JPH0371830A - ヒートシール可能なガスバリヤ性フィルムの製造方法 - Google Patents

ヒートシール可能なガスバリヤ性フィルムの製造方法

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JPH0371830A
JPH0371830A JP1209301A JP20930189A JPH0371830A JP H0371830 A JPH0371830 A JP H0371830A JP 1209301 A JP1209301 A JP 1209301A JP 20930189 A JP20930189 A JP 20930189A JP H0371830 A JPH0371830 A JP H0371830A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、食品等の個装、内装、外装等の包装フィルム
εして好適なヒートシール可能なガスバリア性フィルム
に関する。
[従来の技術と発明が解決しようとする課題]従来、菓
子類等の包装材料として、ヒートシール可能なフィルム
が汰く使用されている。このヒートシール可能なフィル
ムとしては、通常、二軸延伸ポリプロビレ:/フィルム
や二袖延伸ポリエチレンテ1ノフタレートフィルム等の
基材フィルムに、無延伸ポリエチレン等からなるヒート
シール層をラミネートしたフィルムや、共押出しポリプ
ロピレンフィルム等が知られている。
一方、菓子類等の食品用包装フィルムには、内容物の吸
湿や酸化等による変質等を防止するため、ガスバリア性
が要求される。しかしながら、従来のフィルムでは、上
記ガスバリア性を基材フィルムの種類により確保してい
るため、ガスバリア性が十分でない。すなわち、基材フ
ィルムがポリプロピレンフィルムである場合には、水蒸
気バリア性を確保できるものの、酸素ガスバリア性が十
分でなく、ポリエチレンテレフタレートフィルムである
場合には、酸素ガスバリア性を確保できるものの、水蒸
気バリア性が十分でない。このように、上記ヒートシー
ル可能なフィルムでは、水蒸気透過率及び酸素ガス透過
率の双方の特性を同時に満足させることが困難であり、
内容物の保護効果が十分でない。
従って、本発明の目的は、水蒸気及び酸素ガスの双方に
対して優れたガスバリア性を示すだけでなく、ヒートシ
ール性に優れたヒートシール可能なガスバリア性フィル
ムを提供することにある。
[発明の構成] 本発明は、基材フィルムにヒートシール層が形成された
フィルムであって、上記ヒートシール層が、ガスバリア
層を介して基材フィルムに積層されているヒートシール
可能なガスバリア性フィルムにより、上記課題を解決す
るものである。
基材フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、エチレ
ン−アクリル酸エチル共重合体、アイオノマー ポリプ
ロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ−4−
メチルペンテン−1等のオレフィン系樹脂;ポリ塩化ビ
ニル;ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン−塩化ビニ
ル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合
体等の塩化ビニリデン系樹脂;ポリスチレン、スチレン
−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニト
リル−ブタジェン共重合体等のスチレン系樹脂;ポリエ
チレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等
のポリエステル;ナイロン6、ナイロン11、ナイロン
66等のナイロン又はポリアミド;ポリアクリロニトリ
ル;ポリカーボネート;ポリイミド;ポリビニルアルコ
ール;エチレン−酢酸ビニル共重合体やそのケン化物;
セロハン;塩酸ゴム等を素材とする種々のフィルムが使
用できる。
上記基材フィルムのうちオレフィン系樹脂を素材とする
フィルム、特にポリプロピレンフィルムや、ポリエステ
ルを素材とするフィルム、特にポリエチレンテレフタレ
ートフィルムは、透明性、機械的強度及び包装適性に優
れている。
基材フィルムは、未延伸であってもよく、−軸又は二軸
延伸処理されていてもよい。延伸法としては、例えばロ
ール延伸、圧延延伸、ベルト延伸、テンター延伸、チュ
ーブ延伸や、これらを組合せた延伸等の慣用の延伸法が
適用できる。延伸倍率は、所望するフィルムの特性に応
じて適宜設定でき、例えば1.5〜20倍、好ましくは
2〜15倍程度である。延伸倍率が1.5倍未満である
と延伸効果が小さく、20倍を越えると過剰な延伸とな
り生産性が低下する。
なお、延伸処理は、フィルムを構成するポリマーの融点
