JPH0378261B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は表面に凹凸レリーフの印字面を有す
るゴム印字体の製造方法に関し、より詳しくは非
多孔性のゴムベース層の表面に薄手の多孔性ゴム
被覆層が一体形成された断面構造のゴム印字体を
製造するに際し、この多孔性ゴム被覆層を全面に
亘つて所望の均等な厚みに成形できるようにする
ことを目的とする。

すなわち、第１図に示す如き回転印において
は、ベルト状のゴム印字体Ａが手送り回転操作可
能に巻き掛けられており、このゴム印字体Ａの表
面には凹凸レリーフの印字面１が一定間隔置きに
突出形成されている。また、第２図に示す如きゴ
ム印においては、台木２の下面に同じく凹凸レリ
ーフの印字面１が形成されたゴム印字体Ａを貼着
したものとなつている。この発明はこの種のゴム
印字体Ａを対象とするものである。

〔背景技術〕

これらのゴム印字体Ａが通常の非多孔性ゴム材
で成形されたものでは、これの表面（印字面）に
水溶性インクが乗り難く、紙面に押しつけたとき
に印影が掠れるところに問題がある。これはゴム
印字体Ａの表面にインクを積極的に吸着捕足する
手段がないことによる。

そこで、本出願人は先に第３図に示す如き断面
構造のゴム印字体Ａを提案した（実願昭57−
194190号、同58−96086号）。この第３図は回転印
用のゴム印字体を例示しているが、これの基本構
造は厚手の非多孔性ゴムベース層３の表面に極薄
の多孔性ゴム被覆層４を一体に積層形成したもの
であり、これによるときは多孔性のゴム被覆層４
の微細な気孔の中にインクが吸着され、押印時の
圧縮変形でインクが表面に絞り出されるので、紙
面に対するインクの転写性が飛躍的に向上でき
た。

この種の積層構造のゴム印字体と似て非なるも
のに連続捺印を目的とする自動印判のゴム印字体
がある。この自動印判におけるゴム印字体ａは、
例えば第５図に示す如く空隙率の大きい多孔性の
第１ゴム層５の表面に、空隙率の小さい多孔性の
第２ゴム層６を積層形成し、第１ゴム層５に吸蔵
したインクを第２ゴム層６に移行させて第２ゴム
層６の表面を紙面に押圧するものである。これで
は第１ゴム層５は勿論のこと第２ゴム層６もイン
クを吸蔵させるために厚い。その結果、全体の腰
が弱く、紙面に押すと多孔性ゴム層５，６が全体
に大きく圧縮変形して、過剰なインクで印影がベ
タついて不鮮明になる。つまり圧縮性が過剰であ
るためにゴム印字体を強く押し過ぎないように接
当規制するストツパー手段が不可欠である。それ
に、これらの多孔性ゴム層５，６は空隙率が一般
に60〜90％程度に設定されているので当然に脆弱
であり第１図および第２図に示すゴム印字体のよ
うに印字面１を突出させたとき突出印字部が欠落
しやすい。いずれにせよ、本発明が対象とするゴ
ム印字体Ａにおける多孔性ゴム被覆層４は厚みが
0.05〜0.5mm程度のものであつて、自動印判のゴ
ム印字体ａにおけるゴム層５，６とは根本的に異
なるものである。

さて、本発明が対象とするゴム印字体Ａの製造
は、従来一般に第６図に示すごとく適当な厚さを
有する未加硫のシート状ゴム物質３ａの表面に、
塩化ナトリウムなどの易溶性物質およびトルエン
などの溶剤を混合した液状の未加硫ゴム物質４ａ
を薄く塗布する。次に金型内にいれて加熱加圧下
でゴム物質３ａ，４ａを同時に加硫するととも
に、印字面１を含む全体形状を成形する。そし
て、この成形品を液の中に入れてゴム物質４ａか
ら易溶性物質を抽出し、最後に所望の幅員に切断
してゴム印字体Ａをつくつていた。しかるとき
は、第１ゴム物質３ａで非多孔性のゴムベース層
３が構成され、第２ゴム物質４ａで多孔性のゴム
被覆層４が形成されて第３図の断面構造になつて
いた。

