JPH0366724A - Epoxy resin composition for sealing semiconductor - Google Patents

Epoxy resin composition for sealing semiconductor

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JPH0366724A
JPH0366724A JP20322089A JP20322089A JPH0366724A JP H0366724 A JPH0366724 A JP H0366724A JP 20322089 A JP20322089 A JP 20322089A JP 20322089 A JP20322089 A JP 20322089A JP H0366724 A JPH0366724 A JP H0366724A
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JP
Japan
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epoxy resin
resin composition
molecule
epoxy
resin
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JP20322089A
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Japanese (ja)
Inventor
Takamitsu Fujimoto
隆光 藤本
Shuichi Kita
喜多 修市
Atsuko Noda
野田 アツコ
Yuji Hizuka
裕至 肥塚
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PURPOSE:To provide the subject composition comprising an epoxy resin, a phenolic resin, a specific cyclic phenol compound and an inorganic filler, capable of obtaining a cured product having high glass transition temperature and excellent heat resistance, moisture resistance and cold heat impact resistance. CONSTITUTION:The objective composition comprises (A) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule (preferably a novolak-based or triglycidylphenylmethane-based epoxy resin), (B) a phenolic resin having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule (preferably containing <=0.5wt.% of unreacted monomer), (C) a cyclic phenol compound of the formula [R is H or C(CH3)3; n is 4, 6 or 8] and (D) an inorganic filler (e.g. crystalline silica powder, alumina powder or talc) in a B/C weight ratio of 1.5-13.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体封止用エポキシ樹脂組成物に関する
。さらに詳しくは、基材となるエポキシ樹脂に、1分子
中fζ2個以上の水酸基を有するフェノール樹脂と特定
の環状フェノール化合物とを特定の割合で含有させるこ
とにより、耐熱性、耐湿性および耐冷熱衝撃性を向上さ
せた半導体封止用エポキシ樹脂組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] This invention relates to an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation. More specifically, by incorporating a phenol resin having two or more fζ hydroxyl groups in one molecule and a specific cyclic phenol compound in a specific ratio into the epoxy resin that serves as the base material, heat resistance, moisture resistance, and cold shock resistance are achieved. The present invention relates to an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation with improved properties.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

IC,LSIなどの半導体装置においては、その半導体
素子をシリコーン樹脂、エポキシ樹脂などによって封止
することはすでによく知られたことであり、これらの封
止樹脂のなかでも、特開昭63−77930号公報に示
されるように、基材樹脂としてクレゾールノボラ・ソク
型エポキシ樹脂と硬化剤としてのフェノールノボラ゛ソ
ク樹脂とを組合わせたエポキシ樹脂組成物は、封止後の
耐湿性、高温電気特性、成形性などがすぐれ、比較的安
価であるので汎用されている。
It is already well known that semiconductor devices such as ICs and LSIs are encapsulated with silicone resin, epoxy resin, etc. Among these encapsulation resins, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-77930 As shown in the publication, an epoxy resin composition that combines a cresol novola solid epoxy resin as a base resin and a phenol novola solid epoxy resin as a hardening agent has excellent moisture resistance and high temperature properties after sealing. It has excellent electrical properties, moldability, etc., and is relatively inexpensive, so it is widely used.

しかし、この種の樹脂で封止された樹脂封止パ・ソケー
ジ1こあっては、IC%LSI qどの半導体装置にお
ける実装手段の多機化に伴ない、小窒化や薄型化への指
向が進んでいるので、ここで使用されるエポキシ樹脂組
成物は耐熱性、耐湿性、低膨張係数、低弾性率および高
ガラス転移温度などの特性の向上が望まれている。特に
、耐熱性について。
However, with the increasing variety of mounting means in semiconductor devices such as IC, LSI, and other semiconductor devices, there is a trend toward smaller nitriding and thinning. As technology advances, the epoxy resin compositions used here are desired to have improved properties such as heat resistance, moisture resistance, low coefficient of expansion, low modulus of elasticity, and high glass transition temperature. Especially regarding heat resistance.

その傾向が著しい。例えば、基板への実装後、溶融半田
内にデイ゛ソブすると、封止樹脂にクラ゛ソクを生じた
り、あるいは素子特性が変動するといった問題が生じる
。
This trend is remarkable. For example, if the device is disposed in molten solder after being mounted on a substrate, problems may occur such as cracking in the sealing resin or variations in device characteristics.

また、150℃以上の耐熱性が要求される目動車搭載用
の素子には、適用が極めて困難であった。
Furthermore, it has been extremely difficult to apply this method to an element for mounting on a moving wheel, which requires heat resistance of 150° C. or higher.

