JPH036581Y2 - - Google Patents

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JPH036581Y2
JPH036581Y2 JP1985092998U JP9299885U JPH036581Y2 JP H036581 Y2 JPH036581 Y2 JP H036581Y2 JP 1985092998 U JP1985092998 U JP 1985092998U JP 9299885 U JP9299885 U JP 9299885U JP H036581 Y2 JPH036581 Y2 JP H036581Y2
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cassette
pure water
thin plate
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arm
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Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、半導体ウエハ、ガラス板、セラミツ
ク板、プリント基板等の薄板材(以下ウエハとい
う。)を、上下多段に複数枚収納したカセツトか
ら、搬送装置へ1枚ずつ搬出する装置、すなわち
ローダに関し、特に、カセツトに収納されている
ウエハを搬出するまでの間、カセツトごとウエハ
を液中に貯留するようにした液中貯留ローダに関
するものである。
[Detailed description of the invention] [Field of industrial application] The present invention is a method for processing thin plate materials (hereinafter referred to as wafers) such as semiconductor wafers, glass plates, ceramic plates, printed circuit boards, etc. from a cassette containing a plurality of sheets in upper and lower stages. , relates to a device, that is, a loader, that carries out wafers one by one to a transfer device, and in particular, relates to a submerged storage loader that stores wafers in a cassette in a liquid until the wafers stored in the cassette are carried out. be.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

ウエハは、極めて清浄な室内で、人手に触れて
汚染されぬよう、機械的に搬送されて処理され
る。
The wafers are mechanically transported and processed in an extremely clean room to avoid contamination from manual contact.

第1の処理として、例えば洗浄などの処理が終
了したウエハを、カセツトに収納し、これらのウ
エハを、次なる第2の処理として、例えば乾燥な
どの処理をする装置へ、1枚ずつ順次搬出する場
合、搬出までの間、空気中に待機させると、ウエ
ハに、空気中に浮遊する僅かなほこりが付着した
り、表面が酸化されたりして、不良品が発生す
る。
As a first process, wafers that have been processed, such as cleaning, are stored in a cassette, and these wafers are sequentially transported one by one to a device that performs a process such as drying, as a second process. In this case, if the wafer is left on standby in the air until being carried out, a small amount of dust floating in the air may adhere to the wafer or the surface may become oxidized, resulting in defective products.

そのため、ウエハをカセツトから、処理装置へ
1枚ずつ搬出するまでの間、カセツトに収納した
ままウエハを、例えば純水等の液中に貯留する手
段がとられている。
Therefore, a method is used in which the wafers are stored in a liquid such as pure water while being stored in the cassette until the wafers are transferred one by one from the cassette to the processing apparatus.

〔本考案が解決しようとする問題点〕[Problems that this invention attempts to solve]

しかし、ウエハをカセツトとともに純水中に水
平状態で没入させようとすると、水平であるウエ
ハの下面が全面同時に純水面に接するので、下面
より空気が逃げきれず、気泡が付着したまま純水
中に没入することとなり、ウエハが浮動してカセ
ツトより飛び出し、例えば純水槽の壁面に衝突す
る等して、破損することがある。
However, when attempting to immerse the wafer horizontally into pure water along with the cassette, the bottom surface of the wafer, which is horizontal, comes into contact with the pure water surface all at the same time. The wafers may float and fly out of the cassette, colliding with the wall of the pure water tank, for example, and causing damage.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本考案は、昇降および傾動の可能なアームに、
多数のウエハを上下多段に収納したカセツトを載
置し、カセツトを傾斜させて、所要の液を満たし
た液槽に没入させた後、ウエハを液中に貯留し、
かつウエハ搬出時には、カセツトを水平にしてか
ら、ウエハを上段より1枚ずつ液面上に突出さ
せ、プツシユをもつて、搬送装置へ押し出すよう
にすることにより、上述の問題点の解決を図つた
ものである。
This invention has an arm that can be raised, lowered, and tilted.
A cassette containing a large number of wafers in multiple stages above and below is placed, the cassette is tilted and immersed in a liquid tank filled with the required liquid, and the wafers are stored in the liquid.
In addition, when unloading the wafers, the cassette is held horizontally, the wafers are raised one by one from the upper stage above the liquid surface, and the wafers are pushed out to the transfer device using a pusher, thereby solving the above-mentioned problems. It is something.

