JPH0648529B2

JPH0648529B2 - 磁気ヘツド

Info

Publication number: JPH0648529B2
Application number: JP60297144A
Authority: JP
Inventors: 俊行岡田; 康之水沼
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1985-12-28
Filing date: 1985-12-28
Publication date: 1994-06-22
Anticipated expiration: 2009-06-22
Also published as: KR960005114B1; KR870006512A; JPS62157306A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は磁気ヘッドに関するものであり、詳細には磁気
ギャップが強磁性金属薄膜同士をギャップスペーサを介
して突き合わせることにより構成されるとともに、磁気
コア半体の大部分が強磁性酸化物により形成されてな
る、いわゆる複合型の磁気ヘッドに関するものである。

〔発明の概要〕

強磁性酸化物よりなる磁気コア部と、この磁気コア部に
磁気記録媒体対接面で磁気ギャップ形成面に対して所定
角度で傾斜するように被着される強磁性金属薄膜とから
磁気コア半体が構成され、上記強磁性金属薄膜同士を略
一直線状に突き合わせることにより磁気ギャップが構成
されてなる磁気ヘッドにおいて、一方の磁気コア半体に形成される強磁性金属薄膜の磁気
ギャップ形成面における幅をトラック幅と等しくし、他
方の磁気コア半体に形成される強磁性金属薄膜の磁気ギ
ャップ形成面における幅をトラック幅よりも大きく設定
することにより、トラック幅精度を向上させ、クロストークが少なく、し
かも歩留まりや生産性に優れたものとしようとしたもの
である。

〔従来の技術〕

磁気記録の分野においては、情報信号の高密度記録化が
進められており、これに対応して、いわゆるメタルテー
プや蒸着テープ等のような高い抗磁力を有する磁気記録
媒体が普及してきている。

さらには、所定の面積の磁気記録媒体にできるだけ多く
の情報信号を書き込むために、磁気記録媒体に記録され
る各記録トラックのトラック幅の狭小化も進められてい
る。

このような状況から、磁気ヘッドに対しても数々の要求
が出されており、例えば高い抗磁力や残留磁束密度を有
する磁気記録媒体に対して良好な記録・再生を行うため
に、磁気ヘッドのコア材料が高飽和磁束密度，高透磁率
を有すること、記録トラックのトラック幅に対応して微
小なトラック幅出しが容易であること、等が要望されて
いる。

かかる諸要求を満たす磁気ヘッドを、例えばフェライト
材等の強磁性酸化物材料単体で作成することは難しく、
そこで高飽和磁束密度を有する強磁性金属薄膜と組み合
わせて磁気ヘッドを構成した、いわゆる複合型磁気ヘッ
ドが提案されている。

なかでも、先に本願出願人が特願昭58−250988号明細書
において提案した磁気ヘッドは、磁気記録媒体の高抗磁
力化に対応可能であること、トラック幅を強磁性金属薄
膜の膜厚により容易に制御できること、クロストークが
少ないこと等、優れた特徴を有し、その普及が期待され
ている。

上記磁気ヘッドは、第１５図に示すように、Ｍｎ−Ｚｎ
系フェライト等の強磁性酸化物により形成される一対の
磁気コア部(101),(102) の突き合わせ面をそれぞれ斜め
に切り欠いて強磁性薄膜形成面(103),(104) を形成する
とともに、この強磁性薄膜形成面(103),(104) 上に真空
薄膜形成技術により高飽和磁束密度を有する強磁性金属
薄膜(105),(106) を被着して磁気コア半体(111),(112)
を形成し、これら強磁性金属薄膜(105),(106) をギャッ
プスペーサを介して当接することにより磁気ギャップ
ｇ′を構成し、さらに、この磁気ギャップｇ′の両側部
にトラック幅を規制するトラック幅規制溝(107),(108)
が切り欠かれ、上記強磁性金属薄膜(105),(106) の摩耗
を防止するための非磁性材(109),(110) が溶融充填され
ている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところで、この第１５図に示す磁気ヘッドにおいては、
各磁気コア半体(111),(112) に被着される強磁性金属薄
膜(105),(106) が磁気ギャップ形成面(113) で接合する
ように突き合わせガラスボンディンされている。