そこで、耐熱性を向上させるために5例えば、’Rh硬
化’i’NMM VoC8,No、1 、p25 (1
987)に示されるよう1と、エポキシ樹脂の硬化剤で
あるフェノールノボラ・ソク樹脂に代えて、ポリーP−
ビニルフェノールの適用が検討されている。
Therefore, in order to improve heat resistance, for example, 'Rh hardening'i'NMM VoC8, No, 1, p25 (1
987), poly P-
The application of vinylphenol is being considered.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記ポリ−p−ビニルフェノールによる耐熱性の改善は
樹脂組成物の流動性の低下につながる可能性がある、い
わば成形性を低下させることζこなり、満足できる樹脂
封止ができないなどの問題点があった。
Improvement in heat resistance by the poly-p-vinylphenol described above may lead to a decrease in the fluidity of the resin composition, which may cause problems such as a decrease in moldability and failure to achieve satisfactory resin sealing. was there.

この発明は、上記のような問題点を解決するためになさ
れたもので、樹脂組成物の成形性を低下させることなく
副熱性、副湿性および耐冷熱衝撃性を有する半導体耐圧
用エポキシ樹脂組成物を提供することを目的とするもの
である。
This invention was made in order to solve the above-mentioned problems, and provides an epoxy resin composition for pressure-resistant semiconductors that has secondary heat resistance, secondary moisture resistance, and cold shock resistance without reducing the moldability of the resin composition. The purpose is to provide the following.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

この発明は、 (4)1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキ
シ樹脂、 申)1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有する
フェノール樹脂、 C)一般式(1)で表わされる環状フェノール化合物お
よび D)無機充填剤からなり、上記間成分ε上記C)成分と
の重量比が(B) / (C)−ILL5〜13の範囲
であることに特徴づけられる半導体封止用エポキシ樹脂
組成物により達成される。
This invention provides: (4) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, (mon) a phenol resin having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, and C) a resin represented by the general formula (1). An epoxy for semiconductor encapsulation consisting of a cyclic phenol compound and D) an inorganic filler, characterized in that the weight ratio of the above component ε to the above C) component is in the range of (B)/(C)-ILL5 to 13. This is achieved by a resin composition.

〔作用〕[Effect]

この発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物は。 The epoxy resin composition for semiconductor encapsulation of this invention is.

基材となるエポキシ樹脂に対して、1分子中に2個以上
のフェノール性水酸基を有するフェノール樹脂と特定の
環状フェノール化合物とを特定の割合で含有させること
により、樹脂組成物の流動性を損なうことなく、耐熱性
、耐湿性および耐冷熱衝撃性を向上させたものである。
By containing a phenol resin having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule and a specific cyclic phenol compound in a specific ratio to the base epoxy resin, the fluidity of the resin composition is impaired. It has improved heat resistance, moisture resistance, and cold shock resistance.

〔実施例〕〔Example〕

この発明に用いられる、(A) 1分子中に2個以上の
エポキシ基を有するエポキシ樹脂としては、例えばノボ
ラ・ソク系エポキシ樹脂、トリグリシジルフェニルメタ
ン系エポキシ樹脂、ビスフェノールA?エポキシ樹脂、
脂環式系エポキシ樹脂など、種々のクイブのエポキシ樹
脂があげられるが、これらのなかでもノボ→゛ノク系エ
ポキシ樹脂やトリグリシジルフェニルメタン系エポキシ
樹脂Lt i =特性に優れているので好ましい。これ
らは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of the epoxy resin (A) having two or more epoxy groups in one molecule used in this invention include Novola-Soku epoxy resin, triglycidylphenylmethane epoxy resin, and bisphenol A? Epoxy resin,
Various types of epoxy resins such as alicyclic epoxy resins can be mentioned, and among these, novo->noc type epoxy resins and triglycidylphenylmethane type epoxy resins are preferred because they have excellent Lt i = characteristics. These may be used alone or in combination of two or more.

さらに、必要に応して臭素化ノボラ・ソク系エポキシ樹
脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂などの臭素
化エポキシ樹脂を併用してもよい。
Furthermore, if necessary, a brominated epoxy resin such as a brominated novola-soc type epoxy resin or a brominated bisphenol A type epoxy resin may be used in combination.

この場合、これらの臭素化エポキシ樹脂の□用量は、前
記エポキシ樹脂100重量部に対して50重量部以下で
あるのが好ましい。
In this case, the amount of these brominated epoxy resins is preferably 50 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the epoxy resin.

