JPH0378398B2 - - Google Patents
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- JPH0378398B2 JPH0378398B2 JP57196706A JP19670682A JPH0378398B2 JP H0378398 B2 JPH0378398 B2 JP H0378398B2 JP 57196706 A JP57196706 A JP 57196706A JP 19670682 A JP19670682 A JP 19670682A JP H0378398 B2 JPH0378398 B2 JP H0378398B2
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
本発明はオキサビシクロヘプタン誘導体と関連
化合物、更に詳しくは心臓血管剤として有用な新
規7−オキサビシクロヘプタンおよび7−オキサ
ビシクロヘプテンプロスタグランジン類縁体なら
びにその用途に関する。 本発明化合物は、たとえば血栓症の処置に有効
であつて、次式で示される化合物およびそのすべ
ての立体異性体を包含する。 〔式中、AおよびBは同一もしくは異なつても
よく、AはCH=CHまたは(CH2)2、BはCH=
CH、C≡Cまたは(CH2)2、 mは1〜8、 XはOH;
化合物、更に詳しくは心臓血管剤として有用な新
規7−オキサビシクロヘプタンおよび7−オキサ
ビシクロヘプテンプロスタグランジン類縁体なら
びにその用途に関する。 本発明化合物は、たとえば血栓症の処置に有効
であつて、次式で示される化合物およびそのすべ
ての立体異性体を包含する。 〔式中、AおよびBは同一もしくは異なつても
よく、AはCH=CHまたは(CH2)2、BはCH=
CH、C≡Cまたは(CH2)2、 mは1〜8、 XはOH;
【式】CO2R1(ここにR1はH
または低級アルキル);または
【式】(こ
こにZはH、低級アルキル、アリール、SO2−Q
(Qは低級アルキルまたはアリール)、
(Qは低級アルキルまたはアリール)、
【式】ま
たはOR2(R2はH))、
Yはアリール(低級)アルキル;アルケニル;
アルキニル;アリール;ピリジル;置換ピリジ
ル;ピリジル(低級)アルキル;チエニル;置換
チエニル;チエニル(低級)アルキル;シクロア
ルキル;置換シクロアルキル;シクロアルキルア
ルキル;置換シクロアルキルアルキルまたはフエ
ノキシメチル(但し、BがC≡Cである場合、Y
はアルキルであつてよい) 〓印は単結合または二重結合を表わす。〕。 〓印が二重結合である場合、AはCH=CHで
なければならず、BはCH=CHまたは(CH2)2で
あつてよく、Yはアルケニルおよびアルキニル以
外の基である。 上記から明らかなように本発明化合物〔〕は
次式〔〕および〔〕で示される化合物を包含
する。 本明細書を通じて低級アルキルまたはアルキル
は、炭素数12(好ましくは炭素数8)を越えない
直鎖もしくは分枝状基(たとえばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチ
ル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、イソヘキ
シル、ヘプチル、4,4−ジメチルペンチル、オ
クチル、2,2,4−トリメチルペンチル、ノニ
ル、デシル、ウンデシル、ドデシル)、これらと
等価である種々の分枝状基など、ならびにこれら
の基であつてその基に更にハロゲン(たとえば
F、Br、Clまたは)、CF3、アルコキシ、アリ
ール、アルキルアリール、ハロアリール、シクロ
アルキルもしくはアルキルシクロアルキルのよう
な置換基を有する基を包含する。 置換ピリジルは、ハロゲンまたは低級アルキル
から選ばれる置換基1ないし2個で置換されたピ
リジルを包含する。 置換チエニルは、ハロゲンまたは低級アルキル
から選ばれる置換基1ないし2個で置換されたチ
エニルを包含する。 シクロアルキルは炭素数3〜12(好ましくは3
〜8)の飽和炭素環式基(シクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シ
クロヘプチル、シクロオクチル、シクロデシル、
シクロドデシルを含む)を包含し、これらの基の
いずれかはハロゲン1ないし2個、低級アルキル
および/または低級アルコキシ1ないし2個で置
換されていてもよい。 アリールまたはArはその環状部分の炭素数6
〜10の単環式もしくは二環式芳香族基、たとえば
フエニル、ナフチル、置換フエニルまたは置換ナ
フチル(フエニルまたはナフチル上の置換基は低
級アルキル、ハロゲン(塩素、臭素、フツ素を包
含する)もしくは低級アルコキシであつてよい)
を包含する。 アラルキル、アリールアルキルまたはアリール
(低級)アルキルはアリール基を有する前記のよ
うな低級アルキル(たとえばベンジル)を包含す
る。 低級アルコキシまたはアルコキシは酸素原子に
結合した上記のような低級アルキルもしくはアル
キルのいずれかを包含する。 低級アルケニルまたはアルケニルは炭素原子3
〜6個と炭素−炭素二重結合1個を有する不飽和
炭化水素基を包含する。代表的アルケニル基は、
たとえば2−プロペニル、1−プロペニル、1−
ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニルなどを包
含する。 低級アルキニルまたはアルキニルは炭素原子3
〜6個を炭素−炭素三重結合1個を有する不飽和
炭化水素基を包含する。代表的アルキニルは、た
とえば1−プロピニル、1−ブチニル、2−プロ
ピニル、2−ブチニル、3−ブチニルなどを包含
する。 ハロゲンまたはハロは塩素、臭素、フツ素また
はヨウ素を包含し、このうちフツ素が好ましい。 基:(CH2)nはその直鎖部分が炭素数1〜8で
ある直鎖もしくは分枝状基を包含し、かかる基が
低級アルキル置換基1個ないしそれ以上を含有す
ることができる。基:(CH2)nに包含される基と
して、CH2、CH2CH2、(CH2)3、(CH2)4、
(CH2)5、(CH2)6、(CH2)7、
アルキニル;アリール;ピリジル;置換ピリジ
ル;ピリジル(低級)アルキル;チエニル;置換
チエニル;チエニル(低級)アルキル;シクロア
ルキル;置換シクロアルキル;シクロアルキルア
ルキル;置換シクロアルキルアルキルまたはフエ
ノキシメチル(但し、BがC≡Cである場合、Y
はアルキルであつてよい) 〓印は単結合または二重結合を表わす。〕。 〓印が二重結合である場合、AはCH=CHで
なければならず、BはCH=CHまたは(CH2)2で
あつてよく、Yはアルケニルおよびアルキニル以
外の基である。 上記から明らかなように本発明化合物〔〕は
次式〔〕および〔〕で示される化合物を包含
する。 本明細書を通じて低級アルキルまたはアルキル
は、炭素数12(好ましくは炭素数8)を越えない
