JPH0367214A - 走査線スキップ型非同期式描画装置及び方法 - Google Patents

走査線スキップ型非同期式描画装置及び方法

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JPH0367214A
JPH0367214A JP2174337A JP17433790A JPH0367214A JP H0367214 A JPH0367214 A JP H0367214A JP 2174337 A JP2174337 A JP 2174337A JP 17433790 A JP17433790 A JP 17433790A JP H0367214 A JPH0367214 A JP H0367214A
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exposure
buffer
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platen
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Ronald J Straayer
ロナルド・ジェイ・ストラーヤー
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Gerber Scientific Instrument Co
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はレーザ・ラスタ走査装置に関し、更に詳しくは
、走査線スキップ（ｓｋｉｐ）型非同期式描画を行うレ
ーザ・ラスタ走査装置に使用される装置に関する。
（従来の技術及び解決すべき課題） 精密プロッタ、プリンタなどの高速光学的走査装置はこ
の分野において周知である。これらの装置は直接描画装
置であり、フィルムの感光剤を通過する露光ビームをラ
スク走査することにより、プリント回路基板又は印刷版
を作成するのに使用され、該フィルムは後にプリント回
路基板の原版又は印刷版の図版にそれぞれ加工される。
ガーバー・サイエンティフィック・インスツルメント・
カンパニー（Ｔｈｅ　Ｇｅｒｖｅｒ　５ｃｉｅｎｔｉｆ
ｉｃ　ＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔＣｏｍｐｘｎｙ）−により
市販されている代表的なシステムは、磁気テープ駆動装
置、ハード・ディスク、対話型コンピュータ・グラフィ
ック端末、画像処理装置及び走査装置を有する光学テー
ブルから成る。このシステムは、コンピュータ援用設計
（ＣＡＤ）データを直接プリント回路基板の原版に転写
するのに必要な、又は文字種、画像及びハーフトーン像
を印刷版の図番に転写するのに必要な光学系、メディア
・キャリッジ及び電子装置を含むこともある。
直接描画装置は、表面に感光性材料を塗布した平坦なフ
ィルム基材を描画プラテン上に受け入れるように＃Ｉ成
される。コンピュータは、基材の特定部分を感光させる
ために、通常レーザ・ビームから成る走査光学露光ビー
ムを強度変調する露光ビーム発生装置に信号を提供する
。−殻内には、基材上の感光位置、即ち露光ビームの位
置を正確に示すために、露光ビームと同時に基準ビーム
が基準マスク及び受光素子を横断して走査される。
時には、ビームの焦点を合わせ、又は基準マスク及び基
材を横断するビームの同時走査を行うために、平面場走
査装置が用いられる。基材に描画する時に描画プラテン
を案内するために、精密空気軸受けがよく用いられる。
光学的偏向装置が多面鏡である従来のレーザ・ラスタ走
査装置では、露光ビームが一定速度で送られるように、
鏡は特定の一定速度で回転される。
しかしながら、従来の装置ではコンピュータから送られ
て来る画素、又は画素信号（即ち露光信号）の数値計算
速度が露光ビームの描画速度より遅くなることがあるた
め、そのような場合には、走査線の一部分だけが感光さ
れる。
従って、コンピュータが露光ビームを変調させるための
信号を発生する速度と、装置が走査する速度（即ち描画
速度）との許容できない差を自動的に補償するようなレ
ーザ・ラスタ走査装置を提供することが好ましい。本発
明はそのようなレーザ・ラスタ走査装置に関してなされ
たものである。
本発明の目的は、レーザ・ラスタ走査装置に使用され、
画素信号の発生速度と基材上の描画速度の差を補償する
装置を提供することにある。
（課題を解決するための手段） 本発明によれば、レーザ・ラスタ走査装置は、変調装置
及び特定の速度で回転する複数の反射面を有する多面鏡
から成る、アドレス信号にて制御可能な露光ビーム発生
装置を含む。該走査装置は基材上の走査線を横断する変
調された露光ビームを一方向に繰り返し走査できる。描
画プラテンは基材を受け入れて、走査方向に直角な方向