以下であって、二次転移点以上の温度で行なわれる。ま
たフィルムの延伸後、緊張下で熱処理し、分子の配向を
固定させてもよい。
また基材フィルムの少なくとも一方の面は、表面処理さ
れていてもよい。表面処理としては、慣用の表面処理、
例えば、コロナ放電処理、高周波処理、火炎処理、クロ
ム酸処理、溶剤処理等が例示される。これらの表面処理
のうちコロナ放電処理が好ましい。このコロナ放電処理
によると、基材フィルムの表面処理炭を簡便かつ容易に
制御できる。基材フィルムの処理炭は、密着性を確保で
きる範囲であれば特に制限されないが、通常35〜50
dyn/C111、好ましくは37〜45dyn /a
m程度である。なお、基材フィルムの面のうち表面処理
面にガスバリア層及びヒートシール層を形成すると、密
着性を高めることができる。またガスバリア層及びヒー
トシール層が形成されていない面を表面処理すると、該
表面処理面で印刷インキやラミネート層との密着性を確
保できる。
上記基材フィルムは酸化防止剤、紫外線吸収剤、結晶造
核剤、滑剤、染料顔料等の種々の添加剤を含有していて
もよい。
基材フィルムは単層フィルムであってもよく、二種以上
のフィルムが積層された複合フィルムであってもよい。
基材フィルムの厚みは特に制限されず、例えば、厚み1
〜250μ、好ましくは5〜100/ff程度の基材フ
ィルムが使用できる。
上記基材フィルムには、ガスバリア層を介してヒートシ
ール層が積層されている。従って、中間層としてのガス
バリア層でガスバリア性を確保でき、表面に位置するヒ
ートシール層でヒートシール性を確保できる。
上記ガスバリア層は塩化ビニリデン系ポリマーを含有し
ている。塩化ビニリデン系ポリマーは、ポリ塩化ビニリ
デン単独重合体であってもよいが、耐熱安定性、耐候安
定性及び皮膜の柔軟性などの点から、塩化ビニリデンと
、他の重合性モノマーとの共重合体が好ましい。重合性
モノマーとしては、例えば、塩化ビニル、酢酸ビニル、
クロトン酸、アクリル酸、メチルアクリレート、エチル
アクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルア
クリレート、ブチルアクリレート、イソブチルアクリレ
ート、tert−ブチルアクリレート、ペンチルアクリ
レート、ヘキシルアクリレート、ヘプチルアクリレート
、オクチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレ
ートなどの各種アクリレート、アクリロニトリル、メタ
クリレートリル、メタクリル酸や、上記アクリレートに
対応するメタクリレートなどが例示される。これらの重
合性モノマーは一種または二種以上使用される。上記共
重合体のうち塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合
体、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリ
デン−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリル
酸共重合体、塩化ビニリデン−メタクリル酸共重合体、
塩化ビニリデン−アクリレート共重合体及び塩化ビニリ
デン−メタクリレート共重合体等の共重合体が好ましい
。これらの塩化ビニリデン系ポリマーは少なくとも一種
使用される。
またヒートシール層は、ヒートシール可能なポリマー、
例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン等の
従来のヒートシール用ポリマーを含有していてもよいが
、前記ガスバリア層との密着性に優れる塩化ビニリデン
系ポリマーを含有するのが好ましい。
すなわち、本発明の好ましい態様は、ガスバリア層とヒ
ートシール層とが共に塩化ビニリデン系ポリマーを含有
する。ガスバリア性に優れた上記ガスバリア層は、塩化
ビニリデン系ポリマーを含有する溶剤型塗布液で形成で
きる。溶剤型塗布液中の有機溶媒は、均一な塗工性やガ
スバリア性を高めるため、良溶媒と貧溶媒とで構成され
るのが好ましい。またガスバリア性は、一般に塩化ビニ
リデン系ポリマーの結晶化度が大きくなるにつれて高く
なり、塩化ビニリデン系ポリマーの結晶化度は良溶媒の
割合と反比例関係にある。従って、塩化ビニリデン系ポ
リマーの種類、すなわち、ポリマーの構成単位等に起因
する結晶化速度等に応じて有機溶媒中の良溶媒と貧溶媒
との割合を調整することにより、ガスバリア性に優れた
層を形成できる。有機溶媒中の良溶媒の割合は、塗布液
の均−性及び塗布性を損わない範囲で少ないのが好まし
く、高いガスバリア性を付与するには、通常、40〜9
0重量%、好ましくは50〜75重量%程度である。
なお、上記塩基ビニリデン系ポリマーに対する良溶媒及
び貧溶媒は、塩基ビニリデン系ポリマーの種類により異
