JPH0375377A - プリント基板のスルーホールメッキ装置 - Google Patents
プリント基板のスルーホールメッキ装置Info
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- JPH0375377A JPH0375377A JP5393490A JP5393490A JPH0375377A JP H0375377 A JPH0375377 A JP H0375377A JP 5393490 A JP5393490 A JP 5393490A JP 5393490 A JP5393490 A JP 5393490A JP H0375377 A JPH0375377 A JP H0375377A
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Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、プリント基板のスルーホールに無電解メッキ
を施す装置に関する。
を施す装置に関する。
(従来の技術)
両面配線のプリント基板は、基板に穿つ孔の内面にメッ
キ層を付着させスルーホールを形成することにより、基
板の両面を導通する。
キ層を付着させスルーホールを形成することにより、基
板の両面を導通する。
スルーホールを形成する場合、伝統的な電気メッキ法に
おいては、孔の内面にあらかじめ無電解メッキにより薄
い導電層を施したのち、その上に電気メッキによりメッ
キ層を付着する。これに比較し無電解メッキ法では、無
電解メッキのみにより孔の内面に所定のメッキ層を仕上
げるので、メッキ層を均質に形成でき工程も短縮できる
利点がある。
おいては、孔の内面にあらかじめ無電解メッキにより薄
い導電層を施したのち、その上に電気メッキによりメッ
キ層を付着する。これに比較し無電解メッキ法では、無
電解メッキのみにより孔の内面に所定のメッキ層を仕上
げるので、メッキ層を均質に形成でき工程も短縮できる
利点がある。
(発明が解決しようとする課B)
しかし無電解メッキの場合、メッキ層の厚さはメッキ液
の温度や濃度によって著しく相違するので、従来では、
伝統的な電気メッキ法に比較してスルーホールのメッキ
層を均一の厚さに付着させることが困難であった。
の温度や濃度によって著しく相違するので、従来では、
伝統的な電気メッキ法に比較してスルーホールのメッキ
層を均一の厚さに付着させることが困難であった。
本発明はこれを改良するもので、無電解メッキ槽中の基
板に対しメッキ液を平行にしかも流速の分布を均等に流
すことにより、基板全面におけるメッキ液の温度および
濃度分布を平均化し、スルーホールのメッキ層を均一の
厚さに形成することを目的とする。
板に対しメッキ液を平行にしかも流速の分布を均等に流
すことにより、基板全面におけるメッキ液の温度および
濃度分布を平均化し、スルーホールのメッキ層を均一の
厚さに形成することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明は、無電解メッキのメッキ槽を多孔板によりふた
つに区画し、その一方にメッキ液循環ラインの液供給側
端部を、また他方にメッキ液循環ラインの液排出側端部
をそれぞれ接続し、スルーホールメッキすべきプリント
基板は、液排出側端部を接続した側のメッキ槽内に、前
記多孔板とは直交する方向に沿い浸漬するという構成で
ある。
つに区画し、その一方にメッキ液循環ラインの液供給側
端部を、また他方にメッキ液循環ラインの液排出側端部
をそれぞれ接続し、スルーホールメッキすべきプリント
基板は、液排出側端部を接続した側のメッキ槽内に、前
記多孔板とは直交する方向に沿い浸漬するという構成で
ある。
(作用)
メッキ槽のメッキ液は、メッキ液循環ラインを経由して
メッキ槽より出てメッキ槽へ戻る。そしてこのように循
環する過程でメッキ液は加温されまた補給されるのであ
るが、本発明では、メッキ槽の多孔板を挟んでメッキ液
循環ラインの液供給側端部と液排出側端部を接続するの
で、メッキ液は必ず多孔板を通過する。
メッキ槽より出てメッキ槽へ戻る。そしてこのように循
環する過程でメッキ液は加温されまた補給されるのであ
るが、本発明では、メッキ槽の多孔板を挟んでメッキ液
循環ラインの液供給側端部と液排出側端部を接続するの
で、メッキ液は必ず多孔板を通過する。