ｆ特定の速度で送る。制御装置は入力データ信号を受け
取り、露光４＝号を発生させるコンピュータを含む。
露光イδ号は順序付けられた記憶素子列の中で区分され
、各信号列は、１個の反射鏡面が走査線の始点に対応す
る第１回転位置から終点に対応する第２回転位置まで回
転する時に、該鏡面に照射される変調露光ビームに対応
する。露光ビーム発生装置に結合したバッファは、次に
描画される走査線に対応する１個の露光信号列を有する
。センサは次走査線に関する全露光信号がバッファに準
備されているか判定する。コンピュータは帰納的に現在
の鏡面が前記第１回転位置にある時を判定する。
前記鏡面が第１回転位置にあり、前記センサが、バッフ
ァの信号読み込みが未完了であることを示す場合、コン
ピュータは前記バッファに蓄積された露光信号を露光ビ
ーム発生装置に提供することを中止する制御信号、及び
これに応じて描画プラテンの動作を変更させるための制
御信号を提供する。
本発明の別の特徴では、レーザ・ラスタ走査装置は、変
調装置及び特定の速度で回転する複数の反射面を有する
多面鏡から成る、アドレス信号にて制御可能な露光ビー
ム発生装置を含む。該走査装置は基材上の走査線を横断
して変調された露光ビームを変位させる。描画プラテン
は基材を受け入れて、走査方向に直角な方向に特定の速
度で送る。制御装置は入力データ信号を受け取り、対応
する露光信号を発生するコンピュータを含む。露光信号
は、順序付けられた信号列に区分され、各信号列は特定
の走査線に対応する。フンピユータは更に信号を発生さ
せ、現在の走査線に対応する位置から後続の各走査線に
対応する位置まで、描画プラテンを送る。各露光信号列
は、１個の反射鏡面が走査線の始点に対応する第１回転
位置から終点に対応する第２回転位置まで回転する時に
、該鏡面に照射される変調露光ビームに対応する。露光
ビーム発生装置に結合した第２バッファは、次に描画さ
れる走査線に対応する１個の露光信号列を有する。第２
センサは次走査線の全露光信号が第２バッファに存在す
るか判定する。コンピュータに結合した第２バッファは
、露光ビーム発生装置に提供する前の複数の露光信号列
を蓄積する。第２センサは、第１バッファに存在する第
２バッファに提供可能な露光信号列の数を判定する。第
１バッファに蓄積された露光信号列の数が予め設定され
た数に一致する場合、コンピュータは、第２バッファに
提供される露光信号列の通信速度を変更する制御信号、
及び対応して描画プラテンの動作を変更させる制御信号
を提供する。前記コンピュータは帰納的に現在の鏡面が
前記第１回転位置にある時を判定する。第２センサが、
第２バッファは次走査線に対応する全露光信号を有して
いないことを示す場合、コンピュータは、第２バッファ
に蓄積された露光信号を露光ビーム発生装置に提供する
ことを中止する制御信号、及び描画プラテンを調整する
制御信号を提供する。
（実施例） 第１図は、本発明によるレーザ・ラスタ走査装置１０を
図解的に示す。走査装置１０は、第２図にて詳しく述べ
られる露光ビーム発生装置１２を含む。露光ビーム発生
装置１２は、描画プラテン１８等の送り機構上に位置さ
せられた基材１６等のキャリア上の感光性表面に露光ビ
ームを選択的に照射する。
描画プラテン及び露光ビーム発生装置１２は制御装置２
０から信号を受け取る。第３図にて詳しく述べるように
、制御装置２０は、データ入力装置２２から信号を受け
取り、対応する画素信号（ｐｉｘｅｌ　ｓｉｇｎａｌｓ
）を発生させ、露光ビームを変調する。該制御装置が、
画素信号、即ち走査される露光ビームの個々の画素に対
応する露光信号を発生する速度は、描画速度、即ち１個
の走査線を横断して露光ビームが移動させられる走査速
度より遅くなることがあり得る。また、制御装置２０の
画素信号を発生するデータ速度（＋１ａＬａ　ｒａｔｅ
）が遅くなり、描画プラテンが送られる速度、即ち各走
査線に応じて位置決めされる速度が相対的に大きくなる
ことがあり得る。本発明は、前記のデータ速度差を補償
する制御装置及び走査装置を特徴とする特 第２図は、第１図の露光ビーム発生装置１２の概略図を
示す。好ましくはサイオニクス（Ｃｙｏｎｉｃｓ）３ｍ
Ｗのアルゴン・レーザであるレーザ光源２６はケース２
４に収納されビーム２８を発生する。
ビーム２８は第１回転鏡３０に受け取られ、ビーム形成
光学系３２へ照射される。ビーム形成光学系３２は通常
のものが使用でき、特定の用途に応じて帯域レンズ、発
散レンズ、ビン・ホール及びトランスフオーム・レンズ
組立体にて構成可能である。
生皮されたビームは第１ビーム分岐器３４により受け取
られ、基準ビーム３６を分離する。ビーム２８は、通常
の音響光学変調装置３８に照射され、そこで制御装置２
０からライン４０を経て受け取られる画素信号に応じて
ビーム強度が変調される。変調装置３８に結合したバッ
