JPH036659B2 - - Google Patents

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JPH036659B2
JPH036659B2 JP18301384A JP18301384A JPH036659B2 JP H036659 B2 JPH036659 B2 JP H036659B2 JP 18301384 A JP18301384 A JP 18301384A JP 18301384 A JP18301384 A JP 18301384A JP H036659 B2 JPH036659 B2 JP H036659B2
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gate
control electrode
semiconductor device
cathode
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Futoshi Tokuno
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Mitsubishi Electric Corp
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10W76/00Containers; Fillings or auxiliary members therefor; Seals
    • H10W76/10Containers or parts thereof
    • H10W76/12Containers or parts thereof characterised by their shape
    • H10W76/13Containers comprising a conductive base serving as an interconnection
    • H10W76/138Containers comprising a conductive base serving as an interconnection having another interconnection being formed by a cover plate parallel to the conductive base, e.g. sandwich type
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages

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  • Die Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、環状の制御電極を有する半導体装
置、特にその半導体装置の制御電極取出し構造の
改良に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a semiconductor device having an annular control electrode, and particularly to an improvement in a control electrode extraction structure of the semiconductor device.

〔従来技術〕[Prior art]

大容量のゲートターンオフサイリスタや、トラ
ンジスタにおいては、大容量化に伴て制御用電極
(ゲートまたはベース)に流す電流が大きくなり、
最近では数10A〜数100Aの電流を流すものも実
用化されている。特に大容量ゲートターンオフサ
イリスタでは、ターンオフ時に必要なゲート逆電
流が大きく、しかも瞬時に、均一に電流を流す必
要があるため、ゲートとカソード間のインピーダ
ンスを極力小さくする工夫がなされている。例え
ば、ゲート電極の取出し部分の形状を環状にして
取出し部分からエミツタ領域までの距離の短縮と
電流分布の均一化、軽減が図られている。
In large capacity gate turn-off thyristors and transistors, the current flowing through the control electrode (gate or base) increases as the capacity increases.
Recently, devices that flow currents of several 10A to several 100A have been put into practical use. In particular, large-capacity gate turn-off thyristors require a large gate reverse current during turn-off, and the current must flow instantaneously and uniformly, so efforts have been made to minimize the impedance between the gate and cathode. For example, the shape of the lead-out portion of the gate electrode is annular to shorten the distance from the lead-out portion to the emitter region and to equalize and reduce the current distribution.

第1図は従来の半導体装置、特に環状のゲート
電極構造を有するゲートターンオフサイリスタの
エレメントの平面図である。第1図において、1
は半導体基体であるエレメント、1aはシリコン
ウエハ、1bはこのシリコンウエハ1aを支持す
る補強板、1cはゲート電極、1dはカソード電
極、1e,1fは前記ゲート電極1cの集電電極
の部分である。
FIG. 1 is a plan view of an element of a conventional semiconductor device, particularly a gate turn-off thyristor having an annular gate electrode structure. In Figure 1, 1
1a is an element which is a semiconductor substrate, 1a is a silicon wafer, 1b is a reinforcing plate that supports this silicon wafer 1a, 1c is a gate electrode, 1d is a cathode electrode, 1e and 1f are current collecting electrode parts of the gate electrode 1c. .

第1図における従来のゲートターンオフサイリ
スタは主としてワイヤボンデイングによつてエレ
メント1のゲート電極1cと外部のゲート電極
(図示してない)とを直接接続しており、第2図
はこのようなゲート電極の取出し構造の示す斜視
図である。
The conventional gate turn-off thyristor shown in FIG. 1 directly connects the gate electrode 1c of the element 1 to an external gate electrode (not shown) mainly by wire bonding, and FIG. FIG. 3 is a perspective view showing the extraction structure of FIG.

