JPH0371691B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0371691B2 JPH0371691B2 JP58076509A JP7650983A JPH0371691B2 JP H0371691 B2 JPH0371691 B2 JP H0371691B2 JP 58076509 A JP58076509 A JP 58076509A JP 7650983 A JP7650983 A JP 7650983A JP H0371691 B2 JPH0371691 B2 JP H0371691B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conversion element
- light beam
- hologram
- wavefront conversion
- scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/106—Scanning systems having diffraction gratings as scanning elements, e.g. holographic scanners
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
- G02B27/0031—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration for scanning purposes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(a) 発明の技術分野
本発明は光ビーム走査装置に係り、とくにホロ
グラムによる回折効果を用いる光ビーム走査装置
に関する。
グラムによる回折効果を用いる光ビーム走査装置
に関する。
(b) 技術の背景
近年、POS（Point−of−sale）システムにおけ
るバーコード読取装置、あるいはレーザプリンタ
等においてホログラムによる回折効果を利用した
光ビーム走査方式が用いられている。
るバーコード読取装置、あるいはレーザプリンタ
等においてホログラムによる回折効果を利用した
光ビーム走査方式が用いられている。
この方式によれば、従来の回転ミラーを用いる
光ビーム走査方式に比して高速の走査が可能であ
り、また広い走査幅を得るための光学系の構成が
比較的小型かつ簡単になる等の利点を得ることが
できる。
光ビーム走査方式に比して高速の走査が可能であ
り、また広い走査幅を得るための光学系の構成が
比較的小型かつ簡単になる等の利点を得ることが
できる。
上記のようなホログラムを利用した光ビーム走
査方式を用いる装置においては、例えばレーザプ
リンタ等に見られるように、一般に走査面におけ
る光ビームに高い解像度が要求され、走査光ビー
ム径を可及的に小さくすることが必要とされるの
であるが、広い走査幅を得るために該走査面とホ
ログラムデイスクとの間の距離を大きくすると解
像度が低下する傾向がある。
査方式を用いる装置においては、例えばレーザプ
リンタ等に見られるように、一般に走査面におけ
る光ビームに高い解像度が要求され、走査光ビー
ム径を可及的に小さくすることが必要とされるの
であるが、広い走査幅を得るために該走査面とホ
ログラムデイスクとの間の距離を大きくすると解
像度が低下する傾向がある。
(c) 従来技術と問題点
本発明者等は、ホログラムの作成時に感光面に
入射する平面波を垂直方向からずらすことによつ
て上記解像度の低下を改善可能なことを見出した
（特開昭53−75950）。さらに本発明らは、走査面
上における光ビーム結像点を点光源とする発散波
を走査用ホログラムに逆方向に照射して得られる
回折波と、別の波面との干渉によつて形成された
ホログラムを波面変換素子として用い、光ビーム
を該波面変換素子を介して走査用ホログラムに対
して入射させることによつて非点収差を低減する
方法を提案した（特願昭57−54448）。
入射する平面波を垂直方向からずらすことによつ
て上記解像度の低下を改善可能なことを見出した
（特開昭53−75950）。さらに本発明らは、走査面
上における光ビーム結像点を点光源とする発散波
を走査用ホログラムに逆方向に照射して得られる
回折波と、別の波面との干渉によつて形成された
ホログラムを波面変換素子として用い、光ビーム
を該波面変換素子を介して走査用ホログラムに対
して入射させることによつて非点収差を低減する
方法を提案した（特願昭57−54448）。
一方、光源として半導体レーザを用いた場合、
該半導体レーザ素子の温度変化によつて出力光の
波長が変動し、その結果、走査面上での光ビーム
