JPH0370854B2 - - Google Patents
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- JPH0370854B2 JPH0370854B2 JP5140282A JP5140282A JPH0370854B2 JP H0370854 B2 JPH0370854 B2 JP H0370854B2 JP 5140282 A JP5140282 A JP 5140282A JP 5140282 A JP5140282 A JP 5140282A JP H0370854 B2 JPH0370854 B2 JP H0370854B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/842—Coating a support with a liquid magnetic dispersion
- G11B5/845—Coating a support with a liquid magnetic dispersion in a magnetic field
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は磁気記録媒体の製造方法に関するもの
で、特に塗膜の表面平滑性を損うことなく、磁界
配向処理をより効果的に行うものである。
で、特に塗膜の表面平滑性を損うことなく、磁界
配向処理をより効果的に行うものである。
磁気記録媒体の製造において、非磁性フイルム
などの支持体に磁性塗料を塗布する工程に続いて
磁界配向処理を行うのが普通である。すなわち、
磁性粒子と結合剤と共に溶剤中に分散した塗料を
ポリエステルフイルムなどの支持体上に塗布し、
未乾燥のうちにこれを磁界中に通過させて塗膜の
磁性粒子を磁界方向に配向させることによつて磁
気記録体のこの方向の記録能力を高めるものであ
る。
などの支持体に磁性塗料を塗布する工程に続いて
磁界配向処理を行うのが普通である。すなわち、
磁性粒子と結合剤と共に溶剤中に分散した塗料を
ポリエステルフイルムなどの支持体上に塗布し、
未乾燥のうちにこれを磁界中に通過させて塗膜の
磁性粒子を磁界方向に配向させることによつて磁
気記録体のこの方向の記録能力を高めるものであ
る。
従来、この配向処理は記録灰体面に平行な方向
に行ない、この方向に磁化することによつて情報
の記録を行なつてきた。しかしながら高密度記録
を行なう場合、自己減磁界が増すため、磁化ベク
トルが回転して残留磁化が減少し、記録の高密度
化に限界がみられる。そこで最近においては磁気
記録媒体面に垂直な方向に磁化することによつて
情報を記録する方式が提案されている。この方式
では磁化が媒体面に対して垂直であるため、高密
度記録になるほど、自己減磁界が減少するので、
高密度記録に適する。
に行ない、この方向に磁化することによつて情報
の記録を行なつてきた。しかしながら高密度記録
を行なう場合、自己減磁界が増すため、磁化ベク
トルが回転して残留磁化が減少し、記録の高密度
化に限界がみられる。そこで最近においては磁気
記録媒体面に垂直な方向に磁化することによつて
情報を記録する方式が提案されている。この方式
では磁化が媒体面に対して垂直であるため、高密
度記録になるほど、自己減磁界が減少するので、
高密度記録に適する。
ところで、垂直磁化記録方式では第１図に示す
ように基体３の上に塗布した媒体面に垂直な方向
に磁化させるので、記録媒体は磁化容易軸が媒体
表面に垂直な方向であることが必要である。従つ
て磁性塗膜の磁界配向処理も媒体表面に垂直な方
向に行う必要がある。そこで磁性塗料１を塗布装
置２によつて塗布した未乾燥の塗膜４に対し、塗
膜面に対し垂直な方向に磁石５，６により磁界を
印加することにより、配向処理を行なつてみる
と、塗膜面の平滑性が著しく劣化することが見出
されている。これは記録媒体として望ましくない
もので、媒体面と平行に配向処理した場合にはみ
られなかつたものである。これは塗膜面に垂直な
方向の磁界により塗膜が磁化し、塗膜面に同符号
の磁極が生じるため、その表面の静磁エネルギが
高くなつて不安定化し、面に凹凸を生ずることよ
つて、これが安定化するものと説明されているも
のである。従つてこのような磁界印加方法によつ
て垂直配向処理を行なつて、なおかつ表面平滑な