そして多孔板を通過する際、ノー2キ遁の流速は緩和さ
れ分散し、その流速分布が平均化されるうえ、多孔板が
プリント基板に対し直交する方向に沿って設置されてい
るので、多孔板を通過したメッキ液はプリント基板に対
し平行に流れる。
れ分散し、その流速分布が平均化されるうえ、多孔板が
プリント基板に対し直交する方向に沿って設置されてい
るので、多孔板を通過したメッキ液はプリント基板に対
し平行に流れる。
このためプリント基板表面のメッキ液の温度及び濃度分
布が平均化し、スルーホールのメッキ層の厚さが均一に
なる。
布が平均化し、スルーホールのメッキ層の厚さが均一に
なる。
(実施例)
本発明の実施例を図面に示して説明すると、1は平面が
長方形の無電解銅メッキ槽で、その開放した上面より槽
内に基板収納かご2を吊り下げ、かご内の基板3をメッ
キ槽lの短辺方向に平行に多数設置する。基板3にはあ
らかじめ触媒微粒子を接着塗布し、その上面にレジスト
を配線パターンに従い印刷する。
長方形の無電解銅メッキ槽で、その開放した上面より槽
内に基板収納かご2を吊り下げ、かご内の基板3をメッ
キ槽lの短辺方向に平行に多数設置する。基板3にはあ
らかじめ触媒微粒子を接着塗布し、その上面にレジスト
を配線パターンに従い印刷する。
そしてメッキ槽1の一方の長辺を構成する背面板4に向
けその底板5を緩く傾斜させ、背面板4に近い底板5の
最深部に底面排出口6を複数個開口すると共に、背面板
4には底面排出口6の上方にのぞむ位置に底面排出口6
と同数の背面排出口7を開口する。
けその底板5を緩く傾斜させ、背面板4に近い底板5の
最深部に底面排出口6を複数個開口すると共に、背面板
4には底面排出口6の上方にのぞむ位置に底面排出口6
と同数の背面排出口7を開口する。
次にこれら複数個の各底面排出口6を合流して1台の主
循環ポンプ8の吸引側に配管し、その吐出側をフィルタ
9を経てミキシングチャンバ10の入口に配管する。1
1は自動液補給器で、その排出管11aをミキシングチ
ャンバ10に連結し、ミキシングチャンバ10の出口は
合流管12を経て供給管13に配管する。
循環ポンプ8の吸引側に配管し、その吐出側をフィルタ
9を経てミキシングチャンバ10の入口に配管する。1
1は自動液補給器で、その排出管11aをミキシングチ
ャンバ10に連結し、ミキシングチャンバ10の出口は
合流管12を経て供給管13に配管する。
14は、メッキ槽1の他方の長辺を構成する正面板15
に対し平行に槽内に設置する多孔板で、この多孔板14
と正面板15の間に供給管13の開口端を取付ける。
に対し平行に槽内に設置する多孔板で、この多孔板14
と正面板15の間に供給管13の開口端を取付ける。
また複数個の背面排出口7を合流して1台の熱交系ポン
プ16の吸引側に配管し、その吐出側を公知の熱交換器
17より上述の合流管12を経て供給管13に配管する
。熱交換器17はその流入側から流出側に至る多数本の
プラスチックチューブ17aを外筒17bに内装する構
造で、外筒17bに水蒸気または温水を注入することに
よりチューブ17a内の流体を加熱したり、あるいは冷
水を注入してチューブ17aの流体を冷却する。
プ16の吸引側に配管し、その吐出側を公知の熱交換器
17より上述の合流管12を経て供給管13に配管する
。熱交換器17はその流入側から流出側に至る多数本の
プラスチックチューブ17aを外筒17bに内装する構
造で、外筒17bに水蒸気または温水を注入することに
よりチューブ17a内の流体を加熱したり、あるいは冷
水を注入してチューブ17aの流体を冷却する。
ここで底面排出口6よりポンプ8.フィルタ9、ミキシ
ングチャンバ10および合流管12を経て供給管13に
至る経路が主循環ラインAであり、背面排出口7よりポ
ンプ16、熱交換器17および合流管12を経て供給管
13に至る経路が熱交ラインBである。そしてこれら主
循環ラインA及び熱交ラインBがメッキ液循環ラインを
構成し、供給管13が前記メッキ液循環ラインの液供給
側端部であり、また底面排出口6及び背面排出口7が前
記メッキ液循環ラインの液排出側端部に該当する。
ングチャンバ10および合流管12を経て供給管13に
至る経路が主循環ラインAであり、背面排出口7よりポ
ンプ16、熱交換器17および合流管12を経て供給管
13に至る経路が熱交ラインBである。そしてこれら主