第2図においては、2はボンデイング用のアル
ミ線からなるゲート取出し電極であり、このアル
ミ線としては通常直径0.3〜0.7mmのものが用いら
れ、また、このアルミ線はゲート電流の通電分布
を均一化するするために、エレメント1の環状の
集電電極1eに対してほぼ等間隔に数ケ所から数
10ケ所ボンデイングを行う必要がある。
In Fig. 2, 2 is a gate lead-out electrode made of aluminum wire for bonding, and this aluminum wire usually has a diameter of 0.3 to 0.7 mm, and this aluminum wire controls the distribution of gate current. In order to make it uniform, from several places to several places at approximately equal intervals to the annular current collecting electrode 1e of the element 1.
It is necessary to perform bonding in 10 places.

この従来の装置では、ボンデイングに使用する
アルミ線自体の電気抵抗を無視できず、特に数
100Aの大電流を流す場合には、このアルミ線の
部分の抵抗が大きいと、主電流を遮断する際に、
ゲートからのキヤリアの排出が充分に行われず、
そのためゲートターンオフサイリスタの制御可能
電流を低下させてしまうことがあつた。
With this conventional equipment, the electrical resistance of the aluminum wire itself used for bonding cannot be ignored, especially the
When passing a large current of 100A, if the resistance of this aluminum wire part is large, when cutting off the main current,
The carrier is not discharged from the gate sufficiently,
As a result, the controllable current of the gate turn-off thyristor may be reduced.

一方、ゲートターンオフサイリスタの大容量化
が進むにつれて、エレメントの大口径化が進み、
これに伴つて前述のゲート取出し電流2の配線長
が長くなり、また、遮断時に必要とされるゲート
電流は増加するので、ゲート配線部分の電気抵抗
をさらに低くする必要がある。
On the other hand, as the capacity of gate turn-off thyristors increases, the diameter of the element also increases.
Along with this, the wiring length of the gate extraction current 2 described above becomes longer, and the gate current required at the time of interruption increases, so it is necessary to further lower the electrical resistance of the gate wiring portion.

ゲート配線部分の電気抵抗を低くしてゲートに
大電流を供給する方法としては、ゲート取出し電
極をエレメントに加圧接触させる方法が従来から
あり、この方法はゲートがエレメントの中央部に
あるセンターゲート構造のサイリスタや大容量の
トランジスタ等に用いた場合に非常に有効であ
る。
A conventional method for supplying a large current to the gate by lowering the electric resistance of the gate wiring part is to bring the gate lead electrode into pressure contact with the element. It is very effective when used in structured thyristors, large capacity transistors, etc.

第3図はこのような従来と半導体装置の例で、
ゲート取出し電極をエレメントに加圧接触させる
構造を有するサイリスタの断面図である。
Figure 3 shows examples of such conventional and semiconductor devices.
FIG. 2 is a cross-sectional view of a thyristor having a structure in which a gate lead-out electrode is brought into pressure contact with an element.

第3図において、1はサイリスタのエレメン
ト、3は挿入板、4は外部陰極、5はゲート取出
しリード、6はこのゲート取出しリード5および
挿入板3を外部陰極4に対して位置決めする絶縁
性支持部材、7は前記ゲート取出しリード5の先
端部5a(第2図のゲート取出し電極2に相当)
を絶縁性支持部材6を介してサイリスタのエレメ
ント1に加圧するばね、8は前記ゲート取出しリ
ード5を外部陰極4と絶縁するための保護管、9
は外部陰極、10は前記サイリスタのエレメント
1を支持するセラミツク筒、11は前記外部陰極
4をセラミツク筒10に固着支持する陰極側のフ
ランジ、12は外部陽極9を支持する陽極側のフ
ランジ、13は外部ゲート電極(制御電極)であ
る。
In FIG. 3, 1 is a thyristor element, 3 is an insertion plate, 4 is an external cathode, 5 is a gate lead, and 6 is an insulating support for positioning the gate lead 5 and the insertion plate 3 relative to the external cathode 4. A member 7 is the tip 5a of the gate lead 5 (corresponding to the gate lead electrode 2 in FIG. 2).
8 is a protective tube for insulating the gate lead 5 from the external cathode 4;
10 is an external cathode, 10 is a ceramic cylinder that supports the element 1 of the thyristor, 11 is a flange on the cathode side that firmly supports the external cathode 4 on the ceramic cylinder 10, 12 is a flange on the anode side that supports the external anode 9, 13 is an external gate electrode (control electrode).