直鎖もしくは分枝状基(たとえばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチ
ル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、イソヘキ
シル、ヘプチル、4,4−ジメチルペンチル、オ
クチル、2,2,4−トリメチルペンチル、ノニ
ル、デシル、ウンデシル、ドデシル)、これらと
等価である種々の分枝状基など、ならびにこれら
の基であつてその基に更にハロゲン(たとえば
F、Br、Clまたは)、CF3、アルコキシ、アリ
ール、アルキルアリール、ハロアリール、シクロ
アルキルもしくはアルキルシクロアルキルのよう
な置換基を有する基を包含する。 置換ピリジルは、ハロゲンまたは低級アルキル
から選ばれる置換基1ないし2個で置換されたピ
リジルを包含する。 置換チエニルは、ハロゲンまたは低級アルキル
から選ばれる置換基1ないし2個で置換されたチ
エニルを包含する。 シクロアルキルは炭素数3〜12(好ましくは3
〜8)の飽和炭素環式基(シクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シ
クロヘプチル、シクロオクチル、シクロデシル、
シクロドデシルを含む)を包含し、これらの基の
いずれかはハロゲン1ないし2個、低級アルキル
および/または低級アルコキシ1ないし2個で置
換されていてもよい。 アリールまたはArはその環状部分の炭素数6
〜10の単環式もしくは二環式芳香族基、たとえば
フエニル、ナフチル、置換フエニルまたは置換ナ
フチル(フエニルまたはナフチル上の置換基は低
級アルキル、ハロゲン(塩素、臭素、フツ素を包
含する)もしくは低級アルコキシであつてよい)
を包含する。 アラルキル、アリールアルキルまたはアリール
(低級)アルキルはアリール基を有する前記のよ
うな低級アルキル(たとえばベンジル)を包含す
る。 低級アルコキシまたはアルコキシは酸素原子に
結合した上記のような低級アルキルもしくはアル
キルのいずれかを包含する。 低級アルケニルまたはアルケニルは炭素原子3
〜6個と炭素−炭素二重結合1個を有する不飽和
炭化水素基を包含する。代表的アルケニル基は、
たとえば2−プロペニル、1−プロペニル、1−
ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニルなどを包
含する。 低級アルキニルまたはアルキニルは炭素原子3
〜6個を炭素−炭素三重結合1個を有する不飽和
炭化水素基を包含する。代表的アルキニルは、た
とえば1−プロピニル、1−ブチニル、2−プロ
ピニル、2−ブチニル、3−ブチニルなどを包含
する。 ハロゲンまたはハロは塩素、臭素、フツ素また
はヨウ素を包含し、このうちフツ素が好ましい。 基:(CH2)nはその直鎖部分が炭素数1〜8で
ある直鎖もしくは分枝状基を包含し、かかる基が
低級アルキル置換基1個ないしそれ以上を含有す
ることができる。基:(CH2)nに包含される基と
して、CH2、CH2CH2、(CH2)3、(CH2)4、
(CH2)5、(CH2)6、(CH2)7、
【式】
【式】
【式】などが例示される。
化合物〔〕のうち、次の基を有する化合物
〔〕が好ましい: Aが(CH2)2またはCH=CH、mが2〜4、X
がCO2H、CO2−(低級アルキル)または
〔〕が好ましい: Aが(CH2)2またはCH=CH、mが2〜4、X
がCO2H、CO2−(低級アルキル)または
【式】Bが(CH2)2またはCH=
CH、Yが、CH2C6H5、
【式】シクロ
アルキル(特にシクロヘキシル)、1−メチルシ
クロヘキシル、シクロアルキルアルキル、
クロヘキシル、シクロアルキルアルキル、
【式】
【式】
【式】
【式】または
【式】
本発明化合物〔〕は以下に説明するように製
造することができる。 XはCO2R1、Aが(CH2)2または−CH=CH
−、Bが(CH2)2または−CH=CH−である化合
物〔〕は次の反応工程図に従つて製造すること
ができる。 上記反応工程図において、ヒドロキシメチル基
を含む低級アルキルエステル出発物質、すなわち
化合物〔〕(米国特許第4143054号記載のように
製せられる)を用いてAが−CH=CH−である
アルデヒド体(化合物〔〕)もしくはAが−
(CH2)2−であるアルデヒド体(化合物〔A〕)
を得る。このように化合物〔〕を、たとえばピ
リジン中、酸化クロムと反応させることによりコ
リンズ酸化の反応に付し、Aが−CH=CH−で
あるアルデヒド体〔〕を得る。また化合物
〔〕を、たとえばパラジウム/炭素触媒上、水
素と反応させて還元し、Aが(CH2)2であるヒド
ロキシメチル化合物〔A〕を製し、得られた化
合物〔A〕をコリンズ酸化(Collins
oxidation)反応に付し、Aが(CH2)2であるア
ルデヒド体〔A〕を得る。 次いで式: 〔式中、R1は低級アルキルであつてよい。m
は前記と同意義。〕 で示される化合物(Aが−CH=CH−である化
合物〔〕もしくはAが(CH2)2である化合物
〔A〕)と式: 〔式中、Yは前記と同意義。〕 で示される化合物のようなジアルコキシホスホネ
ートを、化合物〔〕もしくは〔A〕:化合物
〔A〕のモル比約1〜0.5:1で、ジメトキシエタ
ン(DME)、エーテル、テトラヒドロフラン、ト
ルエンのような不活性有機溶媒中、水素化ナトリ
ウムまたはリチウムジイソプロピルアミドの存在
下に反応させて式: 〔式中、Yおよびmは前記と同意義。〕 で示される化合物(ここにAは(CH2)2または−
CH=CH−であつてよい)を得る。 この化合物〔〕を前記のように3種の方法の
いずれかで還元して式: 〔式中、Yおよびmは前記と同意義。〕 で示される化合物(Aが(CH2)2、Bが(CH2)2
である化合物〔A〕、Aが−CH=CH−、Bが
(CH2)2である化合物〔B〕もしくはAが
(CH2)2または−CH=CH−、Bが−CH=CH−
である化合物〔C〕)を得る。 このエステル体〔A〕、〔B〕もしくは〔
C〕を水酸化リチウムのような塩基で処理し、次
いで希塩酸またはシユウ酸のような酸で中和する
ことにより、該エステル体を式: 〔式中、Yおよびmは前記と同意義。〕 で示される化合物(Aが(CH2)2、Bが(CH2)2
である化合物〔A〕、Aが−CH=CH−、Bが
(CH2)2である化合物〔B〕もしくはAが
(CH2)2または−CH=CH−、Bが−CH=CH−
である化合物〔C〕)に変換する。 得られた化合物〔A〕、〔B〕もしくは〔
C〕および〔A〕、〔B〕もしくは〔C〕
は、それぞれAが(CH2)2または−CH=CH−、
Bが(CH2)2または−CH=CH−のエステル体
〔〕(XがCO2R1、R1が低級アルキルである本
発明化合物〔〕)および酸〔〕(XがCO2R1、
R1がHである本発明化合物〔〕)である。 Xが
造することができる。 XはCO2R1、Aが(CH2)2または−CH=CH