循環ラインA及び熱交ラインBがメッキ液循環ラインを
構成し、供給管13が前記メッキ液循環ラインの液供給
側端部であり、また底面排出口6及び背面排出口7が前
記メッキ液循環ラインの液排出側端部に該当する。
18はメッキ槽lの底部にその短辺方向に沿い多数本等
間隔に並設する散気管で、図示しないエアポンプに接続
し、管壁に穿つ多数の小孔より無数の気泡を槽内に平均
に供給し、後述する無電解銅メッキ液の過剰な液分解を
抑制する。
間隔に並設する散気管で、図示しないエアポンプに接続
し、管壁に穿つ多数の小孔より無数の気泡を槽内に平均
に供給し、後述する無電解銅メッキ液の過剰な液分解を
抑制する。
19はメッキ槽lにメッキ液を新規注入する注入管で、
図示しない液タンクに接続する。
図示しない液タンクに接続する。
しかして注入管19よりメッキ槽1に、低温で不活性状
態の無電解銅メッキ液を規定量注入する。無電解メッキ
液は、硫酸鋼と力性ソーダの混合液を主体にこれにホル
マリン、エチレンジアミンテトラアシドおよび添加液を
純水で溶かした溶液を混合したもので、所定温度を越え
る高温で活性化して液分解し、それ以下の低温で不活性
状態を保つ、なお、ニッケルメッキする場合には、無電
解鋼メッキ液の代りに無電解ニッケルメッキ液を使用す
ればよい。
態の無電解銅メッキ液を規定量注入する。無電解メッキ
液は、硫酸鋼と力性ソーダの混合液を主体にこれにホル
マリン、エチレンジアミンテトラアシドおよび添加液を
純水で溶かした溶液を混合したもので、所定温度を越え
る高温で活性化して液分解し、それ以下の低温で不活性
状態を保つ、なお、ニッケルメッキする場合には、無電
解鋼メッキ液の代りに無電解ニッケルメッキ液を使用す
ればよい。
液注入後、ポンプ8および16を駆動し、槽内のメー、
キ液を底面排出06および背面排出口7より排出し、主
循環ラインAおよび熱交ラインBを経て、これらメッキ
液循環ラインの液供給側端部である供給管13より、ふ
たたびメッキ槽lへ戻す。
キ液を底面排出06および背面排出口7より排出し、主
循環ラインAおよび熱交ラインBを経て、これらメッキ
液循環ラインの液供給側端部である供給管13より、ふ
たたびメッキ槽lへ戻す。
供給管13の液は、多孔板14によりその流速を緩和し
つつ多孔板14の全面より分散し、各基板3の表裏をそ
の板面に平行に均一の流速で流れて槽内を横断し、供給
管13と反対側の排出口6.7より排出し、これを繰り
返す。
つつ多孔板14の全面より分散し、各基板3の表裏をそ
の板面に平行に均一の流速で流れて槽内を横断し、供給
管13と反対側の排出口6.7より排出し、これを繰り
返す。
ここで排出口はメッキ槽の底面のみならず背面にも開口
するから、多孔板14より流れ出たメッキ液は背面の排
出口7方向へも流れ底面排出口6に集中しない。
するから、多孔板14より流れ出たメッキ液は背面の排
出口7方向へも流れ底面排出口6に集中しない。
従ってメッキ液はメッキ槽全体を横断するように流れ、
メッキ液が一部に停滞することがない。
メッキ液が一部に停滞することがない。
しかして熱交ラインBを流れるメッキ液は熱交換器17
の水蒸気または温水により加熱され、槽内のメッキ液が
所定温度を越えると触媒作用により液分解を起し、基板
3のパラジウム露出部分に金属銅が析出して、これによ
りスルーホールや配線パターンを形成する。
の水蒸気または温水により加熱され、槽内のメッキ液が
所定温度を越えると触媒作用により液分解を起し、基板
3のパラジウム露出部分に金属銅が析出して、これによ
りスルーホールや配線パターンを形成する。
基板3から剥離した触媒を核に銅が析出しメッキ槽1の
底部に沈澱することがあるが、このような沈澱物は底面
排出口6より主循環ラインAを経てフィルタ9に吸着し
除去される。
底部に沈澱することがあるが、このような沈澱物は底面
排出口6より主循環ラインAを経てフィルタ9に吸着し
除去される。
メッキ層が所定の厚さ(たとえば30ミクロン)まで仕
上がるには長時間を要するが、その間にメッキ槽1より
飛散蒸発したり消失したメッキ液を、自動液補給器11
より定量づつミキシングチャンバ10を経て主循環ライ
ンAによりメッキ槽1に補給する。
上がるには長時間を要するが、その間にメッキ槽1より
飛散蒸発したり消失したメッキ液を、自動液補給器11
より定量づつミキシングチャンバ10を経て主循環ライ
ンAによりメッキ槽1に補給する。