記憶媒体を得ることは非常に困難であることがわ
かる。
ように基体３の上に塗布した媒体面に垂直な方向
に磁化させるので、記録媒体は磁化容易軸が媒体
表面に垂直な方向であることが必要である。従つ
て磁性塗膜の磁界配向処理も媒体表面に垂直な方
向に行う必要がある。そこで磁性塗料１を塗布装
置２によつて塗布した未乾燥の塗膜４に対し、塗
膜面に対し垂直な方向に磁石５，６により磁界を
印加することにより、配向処理を行なつてみる
と、塗膜面の平滑性が著しく劣化することが見出
されている。これは記録媒体として望ましくない
もので、媒体面と平行に配向処理した場合にはみ
られなかつたものである。これは塗膜面に垂直な
方向の磁界により塗膜が磁化し、塗膜面に同符号
の磁極が生じるため、その表面の静磁エネルギが
高くなつて不安定化し、面に凹凸を生ずることよ
つて、これが安定化するものと説明されているも
のである。従つてこのような磁界印加方法によつ
て垂直配向処理を行なつて、なおかつ表面平滑な
記憶媒体を得ることは非常に困難であることがわ
かる。
本発明はこのような困難を解決するために種々
検討を重ねた結果なされたもので、配向方向と直
角な塗膜面内で回転する回転磁界を未乾燥塗膜に
印加することにより、塗膜面の平滑性を損うこと
なく磁性粒子を垂直配向させる方法を提供するも
のである。
検討を重ねた結果なされたもので、配向方向と直
角な塗膜面内で回転する回転磁界を未乾燥塗膜に
印加することにより、塗膜面の平滑性を損うこと
なく磁性粒子を垂直配向させる方法を提供するも
のである。
すなわち、本発明においては第２図に原理を示
すように未乾燥塗膜４に対する配向磁界として、
塗膜面に垂直な磁界を用いる代りに塗膜面内の回
転磁界を用いることにより、塗膜を磁化させるこ
となく、塗膜内の磁性粒子を垂直配向させること
ができる。この場合の磁界の強さは磁性粒子の磁
化反転に必要な磁界Hc以下を用いる。配向磁界
の印加方法としては、例えば同図７，８のコイル
対による交流磁界H1と９，１０のコイル対によ
る交流磁界H2とを塗膜内面で角度θにて重ね合
わせ、さらにH1，H2の間に時間的位相角を与
えておく。θ，はともに90°に近いことが望ま
しいが必ずしも90°である必要はない。なお第２
図には原理を模式的に示しているが、実用上は塗
膜の有効部分に磁界が均一に印加させる様に、磁
界の発生手段の大きさ、配置等を調整して設ける
必要がある。またH1とH2の振幅は同程度である
ことが望ましいが必ずしも等しい必要はない。第
２図においては、磁界発生手段としてのコイルは
固定し、交流磁界H1，H2との間で時間的位相を
与えることにより回転磁界を発生させているが、
コイル自体を回転してもよい。また媒体自体が円
板状の場合には固定された磁場中において、媒体
を回転させることもできる。
すように未乾燥塗膜４に対する配向磁界として、
塗膜面に垂直な磁界を用いる代りに塗膜面内の回
転磁界を用いることにより、塗膜を磁化させるこ
となく、塗膜内の磁性粒子を垂直配向させること
ができる。この場合の磁界の強さは磁性粒子の磁
化反転に必要な磁界Hc以下を用いる。配向磁界
の印加方法としては、例えば同図７，８のコイル
対による交流磁界H1と９，１０のコイル対によ
る交流磁界H2とを塗膜内面で角度θにて重ね合
わせ、さらにH1，H2の間に時間的位相角を与
えておく。θ，はともに90°に近いことが望ま
しいが必ずしも90°である必要はない。なお第２
図には原理を模式的に示しているが、実用上は塗
膜の有効部分に磁界が均一に印加させる様に、磁
界の発生手段の大きさ、配置等を調整して設ける
必要がある。またH1とH2の振幅は同程度である
ことが望ましいが必ずしも等しい必要はない。第
２図においては、磁界発生手段としてのコイルは
固定し、交流磁界H1，H2との間で時間的位相を
与えることにより回転磁界を発生させているが、
コイル自体を回転してもよい。また媒体自体が円
板状の場合には固定された磁場中において、媒体
を回転させることもできる。
次に本発明による実施例を述べる。
実施例
磁性塗料として下記の組成を有するものを作製
した。
した。
磁性粒子、BaフエライトCoTi置換体（σg＝
62emu／ｇ、Hc＝1000Oe、粒径＝0.1μｍ）
100重量部（重量） 塩化ビニル酢酸ビニル共重合体（VAGH）