位置が変動し、走査精度が低下する点が問題とさ
れ、その解決方法として、ホログラムデイスクに
よる光ビーム回折方向と逆傾向の方向に光ビーム
を回折する機能を付されたホログラム板を該レー
ザ光源と該ホログラムデイスクの間に定置する方
法が提案されている（特公昭56−70517）。
該半導体レーザ素子の温度変化によつて出力光の
波長が変動し、その結果、走査面上での光ビーム
位置が変動し、走査精度が低下する点が問題とさ
れ、その解決方法として、ホログラムデイスクに
よる光ビーム回折方向と逆傾向の方向に光ビーム
を回折する機能を付されたホログラム板を該レー
ザ光源と該ホログラムデイスクの間に定置する方
法が提案されている（特公昭56−70517）。
上記従来の方法においては、前記波面変換素子
の作成およびこれを用いた走査において特別な光
学系を用意する必要があること、あるいは前記ホ
ログラム板に対して光ビームを垂直に入射させる
ように走査装置を構成する必要があること等のた
めに、装置がコスト高になり、また、使用条件に
対する制約を生じる等、実用化上障害となる欠点
を有していた。
の作成およびこれを用いた走査において特別な光
学系を用意する必要があること、あるいは前記ホ
ログラム板に対して光ビームを垂直に入射させる
ように走査装置を構成する必要があること等のた
めに、装置がコスト高になり、また、使用条件に
対する制約を生じる等、実用化上障害となる欠点
を有していた。
(d) 発明の目的
本発明は上記従来の方法における問題点を解決
し、かつ走査面における収差の発生および半導体
レーザ光源の波長変動に基づく走査位置変動の双
方が防止された光ビーム走査装置を提供可能とす
ることを目的とする。
し、かつ走査面における収差の発生および半導体
レーザ光源の波長変動に基づく走査位置変動の双
方が防止された光ビーム走査装置を提供可能とす
ることを目的とする。
(e) 発明の構成
本発明は、ホログラムフアセツトから構成され
るホログラムデイスクを用いる光ビーム走査装置
において、該ホログラムフアセツトと同一のホロ
グラムが形成された波面変換素子を光源と該ホロ
グラムデイスクとの間に固定して設け、該波面変
換素子を介して該ホログラムデイスクに走査用光
ビームを入射させることを主たる特徴とし、この
場合、ホログラムデイスクと該波面変換素子とを
平行かつ近接させ、かつまた該波面変換素子に対
する入射ビームを該ホログラムデイスクからの出
射ビームの方向から微少角ずらして入射させるこ
とによつて、あるいは該波面変換素子に対する入
射ビームをホログラムデイスクからの出射ビーム
の照射点近傍に集束するビームとするか、あるい
はまたホログラムデイスクと該波面変換素子との
間にその透過率が入射角に対して依存性を有する
フイルタを設けることによつて、透過光（０次回
折光）を分離可能とすることを特徴とする。
るホログラムデイスクを用いる光ビーム走査装置
において、該ホログラムフアセツトと同一のホロ
グラムが形成された波面変換素子を光源と該ホロ
グラムデイスクとの間に固定して設け、該波面変
換素子を介して該ホログラムデイスクに走査用光
ビームを入射させることを主たる特徴とし、この
場合、ホログラムデイスクと該波面変換素子とを
平行かつ近接させ、かつまた該波面変換素子に対
する入射ビームを該ホログラムデイスクからの出
射ビームの方向から微少角ずらして入射させるこ
とによつて、あるいは該波面変換素子に対する入
射ビームをホログラムデイスクからの出射ビーム
の照射点近傍に集束するビームとするか、あるい
はまたホログラムデイスクと該波面変換素子との
間にその透過率が入射角に対して依存性を有する
フイルタを設けることによつて、透過光（０次回
折光）を分離可能とすることを特徴とする。
(f) 発明の実施例
以下に本発明の実施例を図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本発明に係る光ビーム走査装置の概要
構成を示す図であつて、例えば半導体レーザ等の
光源（図示省略）から出射され、レンズ（図示省
略）によつて集束された光ビーム１が軸Ｘ−Ｘを
中心として矢印方向に回転するホログラムデイス
ク２に入射し、ここで走査面３、例えばレーザプ
リンタにおける静電記録用ドラム方向に回折さ
れ、符号３１で示したように走査線上を移動す
る。一般に光ビーム走査装置においては、走査面
上で光ビームを高速度で反復走査する必要から、
該ホログラムデイスク２は符号２１で示したよう
なフアセツトと称される部分から構成されてお
り、ホログラムデイスク２の回転にともなつて光
ビーム１の照射位置を該フアセツト２１が通過す
るごとに１走査が行われる。なお、レーザプリン
タにおけるように、光ビームが走査面３上で同一