この第3図の従来例によるサイリスタでは、エ
レメント1とゲート取出しリード5とをボンデイ
ングする必要がないため、ゲート取出しリード5
の線径を大きくしたり、このワイヤとしてアルミ
よりも電導性の良い材料(たとえば銀等)を用い
たりすることが可能であり、大電流の供給に有利
である。
In the conventional thyristor shown in FIG. 3, there is no need to bond the element 1 and the gate lead 5.
It is possible to increase the diameter of the wire, or to use a material (for example, silver, etc.) with better conductivity than aluminum for the wire, which is advantageous for supplying a large current.

しかしながら、前記絶縁性支持部材6は絶縁
性、耐熱性、機械的強度にすぐれたアルミナ焼結
体等を用いる必要があるために寸法制度が悪く、
そのため外部陰極4と、絶縁性支持部材6とのク
リアランスおよびこの絶縁性支持部材6とゲート
取出しリード5とのクリアランスを大きくせざる
を得ず、位置決め制度が悪くなり、その結果、こ
の従来のゲート取出し構造は高精度な位置決めを
要するためにゲートターンオフサイリスタに使用
するには精度上不十分であるという欠点があつ
た。
However, the insulating support member 6 has poor dimensional accuracy because it is necessary to use an alumina sintered body or the like that has excellent insulation, heat resistance, and mechanical strength.
Therefore, the clearance between the external cathode 4 and the insulating support member 6 and the clearance between the insulating support member 6 and the gate lead 5 have to be increased, resulting in poor positioning accuracy and, as a result, the conventional gate Since the extraction structure requires highly accurate positioning, it has the drawback of being insufficiently accurate for use in gate turn-off thyristors.

また、環状ゲートターンオフサイリスタの場合
に、前記第3図の従来例による構造を採用するに
は、ゲート取出しリード5のエレメント1と接触
する先端部5aを環状にする必要があるが、この
環状部分を容易、かつ高精度に位置決めできる加
圧接触形ゲート構造は実用化されていなかつた。
In addition, in the case of an annular gate turn-off thyristor, in order to adopt the conventional structure shown in FIG. A pressurized contact gate structure that allows for easy and highly accurate positioning has not been put into practical use.

〔発明の概念〕[Concept of the invention]

この発明は、上記のような従来のゲート取出し
構造の欠点を除去するためになされたもので、半
導体基体の制御電極を外部制御電極と接続するた
めにほぼ環状の制御電極取出し電極を設け、この
制御電極取出し電極を収納する外部電極の凹部分
を絶縁性被膜で被膜し、前記制御電極取出し電極
を前期制御電極に圧接させることによつて、制御
電極の取出しを容易に、かつ高精度で行うことが
できる信頼性の高い半導体装置を提供するもので
ある。以下、この発明の実施例を図面について説
明する。
This invention was made in order to eliminate the drawbacks of the conventional gate lead-out structure as described above, and a substantially annular control electrode lead-out electrode is provided to connect the control electrode of the semiconductor substrate to an external control electrode. The recessed portion of the external electrode that accommodates the control electrode extraction electrode is coated with an insulating film, and the control electrode extraction electrode is brought into pressure contact with the control electrode, whereby the control electrode can be extracted easily and with high precision. The present invention provides a highly reliable semiconductor device that can perform the following steps. Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

第4図はこの発明の一実施例によるゲートター
ンオフサイリスタの構造を示したものである。
FIG. 4 shows the structure of a gate turn-off thyristor according to an embodiment of the present invention.

