JPH0364310B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0364310B2 JPH0364310B2 JP55030270A JP3027080A JPH0364310B2 JP H0364310 B2 JPH0364310 B2 JP H0364310B2 JP 55030270 A JP55030270 A JP 55030270A JP 3027080 A JP3027080 A JP 3027080A JP H0364310 B2 JPH0364310 B2 JP H0364310B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- single crystal
- sio
- crystal wafer
- silicon single
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/162—Manufacturing of the nozzle plates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/01—Ink jet
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- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Nozzles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、改良された液体噴射用ノズル板の製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
従来、シリコン単結晶の（100）面が表面に平
行に配向されたウエーハを異方性エツチングして
ノズルを形成した液体噴射用ノズル板が知られて
いる（例えば、特開昭51−93821号公報参照）。こ
の液体噴射用ノズル板は第１図に示したような製
造工程に従つて製造される。即ち、結晶の（100）
面が表面に平行に配向するように切り出されたシ
リコンウエーハ１の表面を化学的および機械的に
研摩して清浄にし（第１図ａ）、蒸気中で熱酸化
してSiO2膜２を形成する（第１図ｂ）。次に、
SiO2膜２の上にフオトレジスト膜３を形成し
（第１図ｃ）、片面にフオトマスク（図示せず）を
当てて露光し、現像してフオトレジスト膜３の所
望の位置に窓４を形成する（第１図ｄ）。そして、
窓４の部分のSiO2を、例えばフツ化水素酸でエ
ツチングして開口部５を形成した後、フオトレジ
スト膜３を除去する（第１図ｅ）。続いて、例え
ばエチレン・ジアミンとピロカテコールと水とを
含む溶液の如き異方性エツチング液を使用して開
口部５からシリコンウエーハ１をエツチングする
と先細の孔６が形成され（第１図ｆ）、さらに表
面のSiO2膜２が除去される（第１図ｇ）。最後
に、表面全体に耐食性保護膜７（SiO2膜または
SiN膜）を形成して（第１図ｈ）、ノズル板が完
成する。
行に配向されたウエーハを異方性エツチングして
ノズルを形成した液体噴射用ノズル板が知られて
いる（例えば、特開昭51−93821号公報参照）。こ
の液体噴射用ノズル板は第１図に示したような製
造工程に従つて製造される。即ち、結晶の（100）
面が表面に平行に配向するように切り出されたシ
リコンウエーハ１の表面を化学的および機械的に
研摩して清浄にし（第１図ａ）、蒸気中で熱酸化
してSiO2膜２を形成する（第１図ｂ）。次に、
SiO2膜２の上にフオトレジスト膜３を形成し
（第１図ｃ）、片面にフオトマスク（図示せず）を
当てて露光し、現像してフオトレジスト膜３の所
望の位置に窓４を形成する（第１図ｄ）。そして、
窓４の部分のSiO2を、例えばフツ化水素酸でエ
ツチングして開口部５を形成した後、フオトレジ
スト膜３を除去する（第１図ｅ）。続いて、例え
ばエチレン・ジアミンとピロカテコールと水とを
含む溶液の如き異方性エツチング液を使用して開
口部５からシリコンウエーハ１をエツチングする
と先細の孔６が形成され（第１図ｆ）、さらに表
面のSiO2膜２が除去される（第１図ｇ）。最後
に、表面全体に耐食性保護膜７（SiO2膜または
SiN膜）を形成して（第１図ｈ）、ノズル板が完
成する。
第２図は第１図に示した先細の孔６（以下ノズ
ルという）を拡大して示したものであるが、ノズ
ル６の壁面はウエーハ表面に対して略54.7゜の傾
斜角を有し、その最小径側エツジ部１ａは鋭く尖
つたいわゆるナイフエツジとなる。ところが、こ
のようにエツジ部１ａが表面に形成されたノズル
板は、例えばノズル板を洗浄したり組立てたりす
る際に、何かが接触してエツジ部１ａが極めて欠
けやすいという欠点があり、その取扱いに細心の
注意を必要とするものであつた。また、所望のノ
ズル径、即ち、ノズル板の一方の面におけるノズ
ルの最小径を得るために、他方の面における最大
径が大きくなり、従つて、２値偏向型のインクジ
エツト用ノズル板のように画素密度を高めるため
に多数のノズルを高密度に配列したい場合には不
利になる等の欠点があつた。
ルという）を拡大して示したものであるが、ノズ
ル６の壁面はウエーハ表面に対して略54.7゜の傾
斜角を有し、その最小径側エツジ部１ａは鋭く尖
つたいわゆるナイフエツジとなる。ところが、こ
のようにエツジ部１ａが表面に形成されたノズル
板は、例えばノズル板を洗浄したり組立てたりす
る際に、何かが接触してエツジ部１ａが極めて欠
けやすいという欠点があり、その取扱いに細心の
