JPH03771B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH03771B2 JPH03771B2 JP60285335A JP28533585A JPH03771B2 JP H03771 B2 JPH03771 B2 JP H03771B2 JP 60285335 A JP60285335 A JP 60285335A JP 28533585 A JP28533585 A JP 28533585A JP H03771 B2 JPH03771 B2 JP H03771B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating element
- element wire
- furnace body
- wires
- heat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、反応管に収容された半導体ウエー
ハなどの被加熱物を加熱処理する加熱装置に係
り、特に、発熱素線の配置形態に関する。
ハなどの被加熱物を加熱処理する加熱装置に係
り、特に、発熱素線の配置形態に関する。
従来、半導体処理において用いられる加熱装置
は、半導体ウエーハを収容する円筒状の反応管の
周面を覆う形態を持ち、その反応管の周面に対し
て均等な加熱を行うための発熱体を配設したもの
である。
は、半導体ウエーハを収容する円筒状の反応管の
周面を覆う形態を持ち、その反応管の周面に対し
て均等な加熱を行うための発熱体を配設したもの
である。
そして、半導体ウエーハの加熱処理は、半導体
ウエーハを収容した反応管を加熱装置の端面開口
部から挿入して行い、加熱処理を終了した半導体
ウエーハは反応管とともに加熱装置の端面開口部
から引出すようにしている。
ウエーハを収容した反応管を加熱装置の端面開口
部から挿入して行い、加熱処理を終了した半導体
ウエーハは反応管とともに加熱装置の端面開口部
から引出すようにしている。
ところで、加熱装置に対して反応管を長手方向
に出入させることは、加熱装置の端面側に反応管
を出入させるための反応管の長さ以上のスペース
を必要とするとともに、その出入時間が長く、と
りわけ、冷却のために加熱装置から反応管を引き
出す際に、加熱装置の余熱が反応管内の半導体ウ
エーハに作用し、冷却速度に限界を生じる。
に出入させることは、加熱装置の端面側に反応管
を出入させるための反応管の長さ以上のスペース
を必要とするとともに、その出入時間が長く、と
りわけ、冷却のために加熱装置から反応管を引き
出す際に、加熱装置の余熱が反応管内の半導体ウ
エーハに作用し、冷却速度に限界を生じる。
半導体ウエーハの冷却について、半導体装置に
よつては、その急速冷却の効果が直接にその特性
に影響を与える場合があり、急速冷却の要請が高
まつている。
よつては、その急速冷却の効果が直接にその特性
に影響を与える場合があり、急速冷却の要請が高
まつている。
このような要請を応えて、半導体ウエーハの急
速な加熱および冷却を実現するため、炉体を直径
方向に分割可能に構成し、炉体に対して反応管を
その直径方向に着脱するようにした加熱装置が提
案されている。
速な加熱および冷却を実現するため、炉体を直径
方向に分割可能に構成し、炉体に対して反応管を
その直径方向に着脱するようにした加熱装置が提
案されている。
そこで、この発明は、炉体の内壁面に設置され
る発熱素線の配置形態の改善を図つた加熱装置の
提供を目的とする。
る発熱素線の配置形態の改善を図つた加熱装置の
提供を目的とする。
この発明の加熱装置は、第1図に示すように、
円筒状炉体2A,2Bと、この炉体の内壁面に千
鳥状に設けられた発熱素線収納溝13と、この発
熱素線収納溝に嵌合して設けられた発熱素線14
と、この発熱素線の曲折部およびこの曲折部間に
設けられ上記発熱素線との対向位置に収納溝20
が形成され複数ラインの上記発熱素線を固定する
帯状固定片(固定片18)と、上記発熱素線を固
定する上記各固定片間に設けられ隣りに位置する
上記発熱素線間を一定の間隔に維持する帯状スペ
ーサ(スペーサ16)と、上記帯状固定片により
上記発熱素線を固定するとともに、上記固定片を
上記炉体の軸方向に連接させて配列する機構(固
定ボルト28およびナツト36)とを具備してな
るものである。
円筒状炉体2A,2Bと、この炉体の内壁面に千
鳥状に設けられた発熱素線収納溝13と、この発
熱素線収納溝に嵌合して設けられた発熱素線14
と、この発熱素線の曲折部およびこの曲折部間に
設けられ上記発熱素線との対向位置に収納溝20
が形成され複数ラインの上記発熱素線を固定する
帯状固定片(固定片18)と、上記発熱素線を固
定する上記各固定片間に設けられ隣りに位置する
上記発熱素線間を一定の間隔に維持する帯状スペ
ーサ(スペーサ16)と、上記帯状固定片により
上記発熱素線を固定するとともに、上記固定片を
上記炉体の軸方向に連接させて配列する機構(固
定ボルト28およびナツト36)とを具備してな
るものである。
この発明の加熱装置では、被加熱物を収容する
炉体の内壁面に対して発熱素線を千鳥状に一定の
間隔で配設したので、発熱温度の均一化とともに
その安定化が図られる。
炉体の内壁面に対して発熱素線を千鳥状に一定の
間隔で配設したので、発熱温度の均一化とともに
その安定化が図られる。
以下、この発明の実施例を図面を参照して説明
する。
する。
第1図および第2図は、この発明の加熱装置の
実施例を示し、第1図は加熱装置の発熱素線の配