第4図において、1は半導体基体であるエレメ
ント、14はゲート取出し電極で、環状金属部1
4aとワイヤ部14bとを有する。15は前記エ
レメント1のカソード電極の外周部と、第1外部
主電極である外部陰極18との間に挿入された外
側挿入板、16は前記エレメント1のカソード電
極の内側部と外部極18との間に挿入された内側
挿入板である。この外部陰極18のカソード側に
は環状の保持溝18aが凹設され、その保持溝1
8aの内面には絶縁性被膜18cが披着されてい
る。前記保持溝18a内には環状のゲート取出し
電極14が上下動自在に挿入され、このゲート取
出し電極14は保持溝18aの底面との間に絶縁
性被膜18cを介して挿入されたばね17により
第4図の下方に付勢されてエレメント1のゲート
電極部分に圧接している。また、10,11,1
2,13は第3図のものと同一のものを示し、1
9は外部陽極である。
In FIG. 4, 1 is an element which is a semiconductor substrate, 14 is a gate lead-out electrode, and a ring-shaped metal part 1
4a and a wire portion 14b. 15 is an outer insertion plate inserted between the outer circumference of the cathode electrode of the element 1 and the outer cathode 18 which is the first outer main electrode; 16 is an outer insertion plate inserted between the outer circumference of the cathode electrode of the element 1 and the outer cathode 18 This is an inner insertion plate inserted between the two. An annular holding groove 18a is recessed in the cathode side of the external cathode 18, and the holding groove 1
An insulating coating 18c is applied to the inner surface of 8a. An annular gate lead-out electrode 14 is inserted into the holding groove 18a so as to be able to move up and down, and this gate lead-out electrode 14 is connected to the fourth hole by a spring 17 inserted between the bottom surface of the holding groove 18a and an insulating coating 18c. It is urged downward in the figure and comes into pressure contact with the gate electrode portion of element 1. Also, 10, 11, 1
2 and 13 are the same as those in Figure 3, and 1
9 is an external anode.

第5図は第4図中の外部陰極18の詳細な構造
を示す斜視面である。第5図において、18dは
前記外部陰極18の本体である電極ブロツクであ
り、18aは前記外部陰極18がエレメント1に
接触する面に設けられた環状の保持溝、18bは
この保持溝18aに隣接して設けられたゲートリ
ード収納用の直線状の溝部分、18cは前記環状
の保持溝18aおよび直線状の溝部分18bの内
面に披着された絶縁性被膜である。
FIG. 5 is a perspective view showing the detailed structure of the external cathode 18 in FIG. In FIG. 5, 18d is an electrode block which is the main body of the external cathode 18, 18a is an annular holding groove provided on the surface where the external cathode 18 contacts the element 1, and 18b is adjacent to this holding groove 18a. The linear groove portion 18c for housing the gate lead provided therein is an insulating coating applied to the inner surfaces of the annular holding groove 18a and the linear groove portion 18b.

次に、前記外部陰極18の製造方法を説明す
る。
Next, a method for manufacturing the external cathode 18 will be explained.

(a) まず、電極ブロツク18dを所望の精度にて
切削加工形成し、環状の保持溝18aおよび直
線上の溝部分18bを除く部分をマスキングし
た後、アルミナまたはボロンナイトライドを環
状の保持溝18aおよび直線上の溝部分18b
に溶射する。電極ブロツク18dの材料として
銅を使用した場合、アルミナの溶射厚みは約
500μmまで付けられるが、この被膜の機械的
強度、電気絶縁性、寸法精度等の制約から、
100〜300μmの厚みが最も適している。
(a) First, the electrode block 18d is formed by cutting with the desired precision, and after masking the parts excluding the annular retaining groove 18a and the linear groove portion 18b, alumina or boron nitride is applied to the annular retaining groove 18a. and straight groove portion 18b
sprayed on. When copper is used as the material for the electrode block 18d, the thickness of the alumina sprayed is approx.
Although it can be applied up to 500 μm, due to limitations such as the mechanical strength, electrical insulation, and dimensional accuracy of this film,
A thickness of 100 to 300 μm is most suitable.

