JPH0371402A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明はコンピュータ等の外部記ｆ、装置であるハード
ディスクドライブに用いられるコンボジフト型ヘッドの
製造方法に関する。

（ロ）　従来の技術 近午、ハードディスクドライブ装置においても、小型化
の要求が著しく記録媒体への高密度記録が重要な問題に
なっている。このため、従来の酸化物の塗布型の磁気デ
ィスクに代って抗磁力（Ｈｅ）の高い金属薄膜型の磁気
ディスクが記録媒体として開発されている。この様な金
属薄膜型の磁気ディスクに対応する磁気ヘッドとしては
、例えば特開昭６２−２９５２０７号公報（６１１Ｂ　
Ｓ　／　２３　）等に開示されているようにｆｉｔｓ来
のモノリシック型やコンポジット型の浮動型磁気へノド
のギャップ衝き合わせ面にセンダストヤアモルファス磁
性合金等の高飽和磁束密度材料をスパッタリングによっ
て底膜したＭＩＧ型（メタル・イン・ギャップ型）の浮
動型磁気へラドが提案されている。

第１２図は完成したコンポジット型磁気・＼ラドの斜視
図を示す図で、第１１図（ａ）に示す磁気コア（２１）
を第１１図（ｂ）に示すスライダー（２２）のスノット
（２３）に挿入した後に接合用ガラス（２４＞（２４）
を用いて磁気コア（２１）をスライダー（２２）に固定
し、チャンファ一部（２５）等の外形成形加工を行ない
完成させるのである。

また、最近は上記した第１１図（ａ）の如き片側のコア
半体（２１ａ）に巻線溝（２６）を設けたＣ−１型コア
に代えて、第１３図に示す様な再生特性面で有利な両方
のコア半体（２７）（２７）に巻線溝（２８）（２８）
を設けたｃ−ｃｙｒコアが用いられ始めている。

以下にＣ−Ｃ型のメタルインギャップ型の磁気ヘッドの
製造方法について説明する。

先ず、Ｍ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライトよりなる＠１、第２
の基板（２９ａ　）　・（２９ｂ　）を用意し、該基板
（２９ａ）（２９ｂ）の上面と下面を鏡面研磨した後、
第１・１図に示すように第１の基板（２９ａ）の上面（
ギャップ形成面）にセンダスト等の強磁性金属薄膜（３
ｏ）とＳｉＯ２等のギャップスペーサ（３１）をスパッ
タリングにより所望の膜厚分ｔごけ被着形成する。また
、第２の基板（２９ｂ）の」二面（ギャップ形成面）に
は所望のトラック幅よりも少許幅広の予備トラック幅（
１）が得られるように一定のピッチで予備加工溝（３２
）を形成する。

次に第１５図の如く第２の基板（２９ｂ）の上面にデプ
スエンド溝（３３）を設け、前記予備加工溝（３２）と
デプスエンド溝（３３）に第１のガラス（３４）を充填
し、第１の基板（２９ａ）の、上面の戊膜部（３５）　
［強磁性金属薄膜（３０）とギャップスペーサ（３１）
］を、反りの緩和、ガラス接合力の向上のため所望のト
ラック幅より幅広の予備トラック幅（ｔｏ）が得られる
ように一定のピッチで加工する。

その後、第１６図（ａ）（ｂ）に示す様に第１の基板・
第２の基板（２９ａ）（２９ｂ）の上面には各々巻線溝
（３６）（３７）を設け、その上面側同士を第１７図の
如く突き合せて、加熱してガラス溶着して第１９図に示
す溶着ウェーハー（３８）を得る。その溶着ウェーハー
（３８）を破線Ａ−Ａ’に沿って切断してコアブロック
を形威し、コアブロックの媒体対向面に所望のトラック
幅Ｔが得られるように、一定のピッチでトラック幅規制
講和１Ｈｒ（ｒ＜ｔ、ｔ’）を施して媒体対向突部を形
成する。そして最後にコアブロックをスライスすること
により第１３図の如きＣ−Ｃ型の磁気コアを形成Ｔる（
第１Ｏ図参照）。

（ハ）発明が解決しようとする課題 上記方法を用いて磁気へラドコアを’ｌ遺した場合、第
１７図に示すように第２基板＜２６ｂ）のデプスエンド
溝（３３）にしかガラスが入っていないために、第１基
板（２９ａ）のデプスエンド溝（３９）にも流し込ませ
るためにはそのガラスの軟化点よりもがなり高い温度で
溶着する必要があり、そのような場合はガラスがかなり
流動性をもつために第１８図（ａ）に示す様に両方のデ
プスエンド溝（３３）（３９）に略対称にガラスを入れ
ることは極めて困難であって、溶着時の温度や保持時間
等によって第１８図（ｂ）及び第１８図（ｃ）の様にど
ちらかにガラスが引き寄せられ、巻線を施すスペースが
減少したり、接合強度が弱くなるという欠点があった。

