JPH0366084A - カセット用スリップシート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明はカセット用スリップシートに関し、更に詳しく
はオーディオカセット、ビデオカセット等のテープカセ
ットに組み込み、テープを摺接せしめてその弛緩を防止
すると共に走行を円滑ならしめるためのスリップシート
に関する。

〈従来技術〉 磁気テープのカセットは、該磁気テープの走行を円滑に
するため、テープとカセットケースとの間にスリップシ
ートを設けている。このスリップシートは、巻きテープ
がその側面を該シートに接触しながら回転することによ
り、磁気テープの走行を円滑にし、かつ巻き乱れを防止
する。

従来から、このスリップシートとして、小さい摩擦係数
、高い熱安定性などの点から、テトラフルオロエチレン
シートが用いられているが、このシートは高価であるう
え、柔軟性に富むため腰が弱く、シートの周縁が折れ曲
ったりする欠点がある。

また、プラスチックフィルムにグラファイト、カーボン
等の導電性滑剤粒子を充填、又は塗布したシート、また
は紙にカーボンブラック、リン状黒鉛、二硫化モリブデ
ン等を混入し、その表面にシリコン系樹脂またはフッ素
樹脂をコーティングしたシートなどがあるが、これらス
リップシートは黒色かつ不透明であり、ケースの外側に
貼着された表示紙によって隠されており、またカセット
内の磁気テープの巻き状態が見られない欠点がある。

かかる欠点を改善するため、透明なプラスチックシート
の表面にシリコンオイルを塗工する方法が提案されてい
る（特開昭５８−１４６０６６号公報）。

しかし、プラスチックシートの表面に、単に、シリコン
オイル等潤滑剤を塗工したのみでは透明なプラスチック
フィルムとの密着性が不足し、実際に使用するとき、経
時と共に摩擦が増大し、耐久性に不足が生じるという問
題がある。

更に、透明なプラスチックシートの表面に、熱可塑性樹
脂例えば塩ビー酢ビ共重合体、ポリウレタン樹脂等に潤
滑剤を添加した塗料をコーティングして積層体を形成す
る方法が提案されている（特開昭５８−６０４７４号公
報）。しかし、これらの積層塗膜は表面硬度が不足し、
磁気テープが走行するに従い、その端部に因るスクラッ
チ発生がスリップシートの透明性を下げる問題が発生す
る。

また、プラスチックシートの表面がシリコーン潤滑剤の
みで覆われた場合、プラスチックシートが帯電し、生産
過程でハンドリングに障害を与え、更に磁気テープ走行
時、テープ端面とシート面の摩擦により静電気が発生し
、シートが帯電するため磁気テープの円滑走行に支障を
きたす。

これらのことから、オーディオ用カセットに組み込まれ
るスリップシートに要求される特性は、表面の滑性が良
好な上に耐久性、耐スクラッチ性、帯電防止性能等にす
ぐれていることであり、更に背面に印刷を付与する場合
には表面に使用する潤滑剤が背面に転写し、印刷を阻害
しないようにすることである。

〈発明の目的〉 本発明の目的は、滑性の向上と優れた走行安定性を有し
、更には帯電防止性能を満足するカセット用スリップシ
ートを提供することにある。

〈発明の構成・効果〉 本発明の目的は、本発明によれば、基本的に、ポリエス
テルフィルムの片面にケイ素反応型シリルポリイソシア
ネート化合物（Ａ）と該シリルポリイソシアネート化合
物（Ａ）に対し１〜４０重量％のカルボキシ変性ジメチ
ルポリシロキサン（Ｂ）との付加、加水分解反応によっ
て形成された主として酸化ケイ素膜からなるスリップ層
を設け、他の面に高分子ポリマー構造を有するイオン性
帯電防止剤層を設けていることを特徴とするカセット用
スリップシートによって達成される。

