JPH0367301B2 - - Google Patents

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JPH0367301B2
JPH0367301B2 JP57500360A JP50036082A JPH0367301B2 JP H0367301 B2 JPH0367301 B2 JP H0367301B2 JP 57500360 A JP57500360 A JP 57500360A JP 50036082 A JP50036082 A JP 50036082A JP H0367301 B2 JPH0367301 B2 JP H0367301B2
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JP
Japan
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magnetic field
sample
electrons
region
energy
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JP57500360A
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Debitsudo Waren Taanaa
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KEBETSUKU CORP
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KEBETSUKU CORP
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Publication date
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Publication of JPS58500186A publication Critical patent/JPS58500186A/ja
Publication of JPH0367301B2 publication Critical patent/JPH0367301B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/285Emission microscopes, e.g. field-emission microscopes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S505/00Superconductor technology: apparatus, material, process
    • Y10S505/825Apparatus per se, device per se, or process of making or operating same
    • Y10S505/879Magnet or electromagnet

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

請求の範囲 1 磁界が比較的強い第1領域と磁界が比較的弱
くかつ該第1領域と磁束線を介して相互連絡され
た第2領域とを有する磁界発生手段、 上記第1領域内で検査しようとする試料の位置
決めを行い、該試料が上記第1領域内で磁界に対
し所定角度をもつて延びるとともにその表面の少
なくとも一部分から電子を放出するように選択ま
たは配置され、上記磁界発生手段により強力な磁
界を発生させて該第1領域内で磁界に対し角度を
もつて放出された電子を該磁界内に拘束して磁束
線の周りにらせん運動させる、試料の位置決め手
段、 上記試料位置決め手段の前方の第1領域内に配
置され、上記試料から放出された電子のうち、予
め定められた運動エネルギーよりも小さいエネル
ギーを有する電子が磁束線に沿つて第2領域へ引
き続き進行するのを阻止する第1の阻止手段、 上記第2領域内に配置された検出器を含み、該
検出器により上,,,記試料から放出されかつ第2
領域へ進行する各電子の該第2領域における磁界
の横断面の空間分布を表示し、これに基づき該試
料表面部の少なくとも一部の拡大放出電子像を生
成する電子検出手段、並びに 上記第1領域および第2領域での各磁界強度の
制御および調節を行つて上記電子像の倍率を調節
する制御および調節手段から構成したことを特徴
とする放出型電子顕微鏡。
2 磁界が軸対称でありかつ軸に沿つて不均質で
あり、該磁界の第1および第2領域が軸に沿つて
離間して配置される請求の範囲第1項記載の放出
型電子顕微鏡。
3 制御および調節手段が検出器を軸に沿つて
種々の磁界強度点に移動させる手段を有する請求
の範囲第2項記載の放出型電子顕微鏡。
4 制御および調節手段が磁界の第1および第2
領域間の軸に沿つた磁界強度の総合変化率調節手
段を有する請求の範囲第2項または第3項記載の
放出型電子顕微鏡。
5 磁界発生手段が磁界の第1および第2領域で
各別に磁界を発生する励磁可能部分を有する電磁
石手段から成り、制御および調節手段が電磁石手
段の一方の部分における励磁電流と他方の部分に
おける励磁電流とを相対的に調節する手段を有す
る請求の範囲第4項記載の放出型電子顕微鏡。
6 第1領域での磁界発生用電磁石手段の少なく
とも一部が超伝導ソレノイドである請求の範囲第
5項記載の放出型電子顕微鏡。
7 磁界発生手段が電磁石手段に電流パルスを加
えて磁界の第1および第2領域で同期して磁界パ
ルスを発生させる電流供給手段を備え、電子検出
手段が該磁界パルスと同期して作用するようにし
た請求の範囲第5項記載の放出型電子顕微鏡。
8 制御および調節手段が軸の回りに対称的に配
置されかつ第2領域に対し相対的に可動とされ
る、比較的高い透磁性材料から成る1つまたはそ
れ以上の部材を有するの請求の範囲第4項〜第7
項のいずれかに記載の放出型電子顕微鏡。
9 複数の部材が軸方向に並べられ伸張ロツドで
ある請求の範囲第8項記載の放出型電子顕微鏡。