しかし、上述ような構成の磁気コア半体(101),(102) を
用いてトラック合わせを行った場合には、前述の狭トラ
ック化に伴って上記強磁性金属薄膜(105) ,(106)が薄膜
化の傾向にあるため、トラックズレが生じ易く、現状の
製造方法では避け難い問題となっている。このトラック
ズレは、上記強磁性金属薄膜(105),(106) の膜厚のバラ
ツキにも起因しており、この改善が強く要望されてい
る。

すなわち、このトラックズレのズレ量ｒ，ｓが大きくな
ると、特に長波長側の信号の記録・再生において、隣接
トラックや隣々接トラックからのクロストークが顕著と
なり、記録・再生特性が劣化するという欠点がある。ま
た、信号の波長により実効トラック幅にバラツキを生
じ、ヘッドの信頼性上好ましくない。

したがって、上述のトラック合わせ精度等を考慮する
と、極めて厳しい工程管理が必要となり、歩留まりや生
産性の劣化の原因となっている。

そこで、本発明は上述の事情に鑑みて提案されたもので
あって、一対の磁気コア半体のトラック合わせ精度を向
上させることにより、トラック幅精度を向上させ、クロ
ストークが少なく、しかも歩留まりや生産性に優れた磁
気ヘッドを提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

上述の目的を達成するために、本発明の磁気ヘッドは、
強磁性酸化物よりなる磁気コア部と、この磁気コア部に
磁気記録媒体対接面で磁気ギャップ形成面に対して所定
角度で傾斜するように被着される強磁性金属薄膜とから
磁気コア半体が構成され、上記強磁性金属薄膜同士を略
一直線状に突き合わせることにより磁気ギャップが構成
されてなる磁気ヘッドにおいて、一方の磁気コア半体に
形成される強磁性金属薄膜の磁気ギャップ形成面におけ
る幅をトラック幅と等しくし、地方の磁気コア半体に形
成される強磁性金属薄膜の磁気ギャップ形成面における
幅をトラック幅よりも大きくしたことを特徴とするもの
である。

〔作用〕

一対の磁気コア半体に形成される各強磁性金属薄膜の磁
気ギャップ形成面における幅が異なるように形成すると
ともに、一方の磁気コア半体の上記幅をトラック幅と等
しくし、他方の磁気コア半体の上記幅をトラック幅より
も若干大きく設定しているので、磁気コア半体同士を突
き合わせる際に多少ズレが生じたとしても、トラック幅
精度が確保される。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。

第１図は本発明を適用した磁気ヘッドの一例を示す外観
斜視図であり、第２図はその磁気記録媒体対接面を示す
要部拡大断面図である。

この磁気ヘッドにおいては、磁気コア部(11),(12) が強
磁性酸化物、例えばＭｎ−Ｚｎ系フェライト等で形成さ
れ、この磁気コア部(11),(12) の接合面を斜めに切り欠
いた強磁性薄膜形成面(11a),(12a) にはフロントギャッ
プ面からバックギャップ面に至るまで連続して高飽和磁
束密度合金、例えばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金よりなる強
磁性金属薄膜(13),(14) が真空薄膜形成技術により被着
形成され、それぞれ磁気コア半体(21),(22) が構成され
ている。

ここで、各磁気コア半体(21),(22) に形成される強磁性
金属薄膜(13),(14) は、その磁気コア半体(21),(22) の
突き合わせ面である接合面、すなわち磁気ギャップ形成
面(10)における幅ａ，ｂが異なるように被着形成されて
いる。

すなわち、一方の磁気コア半体(22)に被着される強磁性
金属薄膜(14)は、その磁気ギャップ形成面(10)における
幅ａが所望のトラック幅Twと等しくなるように形成さ
れ、他方の磁気コア半体(21)に被着される強磁性金属薄
膜(13)は、その磁気ギャップ形成面(10)における幅ｂが
上記トラック幅Twよりも数μｍ程度大きくなるように被
着形成されている。

