JPH0376568A - 細胞処理用噴射装置及び同装置のピストン - Google Patents
細胞処理用噴射装置及び同装置のピストンInfo
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- JPH0376568A JPH0376568A JP1211071A JP21107189A JPH0376568A JP H0376568 A JPH0376568 A JP H0376568A JP 1211071 A JP1211071 A JP 1211071A JP 21107189 A JP21107189 A JP 21107189A JP H0376568 A JPH0376568 A JP H0376568A
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- cylinder
- cell processing
- combustion gas
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12N—MICROORGANISMS OR ENZYMES; COMPOSITIONS THEREOF; PROPAGATING, PRESERVING, OR MAINTAINING MICROORGANISMS; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING; CULTURE MEDIA
- C12N15/00—Mutation or genetic engineering; DNA or RNA concerning genetic engineering, vectors, e.g. plasmids, or their isolation, preparation or purification; Use of hosts therefor
- C12N15/09—Recombinant DNA-technology
- C12N15/87—Introduction of foreign genetic material using processes not otherwise provided for, e.g. co-transformation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12M—APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
- C12M35/00—Means for application of stress for stimulating the growth of microorganisms or the generation of fermentation or metabolic products; Means for electroporation or cell fusion
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、細胞に形質転換等を起こさせるために使用さ
れる細胞処理用噴射装置並びにこの装置に使用されるピ
ストンに関する。
れる細胞処理用噴射装置並びにこの装置に使用されるピ
ストンに関する。
すなわち、この噴射装置は、例えば、遺伝物質を付着さ
せた金属微粒粉等の細胞処理材を高速で噴射し、細胞を
含む試料に当てて遺伝物質を細胞内に注入したり、細胞
に細胞を高速噴射して細胞融合を起こさぜたりする用途
に利用されるものである。
せた金属微粒粉等の細胞処理材を高速で噴射し、細胞を
含む試料に当てて遺伝物質を細胞内に注入したり、細胞
に細胞を高速噴射して細胞融合を起こさぜたりする用途
に利用されるものである。
従来の技術と発明の課題
この種の噴射装置として、これ麦で、鋲打ち銃を改造し
たものが知られている。これは、本来が銃であるため、
細胞処理材を押出すピストンの速度が過大であり、装置