主循環ラインAを流れるメッキ液は、合流管12におい
て加熱ラインBからの高温のメッキ液と混合し、続いて
共通の供給管13より多孔板14を経て槽内に分散する
際、多孔板4に当ってさらに両者一体的に混合する。
て加熱ラインBからの高温のメッキ液と混合し、続いて
共通の供給管13より多孔板14を経て槽内に分散する
際、多孔板4に当ってさらに両者一体的に混合する。
そして、このメッキ液は多孔板14の板面より垂直方向
に、つまりプリント基板3に平行に流出し、対流や渦を
生じて停滞することがなく、槽内全体を均一の流速で流
れる。このため基板3の板面全体におけるメッキ液の濃
度と温度は平均に分布するので、供給管13に近いスル
ーホールも遠いスルーホールもメー/キ層の厚さが均一
になる。
に、つまりプリント基板3に平行に流出し、対流や渦を
生じて停滞することがなく、槽内全体を均一の流速で流
れる。このため基板3の板面全体におけるメッキ液の濃
度と温度は平均に分布するので、供給管13に近いスル
ーホールも遠いスルーホールもメー/キ層の厚さが均一
になる。
メッキが終了したら基板収納かご2を引き上げ、洗浄工
程に移動する。移動後も引き続きポンプ8.16を駆動
しなから熱交換器17に冷却水を注入してメッキ液の温
度を降下し、不活性状態に戻したのち槽内のメッキ液を
液タンクに排出し、かわりに洗浄液を入れメッキ槽1を
清掃する。
程に移動する。移動後も引き続きポンプ8.16を駆動
しなから熱交換器17に冷却水を注入してメッキ液の温
度を降下し、不活性状態に戻したのち槽内のメッキ液を
液タンクに排出し、かわりに洗浄液を入れメッキ槽1を
清掃する。
(発明の効果)
これを要するに、本発明は、無電解メy+のメッキ槽1
内のプリント基板3の側方に、この基板3とは直行する
方向に沿い多孔板14を設置し、この多孔板14により
区画する基板3とは反対側のメッキ槽l内にメッキ液循
環ラインの液供給側端部を接続し、またこのメッキ液循
環ラインの液排出側端部を多孔板14より基板3側のメ
ッキ槽1内に接続する構成であるから、メッキ液循環ラ
インより槽内に戻るメッキ液は、先づ多孔板14に当っ
て流速を緩和しつつ攪拌混合され、ついで多孔板14の
全面より流速が平均化されて分散流出する。しかもこの
多孔板14を通過したメッキ液は液排出側端部に向は基
板3に対し平行に流れるから、メッキ液は基板3付近で
停滞せず基板3の全面において流速が等しく、基板3の
板面全体におけるメッキ液の温度分布および濃度分布が
平均する。
内のプリント基板3の側方に、この基板3とは直行する
方向に沿い多孔板14を設置し、この多孔板14により
区画する基板3とは反対側のメッキ槽l内にメッキ液循
環ラインの液供給側端部を接続し、またこのメッキ液循
環ラインの液排出側端部を多孔板14より基板3側のメ
ッキ槽1内に接続する構成であるから、メッキ液循環ラ
インより槽内に戻るメッキ液は、先づ多孔板14に当っ
て流速を緩和しつつ攪拌混合され、ついで多孔板14の
全面より流速が平均化されて分散流出する。しかもこの
多孔板14を通過したメッキ液は液排出側端部に向は基
板3に対し平行に流れるから、メッキ液は基板3付近で
停滞せず基板3の全面において流速が等しく、基板3の
板面全体におけるメッキ液の温度分布および濃度分布が
平均する。
従って本発明によれば、槽内のいかなる位置におけるス
ルーホールもメッキ層の厚さをすべて均一に形成できる
という効果を生ずる。
ルーホールもメッキ層の厚さをすべて均一に形成できる
という効果を生ずる。
第1図は本発明を実施したプリント基板のスルーホール
メッキ装置全体の流れ線図、第2図はそのメッキ槽の平
面図、第3図は第2図の横断面図である。 lはメッキ槽、3はプリント基板、 Aは主循環ライン、Bは熱交ライン。 6は底面排出口、7は背面排出口、 8は主循環ポンプ、13は供給管、 14は多孔板、16は熱文系ポンプ。
メッキ装置全体の流れ線図、第2図はそのメッキ槽の平
面図、第3図は第2図の横断面図である。 lはメッキ槽、3はプリント基板、 Aは主循環ライン、Bは熱交ライン。 6は底面排出口、7は背面排出口、 8は主循環ポンプ、13は供給管、 14は多孔板、16は熱文系ポンプ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 スルーホールメッキすべき無電解メッキ槽内のプリン
