JPH0371660A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPH0371660A JPH0371660A JP1209307A JP20930789A JPH0371660A JP H0371660 A JPH0371660 A JP H0371660A JP 1209307 A JP1209307 A JP 1209307A JP 20930789 A JP20930789 A JP 20930789A JP H0371660 A JPH0371660 A JP H0371660A
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- bonding wire
- pad
- lead
- semiconductor device
- semiconductor chip
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/01—Manufacture or treatment
- H10W72/015—Manufacture or treatment of bond wires
- H10W72/01515—Forming coatings
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/551—Materials of bond wires
- H10W72/552—Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver
- H10W72/5522—Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver comprising gold [Au]
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- H10W72/90—Bond pads, in general
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W74/00—Encapsulations, e.g. protective coatings
-
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、半導体チップとリードフレームとがボンディ
ングワイヤで接続された半導体装置に関する。
ングワイヤで接続された半導体装置に関する。
〈従来の技術〉
従来のこの種の半導体装置について第4図及び第5図を
参照しつつ説明する。
参照しつつ説明する。
この種の半導体装置は、半導体チップ10と、リードフ
レーム30と、半導体チップIOのパッド11とリード
フレーム30のインナリード312 とを接続するボン
ディングワイヤ20と、リードフレーム30のアウタリ
ード311以外の部分、すなわち半導体チップ10、ボ
ンディングワイヤ20及びインナリード312を封止す
る封止用樹脂40とから構成されている。
レーム30と、半導体チップIOのパッド11とリード
フレーム30のインナリード312 とを接続するボン
ディングワイヤ20と、リードフレーム30のアウタリ
ード311以外の部分、すなわち半導体チップ10、ボ
ンディングワイヤ20及びインナリード312を封止す
る封止用樹脂40とから構成されている。
リードフレーム30は、半導体チップ10がダイボンデ
ィングされるダイパッド32と、リード部31とからな
り、リード部31の先端は図示しない基板の配線パター
ンに接続されるアウタリード311、後端はインナリー
ド312となっている。このようなリードフレーム30
は、エツチング加工によって形成される。
ィングされるダイパッド32と、リード部31とからな
り、リード部31の先端は図示しない基板の配線パター
ンに接続されるアウタリード311、後端はインナリー
ド312となっている。このようなリードフレーム30
は、エツチング加工によって形成される。
半導体チップ10は、前記ダイパッド32にダイボンデ
ィングされ、半導体チップ10のパッド11とインナリ
ード312とがボンディングワイヤ20によって接続さ
れる。そして、アウタリード311以外の部分が封止用
樹脂40によって封止されて半導体装置が形成される。
ィングされ、半導体チップ10のパッド11とインナリ
ード312とがボンディングワイヤ20によって接続さ
れる。そして、アウタリード311以外の部分が封止用
樹脂40によって封止されて半導体装置が形成される。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、上述した従来の半導体装置には以下のよ
うな問題点がある。
うな問題点がある。
すなわち、リード部31の数が多いいわゆる多ビン構造
の半導体装置では、リードフレーム30のインナリード
312とダイパッド32との間の距離を短く設定するこ
とが困難になっている。これは、エツチング加工技術の
限界に起因している。
の半導体装置では、リードフレーム30のインナリード
312とダイパッド32との間の距離を短く設定するこ
とが困難になっている。これは、エツチング加工技術の
限界に起因している。
例えば、100ビン以上の半導体装置では、パッド11
とインナリード312との距離が3.511In以上に
なるので、ボンディングワイヤ20はリード部31の数
が少ない半導体装置より長いものを使用しなければなら
ない。かかるボンディングワイヤ20は、封止用樹脂4
0の封止時に流れ込む封止用樹脂40の圧力のため、ワ
イヤ流れ(封止用樹脂40の注入時の圧力によるボンデ