そして、上述の如く構成された一対の磁気コア半体(2
1),(22) をＳｉＯ_２等のギャップスペーサを介し、磁気
コア半体(11)の強磁性金属薄膜(13)の幅ｂ内に、他方の
磁気コア半体(12)の強磁性金属薄膜(14)が配設されるよ
うに突き合わせ、強磁性金属薄膜(13),(14) 同士が突き
合わされた部分がトラック幅Tw（幅ａ）の磁気ギャップ
ｇとなるように構成されている。

なお、一方の磁気コア半体(12)には、この磁気ヘッドに
記録信号を供給し、あるいは再生信号を取り出すための
コイルを巻回する巻線孔(19)が穿設されている。

また、上記磁気ギャップｇの形成面近傍、すなわち磁気
記録媒体対接面における磁気ギャップｇの両側部には、
トラック幅Twを規制するトラック幅規制溝(11b),(12b)
が削り取られ、さらにこのトラック幅規制溝(11b),(12
b) 内及び上記強磁性金属薄膜(13),(14) 上には非磁性
材(17),(18) が溶融充填されており、この強磁性金属薄
膜(13),(14) の摩耗を防止するように構成されている。

このように、一方の磁気コア半体(22)の強磁性金属薄膜
(14)の幅ａを所望のトラック幅Twとし、他方の磁気コア
半体(21)の強磁性金属薄膜(13)の幅ｂを上記トラック幅
Twよりも若干大きく設定することにより、各磁気コア半
体(21),(22) のトラック合わせの際に、多少のトラック
ズレが生じても所望のトラック幅Twを有する強磁性金属
薄膜(14)が上記幅ｂの範囲内に配され、強磁性金属薄膜
(13),(14) 同士の接合面でトラック幅Twの磁気ギャップ
ｇが形成される。したがって、磁気コア半体(21),(22)
が多少ズレて接合されても、強磁性金属薄膜(13),(14)
同士が接合された磁気ギャップｇが構成されるので、ト
ラック幅精度が大幅に向上する。このため、隣接トラッ
クや隣々接トラックからのクロストークが低減でき、記
録再生特性に優れた磁気ヘッドとなる。

本実施例の磁気ヘッドにおいて、上記各磁気コア部(1
1),(12) に被着形成される強磁性金属薄膜(13),(14)
は、磁気記録媒体対接面から見たときに、磁気ギャップ
形成面(10)で段差をもって略一直線状に連なっており、
しかも磁気ギャップ形成面(10)に対して、それぞれθな
る角度で傾斜している。

ここで、上記強磁性薄膜形成面(11a),(12a) と磁気ギャ
ップ形成面(10)とがなす角度θは、２０゜〜８０゜の範
囲に設定される。この角度θが２０゜よりも小さいと隣
接トラックからのクロストークが大きくなり、望ましく
は３０゜以上の角度を持たせるのが良い。また、上記角
度を９０゜に設定した場合には、真空薄膜形成技術を用
いて薄膜を形成するにあたって多くの時間を要してしま
うことや、膜構造が不均一化すること等から、８０゜以
下とするのが良い。

また、上記強磁性金属薄膜(13),(14) の材質としては、
強磁性非晶質金属合金、いわゆるアモルファス合金（例
えばＦｅ，Ｎｉ，Ｃｏ，の１つ以上の元素とＰ，Ｃ，
Ｂ，Ｓｉの１つ以上の元素とからなる合金、またはこれ
を主成分とし、Ａｌ，Ｇｅ，Ｂｅ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｍｏ，
Ｗ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂを含んだ合金
等のメタルーメタロイド系アモルファス合金、あるいは
Ｃｏ，Ｈｆ，Ｚｒ等の遷移金属や希土類元素を主成分と
するメタル−メタル系アモルファス合金）、Ｆｅ−Ａｌ
−Ｓｉ系合金（センダスト）、Ｆｅ−Ａｌ系合金、Ｆｅ
−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ系
合金（パーマロイ）等が使用可能であり、その膜付け方
法としては、真空蒸着法，スパッタリング法，イオンプ
レーティング法，等に代表される真空薄膜形成技術が採
用される。この強磁性金属薄膜(13),(14) は、本実施例
では単層で形成しているが、例えばＳｉＯ₂,Ｔａ
₂Ｏ_５，Ａｌ₂Ｏ_３，ＺｒＯ_２，Ｓｉ₃Ｎ_４等の高耐摩耗
絶縁膜を介して複数層積層形成しても良い。この場合、
強磁性金属薄膜の積層数は任意に設定することができ
る。