また、第１６図（ａ）の底膜・パターニングした第１基
板（２９ａ）にデプスエンド溝（３つ）、巻線溝（３６
）を加工する際に成膜部（３５）を直桜ダイヤモンド砥
石等で除去すると、第１８図（ｄ）の如く、成膜部（３
５）の端部が浮上がったり或いは膜全体がはく離する等
の問題が発生し、特に膜が完全にはく離せずに部分的に
浮上がった状態になっている場合、その部分が疑似ギャ
ップとして作用し、性能劣化の大きな要因となっていた
。

（ニ）課題を解決するための手段 本発明はギャップ近傍部に強磁性金属薄膜を配置し、且
つ両方のコア半体に巻線溝を設けた磁気コアをスライダ
ーに固定してなる磁気へ・・ｌドの製造方法に於いて、 強磁性酸化物材料からなる第１の基板の」二面に第１デ
プスエンド溝を設け、強磁性酸化物材料からなる第２の
基板の上面に第２デプスエンド溝と予備トラックとを設
け、前記第１の基板の第１デプスエンド溝と予備トラッ
ク溝そして前記第２基板の第２デプスエンド溝にガラス
を充填する第１の工程と、 前記第１基板に所望のトラック幅より幅広の強磁性金属
薄膜及びギャップスペーサを被着形成する第２の工程と
、 前記第１の基板及び第２の基板に巻線溝を設ける第３の
工程と、 前記第１の基板と第２の基板とをガラスにより接合して
コアブロックを形成する第４の工程と、前記コアブロッ
クの媒体対向面に所望のトラック幅の媒体対向突部を形
成する第５の工程と、前記コアブロックを所定の間隔で
スライシングする第６の工程により磁気コアを形成した
後、該磁気コアをガラスによりスライダーに固定するこ
とを特徴とする磁気ヘッドの製造方法を提案する。

また、前記第２の工程において、第１の基板の上面全域
に強磁性金属薄膜及びギャップスペーサを被着した後、
ドライエツチングにより不要部分を除去する際、その強
磁性金属薄膜とギャップスペーサとの除去幅をｌ゛、巻
線溝の溝幅をｌとするとｌ＞ｌ’となる様に除去し、 また、所望のトラック幅より幅広の強磁性金属ｉ］！膜
及びギャップスペーサを形成することを特徴とした磁気
ヘッドの製造方法を提案する。

（ホ）作　用 」二足手段によると、第１及び第２の基板のデプスエン
ド溝に溶着前にあらかじめガラスを充填しておくことに
よって接合用ガラスの軟化前よりも５０゛〜１００°程
度高い温度、すなわち接合用ガラスがあまり流動性をも
っていない温度で溶着が可能となる。

また、強磁性金属薄膜とギャップスペーサをエツチング
する際、巻線溝幅よりも広くすることによって巻線溝加
工時に砥石と強磁性金属薄膜及びギヤノブスペーサに接
触することがなくなる。

（へ）実施例 以下、第１図乃至第１０図に従・）て本発明の磁気へ７
ドコアの製造方法について説明する。まず、第２図に示
す様に２枚１組のＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライトよりなる
第１、第２基板（１ａ）（ｌｂ）を用意し、前記第２基
板（１ｂ）に予備トラック幅ｔが得られるように、一定
のピンチＰで予備トランク溝（２）を形成し、第３図に
示す様に第１、第２基板（ｌａ）（ｌｂ）に第１、第２
デプスエンド溝（３ａ）（３ｂ）を設け、第４図に示す
様に予備トラｌり溝（２）、第１、第２デプスエンド溝
（３ａ）（３ｂ）に溶着ガラス（４）を充填し、第１、
第２基板（ｌａ）（ｌｂ）のギャップ突合せ面（ｌａ’
）（ｌｂ’）を鏡面研磨する。

次に第５図の破線Ａ−Ａ’に示す様に第２基板（１ｂ）
に巻線溝（５〉を設け、第１基板（１ａ）には第６図に
示す様に金属磁性体例えばセンダスト膜（６）とギャッ
プスペーサであるＳｉＯ，模（７）を所望の膜厚分だけ
形成する。本実施例ではセンダスト膜（６）は対向ター
ゲット型スパッタ装置を用いて２．５　ｕｍ、Ｓ　ｉ　
Ｏ，膜（７）はイオンブレーティング装置を用いて０　
、６７１ｍ形成した。

