JPH0368922A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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Publication number
JPH0368922A
JPH0368922A JP1203752A JP20375289A JPH0368922A JP H0368922 A JPH0368922 A JP H0368922A JP 1203752 A JP1203752 A JP 1203752A JP 20375289 A JP20375289 A JP 20375289A JP H0368922 A JPH0368922 A JP H0368922A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
liquid crystal
varistor
crystal display
pixel electrode
Prior art date
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Pending
Application number
JP1203752A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hataaki Yoshimoto
吉本 旗秋
Katsuhiro Ito
克博 伊藤
Hiroyuki Mori
広行 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0368922A publication Critical patent/JPH0368922A/en
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  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はクロストークがほとんどなくかつ輝度の高い液
晶表示装置に係る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a liquid crystal display device with almost no crosstalk and high brightness.

〔従来技術及びその問題点〕[Prior art and its problems]

液晶表示装置は、低電圧駆動が可能であり、かつ消費電
力が小さく、またICによって直接駆動できるため、装
置を容易に小型にし、また薄型にできる利点を有する。
Liquid crystal display devices can be driven at low voltages, have low power consumption, and can be directly driven by ICs, so they have the advantage that they can be easily made smaller and thinner.

特にTN型液晶は、低電圧、低消費電力の点で優れ、従
来から腕時計、電卓等に広く用いられている。
In particular, TN type liquid crystals are excellent in terms of low voltage and low power consumption, and have been widely used in wristwatches, calculators, and the like.

近年、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ等の
情報処理装置の普及に伴い、装置の可搬性、薄型化、小
型化が求められるようになり、CRTにかわる表示素子
として、液晶表示素子が採用され始めている。上記情報
処理装置においては漢字表示をするために、腕時計、電
卓等の用途に比べその画素数は非常に多くなり、液晶表
示装置の駆動方法も通常X−Y状に電極を交差させる単
純マトリクス駆動回路が用いられる。単純マトリクス駆
動方式において各画素は個々に画素電極が独立していな
いために隣接画素にも一定の電圧が印加されることとな
り、隣接画素は完全に非表示状態とはならず、いわゆる
クロストークが発生する場合がある。
In recent years, with the spread of information processing devices such as word processors and personal computers, there has been a demand for portable, thin, and compact devices, and liquid crystal display devices have begun to be adopted as display devices in place of CRTs. In order to display kanji characters in the information processing devices mentioned above, the number of pixels is much larger than that used in wristwatches, calculators, etc., and the driving method for liquid crystal display devices is usually a simple matrix drive in which electrodes intersect in an X-Y pattern. A circuit is used. In the simple matrix driving method, each pixel does not have an independent pixel electrode, so a constant voltage is also applied to adjacent pixels, and the adjacent pixels are not completely hidden, resulting in so-called crosstalk. This may occur.

このクロストークを改善するために、各画素ごとにダイ
オード、薄膜トランジスタ、バリスタ等の非線形素子を
設ける方法がある。
In order to improve this crosstalk, there is a method of providing a nonlinear element such as a diode, thin film transistor, or varistor for each pixel.

しかしながら、数千〜数十万画素にものぼる画素ごとに
ダイオード、薄膜トランジスタ等を、欠陥なしにあるい
は略同−特性に配設することは困難であり、特性のばら
つきが少なく、大面積に形成可能な非線形素子の作製が
望まれていた。
However, it is difficult to arrange diodes, thin film transistors, etc. for each pixel, which number from thousands to hundreds of thousands of pixels, without defects or with almost the same characteristics.There is little variation in characteristics and it can be formed over a large area. It has been desired to create a nonlinear element with

〔本発明の目的〕[Object of the present invention]