このように、本実施例の磁気ヘッドは、一方の強磁性金
属薄膜(14)の幅ａが所望のトラック幅Twと等しくし、他
方の強磁性金属薄膜(13)の幅ｂが所望のトラック幅Twよ
りも大きく設定されているので、多少のズレがあって
も、強磁性金属薄膜(13),(14) 同士を突き合わせた磁気
ギャップが形成される。したがって、トラック幅精度が
大幅に向上し、隣接トラックや隣々接トラックからのク
ロストークが低減でき、良好な記録再生特性が得られ
る。また、一方の磁気コア半体(12)のトラック幅規制に
よりトラック幅Twが規制されているので、トラック幅精
度がより精度の高いものとなる。

なお、本発明は上述の実施例に限定されるものではな
く、第３図に示すように、一対の磁気コア半体(38),(3
9) に形成される強磁性金属薄膜(33),(34) を同じ膜厚
とし、磁気ギャップ形成面(10)における各強磁性金属薄
膜(33),(34) の幅ｃ，ｄが異なるように、トラック幅規
制溝(31a),(32b) を形成したものでも良い。

すなわち、上記強磁性金属薄膜(33),(34) の膜厚を通常
よりも若干厚く形成し、一方の磁気コア半体(39)は、そ
の強磁性金属薄膜(34)の一部が磁気ギャップｇ近傍でト
ラック幅規制溝(32b) により切り欠かれ、磁気ギャップ
形成面(10)における幅ｃを所望のトラック幅Twと等しく
し、他方の磁気コア半体(31)と接合した構造であって
も、先の実施例と同一の作用効果が得られることは言う
までもない。なお、この第３図において、先の第１図及
び第２に示す磁気ヘッドと同一部材には同一符号を付し
その詳細な説明は省略した。

次に、本発明の磁気ヘッドの構成をより明確なものとす
るために、その製造方法について説明する。

先ず、第１図及び第２図に示す磁気ヘッドの製造方法に
ついて、第４図ないし第１０図を参照しながら説明す
る。

上記磁気ヘッドを作製するには、先ず、第４図に示すよ
うに、例えばＭｎ−Ｚｎ系フェライト等の強磁性酸化物
基板(40)の上面(40a) 、すなわちこの強磁性酸化物基板
(40)における磁気コア半体突き合わせ時の接合面に、回
転砥石等により断面略Ｖ字状の第１の切溝(41)を上記基
板(40)の全幅に亘って複数平行に形成し、強磁性薄膜形
成面(41a) を形成する。なお、上記強磁性薄膜形成面(4
1a) は、上記強磁性酸化物基板(40)の磁気ギャップ形成
面に対応する上面(40a) と所定角度θで傾斜するように
斜面として形成され、その角度θは、本実施例では略４
５゜に設定されている。

次に、第５図に示すように、上記強磁性薄膜形成面(41
a) を含む基板(40)の上面(40a) の全面に亘って、例え
ばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金をスパッタリング法等の真空
薄膜形成技術で被着形成し、強磁性金属薄膜(41a) を形
成する。上記スパッタリングは、強磁性薄膜形成面(41
a) に対して所定の入射角度をもって行い、上記強磁性
金属薄膜(42)の膜厚が上記第１の切溝(41)の深さ方向に
対して連続的に変化するように形成する。さらに、強磁
性薄膜形成面(41a) 上に形成される強磁性金属薄膜(42)
の膜厚は、磁気ギャップ形成面に対応する基板(40)の上
面(40a) における幅ｅが所望のトラック幅より少なくと
も数μｍ程度大きくなるように形成する。