〔作用〕[Effect]

本考案の装置によれば、各ウエハが、傾斜した
下方の端より他端に向かつて、経時的に液中に没
入するので、ウエハの下方の空気が、ウエハ下面
に沿つて順に追いだされて、その下面に気泡が残
留することはない。
According to the device of the present invention, each wafer is immersed in the liquid over time from one inclined lower end toward the other end, so that the air below the wafer is sequentially expelled along the lower surface of the wafer. Therefore, no air bubbles remain on the bottom surface.

従つて、ウエハが浮動して、カセツトより飛び
出すことはなく、ウエハを使用する際には、人手
に触れずに、上段より順に取り出すことができ
る。
Therefore, the wafers do not float and fly out of the cassette, and when the wafers are used, they can be taken out in order from the top without touching the wafers.

〔実施例〕〔Example〕

第1図と第2図は、本考案装置の一例を示すも
ので、昇降装置は、基枠1に左右1対の案内杆2
が立設され、案内杆2の中間には、それと平行を
なす螺杆3が枢設されている。
Figures 1 and 2 show an example of the device of the present invention.
is erected, and in the middle of the guide rod 2, a screw rod 3 is pivotally installed parallel to the guide rod 2.

螺杆3の下端は、スプロケツト4と無端チエー
ン5を介して、基枠1に装着された減速モータ6
に連係されている。
The lower end of the screw rod 3 connects to a deceleration motor 6 mounted on the base frame 1 via a sprocket 4 and an endless chain 5.
is linked to.

案内杆2に昇降自在に取り付けられ、かつ螺杆
3に螺合する昇降体7の前面下部には、下向ソレ
ノイド8が固着されている。
A downward solenoid 8 is fixed to the lower front surface of an elevating body 7 which is attached to the guide rod 2 so as to be movable up and down and is screwed into the screw rod 3.

9はアームで、第1図に示すように、正面形が
逆L字形をなす基部9aと、L字形をなす先端部
9bの上端同士を連結した形状をなし、その先端
部9bの水平片には、支持板9cが載設されてい
る。
Reference numeral 9 designates an arm, as shown in Fig. 1, which has a shape in which a base portion 9a having an inverted L-shape in front and an upper end of an L-shaped tip portion 9b are connected to each other. A support plate 9c is mounted thereon.

アーム9は、基部9aの屈曲部が枢軸10をも
つて、昇降体7の第1図右面に枢着されるよう支
持され、基端に突設した長孔11が、傾動駆動源
であるソレノイド8の前向ピン12に係合してい
る。
The arm 9 is supported so that the bent part of the base 9a has a pivot 10 and is pivotally attached to the right side of the elevating body 7 in FIG. It is engaged with the forward pin 12 of 8.

ソレノイド8を突出動作させると、枢軸10を
中心としてアーム9は反時計回りに傾動し、支持
板9cが水平をなす下限より上方に傾斜する。
When the solenoid 8 is operated to project, the arm 9 tilts counterclockwise about the pivot 10, and the support plate 9c tilts upward from the horizontal lower limit.

13は、純水14を満たした純水槽で、アーム
9の先端部9bが、余裕をもつて没入しうる大き
さを有し、かつ外面下端は、溢水溝15をもつて
囲まれ、下面中央と溢水溝15には、それぞれ、
注水管16と排水管17が接続されている。
Reference numeral 13 denotes a pure water tank filled with pure water 14, which has a size that allows the tip 9b of the arm 9 to be immersed therein, and the bottom end of the outer surface is surrounded by an overflow groove 15, and the bottom center and overflow ditch 15, respectively.
A water injection pipe 16 and a drain pipe 17 are connected.

純水槽13には、望ましくは注水管16より、
絶えず純水14を注入すれば、常時上面より溢水
して、水面14a上に落下した僅かなほこりも流
れ去り、水面14aは常時極めて清浄となり好ま
しい。
The pure water tank 13 is preferably provided with a water injection pipe 16,
If pure water 14 is constantly injected, the water will always overflow from the top surface, and even a small amount of dust that has fallen on the water surface 14a will be washed away, making the water surface 14a always extremely clean, which is preferable.

基枠1の後面には、純水槽13方向、すなわち
ウエハ搬出方向を向き、かつウエハ搬出作業時以
外には短縮しているエアーシリンダ18が装着さ
れ、そのピストン杆18aの先端には、純水槽1
3の直上を往復動する、板状のプツシヤ19が装
着されている。
An air cylinder 18 is attached to the rear surface of the base frame 1, and is oriented toward the pure water tank 13, that is, the wafer unloading direction, and is shortened when not in the wafer unloading operation. 1
A plate-shaped pusher 19 that reciprocates directly above the pusher 3 is attached.

