JPH0376088A - イオン打込み磁気バブルメモリ素子 - Google Patents
イオン打込み磁気バブルメモリ素子Info
- Publication number
- JPH0376088A JPH0376088A JP1211302A JP21130289A JPH0376088A JP H0376088 A JPH0376088 A JP H0376088A JP 1211302 A JP1211302 A JP 1211302A JP 21130289 A JP21130289 A JP 21130289A JP H0376088 A JPH0376088 A JP H0376088A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductor pattern
- hairpin
- bubble
- gap
- current pulse
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はイオン打込み転送路と導体パターンとにより構
成する磁気バブルレプリケート、スワップ機能を有する
ゲート(以下デュアルゲートと略す)に係る。
成する磁気バブルレプリケート、スワップ機能を有する
ゲート(以下デュアルゲートと略す)に係る。
イオン打込み転送路と2層のコンダクタパターンとを用
いたレプリケートゲートについては、特開昭58−14
6086号に示されているように、マイナループコーナ
上の磁気バブルをヘアピン状コンダクタパターンにより
伸長し、2本の並行コンダクタにより分割する方法をと
っている。また、このレプリケートゲートを改良し、ス
ワップゲートの機能を付加したデュアルゲートが特開昭
62−262293号において開示されている。
いたレプリケートゲートについては、特開昭58−14
6086号に示されているように、マイナループコーナ
上の磁気バブルをヘアピン状コンダクタパターンにより
伸長し、2本の並行コンダクタにより分割する方法をと
っている。また、このレプリケートゲートを改良し、ス
ワップゲートの機能を付加したデュアルゲートが特開昭
62−262293号において開示されている。
上記の従来技術によるレプリケートゲート3およびデュ
アルゲート3においては、第2図および第3図に示す様
に、ストリップ磁区を分割するヘアピンコンダクタパタ
ーン5あるいは2本の平行コンダクタパターン5は、バ
ブルを伸長させるヘアピンコンダクタパターン4とほぼ
直交している。
アルゲート3においては、第2図および第3図に示す様
に、ストリップ磁区を分割するヘアピンコンダクタパタ
ーン5あるいは2本の平行コンダクタパターン5は、バ
ブルを伸長させるヘアピンコンダクタパターン4とほぼ
直交している。
この様にストレッチコンダクタ4と分割コンダクタ5と
が直交していると、第4図(c)に示した誤動作が問題
となる。第4図(a)、(b)に爪す様にストレッチコ
ンダクタ4にバブル拡大用ノミ流パルスを流してヘアピ
ンギャップ7のバイアス磁界を下げて伸長したストリッ
プ磁区6を、ストリップ磁区分割用コンダクタ5に分割
用の電流パルスを流してヘアピンギャップ8のバイアス
磁界を上げることによりストリップ磁区6−1と6−2
に分割する。
が直交していると、第4図(c)に示した誤動作が問題
となる。第4図(a)、(b)に爪す様にストレッチコ
ンダクタ4にバブル拡大用ノミ流パルスを流してヘアピ
ンギャップ7のバイアス磁界を下げて伸長したストリッ
プ磁区6を、ストリップ磁区分割用コンダクタ5に分割
用の電流パルスを流してヘアピンギャップ8のバイアス
磁界を上げることによりストリップ磁区6−1と6−2
に分割する。
分割用の電流パルスの振幅が分割に必要な最小の値より
も大きい領域では、また動作バイアス磁界マージンのド
限近くでは、第4図(c)にボす様に分割した後のスト
リップ磁区6−1.6−2が分割用のコンダクタパター
ン5に沿って伸長する誤動作が生じる。この誤動作が生
じるのは、分割用コンダクタパターン5のギャップ8の
部分では電流パルス印加時にバイアス磁界が高くなるが
、ギャップ8の外側には電流パルス印加時にバイアス磁
界が低くなる領域が存在するためであるにの誤動作を防