この従来方法で問題なのは第１ゴム物質３ａに
第２ゴム物質４ａを塗布したのち、両ゴム物質３
ａ，４ａがひとつの金型内で同時に加硫成形され
る点である。すなわち、成形時に両ゴム物質３
ａ，４ａは金型内で所定の凹凸レリーフを有する
ように圧縮を受けるが、このとき両ゴム物質３
ａ，４ａは共に未加硫状態だから金型内で流動す
る。しかるに、製品ゴム印字体の印字面１に形成
されるべき凹凸レリーフは均一ではなく大小・粗
密がある。しかもゴムベース層３を構成する第１
ゴム物質３ａはかなりの厚手であるが、ゴム被覆
層４を構成する第２ゴム物質４ａは製品厚で0.05
〜0.5mmという極薄である。そのため、第１ゴム
物質３ａと第２ゴム物質４ａとが成形時に金型内
で流動して混じり合つたり、第２ゴム物質４ａが
第１ゴム物質３ａの表面で部分的に厚く又は薄く
流動する。

具体的に製品としたときの従来のゴム印字体の
断面は概して第７図に示すようである。つまり、 (1) 印字面１の突部における肩部７に第２ゴム物
質４ａが特に厚く偏つて該肩部７でゴム被覆層
４が必要以上に分厚くなる。これは押印したと
き印影が型崩れしてシヤープではなくなること
を意味する。

(2) 第２ゴム物質４ａが第１ゴム物質３ａの中に
大きく回り込んで（符号８で示す部分）、ゴム
ベース層３の中にまでゴム被覆層４が巣くつた
状態で形成される。こうなると、ゴムベース層
３の元来の機能が半減して腰が弱くなり過ぎて
押印時に印影が型崩れすることは勿論のこと、
多孔性ゴム被覆層４の回り込みで該当部分８か
ら突出印字部が欠損しやすくなる。

(3) 印字面１の前記肩部７を除く突出端面に、ゴ
ム被覆層４が形成されずにゴムベース層３が部
分的に露出した状態となり（例えば符号９で示
す部分）、押印時に該当部分９が先当りして印
影が掠れる。とくにゴム印字体の表面の凹底
面、なかでも第１図に示す回転印用のゴム印字
体では隣接する印字面１，１間に深溝１０が形
成されているが、この深溝１０の溝底面１０ａ
などには殆どゴム被覆層４が形成されない状態
となる。これらの凹部にゴム被覆層４が所定の
厚みで或いは全く形成されなくても機能的には
さほどの支障を生じない。しかし、一般には通
常の非多孔性ゴム材のみで形成されたゴム印字
体（いわゆる赤ゴムと称されているもの）と区
別するために、ゴム被覆層４を青色などに着色
するが、そうした場合に部分的に色変わりの箇
所が多数出現して商品化するに難が出る。

従来方法の欠点は思うに、印字面１のレリーフ
は深さは一定でも大小（印字面１の突部の幅）さ
まざまであり、凹凸が複雑に密集している場合も
あれば逆に粗い場合もあり、これに伴つて金型内
で加硫成形したとき、ゴムベース層３も含めて表
面が凹凸状に成形されるわけだから、第２ゴム物
質４ａの未加硫状態での塗布厚が一定であつて
も、製品化したときにゴム被覆層４の厚みがレリ
ーフによつて当然に影響を受けるからである。一
般にはレリーフの粗いところでは多孔性ゴム層４
の厚みは大きくなり、密なるところでは逆に薄く
なる傾向が認められる。