純水槽13を挟んで、エアーシリンダ18と対
向する個所には、純水槽13に近接して、搬送面
が純水槽13の上端より若干上位のウエハ搬送装
置であるコンベヤ20が載置されている。なお、
コンベヤ20の搬送面は、純水槽13の上端と同
じ高さにしても、純水槽上面より溢水させている
ので、カセツトからコンベヤ20へ支障なくウエ
ハを搬出できる。
A conveyor 20, which is a wafer transport device, is placed in close proximity to the pure water tank 13 at a location facing the air cylinder 18 across the pure water tank 13, and whose transport surface is slightly higher than the upper end of the pure water tank 13. . In addition,
Even if the conveyance surface of the conveyor 20 is at the same height as the upper end of the pure water tank 13, the water overflows from the upper surface of the pure water tank, so that wafers can be transferred from the cassettes to the conveyor 20 without any trouble.

第3図は、ウエハ収納用カセツト21を示すも
ので、横向角筒状をなし、対向する両側板21a
の内面には、水平をなす多数の支持溝22が、等
間隔をもつて切設され、対向する両支持溝22
に、ウエハ23が水平に収納されている。
FIG. 3 shows a wafer storage cassette 21, which has a horizontally rectangular cylindrical shape and has opposite side plates 21a.
A large number of horizontal support grooves 22 are cut at equal intervals on the inner surface of the
The wafer 23 is stored horizontally.

なお、一方向からのみウエハを出し入れするよ
う、両指示溝は、両側板22のウエハを出し入れ
する側では、側端縁まで切設されているが、反対
側のウエハを出し入れしない側では、側端縁手前
までしか切設しなくてもよい。
In order to allow wafers to be loaded and unloaded from only one direction, the both direction grooves are cut to the side edge on the side of both side plates 22 where wafers are loaded and unloaded, but on the opposite side where wafers are not loaded and unloaded, the grooves are cut to the side edges. It is not necessary to cut only to the front of the edge.

第1図において、24は、昇降体7に装着され
た検知片、25,26,27は、検知片24を検
知する光電センサで、基枠1に立設された支柱2
8の要所に、上方より順に取り付けられている。
In FIG. 1, 24 is a detection piece attached to the elevating body 7, 25, 26, and 27 are photoelectric sensors for detecting the detection piece 24, and 24 is a photoelectric sensor that detects the detection piece 24.
They are installed in order from the top at 8 important points.

29は、螺杆3の下端に嵌着された検知片、3
0は、検知片29の切欠そ検知する光電センサで
ある。
29 is a detection piece fitted to the lower end of the screw rod 3;
0 is a photoelectric sensor that detects the notch of the detection piece 29.

つぎに、上述装置の動作を、第4図〜第6図を
参照して説明する。
Next, the operation of the above-mentioned apparatus will be explained with reference to FIGS. 4 to 6.

第4図は、第1図示のセンサ25が、昇降体7
の検知片24を検知するまで昇降体7を上昇し
て、アーム9が上限にあつて、支持板9cに、ウ
エハ23を収納したカセツト21を載置し、昇降
体7を下降させる前に、ソレノイド8を突出させ
てアーム9を傾斜させた状態を示している。
FIG. 4 shows that the sensor 25 shown in FIG.
The elevating body 7 is raised until the detecting piece 24 is detected, and when the arm 9 reaches the upper limit, the cassette 21 containing the wafers 23 is placed on the support plate 9c, and before lowering the elevating body 7, A state in which the solenoid 8 is projected and the arm 9 is tilted is shown.

次に、昇降体7を、センサ27が検知片24を
検知するまで下降するようモータ6を回転させる
と、第5図に示すように、アーム9の先端部9b
とともに、カセツト21が傾斜したまま、純水槽
13の純水14中に突入する。
Next, when the motor 6 is rotated to lower the elevating body 7 until the sensor 27 detects the detection piece 24, as shown in FIG.
At the same time, the cassette 21 plunges into the pure water 14 in the pure water tank 13 while remaining tilted.

この時、各ウエハ23は傾斜しているので、一
端(第5図左端)より他端に向かつて経時的に純
水14に没入するので、下方の空気は純に追い出
され、ウエハ23の下面に気泡が残留するような
ことはない。
At this time, since each wafer 23 is tilted, it is immersed in the pure water 14 over time from one end (left end in FIG. There will be no residual air bubbles.