次に、前記第１基板（１ａ）はイオンビームエツチング
装置等のドライエツチング装置を用いて第７図に示す様
に前記予備トラック幅【とばば同じ幅のパターン幅ｔ゛
が得られるようにパターニングを行なう。また第８図に
示す様に予備トラ；・りに垂直方向の抜き幅（２′）は
前記巻線溝（５）の輻（ｇ）よりも大きくなるようにし
ている。本実施例ではｇ＝＝４０６μｍに対してｌ　’
＝　６２　（ｌ　μｍ、：した。この後に第８図の波線
Ｂ−Ｂ’の如く巻線溝（８）を設け、予備トラック幅ｔ
とパターン幅ｔ’　　２つの巻線溝（５）（８）が一致
する様に位置決めして、加圧・加熱してガラス溶着を行
なう。

本実施例では軟化点５９０°のガラスを用いて６７０”
で溶着を行なった。即ち、従来方法に比べて５０〜８０
’溶着温度を低くした。

次に第９図の溶着ブロックを破線Ｃ−Ｃ’で切断し、所
望の外形寸法に底形したのちに磁気媒体（例えばディス
ク〉との対向面に第１０図に示す所望のトラック幅Ｔ　
（Ｔｉｔ、ｔ’）が得られる様にトラック溝加工（９）
を行なう。本実施例では予備トラック輻ｔとパターン幅
ｔ′を４０μｍ、トラック幅Ｔは１２．７μｍで行なっ
た。そして最後に第１０図の一点鎖線Ｉ）−Ｄ’でスラ
イシングを行ない第１図のＣ−Ｃ型ＭＵＧコアを完成さ
せる。

（ト）発明の効果 本発明の製造方法によると、磁気コアの巻線溝付近の接
合用ガラスの溶着形状が等しいので巻線工程が容易にな
って大量生産が可能となり、また、巻線溝の溝幅よりも
大きく強磁性金属ｒＩｉ膜及びギャップスペーサを除去
したので、巻線溝加工時の膜ハガレが減少し、歩留りが
向上すると共に、膜の浮上がりによる疑似ギャップが激
減し性能の向上が達成されるので極めて有益である。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第ｉｏ図は本発明の磁気ヘッドの製造方法を
示す図、第１１図（ａ）（ｂ）及び第１２図、第１３図
は一般的なコンボジヴト型磁気ヘッドを説明するための
図、第１４図乃至第１９図は従来の磁気ヘッドの製造方
法を示す図である。 （ｌａ）・＝＊１基板、（ｌｂ）−・・第２基板、（５
）、（８）・・・巻線溝、（３ａ）（３ｂ）・・・第１
、第２デプスエンド溝、（６）・・・強磁性金属薄膜、
（７）・・・ギャップスペーサ。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ギャップ近傍部に強磁性全属薄膜を配置し、且つ
   両方のコア半体に巻線溝を設けた磁気コアをスライダー
   に固定してなる磁気ヘッドの製造方法に於いて、 強磁性酸化物材料からなる第１の基板の上面に第１デプ
   スエンド溝を設け、強磁性酸化物材料からなる第２の基
   板の上面に第２デプスエンド溝と予備トラック溝を設け
   、前記第１の基板の第１デプスエンド溝及び前記第２の
   基板の第２デプスエンド溝と予備トラック溝とにガラス
   を充填する第１の工程と、 前記第１基板に所望のトラック幅より幅広の強磁性金属
   薄膜及びギャップスペーサを被着形成する第２の工程と
   、 前記第１の基板及び第２の基板に巻線溝を設ける第３の
   工程と、 前記第１の基板と第２の基板とをガラスにより接合して
   コアブロックを形成する第４の工程と、前記コアブロッ
   クの媒体対向面に所望のトラック幅の媒体対向突部を形
   成する第５の工程と、前記コアブロックを所定の間隔で
   スライシングする第６の工程とにより磁気コアを形成し
   た後、該磁気コアをガラスによりスライダーに固定する
   ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
2. （２）前記第２の工程において、第１の基板の上面全域
   に強磁性金属薄膜及びギャップスペーサを被着した後、
   ドライエッチングにより不要部分を除去する際、その強
   磁性金属薄膜とギャップスペーサとの除去幅をｌ’、巻
   線溝の溝幅をｌとするとｌ’＞ｌとなる様に除去し、 また、所望のトラック幅より幅広の強磁性金属薄膜及び
   ギャップスペーサを形成することを特徴とした特許請求
   の範囲第１項記載の磁気ヘッドの製造方法。