内体の破損を生じやすく、またピストン速度の調節がで
きないので取扱いにくい、という不都合を有している。
たものが知られている。これは、本来が銃であるため、
細胞処理材を押出すピストンの速度が過大であり、装置
内体の破損を生じやすく、またピストン速度の調節がで
きないので取扱いにくい、という不都合を有している。
そこで、本発明は、市販の鋲打ち銃用カートリッジをそ
のまま使用しても、ピストン速度を十分低速ヒして破損
を防ｌＬシ、かつピストンの速度調節のできる噴射装置
を得ることを目的として峯出されたものである。
のまま使用しても、ピストン速度を十分低速ヒして破損
を防ｌＬシ、かつピストンの速度調節のできる噴射装置
を得ることを目的として峯出されたものである。
課題を解決するための手段及び作用
本発明は、後端に火薬を収納し、これを点火機構により
点火させることのできるようになったシリンダと、中央
に小孔を有する板体よりなり、前記シリンダ前錫に設け
られ、減圧した空間を介して処理すべき試料に対向し、
先端に金属微粒粉等の細胞処理材を付着さぜ火薬の燃焼
ガスに押されてシリンダ内を進行するピストンを衝突さ
ぜ、小孔を通して細胞処理材を試料に噴射させる噴射部
と、前記シリンダ側面に設けられた排気孔に接続し、火
薬の燃焼ガスを任意に設定した圧力に応じて逃しピスト
ンの速度を調節する可変調圧弁とを右するここを特徴と
する細胞処理用噴射装置である。
点火させることのできるようになったシリンダと、中央
に小孔を有する板体よりなり、前記シリンダ前錫に設け
られ、減圧した空間を介して処理すべき試料に対向し、
先端に金属微粒粉等の細胞処理材を付着さぜ火薬の燃焼
ガスに押されてシリンダ内を進行するピストンを衝突さ
ぜ、小孔を通して細胞処理材を試料に噴射させる噴射部
と、前記シリンダ側面に設けられた排気孔に接続し、火
薬の燃焼ガスを任意に設定した圧力に応じて逃しピスト
ンの速度を調節する可変調圧弁とを右するここを特徴と
する細胞処理用噴射装置である。
この装置では、排気孔、可変調圧弁を有しているから、
火薬の燃焼ガスを排出してピストンの速度を低下させ、
かつこの排出によりガスのＩＥ力を調節してピストンの
速度を調節することができる。
火薬の燃焼ガスを排出してピストンの速度を低下させ、
かつこの排出によりガスのＩＥ力を調節してピストンの
速度を調節することができる。
この装置の可変調圧弁としては任意のものを使用するこ
こができるが、例えば、シリンダ外周に可動に設けられ
、排気孔からの燃焼ガスを受入れ、軸方向に放出する通
路が形成された可動環と、この可動環を押し、Ｏ１１記
通路をシリンダ外周に設けられた当接部に押付けるよう
付勢し、燃焼ガスの圧力に応じて当接部から離れるよう
にするバネこ、シリンダ外周に螺合し、このバネ後部を
保持し、位置を変えて前記可動環の押付は力を調節する
調節環とを有するものを使用することができる。
こができるが、例えば、シリンダ外周に可動に設けられ
、排気孔からの燃焼ガスを受入れ、軸方向に放出する通
路が形成された可動環と、この可動環を押し、Ｏ１１記
通路をシリンダ外周に設けられた当接部に押付けるよう
付勢し、燃焼ガスの圧力に応じて当接部から離れるよう
にするバネこ、シリンダ外周に螺合し、このバネ後部を
保持し、位置を変えて前記可動環の押付は力を調節する
調節環とを有するものを使用することができる。
この構成の可変調圧弁では、排気孔からの燃焼ガスは、
通路を通って当接部に当たり、バネに抗して可動環を当
接部から離し、外部へ放出される。
通路を通って当接部に当たり、バネに抗して可動環を当
接部から離し、外部へ放出される。
このとき、バネの押付は力により可動環の移動距離が異
なり、ガスの放出−（辻、すなわちシリンダ内の圧力が
調節され、ピストンの速度が調節される。
なり、ガスの放出−（辻、すなわちシリンダ内の圧力が
調節され、ピストンの速度が調節される。
さらに、本発明の細胞処理用噴射装置は、シリンダ側面
の、ピストンが噴射部に衝突する前にピストン後方とな