10 磁界が第1および第2領域を連結する磁束
線上に第3領域を有し、該第3領域における磁界
が上記第1領域での磁界よりも充分弱くされ、試
料から放出された際当該磁界を横切る全電子の運
動エネルギーが第3領域到達時に磁束線に沿つて
運動エネルギーに変換され、第3領域に磁束線に
沿つた各電子のエネルギー分析手段を設けた請求
の範囲第1項〜第9項のいずれかに記載の放出型
電子顕微鏡。
11 エネルギー分析手段は磁束線に沿つて第3
領域を通過する電子のうち予め定められたエネル
ギーよりも小さいエネルギーを有する電子が引き
続き第2領域へ進行するのを阻止する第2の阻止
手段を含む請求の範囲第10項記載の放出型電子
顕微鏡。
12 第2の阻止手段が第3領域に配置される減
速電極である請求の範囲第11項記載の放出型電
子顕微鏡。
13 第1領域内の磁界が磁界方向に均質であり
かつ第1領域内に配置される第1の阻止手段が減
速電極である請求の範囲第1項〜第12項のいず
れかに記載の放出型電子顕微鏡。
14 第1領域内に配置される第1の阻止手段が
該第1領域内に配置された減速電極に応じた電位
を有するもう1つの電極を含み、該電極により磁
束線に沿つて上記減速電極を通過した電子の遺失
した前進エネルギーを回復させる請求の範囲第1
3項記載の放出型電子顕微鏡。
15 第1領域での磁界強度が磁界方向に沿つて
最大磁界強度点の両側点で減少し、試料位置決め
手段が第2領域から遠ざかるように最大磁界強度
点から磁界方向に沿つて試料を所定距離離間する
ように位置決めし、上記最大磁界強度点を磁気ミ
ラーとして作用せしめ、該磁気ミラーの磁界方向
に対し所定角度より大きい角度である速度をもつ
て入来する電子を反射せしめるようにした請求の
範囲第1項〜第12項のいずれかに記載の放出型
電子顕微鏡。
16 電子検出手段が入来する電子を選択的に偏
向する電磁偏向手段を有し、試料の刺激表面部の
選択からの電子で像を形成するようにした請求の
範囲第1項〜第15項のいずれかに記載の放出型
電子顕微鏡。
17 検出器が単一点検出器であり、電磁偏向手
段が該検出器における所望の電子像のラスター走
査を行つて該電子像の一連のTV状出力映像信号
を生成するようにした請求の範囲第16項記載の
放出型電子顕微鏡。
18 少なくとも試料の表面部を刺激する手段を
設けて該表面から電子を放出させる請求の範囲第
1項〜第17項のいずれかに記載の放出型電子顕
微鏡。
19 刺激手段が放射エネルギーを用いて表面の
少なくとも一部に照射する手段を有する請求の範
囲第18項記載の放出型電子顕微鏡。
20 放射エネルギーが光電子を放出電子として
放出させるのに充分なエネルギーを有する光子ビ
ームである請求の範囲第19項記載の放出型電子
顕微鏡。
21 照射手段が真空紫外線源またはソフトX線
放射源並びに、試料表面で上記放射源からの光子
の入射角および/または偏光を制御する手段から
成る請求の範囲第20項記載の放出型電子顕微
鏡。
22 放射エネルギーが中性原子ビームである請
求の範囲第19項記載の放出型電子顕微鏡。
23 刺激手段が試料を加熱して熱電子を放出さ
せる加熱手段である請求の範囲第18項記載の放
出型電子顕微鏡。
明細書 本発明は放出型電子顕微鏡に関する。
試料を刺激して電子を放出させる種々の方法が
知られている。例えば、充分なエネルギーの光子
を照射した試料の表面から光電子を放出させるこ
とができる。他の刺激方法では、中性原子を試料
に照射して放出電子を得ることができる。また試
料を加熱して熱電子を放出させることもできる。
本明細書において、一般に、常時ではないが、
適当な刺激の結果、試料それ自体から放出される
電子を「放出電子」という。
本発明は、これらの放出電子を用いて電子放出
試料の表面の像は映すための顕微鏡としての装置
に関するものである。生じた映像は、放出電子束
の映像面上で分布状態を表示している。
光電子のことを特に考えると、光電子分光学の
技術は、よく知られており、試料の表面領域にお
ける原子のイオン化エネルギーに依存する試料の
性質を決めるために用いられている。この技術分
野でよく知られた文献としては、「紫外線光電子
分光学の原理」(ジエイ・ダヴリユ・ラバライス
氏著、ウイレイ社発行)および「電子分光学、理
論技術及び応用1−3版」(シー・アール・ブラ
ンドル氏およびエイ・デイ・バケル氏著、アカデ
ミツク・プレス社1977年発行)がある。
光電子分光学において、試料に紫外線、通常は
真空紫外線あるいはソフトX線を照射し、試料を
刺激して光電子を放出することが知られている。
さらに、放出された光電子のエネルギースペクト
ルを決めるために種々の技術が使用される。光電
子分光学における問題の1つは、光電子が常態で
は固体試料の平坦面に対し全立体角4πまたは2π
に渡つて放出され、エネルギー分析器の開口部に
は比較的わずかしか入らないことである。
分光計の電子分析器に入る光電子束を改善する
方法の1つに、光電子試験を強磁界で行なう方法
がある。これは「ジヤーナル・フイジツクス
(Journal,Phys.)」第16186号におけるバームソ
ン、ペアスおよびターナ氏の論文で標題「強磁界
における光電子分光学」に記載されている。上記
論文には、軸対称均質磁界を用いて光電子束を照
準する技術が開示されている。上記のような装置
において、試料表面から磁界方向に対して傾斜し
て放出された電子は、磁界によつて制御され、磁
束線の周囲を軌道を描いて旋回し、磁界方向に沿
つてらせん状に進行する。
軸対称不均質磁界、すなわち、磁束線が磁界の
軸に沿つて収斂するかまたは発散する磁界におい
て、光電子分光を行なうことも提案されている。
さらに、試料が比較的強い磁界領域に置かれ、そ
れによつて放出された光電子が磁界軸に沿つて低
い磁界領域へ進行すると、磁界方向に対して横方
向の電子のいかなる運動エネルギーも、電子が弱
い磁界領域へ動くにつれて磁界方向に沿つたエネ
ルギーへしだいに移されることが示されている。
この現象に対する考察は、「ジヤーナル・オブ・
フイジツクス、ジヤーナル・オブ・フイジツク
ス・イー:サイエンテイフイツクス・インストウ
ルメント(Journal of Physics,J.Phys.E:Sci.