15部 ポリウレタン（Ｎ−3022） 15部 メチルイソブチルケトン 100部 トルエン 100部 ミクロヘキサノン 100部 この塗料をポリエチレンテレフタレートフイル
ム３上に塗布４し、未乾燥のうちに、第２図に示
した配向用回転磁界中を通過させた。使用した交
流磁界の周波数は100Hz、前述のθ≒≒90°、
H1とH2の強さは等しくなるよう設定した。この
ような配向処理をした塗膜４ａは乾燥を行ないカ
レンダ処理を行なつて磁気テープを作製した。こ
のテープについて、磁気測定、表面粗さ測定を行
ない、反磁界補正を行なつて求めた垂直方向の角
形比、表面粗さを配向磁界Ｈ（＝H1＝H2）に対
してプロツトした結果を第３図に示す。なお図中
曲線Ａは垂直方向の角型比、曲線Ｂは表面粗さを
それぞれ示す。この図にみられるようにこの配向
方法によれば塗膜面の面粗さを増大させることな
く、垂直配向処理が可能であることがわかる。
62emu／ｇ、Hc＝1000Oe、粒径＝0.1μｍ）
100重量部（重量） 塩化ビニル酢酸ビニル共重合体（VAGH）
15部 ポリウレタン（Ｎ−3022） 15部 メチルイソブチルケトン 100部 トルエン 100部 ミクロヘキサノン 100部 この塗料をポリエチレンテレフタレートフイル
ム３上に塗布４し、未乾燥のうちに、第２図に示
した配向用回転磁界中を通過させた。使用した交
流磁界の周波数は100Hz、前述のθ≒≒90°、
H1とH2の強さは等しくなるよう設定した。この
ような配向処理をした塗膜４ａは乾燥を行ないカ
レンダ処理を行なつて磁気テープを作製した。こ
のテープについて、磁気測定、表面粗さ測定を行
ない、反磁界補正を行なつて求めた垂直方向の角
形比、表面粗さを配向磁界Ｈ（＝H1＝H2）に対
してプロツトした結果を第３図に示す。なお図中
曲線Ａは垂直方向の角型比、曲線Ｂは表面粗さを
それぞれ示す。この図にみられるようにこの配向
方法によれば塗膜面の面粗さを増大させることな
く、垂直配向処理が可能であることがわかる。
比較例
上記実施例に対する比較例として、同じ塗料を
第１図に示すたような垂直磁界によつて配向を行
なつた結果を第４図に示す。なお図中曲線Ａ，Ｂ
は第３図同様の特性を示す。この場合には塗膜が
膜面に垂直な方向に磁化される結果、磁極が膜面
に生じ、その反磁界のために配向磁界として約
4KOe以上を必要とすること、および、このよう
な配向磁界を用いた場合、表面粗さが増し、カレ
ンダ処理を行なつた後でも顕著な面粗れが残り、
記録媒体として望ましくないことがわかる。
第１図に示すたような垂直磁界によつて配向を行
なつた結果を第４図に示す。なお図中曲線Ａ，Ｂ
は第３図同様の特性を示す。この場合には塗膜が
膜面に垂直な方向に磁化される結果、磁極が膜面
に生じ、その反磁界のために配向磁界として約
4KOe以上を必要とすること、および、このよう
な配向磁界を用いた場合、表面粗さが増し、カレ
ンダ処理を行なつた後でも顕著な面粗れが残り、
記録媒体として望ましくないことがわかる。
なお本発明による配向方法は磁性粒子として上
記Baフエライト置換体を用いる場合に限らず、
γ−Fe2O3およびそのCo被着体、CrO2を用いる
場合に対しても有効であり、とくにCo金属微粉
を用いた場合について述べると、この方法を用い
ることにより、角形比0.8で表面粗さ0.1μｍが得
られている。
記Baフエライト置換体を用いる場合に限らず、
γ−Fe2O3およびそのCo被着体、CrO2を用いる
場合に対しても有効であり、とくにCo金属微粉
を用いた場合について述べると、この方法を用い
ることにより、角形比0.8で表面粗さ0.1μｍが得
られている。
このように回転磁界を印加することにより垂直
方向の配向が得られる理由は必ずしも明らかでは
ないが以下の様な理由によるものと考えられる。
つまり未乾燥塗膜中の磁性粒子は、回転磁界の回
転角度に追従することができず、この際に回転磁
界の平面に対して直角な方向に磁性粒子の配向を
した状態が最も安定した状態となるためと考えら
れる。
方向の配向が得られる理由は必ずしも明らかでは
ないが以下の様な理由によるものと考えられる。
つまり未乾燥塗膜中の磁性粒子は、回転磁界の回
転角度に追従することができず、この際に回転磁
界の平面に対して直角な方向に磁性粒子の配向を
した状態が最も安定した状態となるためと考えら
れる。
また。このことは回転磁界Ｈ中の磁性粒子のエ