る位置に形成され、火薬の燃焼ガスを排出してピストン
を減速させる減速用排気孔を右するものとしてもよい。
の、ピストンが噴射部に衝突する前にピストン後方とな
る位置に形成され、火薬の燃焼ガスを排出してピストン
を減速させる減速用排気孔を右するものとしてもよい。
この減速用排気孔を設けると、より多くの燃焼ガスが排
出され、ピストンの速度はさらに低下させられる。
出され、ピストンの速度はさらに低下させられる。
また本発明１ま、ｌｌ記装＋、ｙｊに使用されるビスト
ンにおいて、外周へ突出してシリンダ内面を弾性的に押
し、シリンダ内の任意位置に装填して止めることを可能
とする弾性突出部を有することを特徴とする細胞処理用
噴射装置のビスＩ・ンを含む。
ンにおいて、外周へ突出してシリンダ内面を弾性的に押
し、シリンダ内の任意位置に装填して止めることを可能
とする弾性突出部を有することを特徴とする細胞処理用
噴射装置のビスＩ・ンを含む。
この弾性突出部の構成は任意であり、後端周縁からリブ
状に突出するもの、側面から一部が舌状に突出するもの
等とするこヒができる。
状に突出するもの、側面から一部が舌状に突出するもの
等とするこヒができる。
このピストンを用いると、火薬ヒビスｈンとの間隔を自
由に設定して装填するここができる。火薬ヒビストンと
の間隔が拡がるヒ燃焼ガスω最大正力が低下するので、
ピストンの速度は低下する。
由に設定して装填するここができる。火薬ヒビストンと
の間隔が拡がるヒ燃焼ガスω最大正力が低下するので、
ピストンの速度は低下する。
すなわち、ピストンの装填位置によってもピストンの速
度調節ができる。
度調節ができる。
さらに、上記装置に使用されるピストンにおいて、先端
中央部に、細胞処理材を水等の表面張力で集中させて付
着させることのできる凹部を打するこεを特徴とする細
胞処理用噴射装置のピストンを含む。
中央部に、細胞処理材を水等の表面張力で集中させて付
着させることのできる凹部を打するこεを特徴とする細
胞処理用噴射装置のピストンを含む。
」二記装置では、排気孔、減速用排気孔を有するので、
装填時あるいは発射時に、ピストンはこの孔に沿って進
む。このため従来の光線が平滑なピストンでは、細胞処
理材を水等で付着させたとき、ピストン先端の全面に付
着するので、この孔から外部へ流失する。この四部を設
けると、細胞処理材は中心部にのみ付着するので、この
流失は防止される。また、細胞処理材は噴射部の小孔の
位置に集中しているので、無駄なくイ４効に噴射される
ここになる。
装填時あるいは発射時に、ピストンはこの孔に沿って進
む。このため従来の光線が平滑なピストンでは、細胞処
理材を水等で付着させたとき、ピストン先端の全面に付
着するので、この孔から外部へ流失する。この四部を設
けると、細胞処理材は中心部にのみ付着するので、この
流失は防止される。また、細胞処理材は噴射部の小孔の
位置に集中しているので、無駄なくイ４効に噴射される
ここになる。
実施例
以下本発明を図示する実施例について具体的に説明する
。
。
この細胞処理用噴射装置１，０は、台部１１１に着脱目
在のケース１２を載せ、全体を被う、：ヒができ、ケー
ス１２を被せて吸引口】、３から真空ポンプ（図示しな
い）で内部の空気を吸引し、内部全体を減圧状態にする
ことができる。
在のケース１２を載せ、全体を被う、：ヒができ、ケー
ス１２を被せて吸引口】、３から真空ポンプ（図示しな
い）で内部の空気を吸引し、内部全体を減圧状態にする
ことができる。
台部１１側部には、支柱１４が設けられ、これにシリン
ダ１５を保持するホルダ１６が押えネジ１７を操作する
ここにより」二下イｌ′１．置調節可能どなるように取
付けられている。
ダ１５を保持するホルダ１６が押えネジ１７を操作する
ここにより」二下イｌ′１．置調節可能どなるように取
付けられている。
シリンダ１５は、垂直にして後部をホルダ１６に保持さ
れ、ホルダ１６Ｉ：にボルト式の装填・点火機構１８が
設けられ、これを操作してシリンダ１５内にピストン１