Instrum.)」第13巻、1980年、64頁において、バ
ームソン、ポータおよびターナ氏により「超伝導
性磁界光電子分光器の視準特性および拡大特性」
と題する論文に与えられている。
その論文においては、試料での磁界とエネルギ
ー分析器での磁界との比率が充分に大きければ、
放出電子が分析器に到達するまでに該放出電子の
全横方向運動エネルギーが縦方向エネルギーに転
移されてしまうと説明されている。これは、試料
表面から放出された実質的に全ての電子がエネル
ギーの大きさを決定するのに使用できるので、電
子エネルギースペクトルの測定をきわめて容易に
する。
また上記論文では、照射された試料の表面上の
電子エネルギーまたは磁束分布から成る拡大像を
得る技術に利用することも提案している。試料表
面から放出された電子は有効にそれらの一般的な
運動を制御され磁束線と平行に進行し、これによ
つて、試料表面から放出された電子の立体分布
は、分析器の磁界強度に対する試料の磁界強度の
比率の平方根に比例した大きさの割合で分析器で
再生される。しかしながら、上記論文には、実際
上装置をどのように構成するかに関しては何も開
示していない。
本発明に係る放出型電子顕微鏡は、磁界が比較
的強い第1領域と磁界が比較的弱くかつ該第1領
域と磁束線を介して相互連結された第2領域とを
有する磁界発生手段、上記第1領域内で検査しよ
うとする試料の位置決めを行い、該試料が上記第
1領域内で磁界に対し所定角度をもつて延びると
ともにその表面の少なくとも一部分から電子を放
出するように選択または配置され、上記磁界発生
手段により強力な磁界を発生させて該第1領域内
で磁界に対し角度をもつて放出された電子を該磁
界内に拘束して磁束線の周りにらせん運動させ
る、試料の位置決め手段、上記試料位置決め手段
の前方の第1領域内に配置され、上記試料から放
出された電子のうち、予め定められた運動エネル
ギーよりも小さいエネルギーを有する電子が磁束
線に沿つて第2領域へ引き続き進行するのを阻止
する第1の阻止手段、上記第2領域内に配置され
た検出器を含み、該検出器により上記試料から放
出されかつ第2領域へ進行する各電子の該第2領
域における磁界の横断面の空間分布を表示し、こ
れに基づき該試料表面部の少なくとも一部の拡大
放出電子像を生成する電子検出手段、並びに上記
第1領域および第2領域での各磁界強度の制御お
よび調節を行つて上記電子像の倍率を調節する制
御および調節手段から構成したことを特徴として
いる。
好ましい実施例では、顕微鏡は試料表面の少な
くとも一部を刺激して該試料表面から電子を放出
させる手段を備えている。この刺激手段は、該試
料表面の少なくとも一部を放射エネルギーで照射
する手段から成る。放射エネルギーが光ビームか
ら成る場合には、放出電子は光電子である。
通常、試料表面に選択された一方向または複数
方向から光子を照射して光電子を生起させる。
第2領域での拡大像を分析すると、試料で放出
された放出電子の主要エネルギーおよびこれらの
放出電子の角度分布の関数とみなすことができ
る。放出電子のらせん状軌道半径は解像限度を決
める。解像が最も悪い場合は、試料における磁界
に対して垂直方向に放出された電子全てを考慮す
べきである。試料が7.7テラスの磁界にある場合、
このらせん半径の最大は、5電子ボルトを有する
光電子に関しては典型的には1ミクロンである。
放出電子の等方性分布を考えると、結果は1.7ミ
クロンの有効解像可能物体サイズ(半値強度での
直径)とするとより好都合である。
試料の拡大電子像を作る能力は、試料表面を横
切つて生じた電子の空間分布を示す情報を得るた
めに利用できる。該空間情報が光電子に対し試料
表面上に生じた種々の光電子領域と関連付けられ
る。
本発明の顕微鏡は生物試料における、例えば重
原子に富んだ構造の地図を作成することができ
る。その一例として、生物試料のヨード含有濃度
を観察することができる。
さらに電子エネルギー分布を使用して電子分光
のために用いると、予め設定した範囲のエネルギ
ーを有する電子からのみ拡大された像を形成する
ことができる。このエネルギー分析能力を用いる
と、物体に関するさらに多くの情報を得ることが
できる。上記像は選択されたエネルギーを有する
電子によつて、例えば特定の原子または分子の電
子エネルギー分布特性に関する試料表面地図を形
成することができる。例えば前記の場合、ヨウ素
含有成分はそのエネルギーがこの原子の特徴とす
る1群の光電子(He1光イオン化の場合にはこれ
はヨウ素5p電子である)によつて解明される。
さらに、エネルギー解析によつてピークエネル
ギーのシフトから結合または化学状態の小さな変
化を充分に検出しかつ該変化を充分に作図するこ
とができる。
本発明に係る顕微鏡に、第1領域と第2領域と
の磁界の相対的強さを制御しかつ調節する手段を
設けると、当該顕微鏡によつて得られる倍率の調
節を容易に行うことができる。
特に好ましくは、磁界が軸対称であり、軸に沿
つて不均質とし、第1領域と第2領域とは軸に沿
つて離間して配置する。更に、前記の磁界制御・
調節手段は検出器を軸に沿つて種々の磁界強度点
へ移動させる手段を備えるようにする。
前記磁界制御・調節手段は軸に沿つて第1領域
および第2領域間の軸に沿つた磁界強度の総合変
化率を調節する手段を備えていてもよい。一例と
して、磁界発生手段は第1領域および第2領域で
磁界を発生させる個別エネルギー発生部を有する
電磁手段で構成され、磁界制御・調節手段は該電
磁手段の一部の励磁電流を他の部分の励磁電流に
対して調節する手段を備えている。
また、第1領域での磁界発生用電磁手段の少な
くとも一部は超伝導ソレノイドとすることができ