止する方法としては、ストリップ磁区分割用電流パルス
のパルス幅を現在用いている100〜150nsから2
0〜30nsと狭くする方法が有効である。すなわち、
分割に要する短い時間だけギャップ8の部分のバイアス
磁界を高くすることにより、その後のストリップ磁区の
伸長誤動作を防止する。
も大きい領域では、また動作バイアス磁界マージンのド
限近くでは、第4図(c)にボす様に分割した後のスト
リップ磁区6−1.6−2が分割用のコンダクタパター
ン5に沿って伸長する誤動作が生じる。この誤動作が生
じるのは、分割用コンダクタパターン5のギャップ8の
部分では電流パルス印加時にバイアス磁界が高くなるが
、ギャップ8の外側には電流パルス印加時にバイアス磁
界が低くなる領域が存在するためであるにの誤動作を防
止する方法としては、ストリップ磁区分割用電流パルス
のパルス幅を現在用いている100〜150nsから2
0〜30nsと狭くする方法が有効である。すなわち、
分割に要する短い時間だけギャップ8の部分のバイアス
磁界を高くすることにより、その後のストリップ磁区の
伸長誤動作を防止する。
ストリップ磁区が伸長する速度は、20〜50m/sで
あるから、20〜30nsの電流パルスでは0.4〜1
.5μm8度しかストリップ磁区が伸長しないので、誤
動作を防止できる。
あるから、20〜30nsの電流パルスでは0.4〜1
.5μm8度しかストリップ磁区が伸長しないので、誤
動作を防止できる。
ところがこの様なパルス幅の狭い電流パルスを用いると
、次の2項の問題点が生ずる。
、次の2項の問題点が生ずる。
第1の問題点は、ストリップ磁区分割用の電流パルスの
振幅が100 n s 〜150 n sでは200m
Aであるのに対して、20〜30nsでは300mAと
大きくなる問題である。これは、分割動作時にストリッ
プ磁区6の一部分の幅が狭くなる動作に必要な時間が、
電流パルスの振幅に依存するためである。
振幅が100 n s 〜150 n sでは200m
Aであるのに対して、20〜30nsでは300mAと
大きくなる問題である。これは、分割動作時にストリッ
プ磁区6の一部分の幅が狭くなる動作に必要な時間が、
電流パルスの振幅に依存するためである。
単2の問題点は、電流パルスの駆動回路にある。
パルス幅20〜30n sの電流パルスを発生する回路
では、立上り、立トリ時間もIons程度と短くする必
要があるため、パルス幅100〜150nsの場合より
も回路のコストが上昇するという点がある。
では、立上り、立トリ時間もIons程度と短くする必
要があるため、パルス幅100〜150nsの場合より
も回路のコストが上昇するという点がある。
本発明は分割用電流パルスのパルス幅が100〜150
nsと大きくても1分割した直後にストリップ磁区6が
伸長する誤動作が生じないレプリケートゲートまたはデ
ュアルゲートを提供することにある。
nsと大きくても1分割した直後にストリップ磁区6が
伸長する誤動作が生じないレプリケートゲートまたはデ
ュアルゲートを提供することにある。
[in!1題を解決するための手段]
上&!目的を達成するために、バブルを拡大したストリ
ップ磁区6を分割するためのヘアピンコンダクタパター
ン6または平行コンダクタパターン5を、ストリップ磁
区分割が生じる部分の近傍においてバブル拡大用ヘアピ
ンとほぼ平行に配置したものである。
ップ磁区6を分割するためのヘアピンコンダクタパター
ン6または平行コンダクタパターン5を、ストリップ磁
区分割が生じる部分の近傍においてバブル拡大用ヘアピ
ンとほぼ平行に配置したものである。
磁気バブル分割動作において、まずバブル拡大用のヘア
ピンコンダクタパターン4に電流パルスを流して、ヘア
ピンギャップ7のバイアス磁界を下げることにより、マ
イナループ1のコーナパターン上またはノージャライン
2上に存在する磁気バブルをヘアピンギャップ7の内側
に伸長させストリップ磁区とする。続いてストリップ磁
区分割用コンダクタパターン5に電流パルスを印加し、
分割用コンダクタパターン5のギャップの狭い部分8に
おいてバイアス磁界を^くすることによりヘアピンギャ
ップ7に伸長したストリップ磁区を2個のストリップ磁
区に分割する。この分割動作において、分割用コンダク
タパターンに印加した電流パルスによって発生する磁界