ネルギー（単位体積あたり） Ｅ＝Kusin2（Φ−θ）−HMscosΦ Ku：磁気異方定数、Φ：磁化の磁界とのなす角 θ：磁化容易軸とＨとのなす角、Ms：飽和磁化 の極小値を示す方向の時間平均は、磁化反転の生
じない磁界強度範囲ではθ＝90°の方向となるこ
とからも説明できると考えられる。
ネルギー（単位体積あたり） Ｅ＝Kusin2（Φ−θ）−HMscosΦ Ku：磁気異方定数、Φ：磁化の磁界とのなす角 θ：磁化容易軸とＨとのなす角、Ms：飽和磁化 の極小値を示す方向の時間平均は、磁化反転の生
じない磁界強度範囲ではθ＝90°の方向となるこ
とからも説明できると考えられる。
上述のように本発明方法によれば、表面平滑性
を低下させることなく、垂直配向した磁気記録媒
体を得ることができ、その実用性は大きい。
を低下させることなく、垂直配向した磁気記録媒
体を得ることができ、その実用性は大きい。
第１図は従来方法による配向処理の説明図、第
２図は本発明の方法による配向処理の説明図、第
３図は本発明による記録媒体の配向度、表面粗さ
の配向磁界依存性を示す図、第４図は従来方法に
よる記録媒体の配向度、表面粗さを示す図であ
る。 １……磁性塗料、３……ベースフイルム、４…
…磁性塗膜、７，８，９，１０……回転磁界発生
コイル。
２図は本発明の方法による配向処理の説明図、第
３図は本発明による記録媒体の配向度、表面粗さ
の配向磁界依存性を示す図、第４図は従来方法に
よる記録媒体の配向度、表面粗さを示す図であ
る。 １……磁性塗料、３……ベースフイルム、４…
…磁性塗膜、７，８，９，１０……回転磁界発生
コイル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 磁性粒子の配向方向と直角な平面内で回転す
る回転磁界を印加して配向処理することを特徴と
する垂直磁気記録媒体の製造方法。 ２ 回転磁界を塗膜面内とし、磁性粒子の配向方
向が塗膜面に垂直であることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の垂直磁気記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5140282A JPS58169335A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5140282A JPS58169335A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58169335A JPS58169335A (ja) | 1983-10-05 |
| JPH0370854B2 true JPH0370854B2 (ja) | 1991-11-11 |
Family
ID=12885938
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5140282A Granted JPS58169335A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58169335A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6150217A (ja) * | 1984-08-17 | 1986-03-12 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS61233470A (ja) * | 1985-04-08 | 1986-10-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光情報記録再生装置 |
| JPH01286118A (ja) * | 1988-05-13 | 1989-11-17 | Sony Corp | 垂直配向装置 |
-
1982
- 1982-03-31 JP JP5140282A patent/JPS58169335A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58169335A (ja) | 1983-10-05 |
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