る。
他の例では、磁界発生手段は、電流パルス供給
手段を備え、第1および第2領域で同期して磁界
パルスを発生する。上記電子検出手段は上記磁界
パルスと同期して動作するように設置されてい
る。このようにしてパルス磁界が一般的な非超伝
導性電磁石によつて発生され、電磁コイルにおけ
るジユール熱による加熱の問題を回避している。
所定の大きさの同期電流パルスを種々のコイルに
供給することにより当該装置のあらゆる部分でパ
ルス磁界を予め設定された大きさに維持すること
が重要である。
上記磁界制御・調節手段は軸の周囲に対称的に
配置されるとともに第2領域に対し移動可能とさ
れる、高比透磁率を有する材料から成る1つまた
はそれ以上の部材を備えていてもよい。上記部材
は隣接する自由空間で磁界を歪曲させて所望磁界
を有効に焦点合わせしまたは拡散させ得ることが
認められる。一例として、複数の上記部材により
軸方向に整列した伸張ロツドとして形成される。
本発明の好ましい実施例において、磁界は第1
領域と第2領域とを連結する磁束線上に第3領域
を有し、第3領域の磁界は第1領域の磁界と比較
して充分に弱くされ、試料から磁界に対して横方
向に放出された全電子の運動エネルギーは各電子
が第3領域に到達した時に磁束線に沿つた運動エ
ネルギーに変換され、また第3領域内に電子の磁
束線に沿つたエネルギー分析手段が設けられる。
上記エネルギー分析手段は、磁束線に沿つて第
3領域を通過する電子のうち予め定められたエネ
ルギーよりも小さいエネルギーを有する電子が引
き続き第2領域へ進行するのを阻止する第2の阻
止手段とすると好都合である。上記第2の阻止手
段は第3領域内に配置した減速電極で構成され
る。
減速電極分析手段はある一定以上のエネルギー
を有する全ての電子を通過させ、検出器に到達さ
せる。また、減速電極分析手段は、比較的狭い帯
域内のエネルギーを有する電子のみを通過させる
こともできる。上記減速電極分析手段の一例とし
ていわゆる、交差した磁界および静電界によるト
ロコイド偏向を用いることができるし、または予
め設定された飛行時間でグリツド間を通過する電
子のみが両グリツドを通過できるように、第3領
域の磁界を沿つて離間したパルス状減速グリツド
を使用することもできる。上記のような減速電極
分析手段を用いると、検出器は予め設定されたエ
ネルギー帯域の放出電子にのみ応答するようにす
ることができる。
本発明の実施例において、試料位置決め手段の
前方の第1領域内に配置され、試料から放出され
た電子のうち、予め定められた運動エネルギーよ
りも小さいエネルギーを有する電子が磁束線に沿
つて第2領域へ引き続き進行するのを阻止する第
1の阻止手段が設けられ、それによつて磁界に沿
つたエネルギーを比較的高い割合で有する放出電
子のみが透過させられる。この技術は、磁界に対
して横方向のエネルギーを比較的高い割合で有す
る放出電子を取り除くことによつて顕微鏡の立体
的解像度を改良するのに用いることができる。高
い横方向エネルギーを有する電子は磁束線のまわ
りで最も大きな軌道を描き、それによつて検出器
での解像度を損なうことが認められる。解像度を
改良するこの技術を用いると、もちろん、第2領
域へ流れる電子束が低減させられる。
上記第1領域での阻止手段は減速電極であつて
もよい。
上記第1領域内に配置される第1の阻止手段は
該第1領域内に配置された減速電極に応じた電位
を有するもう1つの電極を含み、該電極により磁
束線に沿つて上記減速電極を通過した電子の遺失
した前進エネルギーを回復せしめるようにするの
が好ましい。
上記電子顕微鏡は第1領域での磁界強度が磁界
方向に沿つて最大磁界強度点の両側部で減少し、
試料位置決め手段が第2領域から遠ざかるように
最大磁界強度点から磁界方向に沿つて試料を所定
距離離間するように位置決めし、上記最大磁界強
度点を磁気ミラーとして作用せしめ、該磁気ミラ
ーの磁界方向に対し所定角度より大きい角度であ
る速度をもつて入来する電子を反射せしめるよう
になつている。
本発明の一実施例において、電子検出手段は当
該検出器に向かつて来る電子を選択的に偏向する
電磁偏向手段を備え、試料の刺激表面の選択部分
からの電子で像を形成するようにしている。さら
に、検出器は単一点検出器であり、電磁偏向手段
は上記検出器上での所望の電子像のラスター走査
を行うようにし、この検出器は上記像の一連のテ
レビジヨン状映像信号を生成するようにすること
ができる。
上記照射手段は真空紫外線源またはソフトX線
源と偏光および/または照射源から試料表面への
光子の入射角を制御する手段とを備えると好都合
である。
他の実施例において、放射エネルギーは中性原
子ビームであつてもよい。
さらに別の実施例において、前記刺激手段は試
料を加熱して熱電子を放出させる加熱手段であつ
てもよい。
以下、本発明のいくつかの実施例を添付図面に
基づいて詳細に説明する。
図中、第1図は本発明の放出型電子顕微鏡の一
実施例の概略図、 第2図は解像度を改良するために照射された試
料に減速グリツドを使用することを図式的に示す
線図、 第3図は第2図の減速グリツドの効果を表すグ
ラフ、 第4図は電子エネルギー分析のための飛行時間
測定装置を示す図、 第5図はエネルギー分析のためのトロコイド状
偏向装置を示す図、 第6図は調節可能な偏光子と方向選別器を備え
た窓のない紫外線源を示す図、 第7図は光電子を用いる顕微鏡の原型を示す概
略図である。
第1図において、分析および検査のための試料
10は、ソレノイド12によつて生じる強磁界領
域内で試料台11に載置されており、該ソレノイ
ド12は超伝導であつてもよい。ソレノイド12
は軸13を有する軸対称磁界を生じるように配置