本発明者らは、主としてバリスタ粉からなる膜を非線形
素子として使用した液晶表示装置は、クロストークのほ
とんどない表示ができることを見出したが、さらに、第
4図に示す薄型の液晶表示装置を形成した場合、第1の
基板41a上のバリスタ膜44の表面の部分と第2の基
板41b上の走査線電極45とが近接するために、第1
の基板41a上に設けられた信号線43からバリスタ膜
44を介して第2の基板41b上に配設された走査線電
極45に電流が流れ易くなったり、画素電極42からバ
リスタ膜44を介して走査線電極45に電流が流れ易く
なったりするために、第1の基板41a上に形成された
画素電極42と走査線電極45との間の電圧が低下し、
所望する輝度の表示が得られないという問題が発生する
。この現象は液晶N46が薄くなるにつれて顕著になる
The present inventors have discovered that a liquid crystal display device that uses a film mainly made of varistor powder as a nonlinear element can provide display with almost no crosstalk. In this case, since the surface portion of the varistor film 44 on the first substrate 41a and the scanning line electrode 45 on the second substrate 41b are close to each other, the first
The current may easily flow from the signal line 43 provided on the second substrate 41a through the varistor film 44 to the scanning line electrode 45 provided on the second substrate 41b, or from the pixel electrode 42 through the varistor film 44. As a result, the voltage between the pixel electrode 42 formed on the first substrate 41a and the scanning line electrode 45 decreases.
A problem arises in that display with desired brightness cannot be obtained. This phenomenon becomes more noticeable as the liquid crystal N46 becomes thinner.

本発明はこのような問題を解決し、高輝度でクロストー
クの少ない液晶表示装置を提供することを目的とする。
It is an object of the present invention to solve these problems and provide a liquid crystal display device with high brightness and less crosstalk.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、画素電極と、この画素電極と間隔をもって配
設され画素電極に信号を送る信号線と、前記画素電極と
前記信号線とを接続するバリスタとを有する第1の基板
、前記画素電極と対向するように電極が設けられた第2
の基板、及び第1の基板と第2の基板との間に液晶が充
填された液晶表示装置において、第1の基板上に配設さ
れたバリスタと第2の基板上に配設された電極との間に
絶縁手段を設けたことを特徴とする液晶表示装置に関す
る。
The present invention provides a first substrate having a pixel electrode, a signal line disposed at a distance from the pixel electrode and sending a signal to the pixel electrode, and a varistor connecting the pixel electrode and the signal line; A second electrode is provided facing the second electrode.
In a liquid crystal display device in which a liquid crystal is filled between a substrate and a first substrate and a second substrate, a varistor disposed on the first substrate and an electrode disposed on the second substrate. The present invention relates to a liquid crystal display device characterized in that an insulating means is provided between the present invention and the present invention.

以下に本発明を図面を参照して説明する。The present invention will be explained below with reference to the drawings.

第1図は、本発明のバリスタ12の表面に絶縁膜のよう
な絶縁手段32を設けた場合の液晶表示装置の部分拡大
縦断面図である。第2図は、第1の基板11上に設けら
れた画素電極14、信号線13及びバリスタ12の配設
の関係を示す平面図であり、第3図は、第2の基板21
上の走査線電極22を示す平面図である。
FIG. 1 is a partially enlarged longitudinal sectional view of a liquid crystal display device in which an insulating means 32 such as an insulating film is provided on the surface of the varistor 12 of the present invention. FIG. 2 is a plan view showing the relationship between the pixel electrode 14, the signal line 13, and the varistor 12 provided on the first substrate 11, and FIG.
3 is a plan view showing the upper scanning line electrode 22. FIG.

第1の基板ll上には、画素電極14及び信号1a13
が配設されている0画素電極14と信号線134は間隔
をもって配置されており、両者はバリスタ12で電気的
に結合されている。画素電極14と信号線13との間隔
は一般に10〜400μmである。第1図においては、
第1の基板上に形成されたバリスタ膜の表面に酸化シリ
コン膜のような絶縁手段32が設けられている。第2の
基板21上には画素電極14と対向するように走査線電
極22が配設されている。第1の基板11と第2の基板
21との間には液晶31が挟持されている。
On the first substrate ll, a pixel electrode 14 and a signal 1a13 are provided.
The 0 pixel electrode 14 and the signal line 134 are spaced apart from each other, and are electrically coupled by the varistor 12. The interval between the pixel electrode 14 and the signal line 13 is generally 10 to 400 μm. In Figure 1,
An insulating means 32 such as a silicon oxide film is provided on the surface of the varistor film formed on the first substrate. A scanning line electrode 22 is arranged on the second substrate 21 so as to face the pixel electrode 14 . A liquid crystal 31 is sandwiched between the first substrate 11 and the second substrate 21.