９を装填し、シリンダ１５後端に鋲打ち銃用空砲カート
リッジ２０を収納させ、これを点火させることができる
。なおこの点火はソレノイドで作動するようにされ、操
作はケース１２外から行われる。
れ、ホルダ１６Ｉ：にボルト式の装填・点火機構１８が
設けられ、これを操作してシリンダ１５内にピストン１
９を装填し、シリンダ１５後端に鋲打ち銃用空砲カート
リッジ２０を収納させ、これを点火させることができる
。なおこの点火はソレノイドで作動するようにされ、操
作はケース１２外から行われる。
シリンダ１５の前端すなわち下端には、前部カバー２１
がバヨネット式ネジで着脱「目【ミに取付けられている
。１１１Ｉ部カバー２１は、台部１１、上に置かれる試
料２２を被うと共に、シリンダ１５前端との間に噴射部
２３を挟持して止める。噴射部２３は板体２４の中央に
テーバ状の小孔２５を形成してなる。シリンダ１５の前
端近く位置には、前端棲気孔２６．・・・、２７．・・
・が連通するようにシリンダ１５及び前部カバー２１に
それぞれ形成されている。
がバヨネット式ネジで着脱「目【ミに取付けられている
。１１１Ｉ部カバー２１は、台部１１、上に置かれる試
料２２を被うと共に、シリンダ１５前端との間に噴射部
２３を挟持して止める。噴射部２３は板体２４の中央に
テーバ状の小孔２５を形成してなる。シリンダ１５の前
端近く位置には、前端棲気孔２６．・・・、２７．・・
・が連通するようにシリンダ１５及び前部カバー２１に
それぞれ形成されている。
シリンダ１５の後端近く位置には、排気孔２８゜・・・
が設けられ、この排気孔２８．・・・の外方には、可変
調圧弁２９が設けられている。この可変調圧弁２９は、
可動環３０、バネ３１及び調節環３２からなる。可動環
３０は、シリンダ１５の外周に上下動可能に嵌合１７、
上面には環状の通路３３が形成され、排気孔２８．・・
・からのガスを受入れて上方へ放出する。バネ３１は、
可動環３０を４二方へ押し、可動環３０上端をホルダ１
６下面の当接部３４に押付けるよう付勢する。調節環３
２は、シリンダ１５外周に形成されたネジ３５に螺合し
、バネ３１の後部を保持し、外周を手で回動させ−Ｌ下
動させることにより、バネ３１の可動環３０を押す押付
は力を調節することができる。
が設けられ、この排気孔２８．・・・の外方には、可変
調圧弁２９が設けられている。この可変調圧弁２９は、
可動環３０、バネ３１及び調節環３２からなる。可動環
３０は、シリンダ１５の外周に上下動可能に嵌合１７、
上面には環状の通路３３が形成され、排気孔２８．・・
・からのガスを受入れて上方へ放出する。バネ３１は、
可動環３０を４二方へ押し、可動環３０上端をホルダ１
６下面の当接部３４に押付けるよう付勢する。調節環３
２は、シリンダ１５外周に形成されたネジ３５に螺合し
、バネ３１の後部を保持し、外周を手で回動させ−Ｌ下
動させることにより、バネ３１の可動環３０を押す押付
は力を調節することができる。
シリンダ１５の中間部には、減速用排気孔３６゜・・・
が形成されている。この減速用排気孔３６．・・・は縦
長形状ヒなって急速にガスを放出することが可能となり
、またピストン１９が進行して噴射部２３に衝突する前
にピストン１９の後方となる位置に設けられている。
が形成されている。この減速用排気孔３６．・・・は縦
長形状ヒなって急速にガスを放出することが可能となり
、またピストン１９が進行して噴射部２３に衝突する前
にピストン１９の後方となる位置に設けられている。
ピストン１９は、ナイロン等の合成樹脂製丸棒体よりな
り、後端周縁はリブ状の弾性突出部３７ヒなって外周へ
突１［４シ、ここがシリンダ１５内面を弾性的に押し、
任意位置に装填して止めるこヒが可能となっている。
り、後端周縁はリブ状の弾性突出部３７ヒなって外周へ
突１［４シ、ここがシリンダ１５内面を弾性的に押し、
任意位置に装填して止めるこヒが可能となっている。
またピストン１９の先端中央部には、四部３８が形成さ
れている。
れている。
この細胞処理用噴射装置１０及びピストン１９は、以上