次いで、この第５図に示す強磁性酸化物基板(40)を用い
て、上面(40a)（磁気ギャップ形成面）における強磁性
金属薄膜の幅が異なる一対の強磁性酸化物基板を作製す
る。

先ず、強磁性酸化物基板の上面に露出する強磁性金属薄
膜が所望のトラック幅よりも大きい磁気コア半体を作製
する。

すなわち、第６図に示すように、強磁性金属薄膜(42)が
被着形成された第１の切溝(41)内に低融点ガラス等の非
磁性材(43)を充填した後、上記強磁性酸化物基板(40)の
上面(40a) を平面研削し、平滑度良く面出しを行い、上
記基板(40)の上面(40a) に強磁性金属薄膜(42)の端面を
露出させる。ここで、上述の平面研削は、上記上面(40
a) に露出する強磁性金属薄膜(42)の幅が所望のトラッ
ク幅よりも数μｍ大きいところで終了する。

次いで、第７図に示すように、上記強磁性金属薄膜(42)
が被着形成された強磁性薄膜形成面(41a) に隣接して、
上記第１の切溝(41)の一側縁と接し、かつ第１の切溝(4
1)と平行となるように第２の切溝(44)を形成し、さらに
この上面(40a) に鏡面加工を施す。このようにして、磁
気ギャップ形成面に対応する上面(40a) における強磁性
金属薄膜(42)の幅ｆが、所望のトラック幅より若干大き
い磁気コア半体(45)を作製する。

次に、強磁性酸化物基板の上面に露出する強磁性金属薄
膜の幅が所望のトラック幅と等しい磁気コア半体を作製
する。

先ず、第５図に示す強磁性酸化物基板(40)と同一の基板
(50)を用意する。そして、第８図に示すように、この強
磁性酸化物基板(50)に対して、強磁性金属薄膜(42)が被
着形成された第１の切溝(41)内に非磁性材(46)を充填し
た後、上記強磁性酸化物基板(50)の上面(50a) を平面研
削し、平滑度良く面出しを行う。ここで、上述の平面研
削は、上記上面(40a) に露出する強磁性金属薄膜(42)の
幅が所望のトラック幅と略等しくなる位置まで行う。

次いで、第９図に示すように、上記強磁性金属薄膜(42)
が被着形成された強磁性薄膜形成面(41a) に隣接して、
上記第１の切溝(41)の一側縁と接し、かつ第１の切溝(4
1)と平行となるように第２の切溝(47)を形成し、さらに
この上面(50a) に鏡面加工を施す。このようにして、磁
気ギャップ形成面に対応する上面(50a) における強磁性
金属薄膜(42)の幅ｌが、所望のトラック幅と等しい磁気
コア半体(48)を得る。

さらに、図示してないが、上述のような工程により作製
される一対の磁気コア半体(45),(48) のうち、一方の磁
気コア半体に対して、第１の切溝及び第２の切溝と直交
する方向に溝加工を施し、コイルを巻回するための巻線
孔を形成する。

続いて、上記各磁気コア半体(45),(48) の上面の少なく
とも何れか一方にギャップスペーサ（図示せず）を被着
した後、上記磁気コア半体(48)の強磁性金属薄膜(42)
が、磁気コア半体(45)の強磁性金属薄膜(42)の幅ｌ内で
接合するように突き合わせる。そして、これら磁気コア
半体(45),(48) をガラス等により融着すると同時に、上
記第２の切溝(44),(47) 内に非磁性材(49)を充填する。
なお、この融着工程において、上記第２の切溝(44),(4
7) への非磁性材(49)の充填は、上述のように磁気コア
半体(45),(48) の融着と同時ではなく、例えば第７図及
び第９図に示す工程で予め第２の切溝(44),(47) 内に非
磁性材(49)を充填し、第１０図に示す工程ではガラス融
着のみとしても良い。

