集積化パツケージ
を開発する事が可能となつた。またシステム全体
に冷却フアンを設置するスペースの無い場合ある
いはシステム全体の筐体自身が高温となる様な悪
環境下にさらされる機器等の場合も何等問題なく
高密度パツケージを冷却する事が可能となつた。 By adopting the present invention, it has become possible to solve the problem of heat in the package that accompanies high density and high integration, and it has become possible to develop high density and high integration packages without any problems. In addition, it is possible to cool high-density packages without any problems even if there is no space to install a cooling fan in the entire system, or if the entire system casing itself is exposed to harsh environments where the casing itself is exposed to high temperatures. Summer.
第1図は従来例を説明する為の断面図、第2図
〜第4図は本発明による実施例を説明する為の図
である。
1−1,2−1,3−1,4−1……アルミナ
等の配線基板、1−2,2−2,3−2,4−2
……発熱素子である半導体チツプ、1−3,2−
3,3−3,4−3……半導体チツプを気密封止
するための金属性キヤツプ、1−4……放熱フア
ン、2−4……本発明による金属性タンク、3−
4,4−4……本発明による金属性キヤツプ、3
−7,4−7,3−9……本発明による金属性キ
ヤプに形成された通孔、2−6,3−6,4−6
……比較的低い温度で固相から液相あるいは液相
から気相へと状態変化を起こしその融解熱あるい
は気化熱にて吸熱する物質、1−5,2−5,4
−5……エポキシあるいは半田等の接着剤。
FIG. 1 is a sectional view for explaining a conventional example, and FIGS. 2 to 4 are views for explaining an embodiment according to the present invention. 1-1, 2-1, 3-1, 4-1...Wiring board made of alumina, etc., 1-2, 2-2, 3-2, 4-2
...Semiconductor chip as a heating element, 1-3, 2-
3, 3-3, 4-3...metallic cap for hermetically sealing the semiconductor chip, 1-4...heat dissipation fan, 2-4...metallic tank according to the present invention, 3-
4,4-4...metallic cap according to the present invention, 3
-7, 4-7, 3-9...through hole formed in the metal cap according to the present invention, 2-6, 3-6, 4-6
...A substance that changes state from a solid phase to a liquid phase or from a liquid phase to a gas phase at a relatively low temperature and absorbs heat with its heat of fusion or vaporization, 1-5, 2-5, 4
-5...Adhesive such as epoxy or solder.
Claims (1)
の冷却方法において、前記配線基板の裏面、若し
くは表面の発熱素子を搭載していない部分に、前
記配線基板と略熱膨張率が等しく小さな通孔を有
する金属性キヤツプを固定し、この金属性キヤツ
プの通孔より、液相から気相の状態変化を起こし
その気化熱にて吸熱する物質を液相状態にして、
前記配線基板と前記金属性キヤツプとの間に充填
し、前記金属性キヤツプの通孔を半田或いは接着
剤により封止することを特徴とするパツケージの
冷却方法。1. In a method for cooling a package in which a heat generating element is mounted on a wiring board, a small through hole having a coefficient of thermal expansion approximately equal to that of the wiring board is provided on the back side or the front side of the wiring board where the heat generating element is not mounted. A metal cap is fixed, and through the holes in the metal cap, a substance that undergoes a state change from a liquid phase to a gas phase and absorbs heat with the heat of vaporization is brought into a liquid phase.
A method for cooling a package, characterized in that the space between the wiring board and the metal cap is filled, and the through hole of the metal cap is sealed with solder or adhesive.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1185982A JPS58130600A (en) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | Method of cooling package |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1185982A JPS58130600A (en) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | Method of cooling package |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58130600A JPS58130600A (en) | 1983-08-04 |
| JPH0363239B2 true JPH0363239B2 (en) | 1991-09-30 |
Family
ID=11789446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1185982A Granted JPS58130600A (en) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | Method of cooling package |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58130600A (en) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS492051A (en) * | 1972-04-24 | 1974-01-09 | ||
| JPS56123597U (en) * | 1980-02-20 | 1981-09-19 |
-
1982
- 1982-01-29 JP JP1185982A patent/JPS58130600A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58130600A (en) | 1983-08-04 |
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