方向の直線上を反復走査される場合には、ホログ
ラムデイスク２上に同一のフアセツト２１が配置
されることになる。
構成を示す図であつて、例えば半導体レーザ等の
光源（図示省略）から出射され、レンズ（図示省
略）によつて集束された光ビーム１が軸Ｘ−Ｘを
中心として矢印方向に回転するホログラムデイス
ク２に入射し、ここで走査面３、例えばレーザプ
リンタにおける静電記録用ドラム方向に回折さ
れ、符号３１で示したように走査線上を移動す
る。一般に光ビーム走査装置においては、走査面
上で光ビームを高速度で反復走査する必要から、
該ホログラムデイスク２は符号２１で示したよう
なフアセツトと称される部分から構成されてお
り、ホログラムデイスク２の回転にともなつて光
ビーム１の照射位置を該フアセツト２１が通過す
るごとに１走査が行われる。なお、レーザプリン
タにおけるように、光ビームが走査面３上で同一
方向の直線上を反復走査される場合には、ホログ
ラムデイスク２上に同一のフアセツト２１が配置
されることになる。
本発明の光ビーム走査装置においては、ホログ
ラムデイスク２に平行かつ近接して波面変換素子
４が設けられている。該波面変換素子４は前記フ
アセツト２１と同一のホログラムが形成されてお
り、光ビーム１の光路上に固定されている。第２
図は波面変換素子４近傍を中心とした断面におけ
る光ビーム１の光路を示した図であつて、入射光
ビーム１は波面変換素子４で回折され、回折光１
１となる。該回折光１１はホログラムデイスク２
上のフアセツト２１に入射してさらに回折され、
回折光１２となる。このように波面変換素子４が
存在することによつて、走査面上における光ビー
ムの非点収差および該光ビームの波長変動に基づ
く走査位置の変動が防止されるのである。以下に
その原理を詳細に説明する。
ラムデイスク２に平行かつ近接して波面変換素子
４が設けられている。該波面変換素子４は前記フ
アセツト２１と同一のホログラムが形成されてお
り、光ビーム１の光路上に固定されている。第２
図は波面変換素子４近傍を中心とした断面におけ
る光ビーム１の光路を示した図であつて、入射光
ビーム１は波面変換素子４で回折され、回折光１
１となる。該回折光１１はホログラムデイスク２
上のフアセツト２１に入射してさらに回折され、
回折光１２となる。このように波面変換素子４が
存在することによつて、走査面上における光ビー
ムの非点収差および該光ビームの波長変動に基づ
く走査位置の変動が防止されるのである。以下に
その原理を詳細に説明する。
第３図に示すように、一般に球面波Ｓをホログ
ラムデイスク２のフアセツト２１に入射させる
と、走査面３上における投射ビームＲには収差
DSを生じる。これを避けるためには、第４図に
示すような、その回折光が走査面上の一点Ｐに集
束するような波面Ｑをフアセツト２１に入射すれ
ばよい。このような波面Ｑを得るには、フアセツ
ト２１に対して出射光波面Ｒと共役な波面Rcを
入射すると、前記波面Ｑと共役な波面Qcが得ら
れることを利用すればよい。すなわち前記波面変
換素子４としてフアセツト２１と同一のホログラ
ムを該フアセツト２１の前に近接して配置し、こ
れに対して前記波面Rcの光束を入射すると、フ
アセツト２１に対して前記波面Qcが入射され、
該波面Qcを波面Ｑに等しいと見なすと、収差の
ない波面Ｒが出射されるのである。なお、波面
Rcとしては通常のレンズ等により得られる集束
光を用いればよい。
ラムデイスク２のフアセツト２１に入射させる
と、走査面３上における投射ビームＲには収差
DSを生じる。これを避けるためには、第４図に
示すような、その回折光が走査面上の一点Ｐに集
束するような波面Ｑをフアセツト２１に入射すれ
ばよい。このような波面Ｑを得るには、フアセツ
ト２１に対して出射光波面Ｒと共役な波面Rcを
入射すると、前記波面Ｑと共役な波面Qcが得ら
れることを利用すればよい。すなわち前記波面変
換素子４としてフアセツト２１と同一のホログラ
ムを該フアセツト２１の前に近接して配置し、こ
れに対して前記波面Rcの光束を入射すると、フ
アセツト２１に対して前記波面Qcが入射され、
該波面Qcを波面Ｑに等しいと見なすと、収差の
ない波面Ｒが出射されるのである。なお、波面
Rcとしては通常のレンズ等により得られる集束
光を用いればよい。
ところで、波面変換素子４を通過した０次回折
光Poが現れるが、フアセツト２１と波面変換素
子４との間隔ｄ、フアセツト２１と波面変換素子
４の平行度、もしくは波面Rcの入射角のいずれ
かを微少量変化させることによつて走査面上にお
ける投射ビームＰ（通常１次回折光）と前記０次
回折光Poとを分離することができるので、第５
図に示すようにスリツト５を設けることによつて
容易にPoを除去できる。