ィングワイヤ20の変形をいう)が発生しやすい。かか
るワイヤ流れは、第5図に示す半導体チップ10−ボン
ディングワイヤ20(第5図のA部参照)、ボンディン
グワイヤ20ボンデイングワイヤ20(第5図のB部参
照)、インナリード312−ボンディングワイヤ20
(第5図のC部参照)の如き短絡不良の発生原因となる
。
とインナリード312との距離が3.511In以上に
なるので、ボンディングワイヤ20はリード部31の数
が少ない半導体装置より長いものを使用しなければなら
ない。かかるボンディングワイヤ20は、封止用樹脂4
0の封止時に流れ込む封止用樹脂40の圧力のため、ワ
イヤ流れ(封止用樹脂40の注入時の圧力によるボンデ
ィングワイヤ20の変形をいう)が発生しやすい。かか
るワイヤ流れは、第5図に示す半導体チップ10−ボン
ディングワイヤ20(第5図のA部参照)、ボンディン
グワイヤ20ボンデイングワイヤ20(第5図のB部参
照)、インナリード312−ボンディングワイヤ20
(第5図のC部参照)の如き短絡不良の発生原因となる
。
本発明は上記事情に鑑みて創案されたもので、多ビン構
造の半導体装置であってもボンディングワイヤのワイヤ
流れが発生しない半導体装置を提供することを目的とし
ている。
造の半導体装置であってもボンディングワイヤのワイヤ
流れが発生しない半導体装置を提供することを目的とし
ている。
〈課題を解決するための手段〉
本発明に係る半導体装置は、リードフレームのダイパッ
ドにダイボンディングされた半導体チップのパッドと、
リードフレームのリード部のインナリードとがボンディ
ングワイヤで接続され、リード部のアウタリード以外の
部分が封止樹脂で刺止されてなる半導体装置であって、
少なくとも前記パッドとボンディングワイヤとの接続部
分が補強用樹脂で覆われている。
ドにダイボンディングされた半導体チップのパッドと、
リードフレームのリード部のインナリードとがボンディ
ングワイヤで接続され、リード部のアウタリード以外の
部分が封止樹脂で刺止されてなる半導体装置であって、
少なくとも前記パッドとボンディングワイヤとの接続部
分が補強用樹脂で覆われている。
く作用〉
補強用樹脂で少なくともボンディングワイヤとパッドと
の接続部分を覆う。補強用樹脂で覆われた部分は、ワイ
ヤ流れが発生しない。
の接続部分を覆う。補強用樹脂で覆われた部分は、ワイ
ヤ流れが発生しない。
〈実施例〉
以下、図面を参照して本発明に係る一実施例を説明する
。
。
第1図は本発明の一実施例に係る半導体装置の概略的断
面図、第2図及び第3図は他の実施例に係る半導体装置
の概略的断面図である。なお、従来のものと略同−の部
品等には同一の符号を付して説明を行う。
面図、第2図及び第3図は他の実施例に係る半導体装置
の概略的断面図である。なお、従来のものと略同−の部
品等には同一の符号を付して説明を行う。
本実施例に係る半導体装置は、リードフレーム30のダ
イパッド32にダイボンディングされた半導体チップ1
0のバッド11と、リードフレーム30のリード部31
のインナリード312とがボンディングワイヤ20で接
続され、リード部31のアウタリード311以外の部分
が封止用樹脂40で封止されている。
イパッド32にダイボンディングされた半導体チップ1
0のバッド11と、リードフレーム30のリード部31
のインナリード312とがボンディングワイヤ20で接
続され、リード部31のアウタリード311以外の部分
が封止用樹脂40で封止されている。
まず、第1図を参照しつつ本発明の一実施例に係る半導
体装置の製造工程について説明する。
体装置の製造工程について説明する。
まず、半導体チップIOをグイバッド32にダイボンデ
ィングし、当該半導体チップ10のバッド11とリード
部31のインナリード312との間を金線等のボンディ
ングワイヤ20で接続する。
ィングし、当該半導体チップ10のバッド11とリード
部31のインナリード312との間を金線等のボンディ
ングワイヤ20で接続する。
次に、補強用樹脂50を半導体チップ10の上全面に滴
下して、ボンディングワイヤ20とパッドHとの接続部
分を覆って補強する。前記補強用樹脂50は、エポキシ
系樹脂を加熱して液状にしたものであって、滴下後に熱
硬化させる。また、固形の補強用樹脂50を少なくとも
ボンディングワイヤ20とバッド11との接続部分に載
せ、熱溶解、熱硬化させることによって両者を覆っても
よい。
下して、ボンディングワイヤ20とパッドHとの接続部
分を覆って補強する。前記補強用樹脂50は、エポキシ
系樹脂を加熱して液状にしたものであって、滴下後に熱
硬化させる。また、固形の補強用樹脂50を少なくとも
ボンディングワイヤ20とバッド11との接続部分に載
せ、熱溶解、熱硬化させることによって両者を覆っても
よい。
この後に、アウタリード311以外の部分、すなわち半
導体チップ10、ボンディングワイヤ20及びインナリ
ード312を封止用樹脂40でもって封止する。この封
止用樹脂40は、例えばエポキシ系樹脂であって、封止
された半導体チップ10等を外部の雰囲気から保護する
役割を果たす。
導体チップ10、ボンディングワイヤ20及びインナリ
ード312を封止用樹脂40でもって封止する。この封
止用樹脂40は、例えばエポキシ系樹脂であって、封止
された半導体チップ10等を外部の雰囲気から保護する
役割を果たす。
第2図に示す実施例では、補強用樹脂50が半導体チッ
プ10の上全面のみならず、ダイパッド32にも滴下さ
れている。
プ10の上全面のみならず、ダイパッド32にも滴下さ
れている。
次に、ボンディングワイヤ20の全体が補強用樹脂50
で覆われた半導体装置について第3図を参照しつつ説明
する。
で覆われた半導体装置について第3図を参照しつつ説明
