JPH037577A - 細胞の配列制御用具、その製法および細胞の配列制御法 - Google Patents
細胞の配列制御用具、その製法および細胞の配列制御法Info
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- JPH037577A JPH037577A JP1141965A JP14196589A JPH037577A JP H037577 A JPH037577 A JP H037577A JP 1141965 A JP1141965 A JP 1141965A JP 14196589 A JP14196589 A JP 14196589A JP H037577 A JPH037577 A JP H037577A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、細胞の配列制御用具、その製法および細胞の
配列制御法に関する。
配列制御法に関する。
［従来の技術］
近年、細胞工学、ＬＳＩ技術、医工学などの急激な進歩
とともに、細胞を用いた超小型バイオセンサー、スイッ
チング素子、バイオリアクタ、ハイブリッド型人工臓器
、さらにはニューロコンピューターなどが注目を集め、
これらの開発が活発に行なわれている。
とともに、細胞を用いた超小型バイオセンサー、スイッ
チング素子、バイオリアクタ、ハイブリッド型人工臓器
、さらにはニューロコンピューターなどが注目を集め、
これらの開発が活発に行なわれている。
細胞を望むように配列させ、しかもその機能を維持させ
ておくことは難しく、細胞を用いたデバイス実現の一つ
の障壁となっている。細胞を望むように配列させて回路
網を形成させるというような細胞の配列制御技術は、こ
れらのデバイス実現のための大きなキーテクノロジーと
なりうる。
ておくことは難しく、細胞を用いたデバイス実現の一つ
の障壁となっている。細胞を望むように配列させて回路
網を形成させるというような細胞の配列制御技術は、こ
れらのデバイス実現のための大きなキーテクノロジーと
なりうる。
また、紫外線や放射線による表面親水化や親水性モノマ
ーのグラフト重合は、材料表面の接着性や生体適合性を
向上させる手法として応用されているが、これを細胞の
配列制御へ応用しようという試みはなされていない。
ーのグラフト重合は、材料表面の接着性や生体適合性を
向上させる手法として応用されているが、これを細胞の
配列制御へ応用しようという試みはなされていない。
［発明が解決しようとする課題］
細胞の配列を制御する試みとしては、インクジェットプ
リンターを用いて細胞接着性蛋白質であるフィブロネク
チンを塗布してパターンを形成し、この上で細胞を培養
させた例があるが、解像度がわるく不均一であり、微細
加工には適していない。
リンターを用いて細胞接着性蛋白質であるフィブロネク
チンを塗布してパターンを形成し、この上で細胞を培養
させた例があるが、解像度がわるく不均一であり、微細
加工には適していない。
また、最近、人工的な凹凸面を用いて神経細胞シナプス
成長の方向制御を試みた例があるが、望むような配列を
形成させるまでには至っていない。
成長の方向制御を試みた例があるが、望むような配列を
形成させるまでには至っていない。
［課題を解決するための手段］
本発明者らは、このような実状に鑑み、細胞の配列を容
易に制御する方法について鋭意研究を重ねた結果、細胞
接着性表面および細胞非接着性表面よりなる配列パター
ンを有する材料表面上で細胞を培養することにより、細
胞の配列が容易に制御できること、細胞接着性表面およ
び細胞非接着性表面よりなる配列パターンを有する細胞
の配列制御用具が、特定の工程を経て容易に製造できる
ことを見出し、本発明を完成するに至った。
易に制御する方法について鋭意研究を重ねた結果、細胞
接着性表面および細胞非接着性表面よりなる配列パター
ンを有する材料表面上で細胞を培養することにより、細
胞の配列が容易に制御できること、細胞接着性表面およ
び細胞非接着性表面よりなる配列パターンを有する細胞
の配列制御用具が、特定の工程を経て容易に製造できる
ことを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は
細胞接着性表面および細胞非接着性表面よりなる配列パ
ターンを有することを特徴とする細胞の配列制御用具、 細胞の配列制御用具の細胞非接着性表面上にパターンマ
スクを設置したのち、紫外線または放射線よって表面処