そして、センサ27が検知片24を検知したと
きにモータ6が停止するとともに、ソレノイド8
が引込み動作して、第1図に示すように、アーム
9が水平状態へ傾動し、カセツト21とともにウ
エハ23が水平となり、純水14中に貯留され
る。なお、傾斜させたままウエハを貯留し、貯留
をやめるときにアーム9を水平状態へ傾動させて
もよい。
When the sensor 27 detects the detection piece 24, the motor 6 stops and the solenoid 8
When the wafer 23 is retracted, the arm 9 is tilted to a horizontal position as shown in FIG. Note that the wafers may be stored while being tilted, and the arm 9 may be tilted to a horizontal state when storage is stopped.

このウエハ23を取り出してカセツト21から
搬出するには、モータ6を逆転させて、センサ2
6が検知片24を検知するまで昇降体7を上昇さ
せることにより、第6図に示すように、最上段の
ウエハ23が、純水14の水面14aより出て、
つづいてセンサ30と検知片29の作用により、
検知片29を所定回転数を回転するとモータ6が
停止し、最上段のウエハ23がコンベヤ20の搬
送面と同じ高さとなる。
To take out this wafer 23 and carry it out from the cassette 21, the motor 6 is reversed and the sensor 2
By raising the elevating body 7 until the wafer 6 detects the detection piece 24, the uppermost wafer 23 comes out from the water surface 14a of the pure water 14, as shown in FIG.
Next, due to the action of the sensor 30 and the detection piece 29,
When the detection piece 29 is rotated a predetermined number of revolutions, the motor 6 stops, and the uppermost wafer 23 becomes at the same height as the conveyance surface of the conveyor 20.

すると、エアーシリンダ18が伸長して、プツ
シヤ19が最上段のウエハ23を、回送するコン
ベヤ20上に押し出す。
Then, the air cylinder 18 is extended, and the pusher 19 pushes the uppermost wafer 23 onto the conveyor 20.

コンベア20にて搬送されたウエハは、次の処
理装置、例えば乾燥装置等へ送られ、完全に乾燥
した後、別のカセツトに収納されることとなる。
The wafers transported by the conveyor 20 are sent to the next processing device, such as a drying device, and after being completely dried, they are stored in another cassette.

ついで、エアーシリンダ18を短縮させると、
センサ30と検知片29の作用により正確に、各
ウエハ23の間隔だけ、アーム9が上昇するま
で、モータ6が回転した後停止し、上述同様に、
プツシヤ19が、2枚目のウエハ23をコンベヤ
20上に押し出す。
Then, when the air cylinder 18 is shortened,
Due to the action of the sensor 30 and the detection piece 29, the motor 6 rotates until the arm 9 rises by exactly the distance between each wafer 23, and then stops, and as described above,
The pusher 19 pushes the second wafer 23 onto the conveyor 20.

このようにして、カセツト21内のウエハ23
のすべてを、上方より順に押し出すまで、断続的
にアーム9が上昇すると、センサ25が検知片2
4を検知し、しかる後、ソレノイド8が突出し、
アーム9は傾斜して、第4図と同様の状態とな
る。
In this way, the wafers 23 in the cassette 21
When the arm 9 intermittently rises until all of the objects are pushed out from above, the sensor 25 detects the detection piece 2.
4 is detected, and after that, solenoid 8 protrudes,
The arm 9 is tilted to a position similar to that shown in FIG.

次に、空のカセツトを取りはずし、ウエハを収
納した次なるカセツトをアーム9の支持板9c上
に載置する。なお、カセツトの載置換をしてか
ら、アーム9を傾斜させてもよい。
Next, the empty cassette is removed, and the next cassette containing wafers is placed on the support plate 9c of the arm 9. Note that the arm 9 may be tilted after the cassette is replaced.

上述においては、アーム9の傾動駆動源にソレ
ノイド8を使用したが、これをエアーシリンダに
代えてもよく、またプツシヤ19の駆動手段とし
て、ラツクとピニオンを使用することもできる。
In the above description, the solenoid 8 is used as the tilting drive source for the arm 9, but this may be replaced with an air cylinder, and a rack and pinion may also be used as the drive means for the pusher 19.