−、Bが(CH2)2または−CH=CH−である化合
物〔〕は次の反応工程図に従つて製造すること
ができる。 上記反応工程図において、ヒドロキシメチル基
を含む低級アルキルエステル出発物質、すなわち
化合物〔〕(米国特許第4143054号記載のように
製せられる)を用いてAが−CH=CH−である
アルデヒド体(化合物〔〕)もしくはAが−
(CH2)2−であるアルデヒド体(化合物〔A〕)
を得る。このように化合物〔〕を、たとえばピ
リジン中、酸化クロムと反応させることによりコ
リンズ酸化の反応に付し、Aが−CH=CH−で
あるアルデヒド体〔〕を得る。また化合物
〔〕を、たとえばパラジウム/炭素触媒上、水
素と反応させて還元し、Aが(CH2)2であるヒド
ロキシメチル化合物〔A〕を製し、得られた化
合物〔A〕をコリンズ酸化(Collins
oxidation)反応に付し、Aが(CH2)2であるア
ルデヒド体〔A〕を得る。 次いで式: 〔式中、R1は低級アルキルであつてよい。m
は前記と同意義。〕 で示される化合物(Aが−CH=CH−である化
合物〔〕もしくはAが(CH2)2である化合物
〔A〕)と式: 〔式中、Yは前記と同意義。〕 で示される化合物のようなジアルコキシホスホネ
ートを、化合物〔〕もしくは〔A〕:化合物
〔A〕のモル比約1〜0.5:1で、ジメトキシエタ
ン(DME)、エーテル、テトラヒドロフラン、ト
ルエンのような不活性有機溶媒中、水素化ナトリ
ウムまたはリチウムジイソプロピルアミドの存在
下に反応させて式: 〔式中、Yおよびmは前記と同意義。〕 で示される化合物(ここにAは(CH2)2または−
CH=CH−であつてよい)を得る。 この化合物〔〕を前記のように3種の方法の
いずれかで還元して式: 〔式中、Yおよびmは前記と同意義。〕 で示される化合物(Aが(CH2)2、Bが(CH2)2
である化合物〔A〕、Aが−CH=CH−、Bが
(CH2)2である化合物〔B〕もしくはAが
(CH2)2または−CH=CH−、Bが−CH=CH−
である化合物〔C〕)を得る。 このエステル体〔A〕、〔B〕もしくは〔
C〕を水酸化リチウムのような塩基で処理し、次
いで希塩酸またはシユウ酸のような酸で中和する
ことにより、該エステル体を式: 〔式中、Yおよびmは前記と同意義。〕 で示される化合物(Aが(CH2)2、Bが(CH2)2
である化合物〔A〕、Aが−CH=CH−、Bが
(CH2)2である化合物〔B〕もしくはAが
(CH2)2または−CH=CH−、Bが−CH=CH−
である化合物〔C〕)に変換する。 得られた化合物〔A〕、〔B〕もしくは〔
C〕および〔A〕、〔B〕もしくは〔C〕
は、それぞれAが(CH2)2または−CH=CH−、
Bが(CH2)2または−CH=CH−のエステル体
〔〕(XがCO2R1、R1が低級アルキルである本
発明化合物〔〕)および酸〔〕(XがCO2R1、
R1がHである本発明化合物〔〕)である。 Xが
【式】Zが
【式】である本発明
化合物〔〕は、酸〔A〕、〔B〕または〔
C〕のいずれかとP−ニトロフエノールを、N,
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミドのような
カツプリング剤の存在下に反応させて活性P−ニ
トロフエニルエステル体を製し、次いでこれと
式: 〔式中、Mは金属(特にアルカリ金属)を表わ
す。Qは前記と同意義。〕 で示されるアルカリ金属アミド(たとえばナトリ
ウムアセトアミド(水素化ナトリウムとアセトア
ミドを反応させて製せられる。)を、化合物
〔〕:〔〕のモル比約1〜0.2:1で反応させる
ことにより得ることができる。この生成物は次式
で示される: 〔式中、A、B、m、QおよびYは前記と同意
義。〕。 Xが
C〕のいずれかとP−ニトロフエノールを、N,
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミドのような
カツプリング剤の存在下に反応させて活性P−ニ
トロフエニルエステル体を製し、次いでこれと
式: 〔式中、Mは金属(特にアルカリ金属)を表わ
す。Qは前記と同意義。〕 で示されるアルカリ金属アミド(たとえばナトリ
ウムアセトアミド(水素化ナトリウムとアセトア
ミドを反応させて製せられる。)を、化合物
〔〕:〔〕のモル比約1〜0.2:1で反応させる
ことにより得ることができる。この生成物は次式
で示される: 〔式中、A、B、m、QおよびYは前記と同意
義。〕。 Xが
【式】ZがSO2−Qである本発明
化合物〔〕は以下に説明する方法により製造す
ることができる。前記エステル体〔〕とシリル
保護化合物、好ましくは式: 〔式中、R3は低級アルキルまたはアリール、
Y′は低級アルキルまたはアリール(好ましくは
t−ブチル)、Halはハロゲン(好ましくは塩素
または臭素)であつてよい。〕 で示される化合物(たとえばt−ブチルジメチル
シリルクロリド)を、化合物〔〕:〔B〕のモル
比約0.9〜0.3:1とし、ジメチルホルムアミド、
アセトニトリルまたはジメチルアセトアミドのよ
うな不活性溶媒およびイミダゾール、トリエチル
アミンまたは4−(N,N−ジメチルアミノ)ピ
リジンのような有機弱塩基の存在下に反応させて
式: 〔式中、A、B、m、Y、R3およびY′は前記
と同意義。〕 で示される保護シリルエステル体を得る。 このエステル体〔XII〕をたとえば水酸化リチウ
ムのような塩基で処理し、続いてシユウ酸または
希塩酸のような酸で中和することにより該エステ
ル体〔XII〕を式: 〔式中、A、B、m、Y、R3およびY′は前記
と同意義。〕 で示される対応する酸に変換する。 保護された酸〔〕と式: O=C=N−SO2Q 〔〕 (式中、Qは前記と同意義。〕 で示されるイソシアン酸スルホニルを、化合物
〔〕:〔〕のモル比約1〜0.2:1でテトラ
ヒドロフランのような不活性有機溶媒とトリエチ
ルアミンのような有機塩基の存在下に反応させ
て、 式: 〔式中、A、B、m、Q、Y、Y′およびR3は
前記載と同意義。〕 で示される化合物を得る。 上記化合物〔〕を、たとえばテトラブチル
アンモニウムフルオリドで処理することにより、
該化合物〔〕のシリル保護基を脱離させるこ
とにより、式: 〔式中、A、B、m、QおよびYは前記と同意
義。〕 で示される化合物(Xが
ることができる。前記エステル体〔〕とシリル
保護化合物、好ましくは式: 〔式中、R3は低級アルキルまたはアリール、
Y′は低級アルキルまたはアリール(好ましくは
t−ブチル)、Halはハロゲン(好ましくは塩素
または臭素)であつてよい。〕 で示される化合物(たとえばt−ブチルジメチル
シリルクロリド)を、化合物〔〕:〔B〕のモル
比約0.9〜0.3:1とし、ジメチルホルムアミド、
アセトニトリルまたはジメチルアセトアミドのよ
うな不活性溶媒およびイミダゾール、トリエチル
アミンまたは4−(N,N−ジメチルアミノ)ピ
リジンのような有機弱塩基の存在下に反応させて
式: 〔式中、A、B、m、Y、R3およびY′は前記