ファ３９は、変調装置３８に提供する前の画素信号を蓄
積する。
バッファ３９は第２図に図式的に示されており、次の走
査線に対応する画素信号を受け取るために、１個以上の
通常のライン・バッファから戊る。同様に、基準ビーム
３６は第２回転鏡４４により曲げられ、一般的には前述
のビーム形成部品に類似のレンズ等の光学部品を含む、
基準ビーム形成光学系４６に照射される。基準ビーム３
６は隔壁４８の開口を通過し、ビーム２８は開口５０を
通過する。基準ビーム３６は回転鏡５２に受け取られ、
ビーム混合器５４に照射される。ビーム混合器５４は、
ビーム２８も受け取り、混合ビームをプリズム組立体５
８の光線平行化レンズ５６に照射する。
混合ビ、−ム５９は、光学組立体６０に受け取られ、光
学組立体６０は、ライン６８を経て制御装置２０から受
け取る信号に応じて軸６６の回りを回転する、複数の鏡
面６４を有する多面鏡６２から成る。基準ビーム３６及
び露光ビーム６９は通常のＦシータ走査レンズ７０によ
り受け取られる。
露光ビームは最終的には折り返し鏡７２に受け取られ、
走査装置の位置する平面外に位置する描画プラテンに照
射される。同時に、基準ビーム３６は基準マスク７４に
照射され、最終的には光検出器列７６に受け取られる。
光検出器列は、タイミング及び露光ビームの変調を制御
するために、受け取った基準ビームを示す信号をライン
７８を経て制御装置に提供する。制御装置２０はここで
詳述する機能を実現するのに必要なプロセッサ及び記憶
手段を含む。
第３図は、第１図のレーザ・ラスタ制御装置の制御装置
２０のブロック図を示す。制御装置２０はデータ入力装
置２２より信号を受け取り、コンピュータ８０により画
素信号を数値計算し、該画素信号をライン８２を経て、
露光ビーム発生装置の一部を威す音響光学変調装置のバ
ッファ３９に提供する。画素信号は複数の信号列に区分
され、各信号列は１個の走査線に対応する。
制御装置２０のデータ速度は、部分的には入力データ信
号の情報内容に依存し、可変である。制御装置２０に関
しては、複雑性の低いデータで最高データ速度が得られ
、露光ビーム発生装置の最大データ速度と一致する。ま
た、走査線の画素信号列が交互に論理「１」と「０」の
値を取る時、最低データ速度と戊る。
第３図に示す実施例では、露光ビーム発生装置のデータ
速度は多面鏡の特定の回転速度の関数である上に、画素
信号がバッファ３９に受け取られる速度の関数でもある
。画素信号がバッファ３９を出るデータ速度は、露光ビ
ームが走査線を横断する速度（即ち、走査速度又は描画
速度）と一致しなければならないことは、当業者には自
明である。従って、露光ビーム発生装置の最大データ速
度は、制御装置のデータ速度より大きくなるように選定
される。即ち、提供される画素信号のデータ速度は消費
される最大データ速度以下であり、信号は失われない。
一般的には、露光ビーム発生装置の最大データ速度（即
ち消費される画素信号）は３３百万画素／秒（３３Ｍｐ
／ｓ、又はｍ１ｌｌ１０ｎｐｉｘｅｌｓ　ｐｅｒ　ｓ＠
ｃｏｕｄ）である。
本発明は、コンピュータのデータ速度が露光ビーム発生
装置のデータ速度より遅い場合の補償に関するものであ
り、変調装置に結合されたセンサ８４は、バッファ３９
が次走査線に関する全画素信号を受け取っているかどう
かを公知の方法で判定することを特徴とする。コンピュ
ータ２０はセンサ８６からライン８７を経て、鏡面の回
転位置を判定する信号を受け取る。鏡が走査線の始点に
対応する位置にあり、次走査で基材の感光が開始可能な
時、対応する画素信号列の全画素信号がバッファに受け
取られていない場合、コンピュータは変調装置への画素
信号の提供を中止し、露光ビームの鏡面への照射を中止
することで、該鏡面を抜かす（ｓｋｉｐｐｉｎｇ）。バ
ッファ３９の不完全な信号列ア明らかなように前記速度
間の不一致が認められる場合、この判定は連続する各鏡
面について帰納的に行われる。
制御装置２０は更に、画素信号の提供に関する前記の判
定に応じて、描画プラテンの動作を変更させなければな
らない。第３図の実施例において、１個以上の鏡面が抜
かされた場合、図版の完全性を維持するために、制御装
置２０はライン８８を経て提供する制御信号により描画
プラテンの動きを停止し、その後描画プラテンを送る。
また、描画プラテンが連続的に送られる場合、制御装置
２０はその所望のデータ速度に応じて描画プラテンの速
度を調整する。その場合、レーザ・ラスタ走査装置は詳
しく述べられる露光ビーム発生装置も含み、該露光ビー
ム発生装置は描画プラテンの速度を補償する量だけ露光
ビームを変位させる。
制御装置の動作は第４図に示されるフロー・チャートで
説明される。初期状態ｒＡＪでは、制御装置２０は回転
鏡の回転位置を判定する（ブロック８９）。制御装置２
０は、鏡が回転して現在の鏡面が次走査線の始点に対応
する第１回転位置にある時、次走査線に対応する全画素