置、第2図は加熱装置の全体構造を示す。
実施例を示し、第1図は加熱装置の発熱素線の配
置、第2図は加熱装置の全体構造を示す。
この加熱装置は、第2図に示すように、円筒状
の炉本体を縦方向に分割して2つの炉体2A,2
Bとし、各炉体2A,2Bは、支持台4の上面部
に一定の間隔で取り付けた支柱6に支持軸8を介
して個別に回動可能に支持されているとともに、
開閉機構10を介して開閉および所望の開度に保
持されるようになつている。
の炉本体を縦方向に分割して2つの炉体2A,2
Bとし、各炉体2A,2Bは、支持台4の上面部
に一定の間隔で取り付けた支柱6に支持軸8を介
して個別に回動可能に支持されているとともに、
開閉機構10を介して開閉および所望の開度に保
持されるようになつている。
そして、各炉体2A,2Bの内部には被加熱物
としての半導体ウエーハを入れた円筒状の反応管
を収容する収容部12が形成されている。
としての半導体ウエーハを入れた円筒状の反応管
を収容する収容部12が形成されている。
各炉体2A,2Bの収容部12は、セラミツク
などの断熱材によつて形成され、この収容部12
の内壁面には湾曲した内壁面に沿って発熱素線収
納溝13が形成されており、第1図に示すよう
に、その発熱素線収納溝13には千鳥状に折り曲
げられた発熱体としての発熱素線14が嵌合され
て配設されている。この場合、発熱素線14に
は、直径6.5mm程度の比較的太い素線が用いられ
ている。
などの断熱材によつて形成され、この収容部12
の内壁面には湾曲した内壁面に沿って発熱素線収
納溝13が形成されており、第1図に示すよう
に、その発熱素線収納溝13には千鳥状に折り曲
げられた発熱体としての発熱素線14が嵌合され
て配設されている。この場合、発熱素線14に
は、直径6.5mm程度の比較的太い素線が用いられ
ている。
そして、発熱素線14は、断熱材料によつて形
成された帯状のスペーサ16によつて一定の間隔
に配置されているとともに、発熱素線14の曲折
部およびこの曲折部間に設けられた帯状の固定片
18によつて炉体2A,2Bに固定されている。
成された帯状のスペーサ16によつて一定の間隔
に配置されているとともに、発熱素線14の曲折
部およびこの曲折部間に設けられた帯状の固定片
18によつて炉体2A,2Bに固定されている。
第3図は、炉体2A,2Bに対する発熱素線1
4の固定を示す。即ち、炉体2A,2Bの内壁面
に形成されている発熱素線収納溝13に発熱素線
14を配設するとともに、この発熱素線14との
対向位置に収納溝20が形成されている固定片1
8の収納溝20を当て、さらにこの固定片18の
外面に金属性の押え板22を当て、この押え板2
2および固定片18に形成した透孔24および炉
体2A,2Bの透孔26に固定ボルト28に貫通
させ、炉体2A,2Bの補強板30の外面に突出
させた固定ボルト28にワツシヤ32および断熱
リング34を取り付けるとともに、固定ボルト2
8のねじ部にナツト36を取り付けて締め付けた
ものである。したがつて、固定片18とともに、
固定ボルト28、ワツシヤ32、断熱リング34
およびナツト36を以て炉体2A,2Bの内壁面
に発熱素線14が固定されるとともに、固定片1
8を炉体2A,2Bの軸方向に連接させて配列す
る機構を成している。
4の固定を示す。即ち、炉体2A,2Bの内壁面
に形成されている発熱素線収納溝13に発熱素線
14を配設するとともに、この発熱素線14との
対向位置に収納溝20が形成されている固定片1
8の収納溝20を当て、さらにこの固定片18の
外面に金属性の押え板22を当て、この押え板2
2および固定片18に形成した透孔24および炉
体2A,2Bの透孔26に固定ボルト28に貫通
させ、炉体2A,2Bの補強板30の外面に突出
させた固定ボルト28にワツシヤ32および断熱
リング34を取り付けるとともに、固定ボルト2
8のねじ部にナツト36を取り付けて締め付けた
ものである。したがつて、固定片18とともに、
固定ボルト28、ワツシヤ32、断熱リング34
およびナツト36を以て炉体2A,2Bの内壁面
に発熱素線14が固定されるとともに、固定片1
8を炉体2A,2Bの軸方向に連接させて配列す
る機構を成している。
なお、発熱素線14の端子間には、駆動源とし
ての直流電源が接続され、その電流制御によつ
て、特定の温度で発熱させることができる。
ての直流電源が接続され、その電流制御によつ
て、特定の温度で発熱させることができる。
したがつて、発熱素線14は炉体2A,2Bの
被加熱物を収容する収容部12の内壁面に沿つて
組み込まれ、一定の間隔で配設されているので、
半導体ウエーハを収容した反応管などを均等に加
熱して所定の処理を行うことができる。
被加熱物を収容する収容部12の内壁面に沿つて
組み込まれ、一定の間隔で配設されているので、
半導体ウエーハを収容した反応管などを均等に加
熱して所定の処理を行うことができる。
また、発熱素線14に6.5mm程度の太い形状の
ものを用いることができるので、固定手段によつ
て確実に炉体2A,2Bの内部に強固に固定で
き、炉内温度による変形を防止できるので、温度
分布を均一に維持することができるとともに、安
定した加熱状態を保持でき、加熱寿命を長くする
ことができる。
ものを用いることができるので、固定手段によつ
て確実に炉体2A,2Bの内部に強固に固定で
き、炉内温度による変形を防止できるので、温度
分布を均一に維持することができるとともに、安
定した加熱状態を保持でき、加熱寿命を長くする
ことができる。
なお、実施例では、被加熱物として半導体ウエ