と同意義。〕 で示される保護シリルエステル体を得る。 このエステル体〔XII〕をたとえば水酸化リチウ
ムのような塩基で処理し、続いてシユウ酸または
希塩酸のような酸で中和することにより該エステ
ル体〔XII〕を式: 〔式中、A、B、m、Y、R3およびY′は前記
と同意義。〕 で示される対応する酸に変換する。 保護された酸〔〕と式: O=C=N−SO2Q 〔〕 (式中、Qは前記と同意義。〕 で示されるイソシアン酸スルホニルを、化合物
〔〕:〔〕のモル比約1〜0.2:1でテトラ
ヒドロフランのような不活性有機溶媒とトリエチ
ルアミンのような有機塩基の存在下に反応させ
て、 式: 〔式中、A、B、m、Q、Y、Y′およびR3は
前記載と同意義。〕 で示される化合物を得る。 上記化合物〔〕を、たとえばテトラブチル
アンモニウムフルオリドで処理することにより、
該化合物〔〕のシリル保護基を脱離させるこ
とにより、式: 〔式中、A、B、m、QおよびYは前記と同意
義。〕 で示される化合物(Xが
【式】ZがSO2
−Qである本発明化合物〔〕)を得ることがで
きる。 Xが
きる。 Xが
【式】ZがHである本発明化合物
〔〕は次の方法により製造することができる。
前記化合物〔A〕、〔B〕もしくは〔C〕、
すなわち式: 〔式中、A、B、mおよびYは前記と同意義。〕 で示される酸とp−ニトロフエノール(PNP)
を、酸:PNPのモル比約1〜0.2:1で、触媒量
の塩基(たとえば4−ジメチルアミノピリジン)、
ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)のよ
うなカツプリング剤当量およびテトラヒドロフラ
ンのような不活性溶媒の存在下に反応させて上記
酸〔A〕、〔B〕もしくは〔C〕を式: 〔式中、A、B、mおよびYは前記と同意義。〕 で示される対応するp−ニトロフエノールエステ
ル体に変換する。次にこのp−ニトロフエノール
エステル(〕とアンモニアを反応させること
により式: 〔式中、A、B、mおよびYは前記と同意義。〕 で示されるアミド体(Xが
前記化合物〔A〕、〔B〕もしくは〔C〕、
すなわち式: 〔式中、A、B、mおよびYは前記と同意義。〕 で示される酸とp−ニトロフエノール(PNP)
を、酸:PNPのモル比約1〜0.2:1で、触媒量
の塩基(たとえば4−ジメチルアミノピリジン)、
ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)のよ
うなカツプリング剤当量およびテトラヒドロフラ
ンのような不活性溶媒の存在下に反応させて上記
酸〔A〕、〔B〕もしくは〔C〕を式: 〔式中、A、B、mおよびYは前記と同意義。〕 で示される対応するp−ニトロフエノールエステ
ル体に変換する。次にこのp−ニトロフエノール
エステル(〕とアンモニアを反応させること
により式: 〔式中、A、B、mおよびYは前記と同意義。〕 で示されるアミド体(Xが
【式】ZがH
である本発明化合物〔〕)を得ることができる。
Xが
【式】Zが低級アルキルである本
発明化合物〔〕は、p−ニトロフエニルエステ
ル〔〕とアルキルアミンもしくはアリールア
ミンを、エステル体〔〕:アミンのモル比約
1〜0.1:1で反応させて式: 〔式中、Z′はアルキルまたはアリールを表わ
す。A、B、mおよびYは前記と同意義。〕 で示される化合物を製造することにより、得るこ
とができる。 なお、前記ジアルコキシホスホネート〔A〕
は、式: 〔式中、Yは前記と同意義。〕 で示される酢酸エステルと式: で示されるホスホネートを、n−ブチルリチウム
の存在下、化合物〔C〕:〔D〕のモル比約1〜
0.2:1で反応させることにより得ることができ
る。 Xが
ル〔〕とアルキルアミンもしくはアリールア
ミンを、エステル体〔〕:アミンのモル比約
1〜0.1:1で反応させて式: 〔式中、Z′はアルキルまたはアリールを表わ
す。A、B、mおよびYは前記と同意義。〕 で示される化合物を製造することにより、得るこ
とができる。 なお、前記ジアルコキシホスホネート〔A〕
は、式: 〔式中、Yは前記と同意義。〕 で示される酢酸エステルと式: で示されるホスホネートを、n−ブチルリチウム
の存在下、化合物〔C〕:〔D〕のモル比約1〜
0.2:1で反応させることにより得ることができ
る。 Xが
【式】ZがOHである本発明化合
物〔〕は、前記エステル体〔A〕、〔B〕も
しくは〔C〕とヒドロキシルアミンを、水酸化
カリウムのような強塩基の存在下、メタノールの
ような不活性溶媒中で反応させた、たとえば氷酢
酸で中和して式: 〔式中、A、B、mおよびYは前記と同意義。〕 で示される化合物を製造することにより得ること
ができる。 XがOHである本発明化合物〔〕は、前記エ
ステル体〔A〕、〔B〕もしくは〔C〕を、
たとえばテトラヒドロフランのような不活性溶媒
の存在下、水素化アルミニウムリチウムによる還
元反応に付し、式: 〔式中、mおよびYは前記と同意義。〕 で示される対応する化合物を製造することにより
得ることができる。 Xがテトラゾリル
しくは〔C〕とヒドロキシルアミンを、水酸化
カリウムのような強塩基の存在下、メタノールの
ような不活性溶媒中で反応させた、たとえば氷酢
酸で中和して式: 〔式中、A、B、mおよびYは前記と同意義。〕 で示される化合物を製造することにより得ること
ができる。 XがOHである本発明化合物〔〕は、前記エ
ステル体〔A〕、〔B〕もしくは〔C〕を、
たとえばテトラヒドロフランのような不活性溶媒
の存在下、水素化アルミニウムリチウムによる還
元反応に付し、式: 〔式中、mおよびYは前記と同意義。〕 で示される対応する化合物を製造することにより
得ることができる。 Xがテトラゾリル
【式】である本
発明化合物〔〕は以下に示す方法により製造す
ることができる。式: で示される化合物(米国特許第4143054号に開示
された方法により製せられる。)と式: (C6H5)3P(CH2)n′CN4・HBr 〔F〕 〔式中、m′は1〜8を表わす。〕 で示されるウイツチヒ試薬を、カリウムt−ブト
キシドまたは水素化ナトリウム−ジメチルスルホ
キシドの存在下、化合物〔E〕:〔F〕のモル比約
1〜0.2:1で反応させて、式: 〔式中、m′は前記と同意義。〕 で示される化合物を製し、次いでこれをコリンズ
酸化反応に付して式: 〔式中、m′は前記と同意義。〕 で示される化合物を得る。 上記アルデヒド体〔〕を、前記化合物
〔〕もしくは〔A〕の製法に関して先に述べ
たのと同様に、ジアルコキシホスホネート〔A〕
と反応させて式: 〔式中、m′およびYは前記と同意義。〕 で示されるXがテトラゾリルである化合物〔〕
を得、更にこれを前記のように還元して式: 〔式中、mおよびYは前記と同意義。〕 で示されるXがテトラゾリルである化合物〔〕
を得ることができる。 なお前記ウイツチヒ試薬〔F〕はジヤーナル・
オブ・メデイシナル・ケミストリー(J.Med.