理し、非マスク部のみに細胞接着性官能基を誘導して配
列パターンを形成することを特徴とする前記細胞の配列
制御用具の製法、 細胞の配列制御用具の材料表面上にパターンマスクを設
置したのち、紫外線または放射線によって表面処理し、
非マスク部のみに重合開始種を誘導し、これにより、細
胞接着性モノマーまたは細胞非接着性モノマーを非マス
ク部のみにグラフト重合させて配列パターンを形成する
ことを特徴とする前記細胞の配列制御用具の製法、およ
び 前記細胞の配列制御用具を用いて細胞を培養することを
特徴とする細胞の配列制御法に関する。
ターンを有することを特徴とする細胞の配列制御用具、 細胞の配列制御用具の細胞非接着性表面上にパターンマ
スクを設置したのち、紫外線または放射線よって表面処
理し、非マスク部のみに細胞接着性官能基を誘導して配
列パターンを形成することを特徴とする前記細胞の配列
制御用具の製法、 細胞の配列制御用具の材料表面上にパターンマスクを設
置したのち、紫外線または放射線によって表面処理し、
非マスク部のみに重合開始種を誘導し、これにより、細
胞接着性モノマーまたは細胞非接着性モノマーを非マス
ク部のみにグラフト重合させて配列パターンを形成する
ことを特徴とする前記細胞の配列制御用具の製法、およ
び 前記細胞の配列制御用具を用いて細胞を培養することを
特徴とする細胞の配列制御法に関する。
［実施例］
本発明の細胞の配列制御用具は、パターン化した細胞接
着性表面と細、胞非接着性表面とが本発明の細胞の配列
制御用具となる材料の表面に形成されたものである。
着性表面と細、胞非接着性表面とが本発明の細胞の配列
制御用具となる材料の表面に形成されたものである。
前記細胞接着性表面とは、カルボキシル基やアミノ基な
どの電荷を有する官能基および（また゛は） Ｒ，ＧＤ
Ｓ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−８ｅｒ）のような細胞接
着性ペプチドを有する表面をいう。これらの官能基やペ
プチドは、材料表面に直接導入されていてもよく、これ
らの官能基やペプチドを有する高分子が材料表面に固定
されているものでもよい。
どの電荷を有する官能基および（また゛は） Ｒ，ＧＤ
Ｓ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−８ｅｒ）のような細胞接
着性ペプチドを有する表面をいう。これらの官能基やペ
プチドは、材料表面に直接導入されていてもよく、これ
らの官能基やペプチドを有する高分子が材料表面に固定
されているものでもよい。
これらの高分子を材料表面に固定する方法としては、た
とえば材料表面の官能基と該高分子の官能基とを化学反
応により結合させる方法、カルボキシル基などの電荷を
有する官能基含有モノマーを材料表面にグラフト重合す
る方法、材料表面にグラフト重合されたポリマーにカル
ボキシル基やアミノ基を誘導する方法などがある。たと
えばアクリルアミドを材料表面にグラフト重合したのち
、アルカリ処理によりアミドを加水分解してカルボキシ
ル基とする方法、または次亜塩素酸ソーダのアルカリ溶
液で処理（ホフマン分解）することによりアミドをアミ
ノ基に変換する方法などがある。
とえば材料表面の官能基と該高分子の官能基とを化学反
応により結合させる方法、カルボキシル基などの電荷を
有する官能基含有モノマーを材料表面にグラフト重合す
る方法、材料表面にグラフト重合されたポリマーにカル
ボキシル基やアミノ基を誘導する方法などがある。たと
えばアクリルアミドを材料表面にグラフト重合したのち
、アルカリ処理によりアミドを加水分解してカルボキシ
ル基とする方法、または次亜塩素酸ソーダのアルカリ溶
液で処理（ホフマン分解）することによりアミドをアミ
ノ基に変換する方法などがある。
また、前記細胞非接着性表面とは、接触角が１００度以
上の疎水性表面、または電荷を有さす接触角が５０度以
下の親水性表面をいう。
上の疎水性表面、または電荷を有さす接触角が５０度以
下の親水性表面をいう。
前記疎水性表面の具体例としては、たとえばポリテトラ
フルオロエチレン、シリコーンなどから形成された表面
があげられるが、これらに限定されるものではない。
フルオロエチレン、シリコーンなどから形成された表面
があげられるが、これらに限定されるものではない。
前記接触角が５０度以下の親水性表面の具体例としては
、電荷を持たない親水性高分子よりなる表面、たとえば
ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリ
アクリルアミド、ポリジメチルアクリルアミド、ポリヒ
ドロキシエチルメタクリレート、さらにはこれらを構成
する単量体の共重合体、セルロースなどがあげられるが
、これらに限定されるものではない。
、電荷を持たない親水性高分子よりなる表面、たとえば
ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリ
アクリルアミド、ポリジメチルアクリルアミド、ポリヒ
ドロキシエチルメタクリレート、さらにはこれらを構成
する単量体の共重合体、セルロースなどがあげられるが
、これらに限定されるものではない。
また、これらの電荷を持たない親水性モノマーを材料表
面にグラフト重合することにより材料表面を細胞非接着
性表面に改質することもできる。
面にグラフト重合することにより材料表面を細胞非接着
性表面に改質することもできる。
さらに、本発明の細胞の配列制御用具となる材料として
は、たとえば各種プラスチック製の培養用器、フィルム
、チューブなどがあげられる。
は、たとえば各種プラスチック製の培養用器、フィルム
、チューブなどがあげられる。
つぎに前記細胞の配列制御用具の製法について説明する
。
。
まず第１の製法として、細胞の配列制御用具の細胞非接
着性表面上にパターンマスクを設置したのち、紫外線ま
たは放射線によって表面処理し、非マスク部のみに細胞
接着性官能基を誘導して配列パターンを形成する方法を
説明する。
着性表面上にパターンマスクを設置したのち、紫外線ま
たは放射線によって表面処理し、非マスク部のみに細胞
接着性官能基を誘導して配列パターンを形成する方法を
説明する。
前記細胞非接着性表面としては、たとえばポリジメチル
アクリルアミドなどの電荷を持たない親水性高分子など
よりなる表面があげられる。
アクリルアミドなどの電荷を持たない親水性高分子など
よりなる表面があげられる。
本発明において誘導される細胞接着性官能基は、カルボ
キシル基やアミノ基であり、空気中紫外線照射またはプ
ラズマのような放射線処理により周知のごとく誘導され
る。
キシル基やアミノ基であり、空気中紫外線照射またはプ
ラズマのような放射線処理により周知のごとく誘導され
る。
前記放射線としては、たとえばコロナ放電やグロー放電
などのプラズマ、電子線、γ線などがあげられるが、こ
れらに限定されるものではない。なかでも適用対象の多
様性、効果の有用性の点でグロー放電のようなプラズマ
を用いるのが好ましく、さらには官能基を効率よく誘導
させうるという点から Ｎ２プラズマや０２プラズマが
好ましい。
などのプラズマ、電子線、γ線などがあげられるが、こ
れらに限定されるものではない。なかでも適用対象の多
様性、効果の有用性の点でグロー放電のようなプラズマ
を用いるのが好ましく、さらには官能基を効率よく誘導
させうるという点から Ｎ２プラズマや０２プラズマが
好ましい。
また、高解像度の処理をしうるという点で紫外線が好ま
しい。
しい。
前記パターンマスクとは、描きたいパターンの孔を有し
、それに対応する部分を、照射する紫外線または放射線
に暴露させつる構造を有するもので、一般のフォトマス
クが利用できる。
、それに対応する部分を、照射する紫外線または放射線
に暴露させつる構造を有するもので、一般のフォトマス
クが利用できる。
とくにプラズマのような放射線を利用するばあいは、金
属製のマスクではマスクからの放電で解像度が低下する
可能性があるため、非金属性のマスクが望ましい。
属製のマスクではマスクからの放電で解像度が低下する
可能性があるため、非金属性のマスクが望ましい。
一方、細胞の配列制御用具の第２の製法は、細胞の配列
制御用具の材料表面上にパターンマスクを設置したのち
、紫外線または放射線によっテ表面処理し、非マスク部
のみに重合開始種を誘導し、これにより、細胞接着性モ
ノマーまたは細胞非接着性モノマーを非マスク部のみに
グラフト重合させて配列パターンを形成する方法である
。
制御用具の材料表面上にパターンマスクを設置したのち
、紫外線または放射線によっテ表面処理し、非マスク部
のみに重合開始種を誘導し、これにより、細胞接着性モ
ノマーまたは細胞非接着性モノマーを非マスク部のみに
グラフト重合させて配列パターンを形成する方法である
。
本発明において誘導される重合開始種とは、材料自体に
由来するポリマーラジカルであり、紫外線処理またはプ
ラズマのような放射線処理により周知のごとく誘導され