パルスは、ヘアピンギャップ7の内側、すなわち伸長し
たストリップ磁区が存在する領域ではバイアス磁界が高
くなる向きに加わる。従って分割したストリップ磁区は
それぞれ上下の方向に収縮するだけで、バイアス磁界の
一トがるヘアピンギャップ゛7の外側に移動したり、ま
た不必要な方向に伸長して誤動作することはない。
ピンコンダクタパターン4に電流パルスを流して、ヘア
ピンギャップ7のバイアス磁界を下げることにより、マ
イナループ1のコーナパターン上またはノージャライン
2上に存在する磁気バブルをヘアピンギャップ7の内側
に伸長させストリップ磁区とする。続いてストリップ磁
区分割用コンダクタパターン5に電流パルスを印加し、
分割用コンダクタパターン5のギャップの狭い部分8に
おいてバイアス磁界を^くすることによりヘアピンギャ
ップ7に伸長したストリップ磁区を2個のストリップ磁
区に分割する。この分割動作において、分割用コンダク
タパターンに印加した電流パルスによって発生する磁界
パルスは、ヘアピンギャップ7の内側、すなわち伸長し
たストリップ磁区が存在する領域ではバイアス磁界が高
くなる向きに加わる。従って分割したストリップ磁区は
それぞれ上下の方向に収縮するだけで、バイアス磁界の
一トがるヘアピンギャップ゛7の外側に移動したり、ま
た不必要な方向に伸長して誤動作することはない。
(実施例1)
本発明の第1の実施例を沁1図を用いて説明する。本実
施例のゲートはレプリケートゲートの機能を有するゲー
トであり、第2図に示した従来型のレプリケートゲート
を改良したものである。マイナループ1のコーナパター
ンのティップ部9とメージヤライン2のカスプ10にそ
のギャップが重なる様にバブル拡大用ヘアピンコンダク
タパターン4を設ける。バブル拡大用コンダクタパター
ン4とは電気的に絶縁する層をはさんでバブル分割用コ
ンダクタパターン5を設ける。コンダクタパターン5は
そのギャップが狭い領域8を有し、かつギャップが狭い
領域8はコンダクタパターン4によって形成されるヘア
ピンギャップ7に近接して配置される。また、コンダク
タパターン4゜5はこのヘアピンギャップ8の近傍にお
いて互にほぼ平行となる様に配置する。
施例のゲートはレプリケートゲートの機能を有するゲー
トであり、第2図に示した従来型のレプリケートゲート
を改良したものである。マイナループ1のコーナパター
ンのティップ部9とメージヤライン2のカスプ10にそ
のギャップが重なる様にバブル拡大用ヘアピンコンダク
タパターン4を設ける。バブル拡大用コンダクタパター
ン4とは電気的に絶縁する層をはさんでバブル分割用コ
ンダクタパターン5を設ける。コンダクタパターン5は
そのギャップが狭い領域8を有し、かつギャップが狭い
領域8はコンダクタパターン4によって形成されるヘア
ピンギャップ7に近接して配置される。また、コンダク
タパターン4゜5はこのヘアピンギャップ8の近傍にお
いて互にほぼ平行となる様に配置する。
このゲートのバブル分割動作は、ヘアピンコンダクタパ
ターン4にバブル拡大用電流パルスを流してヘアピンギ
ャップ7の中でバブルを伸長することにより始める。伸
長させる磁気バブルはメージヤライン2のカスプlOま
たはマイナループlのコーナのティップ9のいずれかに
存在する。バブル拡大用電流パルスにより伸長したスト
リップ磁区はその両端がティップ9とカスプ10に存在
する。この状態でストリップ磁区分割用電流パルスをコ
ンダクタパターン5に流す、この電流パルスによりギャ
ップ8の部分にバイアス磁界が高くなる磁界パルスが生
じ、ストリップ磁区は2個に分割される。
ターン4にバブル拡大用電流パルスを流してヘアピンギ
ャップ7の中でバブルを伸長することにより始める。伸
長させる磁気バブルはメージヤライン2のカスプlOま
たはマイナループlのコーナのティップ9のいずれかに
存在する。バブル拡大用電流パルスにより伸長したスト
リップ磁区はその両端がティップ9とカスプ10に存在
する。この状態でストリップ磁区分割用電流パルスをコ
ンダクタパターン5に流す、この電流パルスによりギャ
ップ8の部分にバイアス磁界が高くなる磁界パルスが生
じ、ストリップ磁区は2個に分割される。
この分割動作において、ストリップ磁区のどの部分にお
いても加わる磁界はバイアス磁界が強くなる方向である