され、試料10は、試料表面14が軸13を横切
つて交差するように試料台11によつて位置決め
されている。
一例として、典型的な真空紫外線源またはソフ
トX線源15が試料10の表面14の方向に光子
ビーム16を向けるように配置されている。ビー
ム16中の光子は、試料10の表面14で原子を
イオン化してその試料表面14から光電子を放出
するのをに充分なエネルギーを有している。
試料10を取り囲む領域は図示されていない手
段によつて高真空に維持されており、これによつ
て試料表面14から放出された光電子は、他の粒
子または原子と真実上衝突しないで進行すること
ができる。
ソレノイド12からの磁界の存在によつて、試
料10で磁界を横切るエネルギー成分をもつて放
出された電子は、磁束線に沿つてらせん状に進行
させられる。したがつて、試料表面14から放出
された全ての電子は、ソレノイド12内で磁界が
均質である限り、磁界の軸13に対して実質的に
平行に進行する。
ソレノイド12は、試料で少なくとも1テラ
ス、好ましくは5〜20テラスの磁界を生じるよう
に形成されているのが好ましい。形成し得る磁界
の最大限は、ソレノイド12として使用される超
伝導ソレノイドを製造する技術開発に依存する。
ソレノイド12によつて作られる磁界が強くなれ
ばなるほど、試料表面14から放出される電子の
らせん軌道の直径は小さくなることが認められ
る。
紫外線源15、典型的にはヘリウム放電ランプ
は、3〜50電子ボルト、典型的には21電子ボル
トのエネルギーを有する光子を発生するように設
けることができる。ビーム16の光子エネルギー
が大きくなれば、放出光電子の運動エネルギーも
大きくなり、電子らせん軌道の直径を大きくする
効果も得られる。らせん軌道をできるだけ小さく
保持せしめて顕微鏡の解像度を高めることが望ま
しい。
超伝導ソレノイド12の軸13に沿つて離間し
て、別のソレノイド17および18を設置する。
該ソレノイド17および18のいずれか一方また
は両方が超伝導のものであつてもよい。ソレノイ
ド17および18はソレノイド12と同軸に配置
され、軸13に沿つた各領域の磁界の強さを制御
することができる。ソレノイド17は軸方向領域
に実質的に均質な磁界を得るように配置され、減
速電極19から成るエネルギー分析器をソレノイ
ド17の中に入れている。減速電極19はエネル
ギー選択装置20によつて選択された電位に維持
され、試料10から軸13に沿つて平行に進行す
るとともに電極19と試料10との間の電位差よ
りも大きな軸方向エネルギーを有する電子のみが
電極19を通過することができる。したがつて、
第1図において電極19の右手側の電子束は、エ
ネルギー選択装置20での設定値に応じて予め定
められた値よりも大きい、軸13方向に沿つたエ
ネルギーを有する電子のみから成る。
ソレノイド12とソレノイド17との間の磁界
は軸13に沿つて不均質であり、ソレノイド17
内の磁界はソレノイド12内の磁界よりも極めて
弱く設定されている。その結果、前述しように試
料表面14で放出された電子の磁界を横切るほぼ
全てのエネルギーは、これらの電子がソレノイド
17内の領域に到達する時まで磁界に沿つたエネ
ルギーに移転される。したがつて、減速電極19
を通過する電子の割合は試料表面14の予め定め
られた領域から放出された電子の割合を表し、こ
れらの電子はエネルギー選択装置20によつて予
め設定された現実のエネルギー以上の全運動エネ
ルギーを有する。
ソレノイド12とソレノイド17との間の磁束
線は軸対称に発散しているので電極19を通過す
る電子の空間分布は試料10の表面14の小さな
軸方向部の拡大された電子像を表していると考え
られる。
ソレノイド18は電子検出装置を包含する実質
的に均質な磁界領域を形成している。この電子検
出装置は、蛍光スクリーン22の前にマイクロチ
ヤンネル板21を設けて形成してもよい。マイク
ロチヤンネル板の作用はよく知られており、これ
は電子束を横切る空間磁束分布を保持しつつ電子
増倍器として作用する。マイクロチヤンネル板2
1によつて適当に増倍した電子束は、その後蛍光
スクリーン22に衝突して電子束分布による光の
像を形成する。蛍光スクリーン22上の該光の像
は試料10の表面14の部分の拡大光電子像から
成つている。一方、この電子像はチヤンネル板に
よつて増幅しまたは増幅しないで集積固体装置を
用いて記録することもできる。
試料表面14から放出された電子はまず磁界中
に捕捉されて固定磁束線の周りに軌道を描いて旋
回するようにされ、磁束線に実質的に平行に進行
する。したがつて、蛍光スクリーン22上の像の
線形倍率は、マイクロチヤンネル板21と蛍光ス
クリーン22とから成る検出器でソレノイド18
によつて生成された磁界に対する試料10でソレ
ノイド12によつて生成された磁界の比の平方根
に比例している。
ソレノイド12として超伝導ソレノイドを用い
て例えば9テスラの磁界の作り、またソレノイド
18によつて制御して検出器での磁界を10マイク
ロテスラ程度に小さくすると、1000倍またはそれ
以上の倍率を得ることができる。
以前にも説明したように、電子像の解像度は、
試料表面14からの放出における電子軌道の直径
に依存するとともに試料10での磁界の大きさお
よび試料表面14から放出された電子のエネルギ
ーに依存する。
倍率制御装置23は、ソレノイド18により発
生された磁界を調節して、蛍光スクリーン22で
の倍率を制御することができる。蛍光スクリーン
22に生じた光の像はTVカメラ24によつて公
知の方法で検出され、該TVカメラ24または他
の検出器から得られた映像データは、TVスクリ