る。紫外線処理では一般に増感剤を必要とするため、こ
れを必要としない放射線処理が好ましい。
由来するポリマーラジカルであり、紫外線処理またはプ
ラズマのような放射線処理により周知のごとく誘導され
る。紫外線処理では一般に増感剤を必要とするため、こ
れを必要としない放射線処理が好ましい。
前記放射線としては、前述のごとく種々のものがあげら
れるが、なかでもグロー放電のようなプラズマが好まし
い。
れるが、なかでもグロー放電のようなプラズマが好まし
い。
このようにして誘導したラジカルによる細胞接着性モノ
マーまたは細胞非接着性モノマーのグラフト重合は、七
ツマ−を直接ラジカルを生成させた系内に導入して重合
させてもよく、−旦ラジカルを空気と接触させてパーオ
キサイドとしたのちモノマーを添加し、パーオキサイド
を分解して再びラジカルとして重合させてもよいＯ 前記細胞接着性モノマーとしては、たとえばアクリル酸
、アクリル酸メチルなどの電荷を有するモノマーなどが
あげられる。また細胞非接着性モノマーとしては、たと
えばアクリルアミド、エチレングリコール、ヒドロキシ
エチルメタクリレートなどの電荷を有さない親水性のモ
ノマーなどがあげられる。
マーまたは細胞非接着性モノマーのグラフト重合は、七
ツマ−を直接ラジカルを生成させた系内に導入して重合
させてもよく、−旦ラジカルを空気と接触させてパーオ
キサイドとしたのちモノマーを添加し、パーオキサイド
を分解して再びラジカルとして重合させてもよいＯ 前記細胞接着性モノマーとしては、たとえばアクリル酸
、アクリル酸メチルなどの電荷を有するモノマーなどが
あげられる。また細胞非接着性モノマーとしては、たと
えばアクリルアミド、エチレングリコール、ヒドロキシ
エチルメタクリレートなどの電荷を有さない親水性のモ
ノマーなどがあげられる。
なお、パターンマスクは、前記第１の製法のばあいと同
様のものを用いることができる。
様のものを用いることができる。
前記のごとく形成された配列パターンを冑する細胞の配
列制御用具を用い、常法により細胞を培養することによ
り、細胞配列を容易に制御でき、高解像度の微細パター
ンを形成することができる。
列制御用具を用い、常法により細胞を培養することによ
り、細胞配列を容易に制御でき、高解像度の微細パター
ンを形成することができる。
えられた微細パターンは、超小型バイオセンサー、スイ
ッチング素子、バイオリアクターハイブリッド型人工臓
器などの製造や、さらにはニューロコンピューターなど
の開発に有用である。
ッチング素子、バイオリアクターハイブリッド型人工臓
器などの製造や、さらにはニューロコンピューターなど
の開発に有用である。
つぎに実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが
、本発明はこれらに限定されるものではない。
、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
５％（重量％、以下同様）のビスアジド化合物（４，４
−ジアジドスチルベン−２，２°−ジスルホン酸ソーダ
）を混合したポリ（Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド）
のメタノール溶液を、ポリスチレンシャーレにキャスト
製膜したのち、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射し、ポ
リ（Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド）を固定したシャ
ーレ（以下、ＰＤＭＡＡ−シャーレという）をえた。
−ジアジドスチルベン−２，２°−ジスルホン酸ソーダ
）を混合したポリ（Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド）
のメタノール溶液を、ポリスチレンシャーレにキャスト
製膜したのち、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射し、ポ
リ（Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド）を固定したシャ
ーレ（以下、ＰＤＭＡＡ−シャーレという）をえた。
ＰＤＭＡＡ−シャーレ上に第３図に示すような開孔部と
非開孔部とからなる一対の幅が２５０μｍであるスリッ
トを有するパターンマスクをセットし、イオンコーター