更に困難なことに、印字面１の全体の面積が小
さいゴム印字体では一般に印字面１のレリーフが
細かくて密であるところ、多孔性ゴム層４の厚み
は薄く設定する必要がある。なぜなら、同じ力で
紙面に押しつけても印字面１の面積が小さいとき
は単位面積当りの受圧力は面積の大きいものより
強いものとなるため、印字面１の型崩れを防止す
るうえでゴム被覆層４の厚みを薄く設定しなけれ
ばならないからである。ところが、第２ゴム物質
４ａの塗布厚はある限度を越えて薄くするとゴム
ベース層３の一部が外部に露出する事態を招くの
で限界があり（本発明者の経験では0.05mmが限
界）、総じてゴム被覆層４が部分的に厚くなり過
ぎる傾向がある。すなわち、活字の大きさで４号
以下の小さいものになると、第８図に示すごとく
突出印字部が完全にゴム被覆層４のみで構成され
がちであり、そのために突出印字部が脆弱で欠損
を受けやすい。印字面１の面積が大きいゴム印字
体においても印字面１におけるゴム被覆層４の厚
みムラを招き、この場合は逆にゴムベース層３が
ゴム被覆層４を突き破つて外部に露出しがちであ
る。

このようなゴム被覆層４の厚みムラは、インク
の含み量が全体的にバラつきを生じることになる
ので、この点でも押印したときの印影が一部で型
崩れして濃く、他の部分では掠れるといつた事態
を招く。

つまるところ従来の製造方法では第２ゴム物質
４ａの塗布厚をいかに注意深く均一化しようと
も、印字面１のレリーフによつて製品後のゴム被
覆層４に厚みムラが生じることが避けられなかつ
たのである。

〔発明の目的〕

この発明は、かかる従来の不具合を解消するた
めに提案されたものであり、基本的には第３図に
示す断面構造のゴム印字体を得るについて、ひと
つの印字面１のレリーフに大小や粗密があつて
も、多孔性ゴム被覆層４が印字面１の全面にわた
つて均一に加硫成形できるようにしようとするも
のである。

〔発明の内容〕

上記の目的を達成するためには、未加硫のシー
ト状ゴム物質３ａの表面に易溶性物質および溶剤
を含む未加硫のゴム物質４ａを塗布したのち、両
ゴム物質３ａ，４ａを金型で同時に加硫成形する
従来方法では駄目である。従来方法の欠点は第２
ゴム物質４ａだけでなく厚手の第１ゴム物質３ａ
も同時一体的に加硫成形した点に最大の誤りがあ
つたからである。

この発明は、かかる知見に基づいて基本的には
非多孔性のゴムベース層３を構成する第１ゴム物
質３ａと多孔性のゴム被覆層４を構成する第２ゴ
ム物質４ａとを、同一形状の金型を用いて別々に
加硫成形するようにしたものである。具体的には
次の工程を経て製造することになる。

第１工程： 未加硫のシート状ゴム物質３ａを用意し、これ
を金型に入れて加硫成形し、表面に所定のレリー
フを有する一次成形品１１を得る。第４図ａはこ
の一次成形品を示す。なお、この一次成形に際し
ては形ができる程度の加硫状態にするを以て十分
であり、完全に加硫する必要はない。

第２工程： この一次成形品１１の表面に、第４図ｂに示す
ごとく易溶性物質１２および溶剤を含む未加硫の
液状ゴム物質４ａを均一に塗布する。この塗布作
業はハケ又はヘラで塗ることも考えられるが、ス
プレーガンで噴霧塗布することが望まれる。この
ときの塗布厚は製品化したときのゴム被覆層４の
厚みを0.05〜0.5mmにするに必要な厚みであり、
溶剤の混入量分だけ実際には塗布厚が大きい。因
に、レリーフの凹所にゴム物質４ａが多く溜るこ
とは実際上全く支障がない。

第３工程： 一次成形品１１の表面に塗布した第２ゴム物質
４ａを自然乾燥若しくは加熱乾燥して、これに含
まれている溶剤を飛ばす。

第４工程： 乾燥後の一次成形品１１を一次成形用金型と同
一形状の金型に入れて主に第２ゴム物質４ａを加
硫成形し、第４図ｃに示すごとく第１ゴム物質３
ａと第２ゴム物質４ａとを一体化した二次成形品
１３を得る。なお、この際の二次成形用金型は一
次成形用金型と同じものを使用してもよいが、連
続成形の都合で一次成形用金型と同一形状の別の
金型を使用してもよい。