ーン25で光の像として直接見られるかまたは計
数化装置26を介してデータ記憶装置28付きの
コンピユータ27に供給される。計数化されたデ
ータは、その後、所望により、コンピユータによ
つて分析することができる。
前記の実施例において、各ソレノイド12,1
7および18は超伝導ソレノイドとするのが好ま
しい。これらのソレノイドは試料10を含む1つ
の領域および検出器21,22を含む他の少なく
とも1つの領域における磁界を個別に制御する手
段と一緒に単一ユニツトとして形成することがで
きる。エネルギー分析器19を含む第3領域は分
離して制御することもできる。
試料10と蛍光スクリーン22との間の光電子
の全飛行経路は、高真空に維持されており、これ
によつて計器に沿つて通過中の電子の衝突の危険
が最小になる。
上記実施例は、ソレノイド12として少なくと
も1つの超伝導ソレノイドを使用して発生した静
止磁界で行なうのが好ましい。しかしながら、永
久磁石を用いて試料表面14で高磁界を発生させ
て有効な結果を得ることができる。現在入手しう
る永久磁石で得られる磁界強度は超伝導磁石で得
られる磁界強度よりも低いが、低い解像度で操作
できる顕微鏡を得るためには充分である。しかし
ながら、永久磁石は低コストであるのでいくつか
のものに適用するのが望ましい。永久磁石は軸対
称の磁界を生じるが、試料は一方の磁極に載置さ
れていてもよい。
静止磁界に代え、各ソレノイド12,17およ
び18として一般的な非超伝導ソレノイドを用い
てパルス磁界を発生させることもできる。それか
ら、電流パルス発生器および同期装置29は各ソ
レノイド12,17および18を電流で励磁して
同期パルスを発生させることができる。このよう
にソレノイドに過度のジユール熱を発生させない
で非常に高いパルス磁界を発生させることができ
る。また同期パルスがライン35上の同期装置2
9からTVカメラ24に印加され、これらのパル
ス期間のみカメラによつて蛍光スクリーン22に
生成された像を確実に記録することができる。
試料10の表面14で通常の実質的に等方性の
光電子放出があると、試料10での典型的な最大
磁界強度が9テスラでありかつ放出電子エネルギ
ーが5電子ボルトである場合、蛍光スクリーン2
2での試料表面14の立体解像度は1ミクロンの
オーダーである。しかしながら、その解像度は、
磁界を横切るエネルギーを比較的高い割合で有す
るそれらの放出電子を試料10において弁別する
ように構成することによつて改善することができ
る。
第2図において、試料表面14の一部を30と
して示す。試料での磁界が実質的に軸方向に均質
である領域内で表面30のすぐ前方に減速電極3
1が設置されている。また、減速電極31を試料
10に対し予め定められた負電位に設定する図示
しない手段が設けられる。そこで、試料10が0
ボルトであれば、減速電極31は−Vボルトとな
る。結果、矢印32の方向、すなわち磁界の方向
に沿つてV電子ボルトよりも大きいエネルギーを
有する表面30から放出された電子のみが、減速
電極31を透過することができる。表面30から
放出された同等の総運動エネルギーを有する2つ
の電子AおよびBを考えると、該電子AおよびB
の総運動エネルイーは第3図にグラフ表示された
ベクトルAおよびBによつて表すことができる。
第3図においてX軸は磁界に沿つた電子エネルギ
ーを表し、Y軸は磁界に垂直な電子エネルギーを
表す。電子Aは、磁界を横切るエネルギーを高い
割合で有するとともに第3図の垂直線MINによ
つて表される電極31を通過するためには不充分
な前進エネルギーを有している。他方、電子Bは
電極31を通過するのに充分なエネルギーを有し
ている。電子Aは磁界を横切るより多くの運動エ
ネルギーを有しているので、第2図に示したよう
に、電子Bよりも大きならせん軌道をともなつて
表面30から発進する。したがつて、電極31は
比較的大きならせん軌道を有する電子Aの如き電
子を遮断する作用を行ない、高い解像度を有する
電子像を得ることができる。
電極31を通過する電子Bの如き電子は、少な
くとも初めから磁界に沿つて低減する前進速度を
有しており、第1電極31の向こう側に試料10
におけると同じ電位の他の電極33を設けること
でこれらの電子は初期の前進エネルギーとなるま
で再び速度が上げられる。
第1図において、ソレノイド17によつて制御
される領域中のエネルギー分析が減速電極19を
用いて説明された。この技術は、予め設定された
エネルギーよりも大きなエネルギーを有する全て
の電子がグリツド電極19を通過するので、完全
な光電子ペクトルのみを与えることができる。第
4図および第5図は、狭帯域内のエネルギーを有
する電子のみが検出器を通過することができるよ
うにして1次導関数スペクトル分析を有効に行え
る2種類の技術を示すものである。
第4図は飛行時間技術を示している。第4図に
おいて、第1図で示した2つのソレノイド17お
よび18が結合されて1つのソレノイド40とさ
れ、該ソレノイド40は軸13に沿つて伸びる実
質的に均質な磁界を有する領域を形成している。
ソレノイド40内の磁界は試料10における磁界
と比べてかなり弱いものとされ所望の倍率が得ら
れかつ実質的に全ての電子エネルギーが前進エネ
ルギーに変換されるようにされる。
検出器の前方に距離dの間隔をもつて2つの減
速電極41および42が設けられる1つの実施例
において、電極41および42は、通常いかなる
光電子の通過も阻止するように試料10に対し充
分な負電圧を維持するようにされる。パルス制御
装置43は、電極41に電圧パルスを供給した後
予め設定された時間tだけ遅れて電極42に電圧