光Poが現れるが、フアセツト２１と波面変換素
子４との間隔ｄ、フアセツト２１と波面変換素子
４の平行度、もしくは波面Rcの入射角のいずれ
かを微少量変化させることによつて走査面上にお
ける投射ビームＰ（通常１次回折光）と前記０次
回折光Poとを分離することができるので、第５
図に示すようにスリツト５を設けることによつて
容易にPoを除去できる。
つぎに、上記波面変換素子４を設けることによ
る、半導体レーザを光源に用いた場合の出射光の
波長変動に基づく走査位置ずれ防止効果の原理を
第６図を用いて説明する。
る、半導体レーザを光源に用いた場合の出射光の
波長変動に基づく走査位置ずれ防止効果の原理を
第６図を用いて説明する。
同図において、いま簡単のためにフアセツト２
１と波面変換素子４とが平行であるとし、波面変
換素子４に対する入射光の波長をλ1および入
射角をθi、波面変換素子４による回折光の出射角
をθq1、フアセツト２１に対する入射角をθj1、ま
たその回折光Ｒの出射角をθr1、また波面変換素
子４およびフアセツト２１のホログラムの空間周
波数をそれぞれfiおよびfjとすると、これらの間
には次式の関係がある。
１と波面変換素子４とが平行であるとし、波面変
換素子４に対する入射光の波長をλ1および入
射角をθi、波面変換素子４による回折光の出射角
をθq1、フアセツト２１に対する入射角をθj1、ま
たその回折光Ｒの出射角をθr1、また波面変換素
子４およびフアセツト２１のホログラムの空間周
波数をそれぞれfiおよびfjとすると、これらの間
には次式の関係がある。
sinθq1＝fiλ1−sinθi ……(1)
sinθr1＝fjλ1−sinθj1 ……(2)
波面変換素子４とフアセツト２１とは平行であ
るから、 sinθq1＝sinθj1 ……(3) したがつて、 sinθr1＝（fi−fj）λ1＋sinθi ……(4) 入射光の波長がλ2となつた場合に、それぞ
れの添字を２で表すとすると、上記と同様にし
て、 sinθr2＝（fi−fj）λ2＋sinθi ……(5) 式(4)および(5)から、 sinθr2＝sin θr1＝（fi−fj）（λ2−λ1） ≡Δf・Δλ ……(6) 波面変換素子４とフアセツト２１とは同一のホ
ログラムであるからΔfは極めて小さい。したが
つて、 θr2≒θr1 ……(7) を得る。すなわち、光源として半導体レーザを用
いた場合にその出射光に波長変動Δλが生じても、
フアセツト２１からの光ビームＲの出射方向の変
動（θr1〜θr2）は極めて小さく、走査面上におけ
る走査位置ずれを低減できることになる。
るから、 sinθq1＝sinθj1 ……(3) したがつて、 sinθr1＝（fi−fj）λ1＋sinθi ……(4) 入射光の波長がλ2となつた場合に、それぞ
れの添字を２で表すとすると、上記と同様にし
て、 sinθr2＝（fi−fj）λ2＋sinθi ……(5) 式(4)および(5)から、 sinθr2＝sin θr1＝（fi−fj）（λ2−λ1） ≡Δf・Δλ ……(6) 波面変換素子４とフアセツト２１とは同一のホ
ログラムであるからΔfは極めて小さい。したが
つて、 θr2≒θr1 ……(7) を得る。すなわち、光源として半導体レーザを用
いた場合にその出射光に波長変動Δλが生じても、
フアセツト２１からの光ビームＲの出射方向の変
動（θr1〜θr2）は極めて小さく、走査面上におけ
る走査位置ずれを低減できることになる。
第４図の説明において波面Ｑと波面Qcとがほ
ぼ等しいと見なしており、第６図における波面変
換素子４とフアセツト２１との間の距離ｄが小さ
いほど本発明の効果が大きくなることを意味す
る。
ぼ等しいと見なしており、第６図における波面変
換素子４とフアセツト２１との間の距離ｄが小さ
いほど本発明の効果が大きくなることを意味す
る。
第７図は本発明の他の実施例を示し、波面変換
素子４とフアセツト２１との間に第８図に示すよ
うな透過率−入射角特性を有するフイルタ６を設
けることにより、波面変換素子４の透過光（０次
回折光）を減衰させる方法であり、フイルタ６は
図示のように波面変換素子４の出射側に接着され
た構造としてもよい。また、該フイルタ６として
は干渉フイルタの適当なものを用いることができ
る。
素子４とフアセツト２１との間に第８図に示すよ
うな透過率−入射角特性を有するフイルタ６を設
けることにより、波面変換素子４の透過光（０次
回折光）を減衰させる方法であり、フイルタ６は
図示のように波面変換素子４の出射側に接着され
た構造としてもよい。また、該フイルタ６として
は干渉フイルタの適当なものを用いることができ
る。
本発明の従来の方法に対する主な利点は、ホロ
グラムを用いた光ビーム走査装置における非点収
差ならびに光源波長の変動に基づく走査精度の低