ので、従来例の様にストリップ磁区が不必要な方向に伸
長するという誤動作は生じない。
いても加わる磁界はバイアス磁界が強くなる方向である
ので、従来例の様にストリップ磁区が不必要な方向に伸
長するという誤動作は生じない。
(実施例2)
本発明の第2の実施例を第5図を用いて説明する。本実
施例は第3図に示したデュアルゲートのバブル消去およ
びバブル分割用のコンダクタパターン5を改良したもの
である。マイナループlのコーナのティップ9とメージ
ヤライン2のカスプ10との間にそのギャップがまたが
るバブル拡大用ヘアピンコンダクタパターン4を用いて
いる。
施例は第3図に示したデュアルゲートのバブル消去およ
びバブル分割用のコンダクタパターン5を改良したもの
である。マイナループlのコーナのティップ9とメージ
ヤライン2のカスプ10との間にそのギャップがまたが
るバブル拡大用ヘアピンコンダクタパターン4を用いて
いる。
このコンダクタパターン4のパターン形状は第3図に示
したデュアルゲートとほぼ同一である。
したデュアルゲートとほぼ同一である。
分割および消去用コンダクタパターンは、実施例1の場
合と同様に、ストリップ磁区を分割するギャップ8の近
傍においてのみギャップ幅を狭くしている。またストレ
ッチコンダクタと分割および消去用コンダクタパターン
はギャップ8の近傍でほぼ平行である。マイナループ1
のコーナパターン上で擬似スワップ動作において磁気バ
ブルを消去するためにコンダクタパターン5の一部を折
り曲げてヘアピンを作っている。またその他の部分では
バブル消去およびストリップ磁区分割時にコンダクタパ
ターンが作る磁界の影響を転送路上の他の磁気バブルに
与えない様にするためにパターン幅を一部分広くしてい
る。
合と同様に、ストリップ磁区を分割するギャップ8の近
傍においてのみギャップ幅を狭くしている。またストレ
ッチコンダクタと分割および消去用コンダクタパターン
はギャップ8の近傍でほぼ平行である。マイナループ1
のコーナパターン上で擬似スワップ動作において磁気バ
ブルを消去するためにコンダクタパターン5の一部を折
り曲げてヘアピンを作っている。またその他の部分では
バブル消去およびストリップ磁区分割時にコンダクタパ
ターンが作る磁界の影響を転送路上の他の磁気バブルに
与えない様にするためにパターン幅を一部分広くしてい
る。
本実施例のゲートの動作は擬似スワップ動作時のバブル
消去以外は実施例1の場合と同様である。
消去以外は実施例1の場合と同様である。
レプリケート動作時には、ヘアピンコンダクタパターン
4によりヘアギャップ7のバイアス磁界が下がる方向に
電流パルスを流すことにより、マイナループコーナのテ
ィップ9上に存在する磁気バブルを伸長させ、ストリッ
プ磁区とする。続いて分割用コンダクタパターンに分割
用電流パルスを流してギャップ8におけるバイアス磁界
を上げ、ストリップ磁区を二つに分割する。
4によりヘアギャップ7のバイアス磁界が下がる方向に
電流パルスを流すことにより、マイナループコーナのテ
ィップ9上に存在する磁気バブルを伸長させ、ストリッ
プ磁区とする。続いて分割用コンダクタパターンに分割
用電流パルスを流してギャップ8におけるバイアス磁界
を上げ、ストリップ磁区を二つに分割する。
この動作においてストリップ磁区が存在する領域のバイ
アス磁界はすべて強くなるだけであり、ストリップ磁区
が不要な伸長、移動をすることが生じない。
アス磁界はすべて強くなるだけであり、ストリップ磁区
が不要な伸長、移動をすることが生じない。
擬似スワップ動作においては、まずマイナループコーナ
上の磁気バブルを電流パルスの印加によりコンダクタパ
ターン5のアナイアレート用ヘアピン部11で消去する
。続いてメージヤライン2のカスプ10に存在する書込
みデータに対応する磁気バブルをヘアピンコンダクタパ
ターン4に電流パルスを流してより伸長させストリップ
磁区とする。続けてコンダクタパターン5に電流パルス
を流してギャップ8のバイア不磁界を強めてストリップ
磁区を2個に分割する。この動作はレプリケートの場合
と同様である。
上の磁気バブルを電流パルスの印加によりコンダクタパ
ターン5のアナイアレート用ヘアピン部11で消去する
。続いてメージヤライン2のカスプ10に存在する書込