信号が受け取られているかをバッファ３９に照会する（
ブロック９０）。全信号がバッファ３９に存在する場合
、制御装置２０は変調装置を起動させ（ブロック９１）
、走査線を描画させ、描画プラテンを位置決めさせる（
ブロック９２）。バッファ３９が全画素信号を有してい
ない場合、現在の鏡面は抜かされる（）【コック９３）
。
第５図は、好ましい制御装置９４のブロック図であり、
制御装置９４は実質的には制御装置２０と同じであるが
、変調装置のバッファ３９に提供する前の５００から１
０００の画素信号列を蓄積するバッファ９６を含むこと
を特徴とする。制御装置９４は更に、ライン９８を経て
センサ９９から鏡の回転位置を示す信号を、又ライン１
００を経てセンサ８４から変調装置のバッファの信号内
容を示す信号を受け取る。初期状態ではコンピュータ１
０２は入力データ信号に応じて、前述の方法で走査線の
画素信号列を発生させる。
バッファ３９は、好ましくは、読み出し及び書き込み可
能な、順序付けられたアドレス番号を与えられた画素信
号列循環式の３個のバッファ要素を含む。常時第１バッ
ファ要素は１個の画素信号列を受け取り、第２バッファ
要素は画素信号列を保存し、第３バッファ要素は描画速
度に応じて変調装置に１個の画素信号列を提供する。バ
ッファ３９は、バッファ／バッファ間の通信速度と呼ば
れる特定の速度で、バッファ９６から画素信号列を受け
取る。好ましいバッファ９６は、循環式に順序付けられ
た１６のバンド（Ｂａ＋＋ｄ）に区分され、各バンドは
それぞれ３２の信号列を有する。制御装置９４は書き込
み中のバンド及び読み出し中のバンドのアドレス番号の
差をもって、蓄積された画素信号列の数を判定し、バッ
ファ／バッファ間の通信速度を制御する。
好ましい制御装置の動作は第４図及び第６図を参照して
理解されるであろう。好ましい実施例においては、次走
査線を描画する、即ち走査する、又は現在の鏡面を抜か
すという判定は、第３図に示された実施例の場合と同様
の基準に基づく。即ち、現在の鏡面が走査線の始点に対
応する回転位置にある時、次走査線の全画素信号が変調
装置のバッファ３９に存在するかどうかである。しかし
、好ましい制御装置９４はバッファ９６に蓄積された画
素信号列数を判定するセンサ１０４を含み、それにより
バッファ／バッファ間の通信速度を調整スル。バッファ
／バッファ間の通信速度は、制御装置の変化する画素信
号の発生速度を補償するように変化させられる。最終的
には、可変的な通倍速度は、露光ビーム発生装置が画素
信号を消費して基材に描画する包括的な速度である描画
速度に可変性を与える。
前述のように、露光ビーム発生装置が基材に描画する速
度（即ち描画信号消費速度、又は描画速度）は、鏡の回
転速度により決定され、結果的に各走査線とも最大速度
に固定される。好ましくは、描画速度の可変性は抜かさ
れる鏡面、及びバッファ／バッファ間の通信速度の変化
により生じる潜在的走査線の結果として達成される。抜
かされる鏡面数は自動的に通信速度に依存する。
例えば、制御装置９４のデータ速度が初期値より遅くな
った場合（第６図、ブロック１０６）、蓄積された画素
信号列数は減少し始める。センサ１０４はバッファ４こ
蓄積された画素信号列数を判定し、それに応じてバッフ
ァ／バッファ間の通信速度を遅くして調整する（ブロッ
ク１０８）。通信速度の減速は、次鏡面が描画位置にあ
る時に変調装置のバッファ３９が次走査線に対応する全
画素信号を有していない場合を生じさせ、従っていくつ
かの鏡面が抜かされる。制御装置９４は更に、描画プラ
テンの速度を調整する（ブロック１１０）。
第６図のブロック１１２から１１４には、バッファに蓄
積された画素信号列数が特定の数以上である時の制御装
置９４の動作を示す。あるいは、抜かされる鏡面数を選
定することによりバッファに蓄積された画素信号列数は
調整され、コンピュータの画素信号発生速度に合わせて
、制御装置９４のバッファには特定の画素信号列数が維
持される。
好ましい制御装置９４では、最大描画速度は３３百万画
素／秒、（３３Ｍ　ｐ　／　ｓ　、又は＋ｍ１ｌｌ１０
ｎｐｉｘｅｌｓ　ｐｅｒ　５ｅｃｏｎｄ）に設定される
０コンピユータの画素信号発生速度（即ち、制御装置の
データ速度）が１／２に減速した場合（即ち、１６．５
Ｍ　ｐ　／　ｓ　）　、制御装置は通信速度及び描画プ
ラテンの速度を１／２に減速する信号を提供する。同様
に、バッファに蓄積された画素信号列数に応じて、コン
ピュータは描画プラテンの速度をその最大速度の１／８
毎に調整し、描画は８／８速、７／８速、６／８速、５
／８速、４／８速、３／８速、２／８速又は１／８速の
いずれかで行われる。
勿論、遅い速度で描画することは、描画可能な画素信号
列数の水準を上げようと努めるコンピュータに画素信号
を発生する時間を与える。
描画プラテンの動作は、好ましくは前述のように連続的