なるので、ポリマーの種類に応じて適宜選択できる。良
溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン
、シクロヘキサノンなどのケトン類、ジオキサン、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類や
これらの混合溶媒が例示できる。
塩基ビニリデン系ポリマーに対する貧溶媒としては、例
えば、メタノール、エタノール、プロパノール等のアル
コール煩、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂環族炭化水
素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
、メチレンクロライド、エチレンクロライドなどのハロ
ゲン化炭化水素、酢酸エチル等のエステル類、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールジエチルエーテル、やこれらの
混合溶媒が例示できる。
またヒートシール層は、ヒートシール性に優れた塩化ビ
ニリデン系ポリマーを含有する塗布液、例えば塩化ビニ
リデン系ポリマーを含有し、良溶媒の割合が大きな溶剤
型塗布液、好ましくはエマルジョン型塩化ビニリデン系
ポリマーの分散液で形成できる。なお、溶剤型塗布液を
用いてヒートシール層を形成する場合、有機溶媒中の良
溶媒の割合が大きい程、ヒートシール性がよくなる。従
って、前記ガスバリア層に含有される塩化ビニリデン系
ポリマーと同じポリマーを用いる場合、該溶剤型塗布液
中の良溶媒の割合は、前記ガスバリア層を形成する有機
溶媒中の良溶媒の割合よりも大きいのが好ましい。良溶
媒は、有機溶媒中、通常65重量%以上である。
ヒートシール層は、上記溶剤型塗布液で形成してもよい
が、水性エマルジョン型分散液で形成するのが好ましい
。すなわち、水性エマルジョン型分散液をガスバリア層
上に塗布すると、ガスバリア層を溶解し浸蝕することな
く、均一なヒートシール層を形成できる。水性エマルジ
ョン型の塩化ビニリデン系ポリマーは、通常、カルボキ
シ基を有する重合性モノマー、例えば、クロトン酸、ア
クリル酸、メタクリル酸と、塩化ビニリデンとを必須の
成分とする共重合体が好ましい。なお、上記共重合体は
、必要に応じて他の共重合性モノマ、例えば、塩化ビニ
ル、酢酸ビニル、アクリレート、アクリロニトリル、メ
タクリレートリル、メタクリレート等の共重合性モノマ
ーとの共重合体であってもよい。
前記ガスバリア層及びヒートシール層は、塩化ビニリデ
ン系ポリマー以外の成分として、他のポリマーを含有し
ていてもよい。上記他のポリマーとしては、例えば、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、アイオ
ノマー等のオレフィン系ポリマー;アクリル系ポリマー
;ポリスチレン、スチレン−アクリル酸エステル共重合
体等ノスチレン系ポリマー;ポリエチレンテレフタレー
ト〜ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル;ポ
リアセタール;ポリ酢酸ビニル;ポリ塩化ビニル;塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体;ポリアミド;ポリウレタ
ン;ポリカーボネート;塩素化ポリプロピレン等の塩素
化ポリオレフィン;セルロース系ポリマー等が例示され
る。これらのポリマーは一種又は二種以上混合して用い
られる。
これらの他のポリマーは、塩化ビニリデン系ポリマーの
特性が低下しない範囲で使用でき、通常、塩化ビニリデ
ン系ポリマー100重量部に対して0〜25重量部程度
である。
また滑り性及び耐ブロッキング性を付与して作業性をよ
くするため、前記ガスバリア層及び/又はヒートシール
層は、滑剤を含有するのが好ましい。
滑剤としては、ワックスや微粉末状滑剤が好ましい。ワ
ックスとしては、例えば、パラフィンワックス、ポリエ
チレンワックス、マイクロクリスタリンワックス等の炭
化水素系ワックス、ステアリン酸、ステアリン酸モノグ
リセリド、ステアリン酸トリグリセリド、ステアリン酸
亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の脂肪酸系ワックス、
オレイン酸アミド、ステアリン酸アミド、エルカ酸アミ
ド、メチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスス
テアリン酸アミド等の脂肪酸アミド系ワックス、カルナ
バワックス等のエステル系ワックス等の種々のワックス
が例示できる。上記ワックスは少なくとも一種使用され
る。ワックスの含有量は、前記塩基ビニリデン系ポリマ
ー100重量部に対して、通常、0.1〜10重量部、
好ましくは0.25〜5重量部、さらに好ましくは0.