の構成であり、次のようにして使用される。
の構成であり、次のようにして使用される。
初めに、台部１１上に処理すべき細胞を含む試料２２を
置き、この真上に噴出部２３が適当な間隔で位置するよ
うホルダ１６の高さを調節して固定する。ピストン１９
の凹部３８に、細胞処理材、３９例えば遺伝物質をタン
グステン微粒粉に付着させたものを水の表面張力を用い
て付着させ、このピストン１９を装填・点火機構１８を
操作してシリンダ１５内に装填する。このとき棒状の治
具等を用いて、ピストン１９の装填位置が適当になるよ
う設定する。さらに、空砲カートリッジ２０を収納し、
装填作業を完了する。次に、可変調圧弁２９の調節環３
２を操作して適当な位置に設定し、ケース１２を被せ、
ケース１，２内金体を１０ｍｍＨｇ以下程度に減圧すゐ
。
置き、この真上に噴出部２３が適当な間隔で位置するよ
うホルダ１６の高さを調節して固定する。ピストン１９
の凹部３８に、細胞処理材、３９例えば遺伝物質をタン
グステン微粒粉に付着させたものを水の表面張力を用い
て付着させ、このピストン１９を装填・点火機構１８を
操作してシリンダ１５内に装填する。このとき棒状の治
具等を用いて、ピストン１９の装填位置が適当になるよ
う設定する。さらに、空砲カートリッジ２０を収納し、
装填作業を完了する。次に、可変調圧弁２９の調節環３
２を操作して適当な位置に設定し、ケース１２を被せ、
ケース１，２内金体を１０ｍｍＨｇ以下程度に減圧すゐ
。
以Ｊ：で単備を終わり、この後外部から装填・点火装置
１８を操作してカートリッジ２０を点火する。こうする
と、カートリッジの火薬の燃焼ガスは、ピストン１９を
押して加速し、噴出部に衝突さ竹、この衝突ヒ共に細胞
処理材３０は小孔２５から噴射され試料２２に衝突し、
形質転換等の処理が行われる。
１８を操作してカートリッジ２０を点火する。こうする
と、カートリッジの火薬の燃焼ガスは、ピストン１９を
押して加速し、噴出部に衝突さ竹、この衝突ヒ共に細胞
処理材３０は小孔２５から噴射され試料２２に衝突し、
形質転換等の処理が行われる。
このこきピストン１９ヒカートリツジ２０との間隔によ
り、ガスの最大圧力が調節され、可変調圧弁２９により
排気孔２８．・・・から排出されるガス殴が調節される
ので、ピストン１９の速度は適当に設定され、さらに減
速用排気孔３５．・・・からガスを排出してピストン１
９の速度は減速される。
り、ガスの最大圧力が調節され、可変調圧弁２９により
排気孔２８．・・・から排出されるガス殴が調節される
ので、ピストン１９の速度は適当に設定され、さらに減
速用排気孔３５．・・・からガスを排出してピストン１
９の速度は減速される。
なお、前端排気孔２６．・・・、２７．・・・はピスト
ン１９と噴射部２３との間に挟まれ、正相される突気を
排出するためのものである。
ン１９と噴射部２３との間に挟まれ、正相される突気を
排出するためのものである。
この後、試料２２を取出し、処理を終わる。ピストン１
９は、前部カバー２１をシリンダ１５から外して取出き
れ廃棄され、またカートリッジ２０は装填・点火機構１
８を操作して取出される。
９は、前部カバー２１をシリンダ１５から外して取出き
れ廃棄され、またカートリッジ２０は装填・点火機構１
８を操作して取出される。
発明の効果
本発明の細胞処理用噴射装置は、上述のように、排気孔
、可変調圧弁をイｆしているので、ピストンの速度を調
節して所望の噴射速度で細胞処理材を噴射することがで
き、またピストンの速度を低下させることができるので
、破損の危険を招来することなく、市販の鋲打ち銃用空
砲カートリッジを側周することが可能となる。特に、可
変調圧弁として、可動環、バネ、調節環を用いたものと
すると、単純な構成で取扱いの容易なものとなる。さら
に、減速用排気孔を設けると、ピストンの速度をより大
きく低下させるここができる。
、可変調圧弁をイｆしているので、ピストンの速度を調
節して所望の噴射速度で細胞処理材を噴射することがで
き、またピストンの速度を低下させることができるので