注意を必要とするものであつた。また、所望のノ
ズル径、即ち、ノズル板の一方の面におけるノズ
ルの最小径を得るために、他方の面における最大
径が大きくなり、従つて、２値偏向型のインクジ
エツト用ノズル板のように画素密度を高めるため
に多数のノズルを高密度に配列したい場合には不
利になる等の欠点があつた。
本発明は、上記従来例の欠点を解消するため
に、同一の異方性エツチング工程でシリコン単結
晶ウエーハを両面から同時エツチングしてノズル
径を決定するノズルの最小径の部分をシリコンウ
エーハの厚みの中間部分に形成し、エツジ部の欠
けを防止するとともに、ノズルの最大径を小さく
してノズルの高密度配列を可能にした液体噴射用
ノズル板の製造方法を提供するものである。以
下、図面により実施例を詳細に説明する。
に、同一の異方性エツチング工程でシリコン単結
晶ウエーハを両面から同時エツチングしてノズル
径を決定するノズルの最小径の部分をシリコンウ
エーハの厚みの中間部分に形成し、エツジ部の欠
けを防止するとともに、ノズルの最大径を小さく
してノズルの高密度配列を可能にした液体噴射用
ノズル板の製造方法を提供するものである。以
下、図面により実施例を詳細に説明する。
第３図は、本発明の１実施例を示したもので、
ノズルの最小径の部分がシリコンウエーハの厚み
の中間部分に設けられている。このようなノズル
を形成するには、第１図ｃにおいて、ウエーハ両
面にフオトマスクをそれぞれ当て、露光、現像し
て互いに対向したフオトレジストの窓を形成し、
その窓の部分にSiO2をエツチングした後、シリ
コンウエーハを両面から異方性エツチングする。
このようにすると、第３図のシリコンウエーハ１
の一方からエツチングされた穴８と他方からエツ
チングされた穴９が内部で連通し、その連通した
部分がノズルの最小径となる。この場合、シリコ
ンウエーハ１の両面から焼付けるフオトマスクの
各パターンは、エツチングされる穴壁の傾斜角と
シリコンウエーハ１の厚みから容易に決定するこ
とができる。シリコンウエーハ１の両面からエツ
チングされた各穴８，９の壁面が最小径の部分で
なす角度は109.4゜となり、従つて、ノズルのいず
れのエツジ部も鈍角となる。
ノズルの最小径の部分がシリコンウエーハの厚み
の中間部分に設けられている。このようなノズル
を形成するには、第１図ｃにおいて、ウエーハ両
面にフオトマスクをそれぞれ当て、露光、現像し
て互いに対向したフオトレジストの窓を形成し、
その窓の部分にSiO2をエツチングした後、シリ
コンウエーハを両面から異方性エツチングする。
このようにすると、第３図のシリコンウエーハ１
の一方からエツチングされた穴８と他方からエツ
チングされた穴９が内部で連通し、その連通した
部分がノズルの最小径となる。この場合、シリコ
ンウエーハ１の両面から焼付けるフオトマスクの
各パターンは、エツチングされる穴壁の傾斜角と
シリコンウエーハ１の厚みから容易に決定するこ
とができる。シリコンウエーハ１の両面からエツ
チングされた各穴８，９の壁面が最小径の部分で
なす角度は109.4゜となり、従つて、ノズルのいず
れのエツジ部も鈍角となる。
以上のように構成された本実施例では、ノズル
径を決定する部分、即ち、ノズルの最小径の部分
が鈍角になるので機械的強度が増加し、しかも、
シリコンウエーハ１の中間部分に形成されている
ので外部の物との接触の機会が非常に少なくな
り、ノズルの破損を防止することができる。ま
た、シリコンウエーハを両面から同時に異方性エ
ツチングするので、製造時間を短縮できると共
に、精度の高いノズルを形成することができる。
径を決定する部分、即ち、ノズルの最小径の部分
が鈍角になるので機械的強度が増加し、しかも、
シリコンウエーハ１の中間部分に形成されている
ので外部の物との接触の機会が非常に少なくな
り、ノズルの破損を防止することができる。ま
た、シリコンウエーハを両面から同時に異方性エ
ツチングするので、製造時間を短縮できると共
に、精度の高いノズルを形成することができる。
第４図は、本発明の他の実施例を示したもの
で、ノズルの最小径の部分がシリコンウエーハ１
の厚みの中間部に形成されている。この場合、シ
リコンウエーハ１の両面から焼付けるフオトマス
クのパターンが同一になり、エツチングされた各
穴８および９は最小径の位置に対して対称にな
る。
で、ノズルの最小径の部分がシリコンウエーハ１
の厚みの中間部に形成されている。この場合、シ
リコンウエーハ１の両面から焼付けるフオトマス
クのパターンが同一になり、エツチングされた各
穴８および９は最小径の位置に対して対称にな
る。
このように構成された本実施例では、第３図の
実施例における効果の外に、ノズルの最大径が、
片面からエツチングした従来例に比べて1/2にな
るため、多数のノズルを高密度に配列することが
できるという効果がある。
実施例における効果の外に、ノズルの最大径が、
片面からエツチングした従来例に比べて1/2にな
るため、多数のノズルを高密度に配列することが
できるという効果がある。
なお、シリコンウエーハの両面からフオトマス
クを焼付ける場合には、表裏のパターンの同軸性
を精度よく合わせる必要があり、そのため、位置
決め用の貫通孔を予めシリコンウエーハに２箇所
あけておくことが望ましい。この貫通孔も、異方
性エツチングにより容易にあけることができる。
クを焼付ける場合には、表裏のパターンの同軸性
を精度よく合わせる必要があり、そのため、位置
決め用の貫通孔を予めシリコンウエーハに２箇所
あけておくことが望ましい。この貫通孔も、異方
性エツチングにより容易にあけることができる。
以上説明したように、本発明によれば、シリコ