本発明においてポリエステルとは、芳香族二塩基酸又は
そのエステル形成性誘導体とジオールまたはそのエステ
ル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステル
である。ポリエステルの具体例として、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチ
レンテレフタレート、ポリ（ｌ、４−シクロヘキシレン
ジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン−２，６−
ナフタレンジカルボキシレート等が例示でき、これらの
共重合体またはこれらと小割合の他樹脂とのブレンド物
なども含まれる。

かかるポリエステルは、フィルムに滑り性を付与する微
粒子、例えば炭酸カルシウム、カオリン、シリカ、酸化
チタン、シリコン樹脂、架橋スチレン等の如き添加粒子
や反応に利用した触媒残渣から形成した析出粒子を含有
することができ、また例えばドデシルスルホン酸ソーダ
の如き帯電防止剤を含有することができる。また、必要
に応じ、他の添加剤を含有することができる。

本発明におけるポリエステルフィルムは、上述したポリ
エステルを用い、常法によって製造することができる。

このポリエステルフィルムは、厚みが２５〜１００μｍ
であることが好ましく、また透明性がヘーズで１０％以
下であることが好ましい。

本発明においてポリエステルフィルムの片面に設けるス
リップ層は、ケイ素反応型シリルポリイソシアネート化
合物（Ａ）とカルボキシ変性ジメチルポリシロキサン（
Ｂ）を用いて形成される。該ケイ素反応型シリルポリイ
ソシアネート化合物（Ａ）は、シリルイソシアネート結
合がシロキシニトリルとの間に構造異性共鳴を形威し、
カルボキシ変性ジメチルポリシロキサン（Ｂ）のカルボ
キシ基活性水素と反応して付加反応体を形成するととも
に溶剤中の水分、空気中の水分等と加水分解反応を起こ
して酸化ケイ素の三次元架橋構造を形成する。

上記付加反応、加水分解反応は次式の如く進むと考えら
れる。

（１）カルボキシ基活性水素との付加反応嘗 （１１）酸化ケイ素膜の形成（加水分解反応〉一５ｉ−
０−＋Ｈ２０＋　　ＣＯ２＋ＮＨ３〈酸化ケイ素膜〉 上記反応によって、カルボキシル基を介してジメチルポ
リシロキサンを結合させた酸化ケイ素膜がポリエステル
フィルムに形成される。

この反応（加水分解反応〉は室温ないし、１２０℃以下
の温度で十分に進行すると共に、反応副成物がガス状と
なり、反応残渣もない利点がある。

本発明におけるケイ素反応型シリルポリイソシアネート
化合物（Ａ）としては、ポリエステルフィルムとの密着
性を向上させ、かつ酸化ケイ素膜中に水酸基を多数含有
させるために、分子中のイソシアネート基（ＮＧＯ）の
数が多いものほど好ましく、例えばシリルトリイソシア
ネート、シリルテトライソシアネートからなる Ｒ、　Ｓｉ　（Ｎ　ＣＯ）　ａ−、、 （ＲＯ）−Ｓｔ　（ＮＧＯ）４−ｆｉ 及びこれらの縮合体を挙げることができる。ここで、上
記式におけるＲは炭素数１〜６のアルキル、アリール、
アルケニルであり、ｎは０または１である。更に具体的
な化合物としては、例えばメチルシリルトリイソシアネ
ート、ビニルシリルトリイソシアネート、フエニルジリ
ルトリイソシアネート、テトライソシアネートシラン、
エトキシシラントリイソシアネート、プロポキシシラン
トリイソシアネート、ブトキシシラントリイソシアネー
ト等を挙げることができる。これらのケイ素反応型シリ
ルポリイソシアネート化合物は、例えば酢酸エチル、酢
酸イソプロピル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソブチル、
酢酸ｎ−ブチル、酢酸アミル、乳酸エチル、ｎ−ヘキサ
ン、ｎ−へブタン、トルエン、キシレン、シクロヘキサ
ン等の不活性有機溶剤に溶解し、塗工液として調合する
ことができる。ここで、“不活性”とは、エタノール、
イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール等
のアルコール類や、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類
の如く、シリルイソシアネートと反応して５ｉ−Ｎ結合
の開裂をもたらし、このためケイ素反応型シリルイソシ
アネート化合物の本来の反応性が低下し、基材のポリエ
ステルフィルムとの密着性が低下する等好ましくない現
象をもたらすことのない意味である。それ故、アルコー
ル類やケトン類は上記溶剤に含まれない。