この発明に用いられる、(B) m分子中に2個以上の
フェノール性水酸基を有するフェノール樹脂としては、
例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、ビス
フェノールA、レゾルシンなどのフェノール系化合物と
ホルムアルデヒドまたは/、<ラホルムアルデヒドとを
酸性触媒下で縮合反応させることによりえられたもので
あり、未反応モノマーは得られたフェノール樹脂中、0
.5重量%以下であるのが好ましい。
The phenolic resin having two or more phenolic hydroxyl groups in the (B) molecule used in this invention includes:
For example, it is obtained by condensing a phenolic compound such as phenol, cresol, xylenol, bisphenol A, or resorcinol with formaldehyde or/or formaldehyde under an acidic catalyst, and unreacted monomers are In phenolic resin, 0
.. It is preferably 5% by weight or less.

この発明に用いられる。〇一般式(1)で表わされる環
状フェノール化合物は。
Used in this invention. 〇The cyclic phenol compound represented by the general formula (1) is.

溶媒中において、アルカリ金属の水酸化物の存在下で、
p−4ert−ブチルフェノールとパラホルムアルデヒ
ドとの縮合あるいはp−1ert−ブチルフェノールと
ホルムアルデヒドとの綜合により得られる。
In a solvent, in the presence of an alkali metal hydroxide,
It can be obtained by the condensation of p-4ert-butylphenol and paraformaldehyde or the synthesis of p-1ert-butylphenol and formaldehyde.

上記溶媒としては、キシレン、トルエンなどが単独ある
いは混合して用いることができる。
As the above-mentioned solvent, xylene, toluene, etc. can be used alone or in combination.

上記アルカリ金属の水酸化物としては、水酸化カリウム
、水酸化ナトリウム、水酸化ルビジウムなどを用いるこ
とができる。
As the alkali metal hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydroxide, rubidium hydroxide, etc. can be used.

この発明になる半導体封止用エポキシ樹脂組成物の構成
成分である。前記中)成分とC)成分との配合割合は、
重量比で中1/(C)−1,5〜13、好ましくは2〜
8の範囲である。(Bl/(C)が1.5未満では。
It is a constituent component of the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation according to the present invention. The blending ratio of the above middle) component and C) component is:
Weight ratio of medium 1/(C)-1,5 to 13, preferably 2 to
The range is 8. (If Bl/(C) is less than 1.5.

上記エポキシ樹脂組成物の流動性が低下するので、作業
性が悪くなり、(ロ)/(C)が13をこえると上記エ
ポキシ樹脂組成物のガラス転移温度を十分に高くするこ
とかでλず、耐熱性の改善が行なえないので、いずれも
好ましくfxい。
As the fluidity of the epoxy resin composition decreases, workability deteriorates, and if (B)/(C) exceeds 13, it is difficult to increase the , since heat resistance cannot be improved, both are preferable.

この発明に用いられる。0無機充填剤としては、例えば
結晶性シリカ粉、溶融シリカ粉、アルミナ粉、タルク、
石英ガラス粉、炭酸カルシウム粉、ガラス繊維flどが
あげられる。これら無機質充填剤の添加量は組成物中に
50〜85%CMIIE%、以下同様)含有されるのが
好ましい。50%未満では線膨脹係数および硬化収縮を
低下させる効果が小さく fxす、また85%をこえる
と流動性が低下し1作業性が低下する傾向にあるので、
50〜85%の範囲内で要求特性に応じて配合量を適宜
選択するのが好ましい。
Used in this invention. 0 Inorganic fillers include, for example, crystalline silica powder, fused silica powder, alumina powder, talc,
Examples include quartz glass powder, calcium carbonate powder, and glass fiber fl. The amount of these inorganic fillers added is preferably 50 to 85% CMIIE% (the same applies hereinafter) in the composition. If it is less than 50%, the effect of lowering the coefficient of linear expansion and curing shrinkage will be small, and if it exceeds 85%, fluidity will decrease and workability will tend to decrease.
It is preferable to select the blending amount appropriately within the range of 50 to 85% depending on the required properties.

さらにまた、この発明にrlる半導体封止用エポキシ樹
脂組成物には、必要に応じて、イミダゾール系化合物、
第三級アミン類、リン系化合物などの硬化促進剤、カー
ボンブラックなどの着色剤、カルナパワ・ソクス、合成
ワ・ソクス、2どの離型剤、三酸化アンチモンrJどの
難燃助剤、γ−グリシロキシプロビルトリメトキシシラ
ンなどの力・ソプリング剤、シリコーンゴム、フッ素ゴ
ム、などのゴム成分を、組成物中での含有量が10%を
こえない範囲でそれぞれに添加してもよい。
Furthermore, the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation according to the present invention may optionally contain an imidazole compound,
Tertiary amines, curing accelerators such as phosphorus compounds, coloring agents such as carbon black, mold release agents such as Carnapawa Sox, synthetic wax, etc., flame retardant aids such as antimony trioxide rJ, γ-glycide, etc. A strength/sopping agent such as siloxypropyltrimethoxysilane, a rubber component such as silicone rubber, fluororubber, etc. may be added to each of the compositions in an amount not exceeding 10% in the composition.