前記した絶縁手段としては、例えば側基板間に絶縁膜を
配設することを挙げることができる。
As the above-mentioned insulating means, for example, an insulating film may be provided between the side substrates.

絶縁膜を形成する材料としては、特に限定されず、km
性を有する物質であれシミよい。その具体例としては、
ポリイミド、ポリアミド、ポリエチレン、禾すプロピレ
ン、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリ
アクリレート等の有機材料、酸化シリコン、酸化チタン
、酸化アルミニウム、ガラス等の無機材料を挙げること
ができる。
The material for forming the insulating film is not particularly limited, and km
Even if it is a chemical substance, it will not stain. As a specific example,
Examples include organic materials such as polyimide, polyamide, polyethylene, dipropylene propylene, polyethylene terephthalate, polyurethane, and polyacrylate, and inorganic materials such as silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, and glass.

絶縁膜は、例えば、ポリマーを溶剤に溶解し、第1の基
板に配設されたバリスタ上に塗布するか、あるいは第2
の基板に配設された電極上のバリスタに対向する部分に
塗布することにより製造することができる。絶縁膜は、
上記した以外にも使用する材料により種々の方法により
、形成することができ、例えば(1)溶融ポリマーをバ
リスタ上や走査線上に塗布することにより、(2)ポリ
イミドや酸化シリコン等のような場合には前駆体を塗布
・焼成することにより、(3)ガラスのような低融点材
料の場合には焼付けることにより、また(4)酸化アル
ミニウムのような高融点材料の場合には、蒸着あるいは
スパッタリング法により、形成することができる。透明
で絶縁効果の高い酸化シリコン、ポリイ稟ド等の材料壱
使用する場合には、基板の全面に塗布してもよい。
The insulating film can be formed, for example, by dissolving a polymer in a solvent and applying it on the varistor disposed on the first substrate, or
It can be manufactured by coating a portion of an electrode disposed on a substrate facing a varistor. The insulating film is
In addition to the above, it can be formed by various methods depending on the material used, for example (1) by applying molten polymer on the varistor or scanning line, (2) in the case of polyimide, silicon oxide, etc. (3) by baking in the case of low melting point materials such as glass, and (4) by vapor deposition or baking in the case of high melting point materials such as aluminum oxide. It can be formed by a sputtering method. When using a material such as silicon oxide or polyimide which is transparent and has a high insulating effect, it may be applied to the entire surface of the substrate.

本発明においては、バリスタを主としてバリスタ粉より
なるバリスタ膜とすれば、基板上の任意の位置及び大き
さにバリスタを作製することができる。さらに、前記バ
リスタ膜を、バリスタ粉を主成分とするペーストを用い
た印刷法によって、画素電極と信号線との間に個別に形
成すれば、薄膜形成技術を用いる場合等と比較して、製
造方法が簡易で、安価であり、広い面積に一度に素子を
作製することが可能であり、特性のバラツキ等が少なく
安定したバリスタ素子を形成することができる。
In the present invention, if the varistor is a varistor film mainly made of varistor powder, the varistor can be manufactured at any position and size on the substrate. Furthermore, if the varistor film is formed individually between the pixel electrode and the signal line by a printing method using a paste containing varistor powder as the main component, the manufacturing process will be faster than when using thin film formation technology. The method is simple and inexpensive, and it is possible to manufacture elements over a wide area at once, and it is possible to form stable varistor elements with little variation in characteristics.