ケイ素反応型シリルポリイソシアネート化合物と類似の
構造を有するトリメチルシリルイソシアネート、トリエ
チルシリルイソシアネート等のシリルモノイソシアネー
ト化合物は加水分解により酸化ケイ素構造を形成するが
、三次元構成の形成がなく、遊離の水酸基の含有量が少
ないため、塗膜の強度、帯電防止性が不足し、本発明の
目的を遠戚できない。更に、ジメチルシリルジイソシア
ネート、ジエチルシリルジイソシアネート等のシリルジ
イソシアネート化合物も、加水分解により形戒された酸
化ケイ素膜は、遊離の水酸基量が少なく、本発明の必要
とする帯電防止性は得られない。

次に、本発明において酸化ケイ素膜に化学的に結合させ
るカルボキシ変性ジメチルポリシロキサン（Ｂ）として
は、下記式 で示される構造を有し、カルボキシル基含有量が０．５
〜５重量％にあるものが好ましい。さらにカルボキシ基
当量が５００〜４０００　ｇ／モｌしにあることが好ま
しい。カルボキシル基の含有量が０．５重量％より少な
い場合、シリルポリイソシアネート化合物（Ａ）との反
応性が低くなり、酸化ケイ素膜と結合しない遊離のシロ
キサンが増加し、好ましくない。またカルボキシル基の
含有量が５重量％より多くなると、ジメチルシラン成分
が減少し、カセット用スリップシートに必要な潤滑性が
低下し好ましくない。カルボキシ変性ジメチルポリシロ
キサンの具体的化合物としては、例えばダウケミカル社
製の“＃７７８”、信越シリコーン社製の′Ｘ−６２−
１６３Ｃ″、東しシリコーン社製の“５Ｆ−８４１８”
等を挙げることができる。

ジメチルポリシロキサンの変性体にはカルボキシ変性以
外のものとしてエポキシ変性、ポリエーテル変性、アミ
ノ変性、或いはアルキル変性のものが考えられるが、こ
れらはケイ素反応型シリルポリイソシアネート化合物（
Ａ）と混合した際の塗液の安定性が悪かったり、ポリシ
ロキサンが酸化ケイ素膜表面に遊離してくるという、好
ましくない結果となる。

次に、ケイ素反応型シリルポリイソシアネート化合物（
Ａｌに対するカルボキシ変性ジメチルポリシロキサンの
有効成分の割合は１〜４０重量％である。この割合が１
重量％未満ではカセット用スリップシートに必要なスリ
ップシート表面での潤滑性が不足し、オーディオテープ
用カセットに組込んで実機で使用した場合走行が停止す
るという、好ましくない問題が生じる。またこの割合が
４０重量％を越えると、シリルポリイソシアネート化合
物（Ａ＞の加水分解によって生ずる水酸基の含有量が不
足し、カセット用スリップシート表面の固有抵抗が１０
１３Ω以上となり、オーディオテープ用カセットに組込
んで実機で使用した場合、使用中での帯電がテープ出力
の変動くワウ・フラッタ−特性〉を助長させるという好
ましくない結果となる。

本発明においては、ケイ素反応型シリルポリイソシアネ
ート化合物（Ａ）の加水分解によって生ずる遊離の水酸
基がイオン解離し、電気伝導性を発現し、帯電を防止す
るｖ１能を付与していると考えられるが、更に効果的な
帯電防止能を付与する目的で帯電防止剤を含有すること
ができる。この帯電防止剤としてはアニオン型、カチオ
ン型、ノニオン型、両性型等の界面活性剤タイプのもの
、更にはイオン性高分子導電剤等のいずれでも良い。

