JPH0368482A - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置Info
- Publication number
- JPH0368482A JPH0368482A JP20621289A JP20621289A JPH0368482A JP H0368482 A JPH0368482 A JP H0368482A JP 20621289 A JP20621289 A JP 20621289A JP 20621289 A JP20621289 A JP 20621289A JP H0368482 A JPH0368482 A JP H0368482A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- frequency
- vibrator
- tank
- float
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置の製造工程で用いられる超音波洗浄
装置に関する。
装置に関する。
従来、半導体装置の製造工程、特にウェハーの洗浄に用
いられる超音波洗浄装置は、単一周波方式または多周波
方式のものが使用されていた。
いられる超音波洗浄装置は、単一周波方式または多周波
方式のものが使用されていた。
上述した従来の超音波洗浄装置は、ウェハーの洗浄に使
用する場合、一定の枚数のウェハーを処理するため、単
一周波方式または、多周波方式を使用すれば良いとされ
ていたが、実際の半導体装置の製造過程におけるウェハ
ー洗浄の処理枚数はまちまちであり、洗浄槽を占めるウ
ェハーの容積及び洗浄液の液面は変化しているため、常
に最適な周波数の超音波を使用していることにならず、
洗浄効率が向上しないという欠点がある。
用する場合、一定の枚数のウェハーを処理するため、単
一周波方式または、多周波方式を使用すれば良いとされ
ていたが、実際の半導体装置の製造過程におけるウェハ
ー洗浄の処理枚数はまちまちであり、洗浄槽を占めるウ
ェハーの容積及び洗浄液の液面は変化しているため、常
に最適な周波数の超音波を使用していることにならず、
洗浄効率が向上しないという欠点がある。
このことは第３図に示すように、超音波洗浄装置の振動
子６と洗浄液２の液面の距離が１／４波長の奇数倍の時
に、振動子６から発射された音波の進行波と反射波が同
位相で干渉して定在波が発生し、この時に音圧変化が最
大となって音圧分布１０が形成され、洗浄効率も最大に
なるということに基づくものである。
子６と洗浄液２の液面の距離が１／４波長の奇数倍の時
に、振動子６から発射された音波の進行波と反射波が同
位相で干渉して定在波が発生し、この時に音圧変化が最
大となって音圧分布１０が形成され、洗浄効率も最大に
なるということに基づくものである。
本発明の超音波洗浄装置は、洗浄槽と該洗浄槽の下部に
固定された振動子とを有する超音波洗浄装置において、
前記洗浄槽内の洗浄液の容積に応じて前記振動子の発生
する超音波の周波数を変化させる手段を設けたものであ
る。
固定された振動子とを有する超音波洗浄装置において、
前記洗浄槽内の洗浄液の容積に応じて前記振動子の発生
する超音波の周波数を変化させる手段を設けたものであ
る。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第１図は、本発明の第１の実施例の模式断面図である。
洗浄槽１に洗浄液２がはいっており、液面の変化を見る
ためにフロート３が浮かしである。フロート３は、可変
抵抗器４と接続しており、フロート３の動きに応じて可
変抵抗器４の抵抗値が変化するようになっている。
ためにフロート３が浮かしである。フロート３は、可変
抵抗器４と接続しており、フロート３の動きに応じて可
変抵抗器４の抵抗値が変化するようになっている。
コンバータ５は定電流供給回路と周波数変換回路等から
構成されており、可変抵抗器４の抵抗値が変化するとこ
の定電流供給回路の電圧は変化する０周波数変換回路は
この電圧変化を周波数変化に変換して振動子６に供給す
る。
構成されており、可変抵抗器４の抵抗値が変化するとこ
の定電流供給回路の電圧は変化する０周波数変換回路は
この電圧変化を周波数変化に変換して振動子６に供給す
る。
このように本第１の実施例によれば、洗浄液２の液面の
高さに応じた最適周波数の超音波を振動子５に発生させ
ることができるので洗浄効率は向上する。
高さに応じた最適周波数の超音波を振動子５に発生させ
ることができるので洗浄効率は向上する。
第２図は本発明の第２の実施例の模式断面図である。
洗浄槽（内槽〉１内の洗浄液２はオーバーフローして外
槽３で貯液されるように構成されている。そしてこの洗
浄液２は、ポンプ４とフィルター５を経て洗浄槽１内に
循環供給される。
槽３で貯液されるように構成されている。そしてこの洗
浄液２は、ポンプ４とフィルター５を経て洗浄槽１内に
循環供給される。
この第２の実施例では、洗浄液２の液面が常に一定に保
たれるため、一定の周波数の電圧を振動子６に供給する
ことにより、効率の良い超音波洗浄を行なうことができ
る。さらにフィルター５により、洗浄液中の粒子を除去
することにより、被洗浄物への粒子の再付着を低減させ
ることが可能である。
たれるため、一定の周波数の電圧を振動子６に供給する
ことにより、効率の良い超音波洗浄を行なうことができ
る。さらにフィルター５により、洗浄液中の粒子を除去
することにより、被洗浄物への粒子の再付着を低減させ
ることが可能である。
以上説明したように本発明は、超音波洗浄装置に洗浄液
の容積に応じて振動子の発生する超音波の周波数を変化
させる手段を設けることにより、効率の良い洗浄を行な
うことができるという効果がある。
の容積に応じて振動子の発生する超音波の周波数を変化
させる手段を設けることにより、効率の良い洗浄を行な
うことができるという効果がある。
第１図及び第２図は本発明の第１及び第２の実施例の模
式断面図、第３図は従来の超音波洗浄装置の模式断面図
である。 ｌ・・・洗浄槽、２・・・洗浄液、３・・・フロート、
４・・・可変抵抗器、５・・・コンバーター ６・・・
振動子、７・・・ポンプ、８・・・フィルター ９・・
・外槽、１０・・・音圧分布。 １：罠〉↑糟 ２：ン著□ンコ；３珂貰二 ３ ： フロート ４：可を亀花罷 ５：フンｌ＼′−クー ロ ： ゴ不ご芽刀手
式断面図、第３図は従来の超音波洗浄装置の模式断面図
である。 ｌ・・・洗浄槽、２・・・洗浄液、３・・・フロート、
４・・・可変抵抗器、５・・・コンバーター ６・・・