5〜2.5重量部程度である。ワックスの量が0゜1重
量部未満であると滑り性が十分でなく、10重量部を越
えると塗膜の透明性等が低下し易い。
微粉末状滑剤としては、例えば、カオリン、タルク、ケ
イソウ土、酸化チタン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシ
ウム、硫酸バリウム、シリカ、アルミナ等の無機滑剤;
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリ
ル樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂等の有機滑剤
;アルミナバルフ、シリカバルーン、発泡ガラス、マイ
クロバルーン)サランマイクロスフェア等の微小中空体
が例示される。これらの微粉末状滑剤のうちシリカ系微
粉末、アルミナ系微粉末、ポリエチレン系微粉末、アク
リル系微粉末等が好ましい。微粉末状滑剤は塗膜の透明
性やガスバリア性等を損わない範囲で適宜の粒径を有し
ていてもよいが、5μ以下であるのが好ましい。粒径が
5μmを越えると滑剤が欠落し易くなり、作業性が低下
する。微粉末状滑剤の含有量は、塩化ビニリデン系ポリ
マー100重量部に対して、通常、0.01〜5重量部
、好ましくは0.05〜2.5重量部である。微粉末状
滑剤の使用量が0.01重量部未満であると滑り性が十
分でなく、5重量部を越えると塗膜の透明性等が低下し
易い。
なお、ガスバリア層及び/又はヒートシール層は、酸化
防止剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、可塑剤、帯電防止剤
、粘着付与剤、可塑剤、充填剤、染顔料等の種々の添加
剤を含有していてもよい。
上記ガスバリア層及びヒートシール層は、ガスバリア性
やヒートシール性を損わない範囲で適宜の膜厚に形成で
きるが、通常、それぞれ膜厚0゜01〜5μ、好ましく
は0.1〜3μ程度である。
膜厚がo、oiIt@未満であると高いガスバリア性及
びヒートシール性を付与するのが困難であり、5−を越
えると経済的でないばかりか、場合によっては基材フィ
ルムの特性が低下する虞がある。
むお、ガスバリア層及びヒートシール層は、基材フィル
ムの少なくとも一方の面に形成されていればよい。
本発明のヒートシール可能なガスバリア性フィルムは、
表面にヒートシール層が位置するので、従来慣用の方法
、例えばビロー成形、四方シール等により容易に袋体を
形成できる。
ガスバリア層及びヒートシール層は、基材フィルムに、
ガスバリア層用塗布剤とヒートシール層用塗布剤とを順
次塗布し、乾燥することにより形成できる。塗布手段と
しては、特に制限されず、従来慣用の手段、例えば、デ
ツプコーター ロールコータ−グラビアコーター、エア
ーナイフコーター スプレー等が使用できる。
[発明の効果] 以上のように、本発明のヒートシール可能なガスバリア
性フィルムによれば、ヒートシール層が、ガスバリア層
を介して基材フィルムに積層されているので、基材フィ
ルムに依存することなく、ガスバリア層により水蒸気及
び酸素ガスの双方に対して優れたガスバリア性を確保で
きるだけでなく、表面のヒートシール層により優れたヒ
ートシール性を確保できる。
[実施例] 以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明する
実施例1 塩化ビニリデン(90重量%)−アクリル酸エステル(
10重量%)共重合体100重量部、融点78℃のワッ
クス1重量部、及び平均粒径3μのシリカ微粉末0,1
重量部を、テトラヒドロフラン/トルエン−70/30
 (重量比)の混合溶媒に混合しガスバリア要用塗布液
を調製した。
この塗布液を、厚み20/ffiの二軸延伸ポリプロピ
レンフィルムの一方の面に、ロールコータ−を用いて、
乾燥後の塗布量3.0g/〆となるように塗布し、乾燥
することによりガスバリア層を形成した。
次いで、塩化ビニリデン(85重量%)−メタクリル酸
(15重量%)共重合体を含む水性エマルジョンの固形