かかる帯電防止剤は塗液に添加含有させるとよい。

この帯電防止剤の量は、シリルポリイソシアネート化合
物（Ａ）当り、１．０〜１５．０重量％が好ましく、こ
れによりカセット用スリップシートの帯電防止性を大巾
に向上させることができる。

ポリエステルフィルムの表面（片面）に酸化ケイ素膜か
らなるスリップ層を形戒する方法は、従来一般のコーテ
ィング剤の塗布方法と同様に、例えばロールコーティン
グ法、グラビアコーティング法、リバースロールコーテ
ィング法、マイヤーバー法、マイクログラビア法、コン
マコーティング法等のコーティング法を用い、塗液を固
型有効成分で０．２〜３ｇ／−程度塗工し、乾燥するこ
とにより行うことができる。

原反ロールからカセット用スリップシートの形状への打
抜き作業においては、通常、静電気が生ずることにより
、形状の打抜きミスが多発したり、抜カスがシートに付
着するといった不具合が生じたり、ケースへ組込み時に
数枚型なり合って操作されるといったトラブルが発生す
る。この対策としては、シート表面への静電気の防止と
、デネスト性と称するシート表面同士の物理化学的な貼
り付き性を防止することが必要である。本発明において
は酸化ケイ素膜を形成したポリエステルフィルムの反対
面に、高分子ポリマー構造を有するイオン性帯電防止剤
を表面塗布することにより、上述のトラブルを回避でき
る。

高分子ポリマー構造を有するイオン性帯電防止剤として
は、アクリル系、スチレン系、ポリエステル系、ビニル
−ビニリデン系、フェノール系のポリマー等に第４級ア
ンモニウム塩、スルホン酸エステル、リン酸エステル、
エチレンオキサイド付加物等の変性を施したものを好ま
しく用いることができ、例えば、上用製紙所製の“Ｏｌ
ｉｇｏ−Ｚ”１１本合成化学工業社製の・ゴーセフアイ
、−・Ａ−４６Ｑ、　Ｃ−６７０、日本化薬社製の“カ
ヤポリマー”ＥＣ−００３，ＥＣ−００４、総研化学社
製の“ニレコンド“ＰＱ−１０，ＰＱ−１０Ｗ、　ＰＱ
−Ａ、　ＰＱ−５０Ｂ、　ＰＱ−１４９等を挙げること
ができる。

かかる高分子ポリマー構造を有するイオン性帯電防止剤
を塗布する方法としては、酸化ケイ素膜をポリエステル
フィルムの表面に形成する方法と同様の方法で、例えば
ロールコーティング法、グラビアコーティング法、リバ
ースロールコーティング法、マイヤバー法、マイクログ
ラビア法、コンマコーティング法等のコーティング法が
用いられ、その塗布量は固形分で０．０３〜２ｇ／ｒｒ
？が好ましい。

更に本発明の効果を消失させない範囲において、例えば
フィラー、顔料、接着増進剤、滑剤、ブロッキング防止
剤、界面活性剤、塗れ剤、香料等の他の添加剤を加える
ことができる。

本発明のカセット用スリップシートは、通常、塗布され
たロール状フィルムをエンボスロールによりエンボス加
工したのち所定の大きさの形状に打ち抜き、スリップ層
面を磁気テープに接する方法でカセットケースと磁気テ
ープの間に介在させ、使用する。

本発明のカセット用スリップシートは、潤滑性に優れた
酸化ケイ素膜表面が優れた滑性（スリップ性）を有する
とともに、ジメチルポリシロキサン成分が酸化ケイ素膜
に化学的に結合していることから、脱落、転移が起りに
くく、シリコーン成分のブリードアウトの心配がなく、
耐久性に優れている。また、スリップ面及びその反対面
の表面固有抵抗は１０９〜１０１２Ω／口と低く、静電
気の発生を防止し、反対面の高分子ポリマー構造を有す
る帯電防止剤の塗布によりスリップシートの打ち抜き速
度を２００枚／分以上としても何らトラブルを生ずるこ
となく、更にカセットテープに組込んで磁気テープを１
０００時間以上に渡って長時間使用してもテープの走行
を円滑に行うことができる。