バリスタを主としてバリスタ粉よりなるバリスタ膜とす
る場合、粒径のそろったほぼ球形のバリスタ粉を用いる
ことにより、各画素電極と信号線間のバリスタ闇値電圧
がほぼ一定となり、きれいな表示が得られる。バリスタ
粉の粒径は一般には1〜300μm、好ましくは2〜5
0tImである。
When the varistor is a varistor film made mainly of varistor powder, by using varistor powder that is approximately spherical in particle size, the varistor dark value voltage between each pixel electrode and the signal line becomes almost constant, resulting in a clear display. . The particle size of barista powder is generally 1 to 300 μm, preferably 2 to 5 μm.
It is 0tIm.

本発明で使用する液晶としては、D S (Dynam
ic Scattering)型、T N (Tiii
sted Nematic)型、E CD (Elec
trically Controlled Biref
ringence)型、P C(Phase Chan
ge)型、ゲスト・ホスト型等の液晶を挙げることがで
きる。
As the liquid crystal used in the present invention, D S (Dynam
ic Scattering) type, T N (Tiii
sted nematic) type, E CD (Elec
trically controlled biref
ringence) type, P C (Phase Chan) type,
ge) type and guest-host type liquid crystals.

〔実施例〕〔Example〕

以下、製造例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be explained in further detail by showing production examples.

製造例1 第2図に示すように、第1の基板上の所定の位置にIT
O等の透明!葎でできた信号線13と画素電極14とを
形成した後、信号線13と画素電極14との間(ギャッ
プ20μm)に、印刷法によりバリスタ素子12を形成
した。
Manufacturing Example 1 As shown in FIG.
Transparent like O! After forming the signal line 13 and the pixel electrode 14 made of mulberry, the varistor element 12 was formed between the signal line 13 and the pixel electrode 14 (gap 20 μm) by a printing method.

次いで有機ケイ素化合物からなる液を第1の基板上に形
成されたバリスタ表面に塗布し500°Cにて焼成しバ
リスタ表面に約1μmの酸化シリコン膜32を形成した
Next, a liquid made of an organosilicon compound was applied to the surface of the varistor formed on the first substrate and baked at 500° C. to form a silicon oxide film 32 of about 1 μm on the surface of the varistor.

一方、第2の基板(ガラス、PETフィルム等)21上
にITO等の所定の走査電極となる電極22をパターニ
ングして形成した。
On the other hand, on a second substrate (glass, PET film, etc.) 21, an electrode 22 made of ITO or the like to serve as a predetermined scanning electrode was formed by patterning.

次に酸化シリコン膜32を形成した菓1の基板と第2の
基板とを所定の位置で合うように貼り合わせて基板の回
りを液晶導入口を残して接着剤でシールした。その後、
メルク社製のZL11132等のTN型液晶を充填し、
液晶導入口を接着剤で密閉した。
Next, the substrate of confectionery 1 on which the silicon oxide film 32 was formed and the second substrate were bonded together so as to meet at a predetermined position, and the area around the substrate was sealed with an adhesive leaving a liquid crystal inlet. after that,
Filled with TN type liquid crystal such as Merck ZL11132,
The liquid crystal inlet was sealed with adhesive.

この液晶表示装置の信号線13と走査線電極22との間
に交流電圧±20Vでマルチプレックス駆動(デユーテ
ィ比1/400)したところ、望みの画素部分がクロス
トークなしに明るく(コントラスト比50以上)点灯す
ることができた。
When multiplex driving (duty ratio 1/400) was performed with an AC voltage of ±20 V between the signal line 13 and the scanning line electrode 22 of this liquid crystal display device, the desired pixel area was bright without crosstalk (contrast ratio of 50 or more). ) could be lit.

製造例2 感光性ポリイミド絶縁膜を走査線電極22がパターニン
グされている第2の基板上に塗布し、フォトマスクを用
いた露光、次いで現像、焼成の工程を経て、バリスタと
対向する部分に厚み2μmのポリイミド絶縁膜を形成し
た。
Production Example 2 A photosensitive polyimide insulating film is coated on the second substrate on which the scanning line electrodes 22 are patterned, and through the steps of exposure using a photomask, development, and baking, a thickness is formed on the part facing the varistor. A 2 μm polyimide insulating film was formed.