下をともに減少させることが可能であること、波
面変換素子４として、フアセツト２１とまつたく
同一のホログラムを用いるのでその製造が容易で
あること、光ビームは波面変換素子４に対して垂
直に入射させる必要はなく、かつ波面変換素子４
とフアセツト２１とをほぼ平行に設けるために光
ビーム走査系を小型できかつ構成が容易になるこ
と、さらに以上により光ビーム走査装置の製造コ
ストを低減できること等である。
グラムを用いた光ビーム走査装置における非点収
差ならびに光源波長の変動に基づく走査精度の低
下をともに減少させることが可能であること、波
面変換素子４として、フアセツト２１とまつたく
同一のホログラムを用いるのでその製造が容易で
あること、光ビームは波面変換素子４に対して垂
直に入射させる必要はなく、かつ波面変換素子４
とフアセツト２１とをほぼ平行に設けるために光
ビーム走査系を小型できかつ構成が容易になるこ
と、さらに以上により光ビーム走査装置の製造コ
ストを低減できること等である。
(g) 発明の効果
本発明によれば、高走査精度ならびに高品質の
光ビーム走査を可能な、かつ低コストの光ビーム
走査装置を提供できる効果がある。
光ビーム走査を可能な、かつ低コストの光ビーム
走査装置を提供できる効果がある。
第１図および第２図は本発明に係る光ビーム走
査装置の構成概要を示す図および部分断面におけ
る光路を示す図、第３図から第６図は本発明によ
り非点収差および光源波長変動に基づく走査位置
ずれの発生が防止される原理を説明するための
図、第７図および第８図は本発明の他の実施例を
示す図である。 図において、１は光ビーム、２はホログラムデ
イスク、３は走査面、４は波面変換素子、５はス
リツト、６はフイルタ、１１および１２は回折
光、２１はフアセツト、３１は走査線である。
査装置の構成概要を示す図および部分断面におけ
る光路を示す図、第３図から第６図は本発明によ
り非点収差および光源波長変動に基づく走査位置
ずれの発生が防止される原理を説明するための
図、第７図および第８図は本発明の他の実施例を
示す図である。 図において、１は光ビーム、２はホログラムデ
イスク、３は走査面、４は波面変換素子、５はス
リツト、６はフイルタ、１１および１２は回折
光、２１はフアセツト、３１は走査線である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ホログラムフアセツトから構成されるホログ
ラムデイスクを用いる光ビーム走査装置におい
て、該ホログラムフアセツトと同一のホログラム
が形成された波面変換素子を光源と該ホログラム
デイスクとの間に固定して設け、該波面変換素子
を介して該ホログラムデイスクに走査用光ビーム
を入射させることを特徴とする光ビーム走査装
置。 ２ ホログラムデイスクと該波面変換素子とを平
行かつ近接させ、かつまた該波面変換素子に対す
る入射ビームを該ホログラムデイスクからの出射
ビームの方向から微少角ずらして入射させること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光ビー
ム走査装置。 ３ 該波面変換素子に対する入射ビームをホログ
ラムデイスクからの出射ビームの照射点近傍に集
束するビームとすることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の光ビーム走査装置。 ４ ホログラムデイスクと該波面変換素子との間
にその透過率が入射角に対して依存性を有するフ
イルタを設けることを特徴とする特許請求の範囲
第１項ないし第３項記載の光ビーム走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58076509A JPS59201017A (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | 光ビ−ム走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58076509A JPS59201017A (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | 光ビ−ム走査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59201017A JPS59201017A (ja) | 1984-11-14 |
| JPH0371691B2 true JPH0371691B2 (ja) | 1991-11-14 |
Family