本発明のカセット用スリップシートは、従来のスリップ
シートに比して加工性に優れ、カセットへの組込み生産
性の向上をもたらし、更にはカセットに組込んだ磁気テ
ープを長時間に渡って使用しても磁気テープへのほこり
の付着、巻きブレ等の発生トラブルがほとんどない等の
種々の優れた作用効果を奏する。本発明のカセット用ス
リップシートはオーディオ用カセットテープのみならず
、ＤＡＴ用カ上カセツトに必要に応じてビデオ用テープ
等の走行を滑らかにし安定させる用途にも使用できる。

勿論これらの用途に限定されるものではないが、本発明
のスリップシートは広範囲な用途に供されるものである
。

〈実施例〉 以下、実施例を掲げて本発明を更に説明する。

なお例中の部は重量部を意味する。また各特性は次の方
法で求めた。

（１）全光線透過率、ヘーズ ＪＩＳ　Ｋ６７８２に準拠し、ヘーズメーター（日本電
位社製〉にて測定した全光線透過率（％〉と散乱光透過
率（％）を百分率で比べたヘーズで示した。

（２）動摩擦係数 ＡＳＴＭ　Ｄ１８９４に準拠し、フィルムの易滑面同士
及び易滑面とバック面（帯電防止剤塗布面〉との動摩擦
係数を示した。

（３）表面固有抵抗 ＡＳＴＭ　Ｄ−２５７に準拠した超絶縁抵抗計（横河電
機製ＲＭ−２１Ａ＞にて表面固有抵抗を測定した。

（４）帯電減衰半減期 宍戸電気製スタティックオネストメーター’Ｉ’ｙｐｅ
　Ｓ−５１０９の回転円盤に試料を固定し、１１０００
ｒｐで回転させ、５ＫＶの電圧を３０秒印加した後帯電
圧の変化を調べた。飽和電圧の１／２になる迄の時間を
帯電減衰半減期として求めた。測定は２３℃、５６％Ｒ
Ｈの雰囲気で行った。

（５）打抜き加工性 オーディオ用スリップシートの金型にかけ、２００枚／
分の速度で５０００枚のスリップシートを連続して打抜
いた。打ちにいたスリップシートは圧空で打抜き機から
連続的に排出され、トレー〈受は容器〉に積み重ねられ
た。打抜きしたスリップシートの形状不良、打抜きカス
の付着、積み重ねられた打抜きスリップシートの貼り付
き性を、下記の基準で評価した。

（６）走行安定性 スリップシートをオーディオカセット用に打ち抜き、シ
ートをＣ−９０カセツトに組み込む。このカセットをオ
ーディオカセットデツキにより実走耐久テストを行なう
。

実機走行は、再生走行と早送りでの巻き戻しの繰り返し
を行なう耐久テストで、磁気テープ再生走行速度は９４
ｃｍ／　ｓｅｃ　、早送り巻き戻し速度は４００ｃｍ　
／　ｓｅｅで行なう。再生走行１回、巻き戻し１回を１
サイクルとし、この繰り返し走行を１００サイクル行な
い、次の検査にて走行安定性の評価を行なった。

（ｉｌ　　巻き取り負荷 初期及び１００サイクル繰り返し後の巻き取り中にモー
ターにかかる負荷の変化を調べた。

（ｉｉｌ　　削れ性 １００サイクル繰り返し終了後、スリップシートを肉眼
で観察し、磁気テープ端面によるスクラッチの発生状況
を下記基準で調べた。

Ｏニスクラッチの発生なし △：部分的にスクラッチ発生 ×：全面にスクラッチが発生 （７）走行耐久性 スリップシートをオーディオカセット用に打抜き、Ｃ−
９０カセツトに組み込む。このオーディオテープを市販
の携帯用オーディオプレイヤー（ＡＩＷＡ　Ｈ３−Ｇ３
４１にかけ、０℃、常温、６０℃×８０％ＲＨの環境下
で１０００時間連続して再生走行〜早送り巻き戻しの繰
り返し、走行状態を下記の基準で調べた。