このように、磁気コア半体(48)の強磁性金属薄膜(42)の
膜厚ｆ（所望のトラック幅に相当）が、磁気コア半体(4
5)の強磁性金属薄膜(42)の膜厚ｌよりも小さいので、こ
のトラック合わせ工程が、容易となる。したがって、ト
ラックズレによる不良が大幅に減少し、歩留まりが向上
するとともに、生産性が大幅に向上する。これにより、
上記トラック合わせ工程の自動化が可能となるという利
点もある。

また、一方の磁気コア半体(48)に対してトラック幅制御
を行えば良いので、非常に工数的に有利であり、製造コ
ストを低減することができる。

最後に、第１０図中Ｘ−Ｘ線及びＸ′−Ｘ′線位置でス
ライシング加工し、複数個のヘッドチップを切り出した
後、磁気記録媒体対接面を円筒研磨して、第１図及び第
２図に示す磁気ヘッドを完成する。なお、このとき磁気
コア半体(45)及び(48)に対するスライシング方向を突き
合わせ面に対して傾斜させることにより、アジマス記録
用の磁気ヘッドを作製することができる。

ここで、第１図及び第２図に示す磁気ヘッドの一方の磁
気コア半体(11)は上記一方の強磁性酸化物基板(40)を母
材としており、他方の磁気コア半体(12)は他方の強磁性
酸化物基板(50)を母材としている。また、強磁性金属薄
膜(14)の磁気ギャップ形成面(10)における幅ｂは、強磁
性酸化物基板(40)の上面(40a) に露出する強磁性金属薄
膜(42)の幅ｆに、強磁性金属薄膜(13)の幅ａは強磁性金
属薄膜(42)の幅ｌに対応している。

次に、第３図に示す磁気ヘッドの製造方法について、第
１１図ないし第１３図を参照しながら説明する。

この磁気ヘッドを作製するには、先ず、第１１図に示す
ように、先の第１図及び第２図に示す磁気ヘッドの製造
方法と同様にして第６図に示す強磁性酸化物基板(60)を
作製する。なお、この場合にも、磁気ギャップ形成面に
対応する上面(60a) に露出する強磁性金属薄膜(62)の幅
ｍは所定のトラック幅より数μｍ程度大きくなるように
形成する。

次に、第１２図に示すように、上記強磁性金属薄膜(62)
が被着形成された強磁性薄膜形成面(61a) に隣接し、第
１の切溝(61)と平行となるように第２の切溝(64a),(64
b) を形成する。ただし、上記第２の切溝(64a),(64b)
は、２種類の異なった間隔Ａ及びＢが交互に繰り返され
るように形成する。すなわち、一方の第２の切溝(64a)
は上記第１の切溝(61)の一側縁と接するように切削し、
他方の第２の切溝(64b) は上記第１の切溝(61)の一側縁
と若干オーバーラップするように切削加工を施す。さら
に、磁気ギャップ形成面に対応する上面(60a) における
強磁性金属薄膜(62)の幅ｐ，ｑは、一方の第２の切溝(6
4a) により規制される幅ｐを所望のトラック幅よりも数
μｍ大きくなるように切削するとともに、他方の第２の
切溝(64b) により規制される幅ｑを所定のトラック幅と
等しくなるように切削する。

この製造方法によれば、第２の切溝(64a),(64b) を加工
する際に、砥石のピッチを変えるだけで、トラック幅精
度に優れ、クロストークが少ない磁気ヘッドが製造でき
る。したがって、生産性や歩留まりの点で有利である。

続いて、図示してないが、上述のような工程により作製
される一対の強磁性酸化物基板(60)のうち、一方の基板
(60)に対して巻線孔を形成し、強磁性酸化物基板(70)を
得る。

次いで、上記基板(60),(70) の上面の少なくとも一方に
ギャップスペーサを被着し、第１３図に示すように、こ
れら基板(60),(70) を上記幅ｐの強磁性金属薄膜(62)と
上記幅ｑの強磁性金属薄膜(62)とが突き合わされるよう
に接合配置する。そして、これら基板(60)及び(70)をガ
ラスにより融着すると同時に、上記第２の切溝(64a),(6
4b) 内に非磁性材(66)を充填する。