ン単結晶ウエーハを両面から同時異方性エツチン
グしてノズルの最小径部をシリコンウエーハの厚
みの中間部分に形成することにより、ノズルの最
小径の部分が鈍角（109.4゜）となつて機械的強度
が増加するとともに、ノズル板の表面におけるノ
ズルの最大径が小さくなるので多数のノズルを高
密度に配列することができる。さらに、製造時間
の大幅短縮と、ノズル径の高精度化を達成するこ
とができるなどの利点がある。
ン単結晶ウエーハを両面から同時異方性エツチン
グしてノズルの最小径部をシリコンウエーハの厚
みの中間部分に形成することにより、ノズルの最
小径の部分が鈍角（109.4゜）となつて機械的強度
が増加するとともに、ノズル板の表面におけるノ
ズルの最大径が小さくなるので多数のノズルを高
密度に配列することができる。さらに、製造時間
の大幅短縮と、ノズル径の高精度化を達成するこ
とができるなどの利点がある。
第１図は、従来のノズル板の製作順序を示す一
連の断面図であり、第２図は第１図の一部拡大断
面図であり、第３図は本発明の１実施例の一部断
面図であり、第４図は本発明の他の実施例の一部
断面図である。 １……シリコン単結晶ウエーハ、７……耐食性
保護膜、８，９……穴。
連の断面図であり、第２図は第１図の一部拡大断
面図であり、第３図は本発明の１実施例の一部断
面図であり、第４図は本発明の他の実施例の一部
断面図である。 １……シリコン単結晶ウエーハ、７……耐食性
保護膜、８，９……穴。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 結晶の（100）面が表面に平行に配向するよ
うに切り出された単一のシリコン単結晶ウエーハ
の両表面を化学的及び機械的に研摩して清浄にす
る工程と、 前記単一のシリコン単結晶ウエーハを熱酸化し
て両表面にSiO2膜を形成する工程と、 前記SiO2膜上にフオトレジスト膜を形成した
後、フオトマスクを当てて露光、現像し、前記単
一のシリコン単結晶ウエーハ両面の互いに対向す
る部分にフオトレジスト膜の窓を形成する工程
と、 前記フオトレジスト膜の窓部分のSiO2膜をエ
ツチングした後、前記フオトレジスト膜を除去す
る工程と、 エツチングにより形成された前記SiO2膜の窓
を通して、前記単一のシリコン単結晶ウエーハ
を、その両面から同一の異方性エツチング工程
で、同時エツチングして穴を形成し、その両面か
ら形成される穴を前記単一のシリコン単結晶ウエ
ーハの厚みの内部で互いに連通させる工程と、 前記SiO2膜を除去する工程と、 前記穴の内面を含む前記単一のシリコン単結晶
ウエーハの表面に保護膜を形成する工程と、 からなることを特徴とする液体噴射用ノズル板の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3027080A JPS56126460A (en) | 1980-03-12 | 1980-03-12 | Nozzle plate for liquid injection |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3027080A JPS56126460A (en) | 1980-03-12 | 1980-03-12 | Nozzle plate for liquid injection |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56126460A JPS56126460A (en) | 1981-10-03 |
| JPH0364310B2 true JPH0364310B2 (ja) | 1991-10-04 |
Family
ID=12299002
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3027080A Granted JPS56126460A (en) | 1980-03-12 | 1980-03-12 | Nozzle plate for liquid injection |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56126460A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6183463U (ja) * | 1984-11-06 | 1986-06-02 | ||
| WO1997034769A1 (en) * | 1996-03-18 | 1997-09-25 | Seiko Epson Corporation | Ink jet head and method of manufacturing same |
| CN107244145A (zh) * | 2017-06-08 | 2017-10-13 | 翁焕榕 | 喷墨打印头及其喷嘴板、喷墨打印机 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6043309B2 (ja) * | 1978-10-06 | 1985-09-27 | 富士ゼロックス株式会社 | マルチノズルオリフイス板 |
-
1980
- 1980-03-12 JP JP3027080A patent/JPS56126460A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56126460A (en) | 1981-10-03 |
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