、破損の危険を招来することなく、市販の鋲打ち銃用空
砲カートリッジを側周することが可能となる。特に、可
変調圧弁として、可動環、バネ、調節環を用いたものと
すると、単純な構成で取扱いの容易なものとなる。さら
に、減速用排気孔を設けると、ピストンの速度をより大
きく低下させるここができる。
本発明のピストンは、上述のように、弾性突出部を有す
るからシリンダ内の任意の位置にＩＬめることができ、
火薬この間隔を設定してガスの最大圧力を調節し、ピス
トンの速度を調節することができる。このため、前記可
変調圧弁と共に用いて、大帽な速度調節が可能こなる。
るからシリンダ内の任意の位置にＩＬめることができ、
火薬この間隔を設定してガスの最大圧力を調節し、ピス
トンの速度を調節することができる。このため、前記可
変調圧弁と共に用いて、大帽な速度調節が可能こなる。
また、ピストン先端に四部を形成すると、細胞処理材が
中央部に集中して付着させられるので、シリンダ側面に
排気孔等の孔があっても、流失したりする不都合がなく
、多くが噴射部の小孔から噴射され有効に利用されるｔ
いう利点も得られる。
中央部に集中して付着させられるので、シリンダ側面に
排気孔等の孔があっても、流失したりする不都合がなく
、多くが噴射部の小孔から噴射され有効に利用されるｔ
いう利点も得られる。
第１図は本発明の細胞処理用噴射装置の斜視図、第２図
は同装置並びに本発明ピストンの正断面図である。 １０・・・細胞処理用噴射装置、１５・・・シリンダ、
１８・・・装填・点火機構、１９・・・ピストン、２０
・・・空砲カートリッジ、２２・・・試料、２３・・・
噴射部、２４・・・板体、２５・・・小孔、２８．・・
・・・・排気孔、２９・・・可変調圧弁、３０・・・可
動環、３１・・・バネ、３２・・・調節環、３３・・・
通路、３４・・・当接部、３５・・・ネジ、３６．・・
・・・・減速用排気孔、３７・・・弾性突出部、３８・
・・四部、３９・・・細胞処理材。 ＱＬ 手続補正塵 １．事件の表示 平成１年特許願第２１１０７１号 ２、発明の名称 細胞処理用噴射装置及び同装置のピストン３、補正をす
る者 事件との関係 特許山願人 住所 東京都荒川区東日暮里５−２０−６氏名猪狩 實 住所 東京都千代田区丸の内二丁目６番１号名称 日本
ゼオン株式会社 代表者 滝 澤 毅 ４、代理人 自発 ６、補正により増加する請求項の数 ７、補正の対象 明細書中、「発明の詳細な説明Ｊの欄 ８、補正の内容 別紙の通り ｆへ 纂豆■ 補正の内容 明細書５貞１７行「できるが、例えば、Ｊを削除し、こ
こに、以下の字句を加入する。 「でき、例えば、通常安全弁として使用されている組錘
式、破裂板式等の弁をそのまま使用して、調節あるいは
交換することにより圧力を適当に設定しうるようにすれ
ばよい。麦た、好適なものヒして、」 以上
は同装置並びに本発明ピストンの正断面図である。 １０・・・細胞処理用噴射装置、１５・・・シリンダ、
１８・・・装填・点火機構、１９・・・ピストン、２０
・・・空砲カートリッジ、２２・・・試料、２３・・・
噴射部、２４・・・板体、２５・・・小孔、２８．・・
・・・・排気孔、２９・・・可変調圧弁、３０・・・可
動環、３１・・・バネ、３２・・・調節環、３３・・・
通路、３４・・・当接部、３５・・・ネジ、３６．・・
・・・・減速用排気孔、３７・・・弾性突出部、３８・
・・四部、３９・・・細胞処理材。 ＱＬ 手続補正塵 １．事件の表示 平成１年特許願第２１１０７１号 ２、発明の名称 細胞処理用噴射装置及び同装置のピストン３、補正をす
る者 事件との関係 特許山願人 住所 東京都荒川区東日暮里５−２０−６氏名猪狩 實 住所 東京都千代田区丸の内二丁目６番１号名称 日本
ゼオン株式会社 代表者 滝 澤 毅 ４、代理人 自発 ６、補正により増加する請求項の数 ７、補正の対象 明細書中、「発明の詳細な説明Ｊの欄 ８、補正の内容 別紙の通り ｆへ 纂豆■ 補正の内容 明細書５貞１７行「できるが、例えば、Ｊを削除し、こ