その後、基板(60)と基板(70)とを合体させたブロック
を、第１３図中Ｙ−Ｙ線及びＹ′−Ｙ′線の位置でスラ
イシング加工を施し、複数個のヘッドチップを切り出
す。

最後に、切り出した各ヘッドチップに対し、磁気記録媒
体対接面に円筒研磨を施し、第３図に示す磁気ヘッドを
完成する。

ここで、第３図に示す磁気ヘッドの一方の磁気コア半体
(38)は上記一方の強磁性酸化物基板(60)を母材としてお
り、他方の磁気コア半体(39)は他方の強磁性酸化物基板
(39)を母材としている。また、強磁性金属薄膜(33)の幅
ｄは第１２図に示す幅ｐに、強磁性金属薄膜(34)の幅ｃ
は第１２図に示す幅ｑに対応している。

〔発明の効果〕

以上の説明からも明らかなように、本発明の磁気ヘッド
によれば、一方の磁気コア半体に形成される強磁性金属
薄膜の磁気ギャップ形成面における幅をトラックイ幅と
等しくし、他方の磁気コア半体に形成される強磁性金属
薄膜の磁気ギャップ形成面における幅をトラック幅より
も大きく設定しているので、トラック合わせ時の突き合
わせ精度が大幅に向上する。したがって、トラック幅精
度が向上し、隣接トラックや隣々接トラックからのクロ
ストークが低減され、記録再生特性に優れた磁気ヘッド
となる。

また、トラックの突き合わせ精度の向上に伴い、加工時
の歩留まりが良好なものとなるとともに、生産性の点で
も優れた磁気ヘッドとなる。

さらに、一方の磁気コア半体のトラック幅でトラック幅
規制がなされるので、製造工数が低減でき、製造コスト
の点でも有利である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を適用した磁気ヘッドの一実施例を示す
外観斜視図であり、第２図はその磁気記録媒体対接面を
示す要部拡大平面図である。第３図は本発明の他の実施例の磁気記録媒体対接面を示
す要部拡大平面図である。第４図ないし第１０図は第１図及び第２図に示す磁気ヘ
ッドの製造工程をその工程に従って示す断面図であり、
第４図は第１の切溝加工工程、第５図は強磁性金属薄膜
形成工程、第６図は一方の磁気コア半体を作製するため
のガラス充填及び平面研磨工程、第７図は第２の切溝加
工工程、第８図は他方の磁気コア半体を作製するための
ガラス充填及び平面研磨工程、第９図は第２の切溝加工
工程、第１０図はガラス融着工程をそれぞれ示す。第１１図ないし第１３図は第３図に示す磁気ヘッドの製
造工程をその工程に従って示す断面図であり、第１１図
はガラス充填及び平面研磨工程、第１２図は第２の切溝
加工工程、第１３図はガラス融着工程をそれぞれ示す。第１４図は従来の磁気ヘッドの磁気記録媒体対接面を示
す要部拡大平面図である。 10……磁気ギャップ形成面 11,12 ……磁気コア部 11a,12a ……強磁性薄膜形成面 13,14 ……強磁性金属薄膜 21,22 ……磁気コア半体

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】強磁性酸化物よりなる磁気コア部と、この
磁気コア部に磁気記録媒体対接面で磁気ギャップ形成面
に対して所定角度で傾斜するように被着される強磁性金
属薄膜とから磁気コア半体が構成され、上記強磁性金属
薄膜同士を略一直線状に突き合わせることにより磁気ギ
ャップが構成されてなる磁気ヘッドにおいて、一方の磁気コア半体に形成される強磁性金属薄膜の磁気
ギャップ形成面における幅をトラック幅と等しくし、他
方の磁気コア半体に形成される強磁性金属薄膜の磁気ギ
ャップ形成面における幅をトラック幅よりも大きくした
ことを特徴とする磁気ヘッド。