に可変である。しかし、鏡面の動作は連続的で滑らかで
あるため、走査線に沿った最大走査速度方向での速度調
整は容易ではない。前述のように、描画プラテンの速度
はバッファ中の画素信号列数に依存する。露光ビーム発
生装置への画素信号の提供速度は、バッファ９６の信号
列数に依存させられ、又描画プラテンの速度に合わされ
る。コンピュータのデータ速度は、画素信号消費の最大
速度以下であるため、鏡面が現在の走査線の始点に対応
する第１回転位置に来る迄に、バッファに蓄積された画
素信号列数が許容できない程に少ない場合があることは
自明である。この場合には、鏡面は前述のように抜かさ
れる。鏡面を抜かす判定は、各鏡面の第１回転位置にて
帰納的に成され、好ましくは、変調装置のバッファに完
全な１個の画素信号列が存在するかどうかに依存し、又
は、例えば制御装置のバッファに存在する画素信号列数
に依存する。
前述のように、好ましい実施例では、描画プラテンの速
度は連続的に可変であり、コンピュータの平均データ速
度に合わせるように制御される。
その結果的として、鏡面が抜かされて走査線の実際位置
が所定の位置からずれるような時、描画プラテンの位置
に走査線の誤差が生じる。本発明による制御装置は、光
学的偏向装置１１８からライン１１６を経て受け取られ
る信号により、走査線の位置を公知の方法で判定し、前
記誤差を除くために描画プラテンの送り方向に露光ビー
ムを適切に変位させる信号を提供する（第６図、ブロッ
ク１２０）。光学的偏向装置はこの分野では公知のもの
が使用できる。更に、走査線が抜かされる時は、メディ
アの極性に応じて、走査線のために全信号が論理「１」
又は「０」である信号を変調装置に送ることで通常は十
分である。
本発明の説明を、好ましい実施例に基づいて行ったが、
本発明の精神と範囲から外れることなく、多様な変更、
省略及び付加が行い得ることは当業者に自明であろう。
４、図面簡単な説明］ 第１図は本発明による走査線スキップ型非同期式描画装
置を有するレーザ・ラスタ走査装置の概略図、 第２図は、第１図に示したレーザ・ラスタ走査装置に使
用される露光ビーム発生装置の上面図、第３図は第１図
に示した制御装置のブロック図、第４図は第３図に示し
た制御装置に使用されるアルゴリズムを示す７０−・チ
ャート、第５図は第３図に示した制御装置を代替する制
御装置のブロック図、 第６図は第５図に示した制御装置に使用されるアルゴリ
ズムを示すフロー　・チャートである。
１２：Ｗ光ビーム発生装置　１４：露光ビーム１６二基
材 １８：描画プラテン（保持機構） ２０：制御装置 ３９：バッファ（第２バッファ） ６０：光学組立体（走査機構） ７４：基準マスク　　　　　７６：光検出器列８０；コ
ンピュータ（数値計算手段、画素信号発生手段） ８４：センサ（第２センサ） ８６：センサ（検知手段） ９４：制御装置（制御手段） ９６；バッファ（第１バッファ） ９９：センサ（検知手段） １０２ニコンピユータ（数値計算手段）１０４：センナ
（第１センサ） （外４名）

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. １．　回転多面鏡（６２）を含む露光ビーム発生装置（
    １２）により、可動式の描画プラテン（１８）上に取り
    付けた基材（１６）を横断する露光ビームで、入力デー
    タ信号に応答して、順次に走査するレーザ・ラスタ走査
    装置（１０）に使用される制御装置（２０）にして、 該制御装置は数値計算手段（８０）を含み、該数値計算
    手段は、入力データ信号を受け取り、対応する露光信号
    を発生させ、該露光信号は順序付けられた露光信号列に
    区分され、露光信号列の各々は鏡面（６４）が走査線の
    始点に対応する第１回転位置から終点に対応する第２回
    転位置まで回転する時に、該鏡面に照射される変調露光
    ビームに対応することにより、特定の１個の走査線に対
    応し、 前記数値計算手段（８０）は更に、描画プラテン（１８
    ）を現在の走査線に対応する位置から、次走査線に対応
    する位置まで送る制御信号を提供し、 前記制御装置（２０）は更に、検知手段（８６）、バッ
    フア（３９）及びセンサ（８４）と協働し、該検知手段
    （８６）は鏡面（６４）の回転位置を示す信号を提供し
    、該バッファ（３９）は次走査線の露光信号列を受け取
    り、センサ（８４）はバッファ（３９）により受け取ら
    れた露光信号列を示す信号を発生させ、 前記数値計算手段（８０）は、センサ（８４）からの信
    号、及び回転鏡面の回転位置を示す検知手段（８６）か
    らの信号より、現在の鏡面（６４）が第１回転位置にあ
    る時を帰納的に判定し、もし前記バッファ（３９）が次
    走査線に対応する露光信号列の全信号を受け取っていな