パルスを供給するようにして電極41および42
に正の立ち上がり電圧パルスを印加する。電圧パ
ルスが軸13に沿つて進行する電子をパルスが電
極に印加されている間のみいずれか一方の電極を
通過させるものである場合、遅れ時間tと同等の
グリツド間距離dに対する予め設定された飛行時
間を有する電子のみが2つの電極41および42
を通過し検出器に到達することがわかる。また、
飛行時間は電子の速度、したがつてそれらのエネ
ルギーに依存するので遅れ時間tを変化させるこ
とによつて有効に分析器を同調させて予め設定さ
れたエネルギーを有する電子のみを透過させるこ
とができる。
第5図に示すもう1つの実施例は電子のトロコ
イド状偏向手段を用いている。前記と同様の伸張
ソレノイド40を用いて検出器および分析器の両
領域を包囲している。その分析器領域において、
磁界を横切る電界、例えば第5図に符号44で示
すように紙面から外方に向かう電界を発生する手
段が設けられる。垂直磁界および電界を進行する
電子は電界と直角に成すように第5図において上
方に通常の変位を行う複合運動軌跡を描く。
シエヴロン板45から成るグリツドを設けるこ
とによつて、軸13に対し予め設定された角度を
有する電子のみが検出器を通過させられる。勿
論、予め設定された距離に亘つて所定の電界およ
び磁界を印加すると、電子経路の角度が電子エネ
ルギーに依存し、シエヴロン板45は予め設定さ
れたエネルギーを有する電子のみを通過させるよ
うに作用する。そのエネルギーは電界44もしく
はソレノイド40によつて発生される磁界、又は
シエヴロン板45の電界領域での角度もしくは位
置を調節することによつ選定される。
第6図は、光子が照射線源15から照射試料に
向かうようにした好ましい装置を示す概略構成図
である。照射線源15は紫外線放射を与えるヘリ
ウム放電管から成る。紫外線放射は、ガス放電用
ガスを封入するために使用するガラスまたは他の
材料によつて吸収される。したがつて、ガス放電
による光子束または強さを最大にするために窓の
ない器具を使用するのが望ましい。閉端部51を
有しかつ反対側が開いており、小穴52を介し
て、光電子顕微鏡の真空チヤンバーを形成するチ
ヤンバー53の内部に至る毛細管50が設置され
ている。前述したように試料10および光電子が
進行する顕微鏡の全ての領域、従つてチヤンバー
53は高真空とする必要がある。他方、紫外線放
射を行うガス放電を得るにはある原子密度が要求
される。アノード54およびカソード55は毛細
管50の両端部に設けられかつ電源56から電圧
を印加されて所望の放電を行なう。毛細管50中
のガス原子は小穴52を通りチヤンバー53に放
出される。また、ポンプ手段(図示せず)が設け
られ、開口部57を介してチヤンバー53から連
続的にくみ手してチヤンバー内への漏洩原子を除
去する。毛細管50中の原子は小穴52を通して
連続的に逸失するので入口58を通して原子を補
充して放電を維持しなければならない。この装置
を用いて、放電によつて発生する紫外線放射は窓
を通過せずに小穴52を通つてチヤンバー53内
に直接入る。
チヤンバー53において、ミラー機構が紫外線
放射ビームを試料10の表面14に指向するよう
に設置されている。そのミラー機構は2つのミラ
ー59および60から成り、放電により放射ビー
ムは試料10に向けられる前に2つのミラーで反
射される。そのミラー59は、小穴52から放出
された放射線にある角度を与え、それによつて該
ミラー59からの反射放射線が実質的に偏光す
る。また、そのミラー平面において軸のまわりに
かつ第6図の紙面に対し垂直にミラー60を回転
させる手段を設けて所望にミラー60からの放射
線を指向させることができる。さらに2つのミラ
ー59および60は軸61のまわりに回転可能と
され、試料に対する新生放射線の偏光角を所望に
設定することができる。この装置において、試料
10の表面14に向けられたビーム16中の放射
線の偏光角および入射角を調節することができ
る。
上記したように、光電子顕微鏡は試料10の表
面14の一部拡大像を得るために使用することが
できる。この像は種々の表面領域からの全電子束
を立体分布を表示することができ、また予め設定
されたエネルギー帯域内の電子束を表す像を発生
させることができて便利である。像を形成する試
料表面部から放出された全電子は実質的に検出器
に到達することができる。試料表面14を刺激す
るために極めて低エネルギー量子のみを使用する
ようにして、生物試料であつても損傷を最小とす
る。また、その像は表面での異なる結合エネルギ
ーまたは化学状態を有する材料の分布を決めるた
めに使用することができる。上記電子顕微鏡は生
物試料における、例えば重原子に富んだ構造の地
図を作成することができる。その一例として、生
物試料のヨード含有濃度を観察することができ
る。
さらに、その顕微鏡ではレンズまたは焦点合わ
せ光学系を用いていないので、被写海深度に制限
がない。像に寄与する試料の表面層の厚さは、入
射光子波長および電子逃避深度に依存し、ほぼ2
×10-10m〜2×10-6mの範囲にある。
以上説明した本発明の顕微鏡の実施例では、光
子ビームを使用して試料表面を刺激し、光電子を
放出させる結像する装置を主として説明した。こ
の実施例は“光電子顕微鏡”に関するものであ
る。
さらに本発明は他の電子放出形式に適用するこ
とができる。
例えば中性原子ビームによつて電子を放出する
ように試料表面を励起または刺激することもでき
る。上記の中性原子ビームは表面装置技術におけ
る種々の目的に使用される。試料を中性原子で照
射すると、試料表面は電子を放出し、それらの放
出電子は上記技術を使用する光電子と同様に結像