また、この発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物は、
一般に使用されている公知の混合装置、例、t ハ、ロ
ール、ニーダ、ライカル機、ヘンシェルミキサー(三井
三池製作所製商品名)などを用いて容易に調製すること
ができる。
Furthermore, the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation of the present invention includes:
It can be easily prepared using commonly used known mixing apparatuses, such as a tumbler, a roll, a kneader, a Leical machine, a Henschel mixer (trade name, manufactured by Mitsui Miike Seisakusho), and the like.

次に、この発明に係る半導体封止用エポキシ樹脂組成物
の実施例につき、その比較例と併せて詳細に説明する。
Next, examples of the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation according to the present invention will be described in detail together with comparative examples thereof.

環状フェノール化合物の製造例 p−t@rL−ブチルフェノール55゜6gr 、パラ
ホルムアルデヒド!8gr 、 10規定苛性カリウム
溶液0.8ml  およびキシレン300grを水採取
管を備えた11の4・ソロフラスコに仕込み、N2ガス
気流下において、攪拌機により攪拌しながら120℃〜
+40Cに昇温し、キシレン還流下で5時間反応させ、
白色沈殿物を得た。この沈殿物をフィルターで採取し。
Production example of cyclic phenol compound p-t@rL-butylphenol 55°6gr, paraformaldehyde! 8gr, 0.8ml of 10N caustic potassium solution, and 300gr of xylene were placed in a 4-meter solo flask equipped with a water sampling tube, and heated to 120°C while stirring with a stirrer under a N2 gas stream.
The temperature was raised to +40C and reacted for 5 hours under xylene reflux,
A white precipitate was obtained. Collect this precipitate with a filter.

トルエン、エーテル、アセトンおよびイオン交換水で洗
浄した後、クロロホルムで再結晶し、150℃で減圧乾
燥8hr行なった。
After washing with toluene, ether, acetone and ion-exchanged water, it was recrystallized from chloroform and dried under reduced pressure at 150°C for 8 hours.

このようにして得た化合物は、っぎの特性測定の結果、
前記一般式で表わされる環状フェノール化合物であるこ
とを確認した。赤外吸収スペクトル: 3300cm 
I JとOH基に基づく吸収、融点: 411〜412
℃、および元素分析二〇 、 81.45 (計算値8
1.44)、H、8,71(計算値8.70)〔実施例
1〜6.比較例1〜5〕 第1表に示す組成になるようにエポキシ樹−脂、硬化剤
、無機充填剤およびその他の成分を調製し。
As a result of measuring the properties of the compound obtained in this way,
It was confirmed that it was a cyclic phenol compound represented by the above general formula. Infrared absorption spectrum: 3300cm
Absorption based on IJ and OH groups, melting point: 411-412
°C, and elemental analysis 20, 81.45 (calculated value 8
1.44), H, 8,71 (calculated value 8.70) [Examples 1 to 6. Comparative Examples 1 to 5] Epoxy resins, curing agents, inorganic fillers, and other components were prepared to have the compositions shown in Table 1.

80〜110℃の熱ロールで3〜7分間混練したのち粉
砕し、プレス装置を用いて3100〜1500 kg/
 am”の圧力下でタブレ゛ソトを作製した。続いて、
このようにして得たタブレ・ソトを用いて、金型温度が
180℃±5℃、プランジャー圧力が80kg10n”
、成形時間が90geaの条件でトランスファー成形し
、各種の信頼性評価用モニターチ・ソプと各種の評価用
試験片とをそれぞれに作用し、かつこれらの各信頼性評
価用モニターチップおよび各評価用試験片に対して、1
75℃、 ghrO後硬化処理を施した。
After kneading for 3 to 7 minutes with a hot roll at 80 to 110°C, the mixture is crushed and then processed using a press to produce 3100 to 1500 kg/
A tablet was prepared under a pressure of
Using the tabbouleh soto obtained in this way, the mold temperature was 180℃±5℃, and the plunger pressure was 80kg10n''.
, Transfer molding was performed under conditions of a molding time of 90gea, and various reliability evaluation monitor chips and various evaluation test pieces were applied to each of these reliability evaluation monitor chips and each evaluation test. 1 for each piece
A ghrO post-curing treatment was performed at 75°C.