０　：　１０００時間安定して連続走行した。

△：　１０００時間走行したがテープの送り速度に遅れ
発生 ×：途中で走行停止した。

実施例１ テトライソシアネートシラン９２．５部、カルボキシ変
性ジメチルポリシロキサン（東しシリコーン■“５Ｆ−
８４１８”〉７．５部を固形分濃度が２．４％になるよ
うにｎ−ヘキサンで混合希釈し、スリップ用塗工液を調
製した。

この塗工液を１７５メツシユのグラビアコーターで、厚
み５０μのポリエステルフィルム（帝人■“ティジンテ
トロンフィルム”Ｓタイプ）の片面に塗布し、続いて乾
燥処理を施した。乾燥後の塗布量は約０．１５ｇ／−で
あった。

次に、アクリル変性の導電ポリマー（綜研化学■゛ニレ
コント”　ＰＱ−１０）　１０部にイソプロピルアルコ
ール４９０部を加え、帯電防止用塗料を調製した。この
塗料を１７５メツシユのグラビアコーターで、スリップ
用塗工液を塗布したポリエステルフィルムの反対面に塗
布し、乾燥した。乾燥後の塗布量は約０．０７ｇ／−で
あった。

このフィルムの性能評価の結果を表−１に示す。

表−１の結果より、スリップ性、帯電防止性、耐久性、
加工適性に優れ、オーディオ用カセットのスリップシー
トとして良好な走行性能、再生特性を有していることが
わかる。

実施例２ テトライソシアネートシラン５５部、メチルトリイソシ
アネートシラン２０部、カルボキシ変性ジメチルポリシ
ロキサン（信越シリコーン■゛Ｘ−６２−１６３Ｃ”）
２５部及び帯電防止剤（ボロンインターナショナル■“
ハイホロンＳＣ”〉５部をｎ−ヘキサン１３５０部とト
ルエン１３５０部で希釈混合し、スリップ用塗工液を調
製した。

この塗工液を実施例１と同様の方法でポリエステルフィ
ルムに塗布し、続いて乾燥処理を施した。

乾燥後の塗布量は約１　ｇ／ｒｒｒであった。

次に、カチオン性導電ポリマー（日東紡■“ＰＡＳ”）
１０部にメチルエチルケトン／イソプロピルアルコール
（１／１　）　４９０部を加え帯電防止用塗料を調製し
た。

この塗料を実施例１と同様の方法でスリップ用塗工液を
塗布したポリエステルフィルムの反対面に塗布し、乾燥
した。乾燥後の塗布量は約０．０５ｇ／−であった。

このフィルム性能評価の結果を表−１に示した。

表−１の結果より、カセット用スリップシートとして優
れた性能を有していることがわかる。

実施例３ 実施例１の処方において、固形分濃度が６％となるよう
にｎ−ヘキサンに変えてｎ−ヘキサン／トルエン（４／
１　）の混合溶剤で希釈し、スリップ用塗工液を調製し
た。

この塗工液を１７５メツシユのグラビアコーターで厚み
５０μのポリエステルフィルム（帝人■“ティジンテト
ロンフィルム”ＧＳタイプ）の片面に、実施例１と同様
にして塗布し、続いて乾燥処理を施した。乾燥後の塗布
量は０．４ｇ／−であった、このフィルムの反対面には
実施例２の帯電防止層を設けた。

カセット用スリップシートとしての性能の評価を行なっ
た結果を表−１に示す。表−１の結果より、スリップ面
の帯電防止性に優れ、カセットへの組込み適性オーディ
オテープの走行性能に優れた特性を有していることがわ
かる。