    い場合、次走査線に対応する露光信号列を提供すること
    を中止し、描画プラテン（１８）の動作を変更させる制
    御信号を提供することを特徴とする制御装置。
  2. ２．　請求項１に記載の制御装置（２０）にして、レー
    ザ・ラスタ走査装置（１０）は連続的に描画プラテンを
    送る手段を含み、 前記制御装置が測定手段（７４、７６）、及び光学的偏
    向手段（１１８）を含み、該測定手段（７４、７６）は
    、基材上の実際の露光ビームの位置と指示を受けた露光
    ビームの位置の変位差として定義される、露光ビームの
    変位誤差を測定し、前記光学的偏向手段（１１８）は、
    露光ビームを走査線から描画プラテンの送り方向に選択
    的に変位させ、 前記数値計算手段（８０）は更に、前記バッファに蓄積
    された露光信号列を露光ビーム発生手段（１２）に提供
    する時を判定する手段、及び前記光学的偏向手段（１１
    ８）に信号を提供し、露光ビームを特定の量だけ走査線
    から変位させ、露光ビームの変位誤差を修正する手段を
    含むことを特徴とする制御装置。
  3. ３．　請求項１に記載の制御装置（２０）にして、レー
    ザ・ラスタ走査装置（１０）は連続する走査線に対応す
    る描画プラテンの位置決め手段を含み、前記数値計算手
    段（８０）は、次走査線の露光信号列を提供しない場合
    、描画プラテンの次走査線位置への送りを停止する手段
    を含むことを特徴とする制御装置。
  4. ４．　レーザ・ラスタ走査装置（１０）にして、該レー
    ザ・ラスタ走査装置は、回転多面鏡（６２）及び露光ビ
    ーム変調装置（３８）を有し、アドレス信号にて制御さ
    れる露光ビーム発生手段（１２）、可動式の描画プラテ
    ン（１８）、及び制御手段（９４）から成り、 露光ビーム発生手段は、基材（１６）を横断する走査線
    上を順次に露光ビーム（１４）で走査し、描画プラテン
    （１８）は基材（１６）を受け取り、前記制御手段（９
    ４）は数値計算手段（１０２）を含み、 該数値計算手段（１０２）は、入力データ信号を受け取
    り、入力データ信号から１つの信号発生速度で露光信号
    を発生させ、描画プラテン（１８）を現在の走査線に対
    応する位置から、次走査線に対応する位置まで送る制御
    信号を提供し、該露光信号は順序付けられた露光信号列
    に区分され、露光信号列の各々は特定の１個の走査線に
    対応し、鏡面（６４）が走査線の始点に対応する第１回
    転位置から終点に対応る第２回転位置まで回転する時に
    、該鏡面に照射される変調露光ビームし、前記レーザ・
    ラスタ走査装置は更に、検知手段（９９）、第１バッフ
    ァ（９６）、第２バッフア（３９）、第１センサ（１０
    ４）、及び第２センサ（８４）を含み、検知手段（９９
    ）は前記鏡面の回転位置を示す信号を提供し、第１バッ
    フア（９６）は前記数値計算手段（１０２）から受け取
    る複数の露光信号列を蓄積し、第２バッフア（３９）は
    、露光ビーム発生手段と結合され、第１バッファからバ
    ッファ／バッファ間の通信速度で順次に送られて来る、
    露光ビーム発生装置に提供する前の露光信号列を受け取
    り、前記第１センサ（１０４）は、第１バッファに蓄積
    された露光信号列数を示す信号を発生させ、前記第２セ
    ンサ（８４）は、第２バッファ（３９）に存在する次走
    査線の露光信号列の信号数を示す信号を発生させ、 前記数値計算手段（１０２）は、第１センサからの信号
    、第２センサからの信号、及び鏡面の位置を示す検知手
    段からの信号を受け取り、前記第１バッファに蓄積され
    た露光信号列数に応じてバッフア／バッファ間の通信速
    度を調整し、更に前記鏡面（６４）が第１回転位置にあ
    る時を帰納的に判定し、もし第２バッファ（３９）が次
    走査線に対応する露光信号列の全信号を受け取っていな
    い場合、該第２バッファに蓄積された露光信号列を露光
    ビーム発生手段に提供することを中止させる制御信号、
    及び描画プラテン（１８）の動作を変更する制御信号を
    提供することを特徴とするレーザ・ラスタ走査装置。
  5. ５．　請求項４に記載のレーザ・ラスタ走査装置にして
    、該レーザ・ラスタ走査装置（１０）は、測定手段（７
    ４、７６）、及び光学的偏向手段（１１８）を含み、前
    記測定手段（７４、７６）は、基材上の露光ビームの実
    際の位置及び指示を受けた位置との変位差として定義さ
    れる変位誤差を測定し、前記光学的偏向手段（１１８）
    は、露光ビームを走査線から描画プラテンの送り方向に