第５工程： 二次成形品１３を適当な液の中に漬け込んで加
硫済の第２ゴム物質４ａ中に混合せる前述の易溶
性物質１２を抽出する。

かくして得られたシート状の二次成形品１３を
裁断して所望形状の製品ゴム印字体Ａをつくれ
ば、第１ゴム物質３ａが非多孔性ゴムベース層３
に、第２ゴム物質４ａが多孔性ゴム被覆層４を構
成する第３図の断面構造のものとなる。

ここで、ゴムベース層３とゴム被覆層４とを構
成するゴム物質３ａ，４ａは互いに相溶性を有す
る、好ましくは同一物質、一般にはNBR（アクニ
ロニトリル・ブタジエン・ゴム）からなる。天然
ゴム（NR）やポリ塩化ビニル、塩化ビニル・塩
化ビニリデン共重合体などを用いることもでき
る。

非多孔性のゴムベース層３は45゜〜70゜、更に好
ましくは55゜〜66゜のゴム硬度を有する厚手のもの
であることが望まれる。軟らかくなり過ぎると、
多孔性ゴム被覆層４の厚みを極力小さくしても特
にゴム印字体Ａの面積が小さいときに形崩れす
る。また、ゴムベース層３が硬くなり過ぎると、
押し心地が悪くなるとともに、とくにゴム印字体
Ａの面積が大きいときに凹凸を有する紙面への密
着性が、薄い多孔性ゴム被覆層４だけでは対応し
切れなくなつて印影が部分的に掠れるからであ
る。最も好ましいゴムベース層３のゴム硬度は
62゜〜64゜の範囲内であることが本発明者によつて
確認されている。

多孔性ゴム被覆層４の厚みは一般に0.5mmを越
えるとこれ自体の圧縮変形性が高くなり過ぎて従
来の自動印判にみられる多孔性ゴム層におけると
同様に、ゴム印字体Ａの面積の大小にかかわらず
（特に小さい場合に顕著であるが）、インクを保有
し過ぎて印影の型崩れとインク過多によるベタつ
きを生じる。逆に厚みが0.05mmより下回ると、ゴ
ムベース層３の一部が外部に露出するおそれがあ
り、かつゴム被覆層４がインクを吸着捕足すると
いう元来の機能が十二分に発揮されず、ゴム印字
体Ａの面積が大きいときに僅かでも紙面に片当り
状態になると転写不良を招く。従つてゴム被覆層
４の厚みは0.05〜0.5mmの範囲であることが望ま
れる。この厚みはすなわち第２ゴム物質４ａを第
１ゴム物質３ａの表面に前述の第２工程で塗布す
るときの塗布厚で決定される。尤も、当業界で汎
用されている数字印の大きさの単位としては特大
号、初号、１号、２号、３号、４号、５号、６号
が知られており、例えば特大号や初号といつた大
きさでは1.5mm程度の厚みでも使用に耐えるし、
逆に４号以下になると0.5mm厚では厚過ぎて印影
の型崩れ、インクのベタつきは避けられず、この
塗布厚は相対的なものである。そして、多孔性ゴ
ム被覆層４の空隙率は60〜90％好ましくは68〜70
％に設定する。

また、易溶性物質としては一般に塩化ナトリウ
ムが使用されるが、その他の糖類でもよく適宜選
べる。更に、第２ゴム物質４ａを溶解する溶剤も
トルエンその他のゴム用であれば何でもよい。