アームの形状は、第1図示のように逆L字形の
基部とL字形の遊部上端同士を連結したものが、
比較的小さな液槽でもウエハを大きく傾斜させる
ことができて好ましいが、この形状に限定するも
のでなく、例えば第7図示のように、カセツトを
載置するL字形をなす遊部のL字形上端を昇降体
の方へ横に伸ばした形状でもよく、その他の形状
でもよく、特に限定はしない。
The shape of the arm is as shown in the first diagram, in which the inverted L-shaped base and the upper ends of the L-shaped free parts are connected to each other.
Although it is preferable that the wafer can be tilted greatly even in a relatively small liquid tank, the shape is not limited to this. For example, as shown in FIG. The shape may be extended laterally toward the elevating body, or may be any other shape, and is not particularly limited.

また、アームを傾動させる向きは、第1図示の
実施例のように、カセツトからウエハを搬出する
方向に対し直角な軸回りに傾動、すなわちこの実
施例では枢軸10の回りに傾動させるにかぎら
ず、例えばウエハ搬出方向と同方向の軸回りに傾
動させるようにしてもよい。要するに液面に対し
て、ウエハ面がどの向きでもよいから傾斜すれば
よい。
Further, the direction in which the arm is tilted is not limited to being tilted around an axis perpendicular to the direction in which the wafers are unloaded from the cassette, as in the embodiment shown in the first figure, that is, in this embodiment, it is tilted around the pivot axis 10. For example, it may be tilted around an axis in the same direction as the wafer unloading direction. In short, the wafer surface may be oriented in any direction with respect to the liquid level, as long as it is inclined.

ウエハを貯留する液は、純水にかぎらず、例え
ばアルコール等他の液でもよい。
The liquid for storing wafers is not limited to pure water, but may be other liquids such as alcohol.

本考案にて液中貯留される薄板材は、半導体ウ
エハの他、例えばガラス板、セラミツク板、プリ
ント基板等、限定しない。
The thin plate material stored in the liquid in the present invention is not limited to semiconductor wafers, for example, glass plates, ceramic plates, printed circuit boards, etc.

〔考案の効果〕[Effect of idea]

上述のように、本考案の装置によれば、各ウエ
ハが液中に傾斜して没入するので、ウエハの下面
に気泡が付着することはない。
As described above, according to the apparatus of the present invention, each wafer is immersed in the liquid at an angle, so that air bubbles do not adhere to the lower surface of the wafer.

従つて、ウエハが浮き上がつてウエハより飛び
出し、破損する恐れはなく、安心して液中に貯留
することができる。
Therefore, there is no risk that the wafer will float up and fly out from the wafer and be damaged, and can be safely stored in the liquid.

また、二次工程にウエハを搬出する際には、人
手に触れずに、自動的に順次送り出しうるので、
半導体製品の製造工場等に使用して、甚だ効果が
ある。
Additionally, when transferring wafers to the secondary process, they can be automatically transferred one after another without manual intervention.
It is extremely effective when used in semiconductor product manufacturing factories, etc.