    選択的に変位させ、 前記数値計算手段（１０２）は更に、第２バッファ（３
    ９）に蓄積された露光信号列の提供を中止後に再実行す
    る時を判定する手段、及び前記光学的偏向手段（１１８
    ）に信号を提供し露光ビームを特定の量だけ走査線から
    変位させ露光ビームの変位誤差を修正する手段を含むこ
    とを特徴とするレーザ・ラスタ走査装置。
  6. ６．　請求項４に記載のレーザ・ラスタ走査装置にして
    、前記数値計算手段（１０２）は、前記第１バッファ（
    ９６）に蓄積された露光信号列数に応じて、抜かされる
    鏡面数を選定する手段を含むことを特徴とするレーザ・
    ラスタ走査装置。
  7. ７．　請求項４に記載のレーザ・ラスタ走査装置にして
    、該レーザ・ラスタ走査装置は、連続する走査線に対応
    する描画プラテン（１８）の位置決め手段を含み、 前記数値計算手段（１０２）は更に、該数値計算手段が
    次走査線の露光信号列の提供を実行しない場合のみ、描
    画プラテン（１８）を次走査線に対応する位置まで送る
    ことを中止する手段を含むことを特徴とするレーザ・ラ
    スタ走査装置。
  8. ８．　可動式の描画プラテン（１８）上に取り付けられ
    た基材（１６）を横断するレーザ・ビーム（２８）をラ
    スタ走査する方法にして、 露光ビーム変調装置（３８）及び特定の速度で回転する
    多面鏡（６２）を有する、アドレス信号により制御可能
    な露光ビーム発生手段（１２）を用意し、基材（１６）
    を横断する走査線に沿って変調露光ビームを変位させる
    ステップ、 受け取った信号に応じて、走査線に直角な方向に特定の
    速度で描画プラテンを送るステップ、入力データ信号を
    受け取る制御手段により露光信号を数値計算するステッ
    プであって、該露光信号は順序付けられた露光信号列に
    区分され、特定の１個の走査線に対応し、描画プラテン
    （１８）を現在の走査線に対応する位置から後続する各
    走査線に対応する位置まで送る制御信号を発生させ、露
    光信号列の各々が、鏡面（６４）が走査線の始点に対応
    する第１回転位置から終点に対応する第２回転位置まで
    回転する時、該鏡面の１つに照射される変調露光ビーム
    （１４）に対応するステップ、 第２バッファ（３９）に、露光ビーム変調装置（３８）
    に提供する前に、１個の露光信号列を蓄積するステップ
    、 前記第２バッファ（３９）中の露光信号数を検知するス
    テップ、 現在の鏡面（６４）が第１回転位置にある時を帰納的に
    判定するステップ、及び、 第２バッフア（３９）が露光信号列の全信号を受け取っ
    ていない場合、第２バッファ（３９）に蓄積された露光
    信号列の提供を中止する制御信号、及び描画プラテン（
    １８）の動作を変更する制御信号を提供するステップを
    含むことを特徴とする方法。
  9. ９．　請求項８に記載の方法にして、 数値計算手段（１０２）に結合された第１バッファ（９
    ６）に複数の露光信号列を蓄積するステップ、 該バッファ（９６）に蓄積された露光信号列数を検知す
    るステップ、 該バッファ（９６）に蓄積された露光信号列をバッファ
    ／バッファ間の通信速度で前記第２バッファ（３９）に
    提供するステップ、及び、 該第１バッファ（９６）に蓄積された露光信号列数に応
    じて、前記通信速度を調整するステップを含むことを特
    徴とする方法。
  10. １０．　請求項９に記載の方法にして、 鏡面（６４）が抜かされる時、及び、露光ビームの基材
    （１６）上の実際の位置と指示を受けた位置との変位差
    の値として定義される光学的変位誤差を判定するステッ
    プ、 及び、該光学的変位誤差を除くために、基材に沿って露
    光ビームを光学的に変位させるステップを更に含むこと
    を特徴とする方法。
  11. １１．　請求項８に記載の方法にして、連続する走査線
    に対応する描画プラテン（１８）の位置決めを行うステ
    ップ、及び、前記数値計算手段（１０２）が次走査線の
    露光信号列の提供を中止する場合のみ、描画プラテン（
    １８）を次走査線の位置へ送らせないステップから成る
    ことを特徴とする方法。
  12. １２．　レーザ・ラスタ走査装置にして、 回転多面鏡及び露光ビーム変調装置（３８）を有し、ア
    ドレス信号により制御可能な露光ビーム発生手段（１２
    ）、可動式の描画プラテン（１８）、及び制御手段（２
    ０）を含み、 該露光ビーム発生手段（１２）は基材（１６）を横断す
    る走査線に沿って露光ビームを変位させ、前記描画プラ