こに、以下の字句を加入する。 「でき、例えば、通常安全弁として使用されている組錘
式、破裂板式等の弁をそのまま使用して、調節あるいは
交換することにより圧力を適当に設定しうるようにすれ
ばよい。麦た、好適なものヒして、」 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、後端に火薬を収納し、これを点火機構により点火さ
せることのできるようになったシリンダと、 中央に小孔を有する板体よりなり、前記シリンダ前端に
設けられ、減圧した空間を介して処理すべき試料に対向
し、先端に金属微粒粉等の細胞処理材を付着させ火薬の
燃焼ガスに押されてシリンダ内を進行するピストンを衝
突させ、小孔を通して細胞処理材を試料に噴射させる噴
射部と、 前記シリンダ側面に設けられた排気孔に接続し、火薬の
燃焼ガスを任意に設定した圧力に応じて逃しピストンの
速度を調節する可変調圧弁と を有することを特徴とする細胞処理用噴射装置。 ２ 請求項１において、 可変調圧弁が、 シリンダ外周に可動に設けられ、排気孔からの燃焼ガス
を受入れ、軸方向に放出する通路が形成された可動環と
、 この可動環を押し、前記通路をシリンダ外周に設けられ
た当接部に押付けるよう付勢し、燃焼ガスの圧力に応じ
て当接部から離れるようにするバネと、 シリンダ外周に螺合し、このバネ後部を保持し、位置を
変えて前記可動環の押付け力を調節する調節環と を有することを特徴とする細胞処理用噴射装置。 ３、請求項１又は２において、 シリンダ側面の、ピストンが噴射部に衝突する前にピス
トン後方となる位置に形成され、火薬の燃焼ガスを排出
してピストンを減速させる減速用排気孔 を有することを特徴とする細胞処理用噴射装置。 ４、請求項１、２又は３の装置に使用されるピストンに
おいて、 外周へ突出してシリンダ内面を弾性的に押し、シリンダ
内の任意位置に装填して止めることを可能とする弾性突
出部 を有することを特徴とする細胞処理用噴射装置のピスト
ン。 ５、請求項１、２又は３の装置に使用されるピストンに
おいて、 先端中央部に、細胞処理材を水等の表面張力で集中させ
て付着させることのできる凹部 を有することを特徴とする細胞処理用噴射装置のピスト
ン。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1211071A JPH0376568A (ja) | 1989-08-16 | 1989-08-16 | 細胞処理用噴射装置及び同装置のピストン |
| AU60067/90A AU632352B2 (en) | 1989-08-16 | 1990-08-01 | Cell treating injection device |
| EP19900115189 EP0414044B1 (en) | 1989-08-16 | 1990-08-07 | Cell treating injection device |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1211071A JPH0376568A (ja) | 1989-08-16 | 1989-08-16 | 細胞処理用噴射装置及び同装置のピストン |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0376568A true JPH0376568A (ja) | 1991-04-02 |
Family
ID=16599927
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
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- 1990-08-15 CA CA 2023202 patent/CA2023202A1/en not_active Abandoned
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