実施例４ 実施例１と同様の方法でスリップ用塗工液の処方をテト
ライソシアネートシラン９０部、カルボキシ変性ジメチ
ルポリシロキサン（ダウケミカル■＃７７８）　１０部
を固形分濃度が４％となるようにｎ　−ヘキサンで調製
し、これを１５０メツシユのマイクロブラビアコーター
で厚さ５０μのポリエステルフィルム（帝人■パティジ
ンテトロンフィルム”タイプＳ）の片面に塗布し、続い
て乾燥処理を施した。乾燥後の塗布量は０．４５ｇ／ｒ
ｒ？であった。

次に反対面の帯電防止層の処方を第４級アンモニウム塩
変性アクリレート（総研化学“ニレコント”ＰＱ−５０
Ｂ＞　９．５部及びフッ素変性界面活性剤（大日本イン
ク化学工業■“ＭＥＧＡＦＡＣ″Ｆ−１８３１０，５部
にイソプロピルアルコール４００部、ブタノール９０部
を加えて帯電防止用塗料を調製した。この塗料を実施例
１と同様の方法で塗布し、乾燥した。乾燥後の塗布量は
約０．０８ｇ／＋ｄであった。

このフィルムの性能評価の結果を表−１に示す。

表−１の結果より、カセット用スリップシートとしての
打抜き加工性、オーディオカセットの走行安定性に優れ
た特性を示すことがわがる。

比較例１ 実施例１において、スリップ層の反対面に高分子ポリマ
ー構造を有するイオン性帯電防止層の代りに、界面活性
剤タイプの低分子構造を有する帯電防止剤（ジョーダン
ケミカル社サイアスタット２６４Ａ）を塗布し、同様の
方法でこのフィルムの性能を評価した。

この結果を表−１に示す。表−１の結果が示すように、
低分子量の帯電防止剤が背面よりスリップ面に移行転写
し、帯電防止性は良くなっているものの磁気テープの走
行性が不安定となり、特に長時間走行、高湿度環境での
走行不能を生じた。

比較例２ 実施例４においてスリップ用塗工液の処方を、テトライ
ソシアネートシラン５０部、カルボキシ変性ジメチルポ
リシロキサン（ダウケミカル■＃７７８　）５０部に変
え同様の方法でカセット用スリップシートを調製した。

このシートの評価を行なった結果を表−１に示すが、ス
リップ面に遊離のジメチルポリシロキサンがマイグレー
ションして背面転写しており、スリップシートの打抜き
加工性、オーディオテープの走行安定性が損なわれる結
果となった。

比較例３ 実施例１において、スリップ層の反対面に帯電防止層を
設けずにカセット用スリップシートを作成した。このシ
ートの評価結果を表−１に示すが、打抜き加工性、走行
耐久性が不良であった。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ポリエステルフィルムの片面にケイ素反応型シリル
   ポリイソシアネート化合物（Ａ）と該シリルポリイソシ
   アネート化合物（Ａ）に対し１〜４０重量％のカルボキ
   シ変性ジメチルポリシロキサン（Ｂ）との付加、加水分
   解反応によって形成された主として酸化ケイ素膜からな
   るスリップ層を設け、他の面に高分子ポリマー構造を有
   するイオン性帯電防止剤層を設けていることを特徴とす
   るカセット用スリップシート。 ２、ケイ素反応型シリルポリイソシアネート化合物（Ａ
   ）が、Ｒ＿ｎＳｉ（ＮＣＯ）＿４＿−＿ｎ、（ＲＯ）＿
   ｎＳｉ（ＮＣＯ）＿４＿−＿ｎ（ここで、Ｒは炭素数１
   〜６のアルキル、アルケニル、アリールであり、ｎは０
   または１である）及びこれらの縮合体より選ばれる少く
   とも一種である請求項１記載のカセット用スリップシー
   ト。 ３、カルボキシ変性ジメチルポリシロキサン（Ｂ）のカ
   ルボキシ含有量が０．５〜５重量％である請求項１記載
   のカセット用スリップシート。