ト基板の側方に、このプリント基板とは直交する方向に
沿い多孔板を設置して前記メッキ槽内をふたつに区画し
、 その一方の、前記プリント基板側とは反対側のメッキ槽
内に、メッキ液循環ラインの液供給側端部を接続し、 また他方の、前記プリント基板側のメッキ槽内に、前記
メッキ液循環ラインの液排出側端部を接続して成るプリ
ント基板のスルーホールメッキ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5393490A JPH0375377A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | プリント基板のスルーホールメッキ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5393490A JPH0375377A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | プリント基板のスルーホールメッキ装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3792983A Division JPS59161895A (ja) | 1983-03-07 | 1983-03-07 | プリント基板のスルーホールメッキ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0375377A true JPH0375377A (ja) | 1991-03-29 |
| JPH048960B2 JPH048960B2 (ja) | 1992-02-18 |
Family
ID=12956573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5393490A Granted JPH0375377A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | プリント基板のスルーホールメッキ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0375377A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5448909A (en) * | 1993-10-01 | 1995-09-12 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Motor trouble detection device |
| JP2007003397A (ja) * | 2005-06-24 | 2007-01-11 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 試料分析装置 |
| US20200249469A1 (en) * | 2019-02-04 | 2020-08-06 | Faro Technologies, Inc. | Actuator and beam steering mechanism using an actuator |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54155473A (en) * | 1978-05-29 | 1979-12-07 | Hitachi Electronics | Method of plating printed circuit board |
-
1990
- 1990-03-06 JP JP5393490A patent/JPH0375377A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54155473A (en) * | 1978-05-29 | 1979-12-07 | Hitachi Electronics | Method of plating printed circuit board |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH048960B2 (ja) | 1992-02-18 |
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