また、前記のように処理された各評価用試験片を用いて
1曲げ弾性率1曲げ強度、線膨張係数。
In addition, using each evaluation test piece treated as described above, 1 flexural modulus 1 flexural strength, linear expansion coefficient.

ガラス転移温度および流動性のそれぞれについて測定し
た。その結果を次の第2表ξこ示す。
Glass transition temperature and fluidity were each measured. The results are shown in Table 2 below.

さらlこ、前記のように処理された各信頼性評価用モニ
ターチ・ソプを用いて、耐熱信頼性試験、耐湿信頼性試
験および劇冷熱衝撃性試験を次の手段で行なった。その
結果を第3表に示す。
Using each of the reliability evaluation monitors treated as described above, a heat resistance reliability test, a humidity resistance reliability test, and a deep cooling thermal shock test were conducted in the following manner. The results are shown in Table 3.

“耐熱信頼性試験” 空気中、250℃の条件で、モニターチップに不良が発
生するまでの時間を測定した。
"Heat Resistance Reliability Test" The time required for the monitor chip to become defective was measured in air at 250°C.

・耐湿信頼性試験” PCT (Pressure Cooker Tes&
) 130℃、2.7気圧の条件で% 1000hr 
後でのモニターチップの不良数によって評価した。
・Moisture Resistance Reliability Test” PCT (Pressure Cooker Tes&
) % 1000hr under the conditions of 130℃ and 2.7 atm
Evaluation was made based on the number of defective monitor chips.

”耐冷熱衝撃試験” 一65℃で3Qminと150℃で30toinとを1
サイクルとし、200サイクル後でのモニターチ・ソプ
の不良数によって評価した。
"Cold thermal shock resistance test" - 3Qmin at 65℃ and 30toin at 150℃
The evaluation was made based on the number of defective samples after 200 cycles.

すなわち、前記第2表から判るように、この実施例での
半導体封止用エポキシ樹脂組成物を用いた場合には、装
置自体の曲げ弾性率9曲げ強度および線膨張係数などの
基本的特性とか、組成物の流動性2どを著しく変えるこ
となく、そのガラス転移温度を高くでキ、シかも、前記
第3表から判るように、装置自体の耐熱性、耐湿性およ
び耐冷熱衝撃性についても非常2ζ優れた特性を有する
ものである。
That is, as can be seen from Table 2 above, when the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation in this example is used, the basic properties such as the flexural modulus of elasticity 9 of the device itself and the coefficient of linear expansion, etc. As can be seen from Table 3 above, it is possible to increase the glass transition temperature without significantly changing the fluidity of the composition. It has extremely excellent properties.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の説明から明らかなように、この発明の半導体封止
用エポキシ樹脂組成物は、基材となるエポキシ樹脂に対
して、硬化剤として1分子中に2個以上の7エノール性
水酸基を有するフェノール樹脂と特定の環状フェノール
化合物とを特定の割合で含有させたので、樹脂封止パ゛
ソケージなどの樹脂封止に必要とされる樹脂組成物の流
動性が保持され、しかもそのものの硬化物は高いガラス
転移温度を有し、耐熱性、耐湿性および耐冷熱衝撃性に
優れる。
As is clear from the above description, the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation of the present invention uses phenol having two or more heptaenolic hydroxyl groups in one molecule as a curing agent for the epoxy resin serving as the base material. Since the resin and a specific cyclic phenol compound are contained in a specific ratio, the fluidity of the resin composition required for resin sealing such as resin-sealed pisocage is maintained, and the cured product itself is It has a high glass transition temperature and has excellent heat resistance, moisture resistance, and cold shock resistance.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (A)1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキ
シ樹脂、 (B)1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有す
るフェノール樹脂、 (C)一般式(1)で表わされる環状フェノール化合物
、および ▲数式、化学式、表等があります▼(1) 式中、Rは水素原子あるいは▲数式、化学式、表等があ
ります▼基 [を表わし、n=4,6あるいは8の整数を表わす。] (D)無機充填剤からなり、上記(B)成分と上記(C
)成分との重量比が(B)/(C)=1.5〜13の範
囲であることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組
成物。
[Claims] (A) An epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, (B) A phenol resin having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, (C) General formula (1) ), and ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (1) In the formula, R is a hydrogen atom or ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ represents the group [, n = 4, 6 Or it represents an integer of 8. ] (D) Consists of an inorganic filler, consisting of the above (B) component and the above (C)
1. An epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, characterized in that the weight ratio of component (B)/(C) to component (B) is in the range of 1.5 to 13.
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