なお本装置は、上述のウエハ貯留の他、製造工
程途中の、乾燥を嫌う破損し易い薄板材の貯留等
にも、効果的に使用することができる。
In addition to the above-mentioned storage of wafers, this device can also be effectively used for storage of easily damaged thin plate materials that do not like drying during the manufacturing process.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本考案装置の一実施例のウエハ貯留
中の状態を示す一部破断正面図、第2図は、第1
図のA−A線における横断面図、第3図は、カセ
ツトの正面図、第4図は、本考案装置にカセツト
を載置した状態を示す、第1図に相当する正面
図、第5図は、本考案装置に載置したカセツト
を、純水中に没入中の状態を示す、第1図に相当
する正面図、第6図は、本考案装置により、純水
中に貯留したカセツト中のウエハを取り出す状態
を示す、第1図に相当する正面図、第7図は、第
1図とは別の実施例を示す一部断破断正面図であ
る。 1……基枠、2……案内杆、3……螺杆、4…
…スプロケツト、5……無端チエーン、6……減
速モータ、7……昇降体、8……ソレノイド、9
……アーム、9a……基部、9b……先端部、9
c……支持板、10……枢軸、11……長孔、1
2……ピン、13……純水槽、14……純水、1
4a……水面、15……溢水溝、16……注水
管、17……排水管、18……エアーシリンダ、
18a……ピストン杆、19……プツシヤ、20
……コンベヤ、21……カセツト、21a……側
板、22……支持溝、23……ウエハ、24……
検知片、25,26,27……センサ、28……
支柱、29……検知片、30……センサ。
FIG. 1 is a partially cutaway front view showing the state of one embodiment of the device of the present invention during wafer storage, and FIG.
3 is a front view of the cassette, FIG. 4 is a front view corresponding to FIG. 1 showing the cassette placed on the device of the present invention, and FIG. The figure is a front view corresponding to Figure 1, showing a cassette placed on the device of the present invention being immersed in pure water. FIG. 7 is a front view corresponding to FIG. 1 showing a state in which a wafer inside is taken out, and FIG. 7 is a partially cutaway front view showing a different embodiment from FIG. 1... Base frame, 2... Guide rod, 3... Screw rod, 4...
... Sprocket, 5 ... Endless chain, 6 ... Deceleration motor, 7 ... Lifting body, 8 ... Solenoid, 9
...Arm, 9a...Base, 9b...Tip, 9
c... Support plate, 10... Pivot, 11... Long hole, 1
2...Pin, 13...Pure water tank, 14...Pure water, 1
4a... Water surface, 15... Overflow groove, 16... Water injection pipe, 17... Drain pipe, 18... Air cylinder,
18a... Piston rod, 19... Pushya, 20
...Conveyor, 21...Cassette, 21a...Side plate, 22...Support groove, 23...Wafer, 24...
Detection piece, 25, 26, 27...Sensor, 28...
Pillar, 29...detection piece, 30...sensor.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 (1) 多数の薄板材を上下多段に収納したカセツト
と、 内部に純水を貯溜し、カセツトを純水中に浸
漬させる純水槽と、 傾動可能に昇降装置に支持され、傾動駆動源
に係合した基部と、先端にてカセツトを載置す
る遊部とからなり、昇降することにより、カセ
ツトを載置した先端遊部が純水槽に出没すると
ともに、上下方向に傾動しうるアームと、 アームを昇降させる昇降装置と、 昇降装置に付設されて、アームを傾動させる
ための傾動駆動源と、 純水槽内の純水液面上で、液面に近接して配
設され、薄板材を載置して水平方向に搬送する
薄板材搬送装置と、 純水液面上で、液面付近のカセツト内の薄板
材を、カセツトから搬送装置へ押し出すプツシ
ヤとからなり、 アームに載置されたカセツト中の薄板材を傾
斜させて、純水中に没入させた後、液中に貯溜
し、かつ、薄板材使用時には、薄板材を水平位
置とし、上段より1枚ずつ純水液面上に突出さ
せ、プツシヤにより、順次搬送装置上に押し出
すようにしたことを特徴とする薄板材の液中貯
溜ローダ。 (2) アームが、逆L字形をなす基部と、L字形な
す遊部との各上端同士を連結して一体にした形
状であり、遊部の先端にてカセツトを載置し、
基部の逆L字形屈曲部にて枢軸を介して昇降装
置に枢着支持され、基部の先端にて傾動駆動源
に係合したものである実用新案登録請求の範囲
第1項に記載の薄板材の液中貯溜ローダ。
[Scope of Claim for Utility Model Registration] (1) A cassette in which a large number of thin plates are stored in multiple levels above and below, a pure water tank that stores pure water inside and immerses the cassette in the pure water, and a tiltable lifting device. It consists of a base that is supported and engaged with a tilting drive source, and a play part on which the cassette is placed at the tip.By moving up and down, the play part on which the cassette is placed appears in and out of the pure water tank, and also moves in the vertical direction. an arm that can be tilted in a direction; a lifting device that raises and lowers the arm; a tilting drive source that is attached to the lifting device and that tilts the arm; It consists of a thin plate material conveying device that places the thin plate material and transports it in the horizontal direction, and a pusher that pushes the thin plate material in the cassette near the liquid surface from the cassette to the conveying device on the pure water surface. , After tilting the thin plate material in the cassette placed on the arm and immersing it in pure water, it is stored in the liquid, and when using the thin plate material, the thin plate material is in a horizontal position, and one sheet from the upper stage is 1. A submerged liquid storage loader made of thin plate material, characterized in that the thin plate material is made to protrude above the pure water surface one by one, and is sequentially pushed out onto a conveying device by a pusher. (2) The arm has a shape in which an inverted L-shaped base and an L-shaped play section are connected to each other at their respective upper ends, and the cassette is placed at the tip of the play section,
The thin plate material according to claim 1, which is pivotally supported by an elevating device via a pivot at the inverted L-shaped bent portion of the base, and engaged with a tilting drive source at the tip of the base. submerged reservoir loader.
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