みデータに対応する磁気バブルをヘアピンコンダクタパ
ターン4に電流パルスを流してより伸長させストリップ
磁区とする。続けてコンダクタパターン5に電流パルス
を流してギャップ8のバイア不磁界を強めてストリップ
磁区を2個に分割する。この動作はレプリケートの場合
と同様である。
本発明によれば、イオン打込み素子のストリップ磁区分
割用コンダクタパターンに流れる電流パルスが発生する
パルス磁界により、分割したストリップ磁区が不要な方
向に伸長したり移動したりする誤動作を防止できるので
、イオン打込み素子のレプリケートゲートまたはデュア
ルゲートの動作に必要な電流パルスの振幅およびパルス
幅のマージンを大きくできる効果がある。
割用コンダクタパターンに流れる電流パルスが発生する
パルス磁界により、分割したストリップ磁区が不要な方
向に伸長したり移動したりする誤動作を防止できるので
、イオン打込み素子のレプリケートゲートまたはデュア
ルゲートの動作に必要な電流パルスの振幅およびパルス
幅のマージンを大きくできる効果がある。
第1図、第5図は本発明の実施例を示す磁気バブルメモ
リ素子要部の平面図、第2図は従来のレプリケートゲー
トを示す平【m図、第3図は従来のデュアルゲートを示
す平向図、第4図は従来のレプリケートゲートおよびデ
ュアルゲートにおけるバブル分割時の誤動作を示す平面
図である。 l・・・マイナループ、2・・・メージヤライン、3・
・・マイナループコーナ、4・・・バブル拡大用ヘアピ
ンコンダクタパターン、5・・・分割、消去用コンダク
タパターン、6・・・磁気バブル、7,8・・・ギャッ
プ部、9・・・マイナループコーナ。 茶 図
リ素子要部の平面図、第2図は従来のレプリケートゲー
トを示す平【m図、第3図は従来のデュアルゲートを示
す平向図、第4図は従来のレプリケートゲートおよびデ
ュアルゲートにおけるバブル分割時の誤動作を示す平面
図である。 l・・・マイナループ、2・・・メージヤライン、3・
・・マイナループコーナ、4・・・バブル拡大用ヘアピ
ンコンダクタパターン、5・・・分割、消去用コンダク
タパターン、6・・・磁気バブル、7,8・・・ギャッ
プ部、9・・・マイナループコーナ。 茶 図
Claims (1)
- 1、メージヤラインを構成するイオン打込み転送路とマ
イナループを構成するイオン打込み転送路との間に少な
くとも第1のヘアピンコンダクタパターンと、該第1の
ヘアピンコンダクタパターンとほぼ平行であり、該第1
のヘアピンコンダクタパターンから1μm以内の距離に
ある部分を有し、かつ該第1のヘアピンコンダクタパタ
ーンと絶縁された2本のコンダクタパターンとを含むゲ
ートを有することを特徴とするイオン打込み磁気バブル
メモリ素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1211302A JPH0376088A (ja) | 1989-08-18 | 1989-08-18 | イオン打込み磁気バブルメモリ素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1211302A JPH0376088A (ja) | 1989-08-18 | 1989-08-18 | イオン打込み磁気バブルメモリ素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0376088A true JPH0376088A (ja) | 1991-04-02 |
Family
ID=16603696
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1211302A Pending JPH0376088A (ja) | 1989-08-18 | 1989-08-18 | イオン打込み磁気バブルメモリ素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0376088A (ja) |
-
1989
- 1989-08-18 JP JP1211302A patent/JPH0376088A/ja active Pending
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