(b) 次に、前記溶射の完了した外部陰極18とフ
ランジ11、セラミツク筒10、外部ゲート電
極13をロウ着する。
(b) Next, the external cathode 18 that has been thermally sprayed, the flange 11, the ceramic cylinder 10, and the external gate electrode 13 are brazed together.

なお、上記実施例では、ゲートターンオフサイ
リスタについて述べたが、この発明は環状の制御
電極を有する大容量の半導体装置、たとえば大電
力トランジスタやゲート補助ターンオフサイリス
タ等についても同様に適用することができる。
In the above embodiment, a gate turn-off thyristor has been described, but the present invention can be similarly applied to a large-capacity semiconductor device having an annular control electrode, such as a high-power transistor or a gate-assisted turn-off thyristor.

さらに、この発明は環状のゲート電極1cを取
り出すための構造だけではなく、従来のセンター
ゲート構造のゲート取出し電極14についても適
用でき、それによつて作業性および位置決め精度
を向上できる。
Further, the present invention can be applied not only to the structure for taking out the annular gate electrode 1c but also to the gate taking-out electrode 14 of the conventional center gate structure, thereby improving workability and positioning accuracy.

また、この実施例のゲートターンオフサイリス
タでは、ゲート取出し電極14の環状金属部14
aの電極抵抗がきわめて小さく、また、ゲート取
出し電極14のワイヤ部14bの線径も充分大き
いので、ゲート取出し電極14の電位ドロツプを
きわめて小さくすることができる。
Further, in the gate turn-off thyristor of this embodiment, the annular metal portion 14 of the gate lead-out electrode 14
Since the electrode resistance of a is extremely small and the wire diameter of the wire portion 14b of the gate lead-out electrode 14 is sufficiently large, the potential drop of the gate lead-out electrode 14 can be made extremely small.

なお、上記ではゲート電極1c、ゲート取出し
電極14を用いて説明したが、一般的には、制御
電極1c、制御電極取出し電極14と称するもの
である。
Although the above description has been made using the gate electrode 1c and the gate extraction electrode 14, they are generally referred to as the control electrode 1c and the control electrode extraction electrode 14.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上詳細に説明したように、この発明は外部陰
極の一部に、制御電極を外部に取り出すための制
御電極取出し電極を保持するための環状の保持溝
を設け、前記制御電極取出し電極はその下面にお
いて前記制御電極と加圧接触するよう前記保持溝
の上面にばねを設け、かつ前記保持溝の内面には
絶縁性被膜を被着した構成としたので、ワイヤボ
ンデイングの必要がなく、制御電極取出し電極の
電位ドロツプを小さくしてゲートターンオフサイ
リスタの遮断能力を向上させることができる。
As explained in detail above, the present invention provides a part of the external cathode with an annular holding groove for holding a control electrode extraction electrode for taking out the control electrode to the outside, and the control electrode extraction electrode is disposed on the bottom surface of the annular holding groove. Since a spring is provided on the upper surface of the holding groove so as to come into pressure contact with the control electrode, and an insulating coating is coated on the inner surface of the holding groove, there is no need for wire bonding and it is possible to take out the control electrode. By reducing the potential drop of the electrode, the blocking ability of the gate turn-off thyristor can be improved.