Chem.)第22巻1341(1979年)1343頁に記載の方
法および次の反応工程図に従つて製造することが
できる。 Bが−C≡C−、Aが(CH2)2または−CH=
CH−である本発明化合物〔〕は以下に示す方
法により製造することができる。式: 〔式中、Aは(CH2)2または−CH=CH−を表
わす。mおよびR1は前記と同意義。〕 で示されるアルデヒドと式: 〔式中、X′はハロゲン(好ましくは塩素また
は臭素を表わす。Yは前記と同意義。〕 で示されるホスホネート(米国特許第4169145号
に開示されたように製せられる。)を、化合物
〔A〕:〔G〕のモル比約1〜0.2:1で、テトラ
ヒドロフラン中、カリウムt−ブトキシドもしく
はジメチルスルホキシド中、水素化ナトリウムの
存在下に反応させ、得られたホスホネート生成物
α−ハロエノン体(これはEおよびZ異性体の混
合物である。)をテトラヒドロフラン中、カリウ
ムt−ブトキシドのような塩基で処理することに
より、式: 〔式中、Aは−(CH2)2−または−CH=CH−
を表わす。m、R1およびYは前記と同意義。〕 で示される化合物(Bが−C≡C−である本発明
化合物〔〕)を得ることができる。 上記イノン体〔〕を更に水素化ホウ素ナ
トリウム−塩化第一セリウムで還元することによ
り化合物〔A〕を得ることができる。同様の操
作は米国特許第4169145号のイグザンプル23およ
びIl.Farmaco−Ed.Sc.O Vol.31−fasc.10pp.763
〜766(1975年)のガンドルフイ(C.Gandolfi)と
その共同研究者によるα−Halo−α,β−
unsaturated Ketones:a synthe−tic
approach to 13−dehydroprostaglan−dinsとい
う表題の論文に記載されている。 Bが−C≡C−である他の化合物は、化合物
〔XI〕、〔〕、〔〕、〔〕、〔〕、〔
〕、〔XI〕、〔〕および〔〕の製造
のための前記操作に従つて製造することができ
る。 本発明化合物〔〕に包含される化合物、すな
わち式: 〔式中、AはCH=CH、XはCO2R1であつて
よい。BおよびYは前記と同意義。〕 で示される化合物は次の方法により製造すること
ができる。式: で示される不飽和二酸化合物(米国特許第
4143054号に開示されたように製せられる。)を出
発物質として使用し、米国特許第4143054号に開
示されたように処理して式: 〔式中、mおよびR1は前記と同意義。〕 で示される化合物を得る。次いでこの化合物〔
〕を用い、前記化合物〔B〕と〔
C〕の製造で説明した方法に従つて処理すること
により、本発明化合物〔〕を得ることができ
る。 XがCO2R1以外の基である他の不飽和化合物
〔〕は、Aが−CH=CH−である前記化合物、
〔XI〕、〔〕、〔〕、〔〕、〔〕、〔
〕、〔XI〕、〔〕および〔〕のすべ
ての場合の製造で説明した方法に従つて製造する
ことができる。 本発明化合物は式〔〕、〔〕、および〔〕
中の星印(*)で示したように5個所の不整中心
を有する。前記各式中に星印を記載していない
が、これらの化合物のすべての立体異性体が存在
することは明らかであつて、種々の立体異性体の
すべてが本発明の範囲内にある。 本発明化合物の種々の立体異性体、すなわちシ
スエキソ、シスエンド型とすべてのトランス型お
よび立体異性体対は、後記実施例に示すように製
造し、また米国特許第4143054号に開示された出
発物質を用い、その操作に従つて製造することが
できる。かかる立体異性体の例を次に示す。 上記式中の波線(〓)はそれぞれ式〔a〕、
〔b〕、〔c〕および〔d〕のヒドロキシ基
がR(β)またはS(α)のいずれかであることを
示す。 本明細書中の各化合物の核は、都合上、 で示されているが、この核は で表わすことができることを理解されるべきこと
である。 本発明化合物は血小板凝集抑制剤として、たと
えば冠状動脈血栓および脳血栓形成のような血栓
症を処置するために有用な心臓血管剤である。ま
た本発明化合物は、たとえば狭心症のような心筋
虚血症の処置のための血管拡張効果を有する選択
的トロンボキサンA2シンテターゼ抑制剤である。
本発明の活性化合物は、その約1〜100mg/Kg、
好ましくは約1〜50mg/Kg、特に約2〜25mg/Kg
の摂生有効投与量を1日1回または2〜4回に分
けて上記疾病にかかりやすいことで知られた種々
の哺乳類に経口的もしくは非経口的に投与するこ
とができる。 本発明の活性化合物は、この化合物〔〕また
はその2種ないしそれ以上の混合物を単位投与剤
型当り約5〜500mg含有せしめた錠剤、カプセル
剤、溶液もしくは懸濁液のような組成物として使
用することができる。活性化合物は、これを生理
学的に許容される媒体もしくは担体、賦形剤、結
合剤、保存剤、安定剤、香味剤などと、許容され
る薬学的慣行に適合するように常套の方法で組合
わせて製剤することができる。このような薬理学
的用途に加うるに、本発明化合物〔〕のうちの
ある種のものは前述のようにその他の種類の化合
物〔〕製造のための中間体として有用である。 次に実施例をあげて本発明の好ましい化合物の
製造法を具体的に説明する。 実施例 1 [1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β]−7−〔3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]
ヘプト−2−イル]−5−ヘプテン酸の製造: A 〔1β,2β(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホルミ
ル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステルの製
造:− ピリジン8.7mlのジクロロメタン200ml溶液を
強く撹拌しながらこれに三酸化クロム5.38gを
少量づつ添加処理する。添加終了後、混合物を
室温で20分間撹拌し、セライト8g、次いでジ
クロロメタン10ml中〔1β,2β(5Z),3β,4β〕−
7−〔3−(ヒドロキシメチル)−7−オキサビ
シクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−5−ヘプ
テン酸メチルエステル(米国特許第4143054号
に開示されたように製せられる。)2.58g(9.6ミ
リモル)で処理する。混合物を室温で20分間撹
拌し、セライトに通して過する。液を5%
炭酸水素ナトリウムで(100ml×2回)、10%塩
酸で(100ml×2回)、更に5%炭酸水素ナトリ
ウムで(100ml×2回)洗浄する。このジクロ
ロメタン溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下に濃縮する。残留物をシリカ−CC−7
(200ml)上クロマトグラフイーに付し、(1)ジク
ロロメタン、(2)ジエチルエーテルで溶離してア
ルデヒド体2gを得る。NMR(C−13およびプ
ロトン)により生成物は異性体(90%シス−エ
ンド−および10%トランス−アルデヒド)の混
合物であることが示された(減圧下、室温で長
い時間乾燥すると分解する。)。シリカゲル上、
ベンゼン/酢酸エチル(4:1)によるTLC
のRf値は0.5(バニリンと加熱により可視化)。 B 1β,2β(5Z),3α,(1E),4β〕−7−〔3−
3
−オキソ−3−シクロヘキシル−1−プロペニ
ル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2
−イル]−5−ヘプテン酸メチルエステルの製
造:− アルゴン雰囲気下、50%水素化ナトリウム
0.180g(3.75ミリモル、1.44当量)と無水ジメト
キシエタン(DME)60mlのスラリーに、2−
オキソ−2−シクロヘキシルエチルジメチルホ
スホネート0.870g(3.75ミリモル、1.44当量)と
ジメトキシエタン10mlの混合物を0℃で加え
る。混合物を25℃で1.5時間撹拌し、この溶液
(25℃)に〔1β,2β(5Z),3α,4β)〕−7−〔3
−ホルミル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエス
テル(前記A項で得られた化合物)0.700g(2.6
ミリモル)とジメトキシエタン10mlの混合物を
加える。1時間後、氷酢酸0.5mlを加えて反応
を停止させ、濃縮し、エーテル200mlに溶解し
て5%炭酸水素カリウム150mlで洗い、無水硫
酸マグネシウムで乾燥、濃縮する。残渣をLP
−1シリカゲル上、フラツシユクロマトグラフ
イーに付し、エーテル/ヘキサン(3:7)で
溶離して精製し、標記Bの化合物0.515g(収率
52%)を得る。 C1 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル、および C2 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル]−5−ヘプテン酸
メチルエステルの製造:− アルゴン雰囲気下、前記B項の化合物0.515g
(1.38ミリモル)の乾燥メタノール15ml溶液に、
塩化セリウム・七水和物0.513g(1.38ミリモル、
1当量)を25℃で添加する。混合物を10分間撹
拌し、0℃に冷やして水素化ホウ素ナトリウム
0.0532g(1.38ミリモル、4当量)を加える。0
℃で20分間撹拌後、アセトン1mlを加えて反応
を停止させ、高度減圧下に濃縮し、酢酸エチル
100mlで希釈して食塩水100mlで洗う。水層を酢
酸エチル100mlで再抽出する。有機層を合して
無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮する。残渣
をLP−1シリカゲルカラム上、フラツシユク
ロマトグラフイーに付し、酢酸エチル−ヘキサ
ン(1:4)で溶離することにより精製し、標
記C1項の化合物0.210gと標記C2項の化合物
0.191gを得る。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β−7−〔
3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]
ヘプト−2−イル]−ヘプテン酸の製造:− 80%テトラヒドロフラン−水の溶液30ml(0
℃に冷却)に上記C1項のアルコールエステル
体0.200g(0.53ミリモル)を溶解し、1N水酸化
リチウム溶液5.3mlを滴加する。混合物を0℃
で撹拌し、25℃までゆつくり加温して18時間撹