することができる。上記結像方法は、その他の研
究目的のために中性原子ビームで照射される試料
によつて得られる電子を用いて実行できる。中性
原子ビームを作る市販装置は容易に入手しうる。
試料は他の手段によつて電子を放出するように
刺激してもよい。例えば試料を加熱し熱電子放出
させることができる。適当に高温度に加熱する
と、多くの物質は自然に電子を放出し、これらの
熱電子を前記装置に使用して光電子と同様に像を
形成することができる。例えば、試料は電子管の
カソードから成り、顕微鏡で得られる像はカソー
ドの品質を評価する手段とすることができる。
第1図に示した装置が例えば加熱カソードによ
つて放出された熱電子を結像するために用いられ
る場合、熱供給・制御装置36は被加熱試料例え
ばカソードに接続された加熱素子に加熱電流を供
給することができる。
上記装置はオージエ(Auger)電子に使用する
こともできる。X線光子または電子ビームまたは
他の方法によつて非常に強く励起された原子は内
部遷移して、エネルギーが原子自体の特徴であり
かつ励起手段とは関係なく電子を放出することに
なる。上記電子は一般にオージエ電子と呼ばれて
おり、その過程は、例えば「光電子およびオージ
エ分光学」(テイ・エイ・カリソン氏著、プレナ
ム・プレス社版1975年)に記載されている。上記
オージエ電子の1つの使用法は上記装置を用いて
試料表面での選択素子を分布を有する像を形成す
ることである。
第7図は本発明の典型的な顕微鏡装置を示す図
である。第7図において、像を形成しようとする
電子が真空チヤンバー70の一端部に配置した載
置ロツド71の端部に装着された試料によつて該
チヤンバー70内に放出される。載置ロツド71
はゲート弁72を通つてチヤンバー70内に試料
を挿入させることができ、該試料を液体ヘリウム
冷却器74で冷却された超伝導ソレノイド73に
よつて発生した強磁界領域に配置することができ
る。上記試料にはヘリウムランプ75内で発生し
たソリツド紫外線光子が照射される。その光子は
ポート76を介してチヤンバー70に入る。チヤ
ンバー70はもう1つの予備ポート77を有して
いる。チヤンバー70は真空ポンプ(図示せず)
によつて排出ポート78を介して減圧される。試
料から放出されかつチヤンバー70に沿つて進行
する電子は蛍光スクリーンの前方のチヤンネル板
からなる検出装置79に衝突する。蛍光スクリー
ンに形成された電子像はチヤンバー70の端部に
ある観察ポート80を介して見ることができる。
検出器での磁界はコイル81によつて所望の比較
的低い磁界強度で制御される。第7図に示す装置
は原理的に第1図の装置と同様にして作動し説明
を省略する。
また、第7図の装置は映像シフトコイル82を
備えている。これらの映像シフトコイルは、励磁
時、チヤンバー70に沿つて磁界方向を横切る磁
界成分を生じるように配置されている。上記シフ
トコイル82によつて発生した磁界成分はチヤン
バー70の長手方向を横切る磁束線をシフトさせ
る効果があり、それによつて検出装置79での電
子像に対応するシフトを与えることである。シフ
ト制御装置83はシフトコイル82に供給される
電流制御して電子像の所望量の横方向シフトを得
ることができるように構成されている。通常は、
2セツトのシフトコイルがX方向およびY方向に
所望に像をシフトできるように設けられる。
1つの装置において、シフト制御装置83は、
像のラスタ走査を行うように、直交シフトコイル
に鋸歯状励磁電流波形を与えるように構成され
る。この場合、検出装置79は単一ラインに電気
信号出力を与える単一点電子検出器と置換でき
る。その単一点検出器の出力は電子画像のTVラ
スタ走査画を形成する一連のTV状映像信号から
構成される。この装置は電子像を記録するのに別
のTVカメラを必要としない。
本発明の上記実施例においては、試料を高磁界
強度領域に位置させるのが望ましい。その装置に
よつて得られる電子像の最大の立体解像度を得る
には試料での磁界強度を最大としなければならな
い。しかしながら、ある適用例では試料領域での
磁界強度が、軸応に最大磁界強度点の対向両側部
で弱くなるようにするのが望ましい。そのような
装置では、試料は最大磁界強度点より若干後方位
置、すなわち検出器から反対側の最大磁界強度点
からわずか後方に配置するのが望ましい。
電子は強大磁界領域で反射されることが知られ
ている。これは磁気ミラー効果として知られてい
る。これは、断熱近似内で、量(1/B)Sin2θ
(式中、Bは磁界強度、θは磁界と電子速度間の
角度である)が保存されるために生じるのであ
る。Bが増大するとθも増大しなければならず、
Sinθの値は1を越えることができないので電子は
単に戻る、すなわち反射される。本発明の上記実
施例では、磁界Bs中の試料から放出された電子
は検出器に到達する前にさらに大きい磁界領域
Bmaxを通過しなければならず、該電子は、式 (1/Bs)Sin2θc=(1/Bmax) で与えられる臨界値θcよりも小さい(磁界Bsに
対する)角度θsで放出されると、検出器に到達す
るのみである。そこで、最大磁界強度を有する位
置よりわずか後方に試料を置くことによつて、予
め設定された角度を有する前方に見える円錐体に
放出されない電子を反射する装置が得られる。所
定の立体角内に放出された電子のみが磁気ミラー
を通過させるようにすることができる。これは固
体表面の研究に利用することができよう。一方、
最大磁界強度点の後方への試料の移動は空間電子
像の解像度を低下せしめることが理解されよう。
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