（エイコーエンジニアリンク社製、ＩＢ−３型）を用い
てグロー放電処理したのち、空気と接触させて放置し、
非マスク部にカルボキシル基を誘導した。なお、第３図
はフォトマスクの写真のスケッチ図である。
非開孔部とからなる一対の幅が２５０μｍであるスリッ
トを有するパターンマスクをセットし、イオンコーター
（エイコーエンジニアリンク社製、ＩＢ−３型）を用い
てグロー放電処理したのち、空気と接触させて放置し、
非マスク部にカルボキシル基を誘導した。なお、第３図
はフォトマスクの写真のスケッチ図である。
このようにしてえたシャーレに、牛血管内皮細胞を播種
し、１５％子牛血清（Ｆｅ２）を含むＤＭＥＭ（Ｄｕｌ
ｂｄｃｃｏ’ｓ Ｍｏｄｉｒｌｅｄ Ｅａｇｌｅ’ｓ
Ｍｅｄｉｕｍ）を培地として用い、３７℃のＣＯ２イン
キュベーター内で培養したところ、カルボキシル基が導
入された部分（非マスク部）のみに、内皮細胞が選択的
に伸展・増殖し、細胞の配列パターンが形成された。
し、１５％子牛血清（Ｆｅ２）を含むＤＭＥＭ（Ｄｕｌ
ｂｄｃｃｏ’ｓ Ｍｏｄｉｒｌｅｄ Ｅａｇｌｅ’ｓ
Ｍｅｄｉｕｍ）を培地として用い、３７℃のＣＯ２イン
キュベーター内で培養したところ、カルボキシル基が導
入された部分（非マスク部）のみに、内皮細胞が選択的
に伸展・増殖し、細胞の配列パターンが形成された。
実施例２
実施例１と同様にしてえたＰＤＭＡＡ−シャーレ上に第
３図に示すパターンマスクをセットし、低圧水銀灯を用
いて空気中で紫外線を１０分間照射し、非マスク部にカ
ルボキシル基を誘導した。
３図に示すパターンマスクをセットし、低圧水銀灯を用
いて空気中で紫外線を１０分間照射し、非マスク部にカ
ルボキシル基を誘導した。
このようにしてえたシャーレ上で実施例１と同様にして
牛血管内皮細胞を培養したところ、カルホキシル基が導
入された部分（非マスク部）のみに、内皮細胞が選択的
に伸展−増殖し、細胞の配列パターンが形成、された。
牛血管内皮細胞を培養したところ、カルホキシル基が導
入された部分（非マスク部）のみに、内皮細胞が選択的
に伸展−増殖し、細胞の配列パターンが形成、された。
実施例３
組織培養用ポリスチレンシャーレ（コーニング（ＣＯＲ
ＮＩＮＧ）社製）上に第３図に示すパターンマスクをセ
ットし、実施例１と同様にしてグロー放電処理し、非マ
スク部（こパーオキサイドを導入した。
ＮＩＮＧ）社製）上に第３図に示すパターンマスクをセ
ットし、実施例１と同様にしてグロー放電処理し、非マ
スク部（こパーオキサイドを導入した。
続いて、このシャーレを５％アクリルアミド水溶液中に
浸し、充分脱気したのち密封し、２時間６０℃に保ち、
非マスク部のみにアクリルアミドをグラフト重合した。
浸し、充分脱気したのち密封し、２時間６０℃に保ち、
非マスク部のみにアクリルアミドをグラフト重合した。
反応終了後、シャーレを充分水洗し、非マスク部のみに
ポリアクリルアミドがグラフトされた組織培養用ポリス
チレンシャーレをえた。
ポリアクリルアミドがグラフトされた組織培養用ポリス
チレンシャーレをえた。
このようにしてえたシャーレ上で実施例１と同様にして
牛血管内皮細胞を培養したところ、ポリアクリルアミド
がグラフトされていない部分（マスク部）のみに、内皮
細胞が選択的に伸展・増殖し、第１図および第２図に示
す細胞の配列パターンが形成された。第１図は染色され
た細胞の配列パターンの写真（倍率は第３図のもとにな
る写真と同じ）のスケッチ図、第２図は第１図のもとに
なる写真よりもさらに拡大された写真のスケッチ図であ
る。
牛血管内皮細胞を培養したところ、ポリアクリルアミド
がグラフトされていない部分（マスク部）のみに、内皮
細胞が選択的に伸展・増殖し、第１図および第２図に示
す細胞の配列パターンが形成された。第１図は染色され
た細胞の配列パターンの写真（倍率は第３図のもとにな
る写真と同じ）のスケッチ図、第２図は第１図のもとに
なる写真よりもさらに拡大された写真のスケッチ図であ
る。
実施例４
ポリテトラフルオロエチレンフィルム上に第３図に示す
パターンマスクをセットし、実施例１と同様にしてグロ
ー放電処理し、非マスク部にパーオキサイドを導入した
。
パターンマスクをセットし、実施例１と同様にしてグロ
ー放電処理し、非マスク部にパーオキサイドを導入した
。
続いて、実施例３と同様にして非マスク部のみにアクリ
ルアミドをグラフト重合したポリテトラフルオロエチレ
ンフィルム（以下、ＰＡＡｍ−ＰＴＰＥという）をえた
。
ルアミドをグラフト重合したポリテトラフルオロエチレ