また、ゲート圧接構造における絶縁性支持部材
が不用となるので、従来のようにゲート取出し用
ワイヤと絶縁性支持部材を係合させる作業も不要
となり、作業性を向上できると同時に寸法精度の
高い環状金属部により位置決め精度も極めて良好
となる利点を有する。
In addition, since the insulating support member in the gate pressure welding structure is no longer required, the conventional work of engaging the gate extraction wire and the insulating support member is no longer necessary. The metal part has the advantage of extremely good positioning accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来のゲート構造を有するゲートター
ンオフサイリスタのカソード・ゲートパターンを
示す平面図、第2図は第1図の装置のゲートター
ンオフサイリスタにゲート取出し用ワイヤボンデ
イングを行つた状態を示す斜視図、第3図は従来
のセンターゲート加圧方式のサイリスタの構造を
示す断面図、第4図はこの発明の一実施例による
ゲートターンオフサイリスタを示す断面図、第5
図は第4図における外部陰極電極の構造を示す斜
視図である。 図中、1はエレメント、10はセラミツク筒、
11,12はフランジ、13は外部ゲート電極、
14はゲート取出し電極、14aは環状金属部、
14bはワイヤ部、15は外側挿入板、16は内
側挿入板、17はばね、18は外部陰極、19は
外部陽極、18aは保持溝、18bは溝部分、1
8cは絶縁性被膜、18dは電極ブロツクであ
る。なお、図中の同一符号は同一または相当部分
を示す。
Fig. 1 is a plan view showing the cathode/gate pattern of a gate turn-off thyristor having a conventional gate structure, and Fig. 2 is a perspective view showing the gate turn-off thyristor of the device shown in Fig. 1 with wire bonding for gate extraction. , FIG. 3 is a sectional view showing the structure of a conventional center gate pressurizing thyristor, FIG. 4 is a sectional view showing a gate turn-off thyristor according to an embodiment of the present invention, and FIG.
This figure is a perspective view showing the structure of the external cathode electrode in FIG. 4. In the figure, 1 is an element, 10 is a ceramic cylinder,
11 and 12 are flanges, 13 is an external gate electrode,
14 is a gate extraction electrode, 14a is a ring-shaped metal part,
14b is a wire portion, 15 is an outer insertion plate, 16 is an inner insertion plate, 17 is a spring, 18 is an external cathode, 19 is an external anode, 18a is a holding groove, 18b is a groove portion, 1
8c is an insulating film, and 18d is an electrode block. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一方の面に陰極と制御電極を備え、他方の面
に陽極を備えた半導体基体と、前記陰極と電気的
に接続される外部陰極と、前記陽極と電気的に接
続される外部陽極と、さらに前記制御電極と電気
的に接続される制御電極取出し電極とを備えた半
導体装置において、前記外部陰極の一部に前記制
御電極取出し電極を保持するための環状の保持溝
を設け、この保持溝の内面に絶縁性被膜を被着す
るとともに、この保持溝内に前記制御電極取出し
電極を収容し、さらに前記保持溝内の前記制御電
極取出し電極を前記制御電極に圧接するばねを装
着したことを特徴とする半導体装置。 2 絶縁性被膜は、酸化アルミニウムを主成分と
する絶縁性物質の焼結生成物からなることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。 3 絶縁性被膜は、ボロンナイトライドを主成分
とする絶縁性物質の焼結生成物からなることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装
置。 4 絶縁性被膜は、100〜300μmの膜厚を有する
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第3
項のいずれかに記載の半導体装置。 5 制御電極取出し電極と制御電極との接触部分
は半導体基体の外周部と同心の環状のものである
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第4
項のいずれかに記載の半導体装置。
[Claims] 1. A semiconductor substrate having a cathode and a control electrode on one surface and an anode on the other surface, an external cathode electrically connected to the cathode, and an external cathode electrically connected to the anode. In the semiconductor device, the semiconductor device includes an external anode, and a control electrode lead-out electrode that is electrically connected to the control electrode, and a ring-shaped holding groove for holding the control electrode lead-out electrode in a part of the external cathode. an insulating film is applied to the inner surface of the holding groove, the control electrode extraction electrode is housed in the holding groove, and the control electrode extraction electrode in the holding groove is pressed against the control electrode. A semiconductor device characterized by being equipped with a spring. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the insulating film is made of a sintered product of an insulating material containing aluminum oxide as a main component. 3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the insulating film is made of a sintered product of an insulating material containing boron nitride as a main component. 4. Claims 1 to 3, characterized in that the insulating film has a thickness of 100 to 300 μm.
3. The semiconductor device according to any one of the items. 5. Claims 1 to 4, characterized in that the contact portion between the control electrode extraction electrode and the control electrode is annular and concentric with the outer periphery of the semiconductor substrate.
3. The semiconductor device according to any one of the items.
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