    テン（１８）は前記基材（１６）を受け入れ、前記制御
    手段（２０）は数値計算手段（１０２）を含み、 該数値計算手段（１０２）は、入力データ信号を受け取
    り、対応する露光信号を発生させ、該露光信号は順序付
    けられた信号列に区分され、露光信号列の各々は鏡面（
    ６４）が走査線の始点に対応する第１回転位置から終点
    に対応する第２回転位置まで回転する時に、該鏡面に照
    射される変調露光ビームに対応することにより特定の１
    個の走査線に対応し、 数値計算手段（１０２）は更に、描画プラテン（１８）
    を現在の走査線に対応する位置から連続する各走査線に
    対応する位置まで送る制御信号を提供し、前記レーザ・
    ラスタ走査装置は更に、検知手段（９９）、第１バッフ
    ァ（９６）、第２バッファ（３９）、第１センサ（１０
    ４）及び第２センサ（８４）を含み、 検知手段（９９）は鏡面（６４）の回転位置を示す信号
    を提供し、第１バッファ（９６）は前記数値計算手段か
    ら受け取る複数の露光信号列を蓄積し、第２バッファ（
    ３９）は、露光ビーム発生手段（１２）に結合され、第
    １バッファ（９６）からバッファ／バッファ間の通信速
    度で順次に送られて来る、露光ビーム発生手段に提供さ
    れる前の露光信号列を受け取り、前記第１センサ（１０
    ４）は第１バッファ（９６）に蓄積された露光信号列数
    を示す信号を発生させ、第２センサ（８４）は第２バッ
    ファ（３９）に存在する次走査線の露光信号列の信号数
    を示す信号を発生させ、 数値計算手段（１０２）は、第１センサからの信号、第
    ２センサからの信号及び鏡面の位置を示す検知手段から
    の信号を受け取り、第１バッフア（９６）に蓄積された
    露光信号列数に応じて前記通信速度を調整し、更に鏡面
    （６４）が前記第１回転位置にある時を帰納的に判定し
    、もし第１バッファ（９６）に蓄積された信号列数が特
    定の数より少ない場合、第２バッファ（３９）に蓄積さ
    れた露光信号列を露光ビーム発生手段（１２）に提供す
    ることを中止する制御信号、及び、前記描画プラテン（
    １８）の動作を変更する制御信号を提供することを特徴
    とするレーザ・ラスタ走査装置。
  13. １３．　キャリア上に感光描画するレーザ・ラスタ走査
    装置（１０）にして、 該レーザ・ラスタ走査装置は、保持機構（１８）、走査
    機構（６０）、送り機構（２０）、画素信号発生手段（
    ８０）及び変調手段（３８）を含み、前記保持機構（１
    ８）は感光性表面を有するキャリア（１６）を保持し、
    走査機構（６０）は、保持機構（１８）により保持され
    たキャリア（１６）の感光性表面を横断して伸びる、走
    査機構（６０）に相対的に固定された基準線に沿って順
    次に露光ビームを走査し、前記送り機構（２０）は、前
    記基準線にほぼ直角な線に沿って、走査機構（６０）及
    び保持機構（１８）を相対的、かつ漸進的に変位させ、
    露光ビームにより感光性表面上の連続する各走査線を走
    査させ、画素信号発生手段（８０）は、露光信号を順序
    付けられた信号列に区分し、各信号列は特定の１個の走
    査線に対応し、前記変調手段（３８）は、前記１個の露
    光信号列に対応する基準線に沿って露光ビームを走査す
    る時に、露光ビームの強度変調を行い、 レーザ・ラスタ走査装置は更に、バッフア（３９）、検
    知手段（９９）及びセンサ（８４）を含み、該バッファ
    （３９）は次に走査される露光ビームに対応した画素の
    露光信号列を受け取り、検知手段（９９）は前記基準線
    に沿った露光ビームによる次の走査の開始を示す信号を
    提供し、センサ（８４）はバッファ（３９）に蓄積され
    る露光信号列の完全性を示す信号を提供し、 レーザ・ラスタ装置は更に、前記検知手段及びセンサに
    応答し、露光ビーム（１４）による次走査の開始時にバ
    ッファ（３９）が完全な露光信号列を有していない場合
    に前記変調手段及び送り機構を停止させる手段を含み、
    保持機構（１８）に対する走査機構（６０）の動作が、
    露光ビームによる次走査の間中断されて露光ビーム（１
    ４）は不感光強度に保たれ、前記露光ビームによる基準
    線の再走査を開始する時は、前記変調手段（３８）及び
    送り機構（２０）が再起動される前に、完全な信号列が
    該バッファ（３９）に蓄積され得ることを特徴とするレ
    ーザ・ラスタ走査装置。
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