振動子、７・・・ポンプ、８・・・フィルター ９・・
・外槽、１０・・・音圧分布。 １：罠〉↑糟 ２：ン著□ンコ；３珂貰二 ３ ： フロート ４：可を亀花罷 ５：フンｌ＼′−クー ロ ： ゴ不ご芽刀手
Claims (1)
- 洗浄槽と該洗浄槽の下部に固定された振動子とを有する
超音波洗浄装置において、前記洗浄槽内の洗浄液の容積
に応じて前記振動子の発生する超音波の周波数を変化さ
せる手段を設けたことを特徴とする超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20621289A JPH0368482A (ja) | 1989-08-08 | 1989-08-08 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20621289A JPH0368482A (ja) | 1989-08-08 | 1989-08-08 | 超音波洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0368482A true JPH0368482A (ja) | 1991-03-25 |
Family
ID=16519626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20621289A Pending JPH0368482A (ja) | 1989-08-08 | 1989-08-08 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0368482A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018040044A1 (zh) * | 2016-08-31 | 2018-03-08 | 平江县威派云母绝缘材料有限公司 | 一种用于云母纸生产过程中的云母片筛选清洗装置 |
| CN108339803A (zh) * | 2018-02-06 | 2018-07-31 | 深圳市佳源达科技有限公司 | 超声波清洗装置 |
-
1989
- 1989-08-08 JP JP20621289A patent/JPH0368482A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018040044A1 (zh) * | 2016-08-31 | 2018-03-08 | 平江县威派云母绝缘材料有限公司 | 一种用于云母纸生产过程中的云母片筛选清洗装置 |
| GB2568330A (en) * | 2016-08-31 | 2019-05-15 | Pingjiang Vpi Mica Insulating Mat Co Ltd | Mica sheet screening and cleaning device used in mica paper production process |
| GB2568330B (en) * | 2016-08-31 | 2021-11-24 | Pingjiang Vpi Mica Insulating Mat Co Ltd | Mica sheet screening and cleaning device used in mica paper production process |
| CN108339803A (zh) * | 2018-02-06 | 2018-07-31 | 深圳市佳源达科技有限公司 | 超声波清洗装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5071776A (en) | Wafer processsing method for manufacturing wafers having contaminant-gettering damage on one surface | |
| US7104268B2 (en) | Megasonic cleaning system with buffered cavitation method | |
| CA2033318A1 (en) | Super high frequency oscillator/resonator | |
| JPH0855827A (ja) | ウェーハカセットおよびこれを使用した洗浄装置 | |
| JPH0234923A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPH05243203A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPS6336534A (ja) | 洗浄装置 | |
| JP4144201B2 (ja) | ウエット洗浄処理装置 | |
| JPH08108157A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPH08131978A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP3809296B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPH10180204A (ja) | 超音波洗浄装置及び駆動方法 | |
| KR20040013269A (ko) | 관형 초음파 진동 발생기 | |
| CN105689325A (zh) | 一种智能多频超声波清洗装置及方法 | |
| JPS6254557B2 (ja) | ||
| JPH0684874A (ja) | 半導体基板洗浄装置 | |
| JPH0334317Y2 (ja) | ||
| JP3665153B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP3307869B2 (ja) | 多槽式超音波洗浄装置 | |
| JPH0320031A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP2748429B2 (ja) | 半導体基板の洗浄装置 | |
| JP3681328B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH05152277A (ja) | ウエツトエツチング装置 | |
| JPH11277010A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPH02137321A (ja) | 半導体ウェーハの洗浄装置 |