ンフィルム（以下、ＰＡＡｍ−ＰＴＰＥという）をえた
。
えられたＰＡＡｍ−ＰＴＦＥをＬＮ−ＮａＯＨ水溶液中
に浸漬して１時間５０℃に保ち、アミド部分を加水分解
してカルボキシル基に変換した。
に浸漬して１時間５０℃に保ち、アミド部分を加水分解
してカルボキシル基に変換した。
このようにしてえたフィルム上で実施例１と同様にして
牛血管内皮細胞を培養したところ、ポリマーがグラフト
されている部分（非マスク部）のみに、内皮細胞が選択
的に伸展・増殖し、細胞の配列パターンが形成された。
牛血管内皮細胞を培養したところ、ポリマーがグラフト
されている部分（非マスク部）のみに、内皮細胞が選択
的に伸展・増殖し、細胞の配列パターンが形成された。
実施例５
実施例４と同様にしてえたＰＡＡｍ−ＰＴＰＥを、次亜
塩素酸ソーダのＮ ａ ＯＨアルカリ水溶液中に浸漬し
て１時間０ ’Ｃに保ってホフマン分解し、アミド部分
をアミノ基に変換した。
塩素酸ソーダのＮ ａ ＯＨアルカリ水溶液中に浸漬し
て１時間０ ’Ｃに保ってホフマン分解し、アミド部分
をアミノ基に変換した。
このようにしてえたフィルム上で実施例１と同様にして
牛血管内皮細胞を培養したところ、ポリマーがグラフト
されている部分（非マスク部）のみに内皮細胞が選択的
に伸展・増殖し、細胞の配列パターンが形成された。
牛血管内皮細胞を培養したところ、ポリマーがグラフト
されている部分（非マスク部）のみに内皮細胞が選択的
に伸展・増殖し、細胞の配列パターンが形成された。
［発明の効果］
本発明の細胞の配列制御用具は、細胞の付着の有無を選
択的に制御でき、これを用いて従来の細胞培養と同様に
して培養を行なうことにより、容易に細胞の配列を制御
することができ、精度の高い細胞配列パターンを形成す
ることができる。
択的に制御でき、これを用いて従来の細胞培養と同様に
して培養を行なうことにより、容易に細胞の配列を制御
することができ、精度の高い細胞配列パターンを形成す
ることができる。
また、本発明の製法により、望むような配列パターンを
容易に解像度よく形成させた細胞の配列制御用具をうろ
ことができる。
容易に解像度よく形成させた細胞の配列制御用具をうろ
ことができる。
本発明は、各種細胞機能を応用した超小型バイオセンサ
ー、スイッチング素子、ハイブリッド型人工臓器、バイ
オリアクター、ニューロコシビューターなどの開発に大
きく貢献するものである。また、細胞間の情報伝達など
の細胞機能の研究においても応用できるものである。
ー、スイッチング素子、ハイブリッド型人工臓器、バイ
オリアクター、ニューロコシビューターなどの開発に大
きく貢献するものである。また、細胞間の情報伝達など
の細胞機能の研究においても応用できるものである。
第１図は染色された細胞の配列パターンの写真のスケッ
チ図、第２図は第１図のもとになる写真よりもさらに拡
大された写真のスケッチ図、第３図はパターンマスクの
写真（倍率は第１図のもとになる写真と同じ）のスケッ
チ図である。 第 図 第 ３ 図 手続補正書 （自発） ５補正の対象 （１）明細書の「特許請求の範囲」の欄（２）明細書の
「発明の詳細な説明」の欄１事件の表示 平成１年特許願第１４１９６５号 ２発明の名称 細胞の配列制御用具、 その製法および細胞の配列制御法 ３補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市北区中之島三丁目２番４号名 称
（０９４）鐘淵化学工業株式会社代表者 舘 糾 ６補正の内容 （１）明細書の「特許請求の範囲」を別紙「補正された
特許請求の範囲」のとおり補正する。 （２） 明細書４頁末行の「よって」を「によって」
と補正する。 （３）同１３頁２行のｒ ＤｕｌｂｄｃｃｏｏＳ」をｒ
Ｄｕｌｂｅｃｃｏ’ｓＪと補正する・（４）同１３頁
１１行の「１０分間」を「１時間」と補正する。 ７添付書類の目録 （１）補正された特許請求の範囲 １通４代理人 住所 〒５４０ 大阪市中央区谷町２丁目２番２２号 補正された特許請求の範囲 細胞接着性表面および細胞非接着性表面よりなる配列パ
ターンを冑することを特徴とする細胞の配列制御用具。 ２ 細胞の配列制御用具の細胞非接着性表面上にパター
ンマスクを設置したのち、紫外線または放射線によって
表面処理し、非マスク部のみに細胞接着性官能基を誘導
して配列パターンを形成することを特徴とする請求項１
記載の細胞の配列制御用具の製法。 ３ 細胞の配列制御用具の材料表面上にパターンマスク
を設置したのち、紫外線または放射線によって表面処理