分100重量部に対して、融点78℃のワックス1重量
部、及び平均粒径3μのシリカ微粉末0.1重量部を添
加混合し、ヒートシール層用塗布液を調製した。このヒ
ートシール層用塗布液を、上記ガスバリア層上に、乾燥
後の塗布量3.0g/m’となるように塗布し、乾燥す
ることによりヒートシール層を形成した。
実施例2 有機溶媒の組成をテトラヒドロフラン/トルエン−60
/40(重量比)とする以外、実施例1と同様にしてガ
スバリア要用塗布液を調製した。
上記ガスバリア要用塗布液と実施例1のヒートシール層
用塗布液とを用い、実施例1と同様にして、二軸延伸ポ
リプロピレンフィルムにガスバリア層とヒートシール層
とを順次形成した。
実施例3 実施例1のガスバリア要用塗布液に代えて、塩化ビニリ
デン(89%重量)−アクリロニトリル(11重量%)
100重量部、融点78℃のワックス1重量部、及び平
均粒径3μのシリカ微粉末0.1重量部を含有するカス
バリア要用塗布液を用いる以外、実施例1と同様にして
二軸延伸ポリプロピレンフィルムにガスバリア層とヒー
トシール層とを順次形成した。
実施例4 実施例1の二軸延伸ポリプロピレンフィルムに代えて、
厚み12μの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを用いる以外、実施例1と同様にして、二軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフィルムにガスバリア層とヒ
ートシール層とを順次形成した。
比較例1 実施例1の二軸延伸ポリプロピレンに、無延伸ポリエチ
レンを溶融押出し、ポリエチレンからなる厚み20μ量
のヒートシール層を形成した。
比較例2 実施例4の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィル
ムに、ポリエチレンフィルムをドライラミネートにより
積層し、厚み20μmのヒートシール層を形成した。
そして、各実施例及び比較例で得られたフィルムのヒー
トシール層同士を温度110℃、圧力1に9/cj、圧
着時間1秒の条件でヒートシールした。
そして、ヒートシール部に対応する幅15mmの試料の
ヒートシール強度をテンシロン引張り試験機を用いて測
定した。
また各実施例及び比較例で得られたフィルムの水蒸気透
過率及び酸素ガス透過率を下記の条件で測定した。
酸素ガス透過率:ガスクロマト法(測定器Lyssy 
Gas Perseablity Testlng A
pparatus L−86)により、湿度80%の酸
素ガスと、補償ガスとしてのヘリウムガスとを用いて、
温度20℃で測定した。単位はcc/n?/24時間で
ある。
水蒸気透過率:JIS  Z  0208に準拠し、温
度40℃、相対湿度9′0%RHの条件で測定した。単
位はg/yn’/24時間である。
結果を表に示す。
また実施例1及び比較例1のフィルムを用い、四方シー
ルにより菓子を包装した袋体を作製した。
この袋体を温度30℃、相対湿度80%の雰囲気中に放
置し、該袋体内の水分量を吸水率として測定した。結果
を図に示す。
(以下、余白) 表より明らかなように、比較例1及び比較例2のフィル
ムでは、ガスバリア性が十分でなかった。
これに対して、実施例1〜4のフィルムでは、ヒートシ
ール性及びガスバリア性に優れていた。
また図より明らかなように、比較例1のフィルムよりも
実施例1のフィルムで作製した袋体は、吸水率が著しく
小さかった。
【図面の簡単な説明】
図は実施例と比較例1のフィルムで作製した袋体の吸水
率と経過日数との関係を示すグラフである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  基材フィルムにヒートシール層が形成されたフィルム
    であって、上記ヒートシール層が、ガスバリア層を介し
    て基材フィルムに積層されていることを特徴とするヒー
    トシール可能なガスバリア性フィルム。
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