ーハを例に取つて説明したが、この発明の加熱装
置は、半導体ウエーハ以外の被加熱物についても
均等加熱を行うことができる。
ーハを例に取つて説明したが、この発明の加熱装
置は、半導体ウエーハ以外の被加熱物についても
均等加熱を行うことができる。
以上説明したように、この発明によれば、炉体
の被加熱物を収容する内壁面に対して発熱素線を
千鳥状に折り曲げて一定の間隔で配設するととも
に強固に固定したので、発熱時の垂れ下がりなど
の発熱素線の変形を防止でき、発熱温度を均一化
できるとともに、発熱温度の安定化を図ることが
できる。
の被加熱物を収容する内壁面に対して発熱素線を
千鳥状に折り曲げて一定の間隔で配設するととも
に強固に固定したので、発熱時の垂れ下がりなど
の発熱素線の変形を防止でき、発熱温度を均一化
できるとともに、発熱温度の安定化を図ることが
できる。
第1図はこの発明の加熱装置の実施例を示す斜
視図、第2図は第1図に示した加熱装置の全体構
成を示す斜視図、第3図は第1図に示した加熱装
置内の発熱素線の固定構造を示す断面図である。 2A,2B……炉体、12……収容部、13…
…発熱素線収納溝、14……発熱素線、16……
スペーサ、18……固定片(帯状固定片)、20
……収納溝、28……固定ボルト、36……ナツ
ト。
視図、第2図は第1図に示した加熱装置の全体構
成を示す斜視図、第3図は第1図に示した加熱装
置内の発熱素線の固定構造を示す断面図である。 2A,2B……炉体、12……収容部、13…
…発熱素線収納溝、14……発熱素線、16……
スペーサ、18……固定片(帯状固定片)、20
……収納溝、28……固定ボルト、36……ナツ
ト。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 円筒状炉体と、 この炉体の内壁面に千鳥状に設けられた発熱素
線収納溝と、 この発熱素線収納溝に嵌合して設けられた発熱
素線と、 この発熱素線の曲折部およびこの曲折部間に設
けられ上記発熱素線との対向位置に収納溝が形成
され複数ラインの上記発熱素線を固定する帯状固
定片と、 上記発熱素線を固定する上記各固定片間に設け
られ隣りに位置する上記発熱素線間を一定の間隔
に維持する帯状スペーサと、 上記帯状固定片により上記発熱素線を固定する
とともに、上記固定片を上記炉体の軸方向に連接
させて配列する機構と、 を具備してなることを特徴とする加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28533585A JPS62144333A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28533585A JPS62144333A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62144333A JPS62144333A (ja) | 1987-06-27 |
| JPH03771B2 true JPH03771B2 (ja) | 1991-01-08 |
Family
ID=17690217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28533585A Granted JPS62144333A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62144333A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2730102B2 (ja) * | 1988-11-18 | 1998-03-25 | 日本電気株式会社 | 抵抗線加熱炉 |
| SE530968C2 (sv) * | 2007-03-05 | 2008-11-04 | Sandvik Intellectual Property | Insats och värmeelement för elektriska ugnar |
| JP5096182B2 (ja) | 2008-01-31 | 2012-12-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理炉 |
| JP4769842B2 (ja) * | 2008-04-08 | 2011-09-07 | 株式会社アルファ・オイコス | 高温用加熱炉 |
| JP2011091386A (ja) * | 2009-09-24 | 2011-05-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 熱処理装置、熱処理方法及び半導体装置の作製方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5815838Y2 (ja) * | 1978-08-29 | 1983-03-30 | 電元冶金工業株式会社 | 電気炉の発熱体の支持構造 |
| JPS5955011A (ja) * | 1982-09-22 | 1984-03-29 | Fujitsu Ltd | 加熱装置 |
-
1985
- 1985-12-18 JP JP28533585A patent/JPS62144333A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62144333A (ja) | 1987-06-27 |
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