し、非マスク部のみに重合開始種を誘導し、これにより
、細胞接着性モノマーまたは細胞非接着性モノマーを非
マスク部のみにグラフト重合させて配列パターンを形成
することを特徴とする請求項１記載の細胞の配列制御用
具の製法。 ４ 請求項１記載の細胞の配列制御用具を用い「 １ て細胞を培養することを特徴とする細胞の配列制御法。 」 以 上
チ図、第２図は第１図のもとになる写真よりもさらに拡
大された写真のスケッチ図、第３図はパターンマスクの
写真（倍率は第１図のもとになる写真と同じ）のスケッ
チ図である。 第 図 第 ３ 図 手続補正書 （自発） ５補正の対象 （１）明細書の「特許請求の範囲」の欄（２）明細書の
「発明の詳細な説明」の欄１事件の表示 平成１年特許願第１４１９６５号 ２発明の名称 細胞の配列制御用具、 その製法および細胞の配列制御法 ３補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市北区中之島三丁目２番４号名 称
（０９４）鐘淵化学工業株式会社代表者 舘 糾 ６補正の内容 （１）明細書の「特許請求の範囲」を別紙「補正された
特許請求の範囲」のとおり補正する。 （２） 明細書４頁末行の「よって」を「によって」
と補正する。 （３）同１３頁２行のｒ ＤｕｌｂｄｃｃｏｏＳ」をｒ
Ｄｕｌｂｅｃｃｏ’ｓＪと補正する・（４）同１３頁
１１行の「１０分間」を「１時間」と補正する。 ７添付書類の目録 （１）補正された特許請求の範囲 １通４代理人 住所 〒５４０ 大阪市中央区谷町２丁目２番２２号 補正された特許請求の範囲 細胞接着性表面および細胞非接着性表面よりなる配列パ
ターンを冑することを特徴とする細胞の配列制御用具。 ２ 細胞の配列制御用具の細胞非接着性表面上にパター
ンマスクを設置したのち、紫外線または放射線によって
表面処理し、非マスク部のみに細胞接着性官能基を誘導
して配列パターンを形成することを特徴とする請求項１
記載の細胞の配列制御用具の製法。 ３ 細胞の配列制御用具の材料表面上にパターンマスク
を設置したのち、紫外線または放射線によって表面処理
し、非マスク部のみに重合開始種を誘導し、これにより
、細胞接着性モノマーまたは細胞非接着性モノマーを非
マスク部のみにグラフト重合させて配列パターンを形成
することを特徴とする請求項１記載の細胞の配列制御用
具の製法。 ４ 請求項１記載の細胞の配列制御用具を用い「 １ て細胞を培養することを特徴とする細胞の配列制御法。 」 以 上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １細胞接着性表面および細胞非接着性表面よりなる配列
パターンを有することを特徴とする細胞の配列制御用具
。 ２細胞の配列制御用具の細胞非接着性表面上にパターン
マスクを設置したのち、紫外線または放射線よって表面
処理し、非マスク部のみに細胞接着性官能基を誘導して
配列パターンを形成することを特徴とする請求項１記載
の細胞の配列制御用具の製法。 ３細胞の配列制御用具の材料表面上にパターンマスクを
設置したのち、紫外線または放射線によって表面処理し
、非マスク部のみに重合開始種を誘導し、これにより、
細胞接着性モノマーまたは細胞非接着性モノマーを非マ
スク部のみにグラフト重合させて配列パターンを形成す
ることを特徴とする請求項１記載の細胞の配列制御用具
の製法。 ４請求項１記載の細胞の配列制御用具を用いて細胞を培
養することを特徴とする細胞の配列制御法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1141965A JPH037577A (ja) | 1989-06-03 | 1989-06-03 | 細胞の配列制御用具、その製法および細胞の配列制御法 |
| DE69013764T DE69013764T2 (de) | 1989-06-03 | 1990-06-01 | Kontrolle der Zellanordnung. |
| EP90110455A EP0402718B1 (en) | 1989-06-03 | 1990-06-01 | Control of cell arrangement |
| US07/531,596 US5202227A (en) | 1989-06-03 | 1990-06-01 | Control of cell arrangement |