次いで製造例1と同様な方法により第1の基板と第2の
基板とを所定の位置で合うように貼り合わせて基板の回
りを液晶導入口を残して接着剤でシールした。その後、
メルク社製のZL11132等のTN型液晶を充填し、
液晶導入口を接着剤で密閉した。この液晶表示装置の信
号線13と走査線電極22との間に交流電圧±20Vで
マルチプレックス駆動(デユーティ比1/400)した
ところ、望みの画素部分がクロストークなしに明るく(
コントラスト比50以上)点灯することができた。
Next, the first substrate and the second substrate were bonded together in a predetermined position using the same method as in Production Example 1, and the area around the substrates was sealed with an adhesive leaving the liquid crystal inlet. after that,
Filled with TN type liquid crystal such as Merck ZL11132,
The liquid crystal inlet was sealed with adhesive. When multiplex driving (duty ratio 1/400) was performed with an AC voltage of ±20 V between the signal line 13 and the scanning line electrode 22 of this liquid crystal display device, the desired pixel portion appeared brightly (without crosstalk).
contrast ratio of 50 or higher).

なお説明するに際し第2の基板上の信号電極を走査線1
i極としたが、必ずしもこれに限定されるものではなく
、駆動時に第1の基板上の信号線を走査してもよい。
In addition, when explaining, the signal electrode on the second substrate is referred to as scanning line 1.
Although the i-pole is used, the present invention is not necessarily limited to this, and the signal line on the first substrate may be scanned during driving.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、液晶層の厚みを薄<シた場合にも、信
号線からバリスタを介して走査線電極に電流が流れるこ
とがなく、液晶とバリスタとの正常なマトリックス回路
が形成され高輝度であり高コントラスト表示が可能とな
る。
According to the present invention, even when the thickness of the liquid crystal layer is reduced, current does not flow from the signal line to the scanning line electrode via the varistor, and a normal matrix circuit between the liquid crystal and the varistor is formed. The brightness allows for high-contrast display.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の液晶表示装置の部分縦断面図である。 第2図は第1の基板上の画素電極、信号線及びバリスタ
の配設関係を示す平面図であり、菓3図は第2の基板上
の走査線電極を示す図である。 第4図は従来例の液晶表示装置の部分縦断面図である。 11.21:基板、12:バリスタ、13:信号線、1
4:画素電極、22:走査線電極、31:液晶層、32
:絶縁手段
FIG. 1 is a partial longitudinal sectional view of a liquid crystal display device of the present invention. FIG. 2 is a plan view showing the arrangement relationship of pixel electrodes, signal lines and varistors on the first substrate, and FIG. 3 is a diagram showing the scanning line electrodes on the second substrate. FIG. 4 is a partial longitudinal sectional view of a conventional liquid crystal display device. 11.21: Board, 12: Varistor, 13: Signal line, 1
4: Pixel electrode, 22: Scanning line electrode, 31: Liquid crystal layer, 32
: Insulation means

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)画素電極と、この画素電極と間隔をもって配設さ
れ画素電極に信号を送る信号線と、前記画素電極と前記
信号線とを接続するバリスタとを有する第1の基板、前
記画素電極と対向するように電極が設けられた第2の基
板、及び第1の基板と第2の基板との間に液晶が充填さ
れた液晶表示装置において、第1の基板上に配設された
バリスタと第2の基板上に配設された電極との間に絶縁
手段を設けたことを特徴とする液晶表示装置。
(1) A first substrate having a pixel electrode, a signal line disposed at a distance from the pixel electrode and sending a signal to the pixel electrode, and a varistor connecting the pixel electrode and the signal line; In a liquid crystal display device in which a second substrate is provided with electrodes facing each other, and a liquid crystal is filled between the first substrate and the second substrate, a varistor disposed on the first substrate and A liquid crystal display device characterized in that an insulating means is provided between the electrodes disposed on the second substrate.
JP1203752A 1989-08-08 1989-08-08 Liquid crystal display device Pending JPH0368922A (en)

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