ID=13607218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58076509A Granted JPS59201017A (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | 光ビ−ム走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59201017A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62234118A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-10-14 | Fujitsu Ltd | 光ビ−ム走査装置及びその製造方法 |
| CA1320855C (en) * | 1985-07-31 | 1993-08-03 | Shin-Ya Hasegawa | Laser beam scanner and its fabricating method |
| JPH0617950B2 (ja) * | 1986-03-20 | 1994-03-09 | 富士通株式会社 | 光ビーム走査装置 |
| US5471326A (en) * | 1993-04-30 | 1995-11-28 | Northrop Grumman Corporation | Holographic laser scanner and rangefinder |
| CN109188585B (zh) * | 2018-10-18 | 2021-02-02 | 华北水利水电大学 | 一种用于光学扫描的双结构光栅器件与制作方法 |
-
1983
- 1983-04-30 JP JP58076509A patent/JPS59201017A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59201017A (ja) | 1984-11-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4701005A (en) | Light beam combining method and apparatus | |
| US5625613A (en) | Super-resolution scanning optical system by incoherently superimposing two beams | |
| EP0132956B1 (en) | Light beam scanning apparatus | |
| US7236442B2 (en) | Holographic recording/reproducing apparatus and reproducing apparatus for holographically recorded information | |
| KR20060049884A (ko) | 홀로그램 기록 장치 및 홀로그램 기록 방법 | |
| KR100368493B1 (ko) | 홀로그램 패턴을 이용한 광픽업 장치 및 홀로그램 패턴발생 방법 | |
| JPS59201017A (ja) | 光ビ−ム走査装置 | |
| JP2810281B2 (ja) | 偏光検出装置 | |
| JPH1058743A (ja) | アレイ状光源を備えたスキャナー装置および画像記録装置 | |
| JP3162969B2 (ja) | 光ピックアップ装置 | |
| JPS63191328A (ja) | 光ヘツド装置 | |
| JPH097191A (ja) | 光ピックアップ装置 | |
| JPH10233031A (ja) | 光学ピックアップ装置及びその調整方法 | |
| JP2791449B2 (ja) | ホログラムスキャナ | |
| JPH0560997A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH0519852Y2 (ja) | ||
| JP2740665B2 (ja) | ホログラフィックｆθレンズ作成方法 | |
| JPH04248134A (ja) | 光ピックアップ | |
| JPS5872122A (ja) | 光走査装置 | |
| JPS62234181A (ja) | ホログラム作成方法 | |
| JPH04172627A (ja) | 光ピックアップ装置 | |
| JPS6168741A (ja) | 光ビ−ム合成装置 | |
| JPS5827890B2 (ja) | ビデオデイスク再生装置における光ビ−ム分岐装置 | |
| JPH04204413A (ja) | 光走査装置 | |
| JPS6120228A (ja) | 光学式変位検出装置 |