する。
かかる半導体装置では、リード部31とダイパッド32
との間の隙間から補強用樹脂50が流れ落ちないように
、リード部31とダイパッド32との間の隙間に例えば
ポリイミド等からなるフィルム60を貼付しておく。
との間の隙間から補強用樹脂50が流れ落ちないように
、リード部31とダイパッド32との間の隙間に例えば
ポリイミド等からなるフィルム60を貼付しておく。
なお、半導体チップIOのダイパッド32へのダイボン
ディング、ボンディングワイヤ20によるパッド11と
インナリード312との接続或いは封止用樹脂40によ
る封止は上述した実施例と同様なので説明は省略する。
ディング、ボンディングワイヤ20によるパッド11と
インナリード312との接続或いは封止用樹脂40によ
る封止は上述した実施例と同様なので説明は省略する。
なお、第1図及び第2図に示した実施例においては、補
強用樹脂50は半導体チップ10或いはダイパッド32
から流れ落ちない適宜量だけ滴下するものとする。
強用樹脂50は半導体チップ10或いはダイパッド32
から流れ落ちない適宜量だけ滴下するものとする。
〈発明の効果〉
本発明に係る半導体装置は、補強用樹脂で少なくともパ
ッドとボンディングワイヤとの接続部分が補強された後
に、アウタリード以外の部分を封止用樹脂で封止して構
成されているので、封止用樹脂を注入する際の圧力によ
るワイヤ流れは発生しない、従って、多ピン構造の半導
体装置であっても短絡不良がない信頼性の高い半導体装
置とすることができる。具体的には200ピン以上の半
導体装置であっても短絡不良が発生しない。
ッドとボンディングワイヤとの接続部分が補強された後
に、アウタリード以外の部分を封止用樹脂で封止して構
成されているので、封止用樹脂を注入する際の圧力によ
るワイヤ流れは発生しない、従って、多ピン構造の半導
体装置であっても短絡不良がない信頼性の高い半導体装
置とすることができる。具体的には200ピン以上の半
導体装置であっても短絡不良が発生しない。
すなわち、第1図或いは第2図に示す半導体装置による
と、ボンディングワイヤとパッドとの接続部分が補強用
樹脂で覆われるので、少なくとも第5図のA部に示す半
導体チップ−ボンディングワイヤの短絡が発生しない。
と、ボンディングワイヤとパッドとの接続部分が補強用
樹脂で覆われるので、少なくとも第5図のA部に示す半
導体チップ−ボンディングワイヤの短絡が発生しない。
また、第3図に示す半導体装置によると、第5図に示す
A部のみならず、B部、C部に示すボンディングワイヤ
ーボンディングワイヤ、ボンディングワイヤーインナリ
ードの短絡不良が発生しない。
A部のみならず、B部、C部に示すボンディングワイヤ
ーボンディングワイヤ、ボンディングワイヤーインナリ
ードの短絡不良が発生しない。
第1図は本発明の一実施例に係る半導体装置の概略的断
面図、第2図及び第3図は他の実施例に係る半導体装置
の概略的断面図、第4図は従来の半導体装置の概略的断
面図、第5図は従来の半導体装置の問題点を示す模式的
斜視図である。 10・・・半導体チップ、11・・・パッド、20・・
ボンディングワイヤ、30・・・リードフレーム、31
・・・リード部、311 ・・・アウタリード、31
2 ・ ・ ・インナリード、32・ ・ ・ダイパ
ッド、40・・・封止用樹脂、50・・・補強用樹脂。
面図、第2図及び第3図は他の実施例に係る半導体装置
の概略的断面図、第4図は従来の半導体装置の概略的断
面図、第5図は従来の半導体装置の問題点を示す模式的
斜視図である。 10・・・半導体チップ、11・・・パッド、20・・
ボンディングワイヤ、30・・・リードフレーム、31
・・・リード部、311 ・・・アウタリード、31
2 ・ ・ ・インナリード、32・ ・ ・ダイパ
ッド、40・・・封止用樹脂、50・・・補強用樹脂。
Claims (1)
- (1)リードフレームのダイパッドにダイボンディング
された半導体チップのパッドと、リードフレームのリー
ド部のインナリードとがボンディングワイヤで接続され
、リード部のアウタリード以外の部分が封止用樹脂で封
止されてなる半導体装置において、少なくとも前記パッ
ドとボンディングワイヤとの接続部分が補強用樹脂で覆
われていることを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1209307A JPH0371660A (ja) | 1989-08-10 | 1989-08-10 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1209307A JPH0371660A (ja) | 1989-08-10 | 1989-08-10 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0371660A true JPH0371660A (ja) | 1991-03-27 |
Family
ID=16570790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1209307A Pending JPH0371660A (ja) | 1989-08-10 | 1989-08-10 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0371660A (ja) |
-
1989
- 1989-08-10 JP JP1209307A patent/JPH0371660A/ja active Pending
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