| US08/308,204 US5593814A (en) | 1989-06-03 | 1994-09-19 | Control of cell arrangement |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1141965A JPH037577A (ja) | 1989-06-03 | 1989-06-03 | 細胞の配列制御用具、その製法および細胞の配列制御法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH037577A true JPH037577A (ja) | 1991-01-14 |
Family
ID=15304245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1141965A Pending JPH037577A (ja) | 1989-06-03 | 1989-06-03 | 細胞の配列制御用具、その製法および細胞の配列制御法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH037577A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0775547A (ja) * | 1993-09-07 | 1995-03-20 | Bio Material Kenkyusho:Kk | 培養基質 |
| US5573942A (en) * | 1993-10-06 | 1996-11-12 | Nec Corporation | Method for arranging cells in a culture medium |
| US5602029A (en) * | 1994-06-27 | 1997-02-11 | Nec Corporation | Method for fabricating substrate for cell culture and method for cell arrangements |
| JP2005102612A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 細胞着床方法及び細胞組織作製方法 |
| JP2006006214A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-12 | Institute Of Physical & Chemical Research | 細胞を固定化した基板の作製方法および基板 |
| JP2008306977A (ja) * | 2007-06-14 | 2008-12-25 | Nitto Denko Corp | 細胞培養基材 |
| JP2009502243A (ja) | 2005-07-20 | 2009-01-29 | サーモディクス，インコーポレイティド | ポリマーコーティング及び細胞接着方法 |
| JP2010004755A (ja) * | 2008-06-24 | 2010-01-14 | Tokai Univ | 内皮細胞増殖性材料 |
| JP2011050295A (ja) * | 2009-09-01 | 2011-03-17 | Scivax Kk | 細胞培養構造体、細胞培養容器及びこれらの製造方法 |
| JP2013099272A (ja) * | 2011-11-08 | 2013-05-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 細胞培養基材の製造方法、細胞培養基材、およびそれを用いた細胞シートの製造方法 |
| JP2021129501A (ja) * | 2020-02-18 | 2021-09-09 | 学校法人東京女子医科大学 | 細胞を配向させる細胞培養基材、及びその製造方法 |
-
1989
- 1989-06-03 JP JP1141965A patent/JPH037577A/ja active Pending
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| JP2021129501A (ja) * | 2020-02-18 | 2021-09-09 | 学校法人東京女子医科大学 | 細胞を配向させる細胞培養基材、及びその製造方法 |
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