拌する。高度減圧下にTHFを蒸発させ、残留
物を水10mlで希釈して10%シユウ酸水溶液でPH
3に調節し、エーテル(60ml×3回)および食
塩水(50ml)で抽出する。生成物を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥、濃縮して油状物を得る。 この油状物をCC−7シリカゲル上、蒸留し
たペンタン/エーテルで傾斜溶離して精製し、
ポリカーボネート膜に通して過する。高度減
圧下10日間溶媒を蒸発させて標記化合物0.165g
(86%)を得た。シリカゲル上、酢酸エチル/
ヘキサン(4:1)によるTLCのRf値0.58に
相当。 元素分析、 計算値:C,72.89%;H,9.45%、 実測値:C,72.68%;H,9.15%。 実施例 2 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:
− 80%テトラヒドロフラン(THF)−水の溶液
30ml(0℃)中、C2項(実施例1のアルコー
ルエステル体0.166gに、1M水酸化リチウム溶
液4.4mlをゆつくり加える。混合物を0℃で撹
拌し、更に18時間撹拌する間に25℃に加温す
る。THFを蒸発させ、残留物で水10mlで希釈
し、10%シユウ酸水溶液でPH3に調節してエー
テル(60ml×3回)および食塩水(50ml)で抽
出する。生成物を無水硫酸マグネシウムで乾
燥、濃縮して油状物を得る。油状物をCC−7
シリカゲルカラム上、ペンタン−エーテル傾斜
溶離剤によるクロマトグラフイーに付し、ポリ
カーボネート膜に通して過し、次いで減圧下
に溶媒を除き、油状物として標記化合物0.043g
(27%)を得た。シリカゲル上、酢酸エチル/
ヘキサン(4:1)によるTLCのRf値0.38。 元素分析、 計算値:C,72.89%;H,9.45%、 実測値:C,72.33%;H,9.36%。 標記化合物(ゆつくり移動する異性体)モル当
り水0.16モルに対して補正された計算値; C,72.33%;H,9.47%。 実施例 3 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(4−シクロペンシル−3−ヒドロキシ−1
−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−
(3−オキソ−4−シクロペンチル−1−ブテ
ニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステルの
製造:− アルゴン雰囲気下、鉱油中50%水素化ナトリ
ウム0.240g(4.76ミリモル、1.1当量)とジメト
キシエタン(DME)60mlのスラリーに、2−
オキソ−3−シクロペンチルプロピルジメチル
ホスホネート1.26g(5.41ミリモル、1.2当量)と
DME10mlの混合物を0℃で添加する。混合物
をアルゴン雰囲気下に25℃で1時間撹拌し、こ
の溶液(25℃)に、〔1β,2β(5Z),3α,4β〕−
7−〔3−ホルミル−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(実施例1のA項に記載のよう
に製せられる。)1.2g(4.53ミリモル)と
DME10mlの混合物を加える。1時間後、氷酢
酸1mlを加えて反応を停止させ、濃縮し、エー
テル300mlに溶解する。エーテル溶液を5%炭
酸水素カリウム(100ml×3回)および食塩水
(100ml)で洗う。有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥、濃縮して標記Aの粗生成物1.76gを
得る。この粗油状物を精製することなく次の反
応工程に直接使用する。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(4−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステル、および C 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(4−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステルの製造:− アルゴン雰囲気下、前記A項の粗生成物
1.76gの乾燥メタノール30ml溶液に、35%水含
有塩化セリウム1.73g(4.53ミリモル、1当量)
を25℃で添加する。混合物を25℃で10分間撹拌
し、0℃に冷却して水素化ホウ素ナトリウム
0.175g(4.53ミリモル、4当量)をゆつくり加
える。0℃で10分間撹拌後、反応混合物を飽和
塩化アンモニウム200mlに注ぐ。混合物をエー
テルで(100ml×3回)抽出し、エーテル抽出
物を水(100ml×3回)、食塩水(100ml)で洗
う。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃
縮する。 残渣をWatersHPLC上、酢酸エチル/ヘキ
サン(1:3)で溶離して精製、分離し、標記
B項の化合物0.276gと標記C項の化合物0.225g
を得る。 シリカゲル上、ヘキサン/酢酸エチル(1:
1)によるTLCのRf値:化合物B=0.50相当、
化合物C=0.45相当。 D 1β,2β(5Z),3α,(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(4−シクロペンチル−3−ヒドロキシ1
−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 前記B項のアルコールエステル体0.161g
(0.42ミリモル)を80%テトラヒドロフラン−
水の溶液20mlに溶解し、0℃に冷やして1N水
酸化リチウム溶液4.2mlを滴加する。混合物を
0℃で撹拌し、次いで18時間に渡つて撹拌しな
がらゆつくり25℃まで加温する。高度減圧下に
THFを蒸発させ、残留物を水10mlで希釈して
10%シユウ酸水溶液でPH3に調節し、エーテル
で(50ml×3回)抽出する。有機層を水(50ml
×3回)および食塩水(50ml)で洗う。生成物
を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して油状
物を得る。 この油状物をCC−7シリカゲルカラム上、
蒸留したペンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポ
リカーボネート膜に通して過する。高度減圧
下に10日間溶媒を蒸発させ、〔1β,2β(5Z),3α
(1E,3S*),4β〕−7−〔3−(3−シクロペン
チル−3−ヒドロキシ−1−ブテニル−7−オ
キサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5
−ヘプテン酸0.151g(99.3%)を得た。シリカ
ゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(4:1)によ
るTLCのRf値0.48相当。 元素分析 計算値:C,72.89%;H,9.45%、 実測値:C,72.59%;H,9.26%。 実施例 4 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔
3
−(4−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−1−
ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 前記C項のアルコールエステル体(実施例3に
記されたように製せられる。)0.100g(0.27ミリモ
ル)を80%テトラヒドロフラン−水の溶液10mlに
溶解し、0℃に冷やして1N水酸化リチウム溶液
2.7mlを滴加する。混合物を0℃で撹拌し、次い
で18時間に渡つて撹拌しながら25℃までゆつくり
加温する。高度減圧下にTHFを蒸発させ、残留
物を水10mlで希釈して10%シユウ酸水溶液でPH3
に調節し、エーテルで(50ml×3回)抽出する。
有機層を水(50ml×3回)および食塩水(50ml)
で洗う。無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、
油状物を得る。 この油状物をCC−7シリカゲルカラム上、蒸
留したペンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカ
ーボネート膜に通して過することにより精製す
る。高度減圧下に10日間溶媒を蒸発させ、標記化
合物0.090g(92.0%)を得た。 シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(4:
1)によりTLCのRf値0.38相当。 元素分析 計算値:C,72.89%;H,9.45%、 実測値:C,72.73%;H,9.70%。 実施例 5 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(4−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−1
−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエス
テルの製造:− 前記実施例3のB項記載のように標記化合物を
合成する。 この生成物をCC−7シリカゲルカラム上、蒸
留したペンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカ
ーボネート膜に通して精製する。高度減圧下に12
日間溶媒を蒸発させて生成物を得た。 シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(1:
1)によるTLCのRf値0.50相当。 元素分析(水0.16モル含有) 計算値:C,72.79%;H,9.64%、 実測値:C,72.79%;H,9.58%。 実施例 6 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−(4−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−1
−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエス
テルの製造:− 前記実施例3のC項記載のように標記化合物を
合成する。 生成物をCC−7シリカゲルカラム上、蒸留し
たペンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカーボ
ネート膜に通して精製する。高度減圧下に12日間
溶媒を蒸発させて生成物を得た。 シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(1:
1)によるTLCのRf値0.45相当。 元素分析(水0.21モル含有) 計算値:C,72.61%;H,9.64%、 実測値:C,72.61%;H,9.62%。 実施例 7 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブテ
ニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−
(3−オキソ−4−フエニル−1−ブテニル)−
7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イ
ル〕−5−ヘプテン酸メチルエステルの製造:
− 新しく蒸留したジイソプロピルアミン
0.4116gと乾燥トルエン80mlの混合物(−78℃)
に、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液
(1.6M)2.3ml(3.71ミリモル)を加える。混合
物を5分間撹拌し、この混合物(−78℃)に2
−オキソ−3−フエニルプロピルジメチルホス
ホネート0.9525g(3.91ミリモル、1.1当量)を加
える。混合物を撹拌しながら25℃まで加温す
る。この混合物に〔1β,2β(5Z),3α,4β〕−7
−〔3−ホルミル−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(実施例1のA項に従つて製せ
られる。)0.938g(3.55ミリモル)を加える。2.5
時間後、氷酢酸0.5mlで反応を停止させ、エー
テル300mlで希釈する。エーテル溶液を5%炭
酸水素ナトリウム溶液(100ml×3回)および
食塩水(100ml)で洗う。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥、濃縮して粗油状物1.22gを
得る。この油状物を精製することなく次反応工
程に使用する。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−1−フエニル−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル、
および C 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル
の製造:− アルゴン雰囲気中、上記A項の粗生成物
1.22gの乾燥メタノール30ml溶液に、35%水含
有塩化セリウム1.18g(2.64ミリモル、1当量)
を25℃で加える。混合物を25℃で10分間撹拌
し、0℃に冷やして水素化ホウ素ナトリウム
0.119g(2.64ミリモル、4当量)をゆつくり加
える。0℃で10分間撹拌後、反応混合物を飽和
塩化アンモニウム200mlに注ぐ。混合物をエー
テルで(100ml×3回)抽出する。エーテル抽
出物を水(100ml×3回)および食塩水(100
ml)で洗う。有機層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥、濃縮する。 Waters HPLC上、ヘキサン中30%酢酸エチ
ルで溶離することにより分離、精製し、標記B
項の化合物0.299gと標記C項の化合物0.272gを
得る。 シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(1:
1)によるTLCのRf値、B項の化合物:0.44
相当、C項の化合物:0.35相当。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 前記B項のアルコールエステル体0.299g
(0.78ミリモル)を80%テトラヒドロフラン−
水の溶液50mlに溶解し、0℃で冷やして1N水
酸化リチウム溶液7.8mlを滴加する。混合物を
0℃で撹拌し、次いで15時間に渡つて25℃まで
ゆつくり加温する。高度減圧下にTHFを蒸発
させ、残留物を水10mlで希釈して10%シユウ酸
水溶液でPH3に調節し、エーテルで(100ml×
3回)抽出する。有機層を水(100ml×3回)
および食塩水(100ml)で洗う。生成物を無水
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して油状物を得
る。 この油状物をCC−7カラム上、蒸留したペ
ンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカーボネ
ート膜に通して過することにより精製する。
高度減圧下に12日間溶媒を蒸発させて、〔1β,
2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3−(3−
ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブテニル)−
7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イ
ル〕−5−ヘプテン酸0.131gを得た。 元素分析 計算値:C,74.55%;H,8.16%、 実測値:C,74.42%;H,8.21%。 実施例 8 前記C項のアルコールエステル体(実施例7の
生成物)0.272gを80%テトラヒドロフラン−水の
溶液40mlに溶解し、0℃に冷やして1N水酸化ナ
トリウム溶液7.1mlを滴下する。混合物を0℃で
撹拌し、次いで15時間に渡つて25℃までゆつくり
加温する。高度減圧下にTHFを蒸発させ、残留
物を水10mlに希釈して10%シユウ酸水溶液でPH3
に調節し、エーテルで(100ml×3回)抽出する。
有機層を水(100ml×3回)および食塩水(100
ml)で洗う。生成物を無水硫酸マグネシウムで乾
燥、濃縮して油状物を得る。 この油状物をCC−7シリカゲルカラム上、蒸
留したペンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカ
ーボネート膜に通して過することにより精製す
る。高度減圧下に12日間溶媒を蒸発させて〔1β,
2β(5Z),3α(1E,3R*),4β−7−〔3−(3−ヒ
ドロキシ−4−フエニル−1−ブテニル)−7−
オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5
−ヘプテン酸0.176gを得た。 元素分析(水0.17モル含有) 計算値:C,73.93%;H,8.19%、 実測値:C,73.93%;H,7.94%。 実施例 9 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:
− A 1β,2β(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−(
3
−オキソ−シクロペンチル−1−プロペニル)
−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−
イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 新しく蒸留したジイソプロピルアミン
0.3756g(3.71ミリモル、1.1当量)と乾燥トルエ
ン80mlの混合物(−78℃)に、ヘキサン中n−
ブチルリチウム(1.6M)溶液2.3ml(3.71ミリ
モル、1.1当量)を加える。混合物を5分間撹
拌し、混合物(−78℃)に2−オキソ−2−シ
クロペンチルエチルジメチルホスホネート
0.8917g(4.05ミリモル、1.2当量)を添加する。
混合物を撹拌しながら25℃まで加温し、この混
合物(25℃)に、〔1β,2β(5Z),3β,4α〕−7
−〔3−ホルミル−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(実施例1の生成物)0.900g
(3.41ミリモル)を加える。2.5時間後、氷酢酸
0.5mlを加えて反応を停止させ、エーテル300ml
で希釈する。このエーテル溶液を5%炭酸水素
ナトリウム溶液(100ml×3回)および食塩水
(100ml)で洗う。有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥、濃縮して粗油状物1.26gを得る。こ
の油状物を精製することなく次反応工程に使用
する。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−3−シクロペンチル−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル、および C 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシル−3−シクロペンチル
−1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステルの製造:− アルゴン雰囲気下、前記A項の粗生成物
1.25gの乾燥メタノール30ml溶液に、35%水含
有塩化セリウム1.29g(3.41ミリモル、1当量)
を25℃で添加する。混合物を25℃で10分間撹拌
し、0℃に冷やして水素化ホウ素ナトリウム
0.130g(3.41ミリモル、4当量)をゆつくり加
える。0℃で10分間撹拌後、反応混合物を飽和
塩化アンモニウム200mlに注ぐ。混合物をエー
テルで(100ml×3回)抽出する。エーテル抽
出物を水(100ml×3回)および食塩水(100
ml)で洗い、有機層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥、濃縮する。 Waters HPLC上、ヘキサン中30%酢酸エチ
ルで溶離して分離、精製して標記B項の化合物
0.426gと標記C項の化合物0.297gを得る。 シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(1:
1)によるTLCのRf値:B項の化合物0.55相
当、C項の化合物0.42相当。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
の製造:− 前記B項のアルコールエステル体0.426g
(1.18ミリモル)を80%テトラヒドロフラン−
水の溶液50mlに溶解し、0℃に冷やして1N水