〔実施例〕

1.5〜2.3mmの厚さを有する未加硫のシート状ゴ
ム物質３ａを金型に入れて、表面に所定のレリー
フを有する一次成形品１１を得た。次に、この一
次成形品１１の表面に塩化ナトリウムとトルエン
を含む液状の未加硫ゴム物質４ａをスプレーガン
で0.07mm厚に噴霧塗布したのち、未加硫ゴム物質
４ａを乾燥した。次に、乾燥後の一次成形品１１
を同じ一次成形時の金型に入れて再び加硫成形
し、二次成形品１３を得たのち、この二次成形品
１３を水の中に漬けて前述の塩化ナトリウムを溶
解抽出した。最後に所望の幅員に切断してゴム被
覆層４の厚みが0.05mmの第１図に示す回転印に用
いる４号活字のゴム印字体Ａ（数字印）をつくつ
た。しかるときは、非多孔性ゴム被覆層４の厚み
は凹凸レリーフの大小や粗密に影響を受けず、全
面的に均一なものが得られた。

〔変形例〕

第３図は回転印用のゴム印字体Ａの断面構造を
示すものであるが、これではゴムベース層３の下
面に一体結着される補強布などは説明の都合上省
略してある。もちろん、第２図に示すごときゴム
印用のゴム印字体Ａも本発明の対象とするところ
である。更に、凹凸レリーフが細かくて印字面１
の全体面積が小さいような場合にはゴムベース層
３とゴム被覆層４との間に、該ゴムベース層３よ
りも硬い、例えば70゜〜90゜程度のゴム硬度を有す
る中間層を介在させるなどの変形も本発明の予想
するところであり、この場合にはゴムベース層３
と中間層とを重ねた状態で加硫成形したのち、ゴ
ム被覆層４を同一金型で二次成形することにな
る。

〔発明の効果〕

以上説明したように、この発明によれば、厚手
の非多孔性ゴムベース層３に薄手の多孔性ゴム被
覆層４を一体に積層形成した断面構造のゴム印字
体Ａを製造するについて、まず、厚手の非多孔性
ゴムベース層３を構成する未加硫のシート状ゴム
物質３ａを金型で加硫成形しておき、次にこの一
次成形品１１の表面に薄手の多孔性ゴム被覆層４
を構成する第２ゴム物質４ａを均一に塗布したの
ち、同一形状の金型で加硫して二次成形するもの
とした。つまり、この二次成形時には既に一次成
形されたゴムベース層３の凹凸レリーフにゴム被
覆層４をこの凹凸レリーフに沿わせて薄く成形す
るものであるから、ゴム被覆層４は印字面１のレ
リーフの大小や粗密によく対応して全面的にムラ
のない均一な厚みに仕上げることができる。ま
た、二次成形時に一次成形時の成形不良部分も修
正するので、レリーフもシヤープで端正に仕上が
る利点を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明が対象とするゴム印字体を使つ
た回転印を例示する一部縦断正面図である。第２
図は本発明が対象とするゴム印字体を使つたゴム
印を例示する斜視図である。第３図は本発明方法
によつて得られるゴム印字体の断面図、第４図
ａ，ｂ，ｃは該ゴム印字体の製造工程を順次的に
説明するそれぞれの概略断面図である。第５図は
従来の自動印判における多孔性ゴム印字体の断面
構造を示す断面図である。第６図は本発明が対象
とするゴム印字体の従来例における製造工程途中
の状態を示す概略断面図、第７図および第８図は
その従来方法によつて得られたゴム印字体の不良
状態をそれぞれ示す概略断面図である。 １……印字面、３……非多孔性ゴムベース層、
３ａ……未加硫のシート状ゴム物質、４……多孔
性ゴム被覆層、４ａ……液状の未加硫ゴム物質、
１１……一次成形品，１２……易溶性物質、１３
……二次成形品。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 非多孔性ゴムベース層３の印字面側の表面
   に、多孔性ゴム被覆層４が薄く一体に積層形成さ
   れたゴム印字体Ａを製造するについて、未加硫の
   シート状ゴム物質３ａを金型内で加硫成形して表
   面に所定のレリーフを有する一次成形品１１を得
   る工程と、この一次成形品１１の表面に易溶性物
   質および溶剤を含む未加硫の液状ゴム物質４ａを
   均一に塗布する工程と、一次成形品１１を同一形
   状の金型で加硫して二次成形する工程と、二次成
   形品１３から前記易溶性物質を抽出する工程とか
   らなるゴム印字体の製造方法。