酸化リチウム溶液11.8mlを滴加する。混合物を
0℃で撹拌し、次いで15時間に渡つてゆつくり
25℃まで加温する。高度減圧下にTHFを蒸発
させ、残留物を水10mlで希釈して10%シユウ酸
水溶液でPH3に調節し、エーテルで(100ml×
3回)抽出する。有機層を水(100ml×3回)
および食塩水(100ml)で洗う。生成物を無水
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して油状物を得
る。 この油状物をCC−7カラム上、蒸留したペ
ンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカーボネ
ート膜に通して過することにより精製する。
高度減圧下、溶媒を11日間蒸発させ、〔1β,2β
(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3−(3−シ
クロペンチル−3−ヒドロキシ−1−プロペニ
ル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−5−ヘプテン酸0.252gを得た。 元素分析 計算値:C,72.39%;H,9.25%、 実測値:C,72.49%;H,9.29%。 実施例 10 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:
− 上記実施例9・C項で製せられたアルコールエ
ステル体0.297g(0.82ミリモル)を80%テトラヒ
ドロフラン−水の溶液40mlに溶解し、0℃に冷や
して1N水酸化リチウム溶液8.2mlを滴加する。混
合物を0℃で撹拌し、次いで15時間に渡つてゆつ
くり25℃まで暖める。高度減圧下にTHFを蒸発
させ、残留物を水10mlで希釈して10%シユウ酸水
溶液でPH3に調節し、エーテルで(100ml×3回)
抽出する。有機層を水(100ml×3回)および食
塩水(100ml)で洗う。生成物を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥、濃縮して油状物を得る。 この油状物をCC−7カラム上、蒸留したペン
タン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカーボネート
膜に通して過することにより精製する。高度減
圧下、溶媒を11日間蒸発させて標記化合物0.304g
を得た。 元素分析 計算値:C,72.39%;H,9.25%、 実測値:C,72.31%;H,9.45%。 実施例 11 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−N−アセ
チル−7−〔3−(3−シクロヘキシル−3−ヒ
ドロキシ−1−プロペニル)−7−オキサビシ
クロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ンアミドの製造:− 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔
3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1−
プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(実施例1の生
成物)0.1826g(0.50ミリモル)と無水THF3mlの
混合物に、p−ニトロフエノール(PNP)
0.0765g(0.55ミリモル、1.1当量)、4−ジメチル
アミノピリジン約0.005gおよびN,N′−ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド(DCC)0.1133g(0.55ミ
リモル、1.1当量)を加える。アルゴン雰囲気下、
混合物を25℃で2時間撹拌し、更にPNP0.0350g
(0.25ミリモル、0.5当量)とDCC0.0520g(0.25ミ
リモル、0.5当量)を加え、混合物を1時間撹拌
してp−ニトロフエノールエステル溶液を得る。
鉱油中50%水素化ナトリウム0.060g(1.25ミリモ
ル、乾燥ペンタンで3回洗つたもの)とアセトア
ミド0.0923g(1.25ミリモル、2.5当量)の無水
THF3ml溶液を、あらかじめアルゴン雰囲気下に
25℃で3時間撹拌した後、この溶液に上記p−ニ
トロフエノールエステル溶液を注射器で添加す
る。この明澄色混合物を1時間撹拌し、これを飽
和塩化アンモニウム50mlと2N塩酸5mlの溶液に
ゆつくり加え、酢酸エチルで(50ml×2回)抽出
し、水20mlおよび食塩水、20mlで洗い、無水硫産
マグネシウムで乾燥する。この酢酸エチル溶液を
18時間0℃に冷やし、溶液から晶出したPNPを
別して溶液を蒸発させ、粗油状物約0.200gを得
る。LP−1シリカゲル上、ヘキサン/酢酸エチ
ル(1:1)によるフラツシユクロマトグラフイ
ーに付し、次いでWhatman1mmPKGFシリカゲル
プレート(20×20cm)上、ヘキサン:酢酸エチル
溶離剤によるプレパラテイブ薄層クロマトグラフ
イーに付し、清澄な無色油状物として〔1β,2β
(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−N−アセチル−7−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシル−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテンアミド0.039g
(19%)を得た。 元素分析、C24H37NO4として 計算値:C,71.43%;H,9.24%; N,3.47%、 実測値:C,71.30%;H,9.31%; N,3.63%。 実施例 12 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−N−(フエニルスルホニ
ル)−5−ヘプテンアミドの製造:− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−シクロヘキシル−3−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−1−プロペニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−
ヘプテン酸メチルエステルの製造:− アルゴン雰囲気中、25℃で〔1β,2β(5Z),
3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3−シクロヘキシル
−3−ヒドロキシ−1−プロペニル)−7−オ
キサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5
−ヘプテン酸メチルエステル(実施例1記載の
ように製せられる。)0.5408g(1.44ミリモル)
と無水DMF5mlの混合物に、ジメチル−tert−
ブチルシリルクロリド0.4335g(2.9ミリモル、
2当量)とイミダゾール0.3923g(5.76ミリモ
ル、4当量)を加え、2時間撹拌する。溶媒を
蒸発させて残留油状物をエーテル150mlで希釈
し、飽和塩化アンモニウム25mlと飽和炭酸水素
ナトリウム25mlで洗い、無水硫酸マグネシウム
で乾燥、蒸発させて標記A項の化合物0.760gを
得る。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−シクロヘキシル−3−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−1−プロペニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−
ヘプテン酸の製造:− 上記A項のエステル体0.760g(1.4ミリモル)
と80%THF水溶液80mlに、水中1N水酸化リチ
ウム20mlを加え、アルゴン雰囲気下に25℃で30
時間撹拌する。混合物をシユウ酸でPH3相当に
調節し、水500mlで希釈してエーテルで(250ml
×3回)抽出する。エーテル層を水100mlおよ
び食塩水100mlで洗い、無水硫酸マグネシウム
で乾燥、蒸発させて油状物を得る。 C 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−シクロヘキシル−3−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−1−プロペニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−N−
(フエニルスルホニル)−5−ヘプテンアミドの
製造:− アルゴン雰囲気下、上記B項の酸0.161g
(0.34ミリモル)と無水THF3mlの混合物(25
℃)に、トリエチルアミン0.0687g(0.68ミリモ
ル、2.0当量)とイソシアン酸ベンゼンスルホ
ニル0.1245g(0.68ミリモル、2.0当量を加える。
混合物を1時間撹拌して酢酸エチル50mlで希釈
し、飽和塩化アンモニウム10ml、水10mlおよび
食塩水10mlで順次洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥して油状物0.260gを得る。この生成物
をLP−1シリカゲル上、塩化メチレン中1%
メタノール溶離剤によるフラツシユクロマトグ
ラフイーで精製し、灰白色固体として標記C項
の化合物0.2128g(99%)を得る。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−N−(フエニルス
ルホニル)−5−ヘプテンアミドの製造:− 上記C項の化合物0.2128g(0.35ミリモル)と
THF3mlの混合物にテトラブチルアンモニウム
フルオリド1.1g(3.5ミリモル、10当量)を加
え、この溶液をアルゴン雰囲気下に45℃で66時
間還流する。反応混合物を冷やし、エーテル50
mlで希釈して飽和塩化アンモニウム10mlで洗
い、水層をエーテル20mlで抽出する。エーテル
溶液を合して水10mlおよび食塩水10mlで洗い、
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。この粗生成
物をLP−1シリカゲル上、ヘキサン:酢酸エ
チル(1:1)溶離剤によるクロマトグラフイ
ーで精製し、白色泡状物質として〔1β,2β
(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3−(3−シ
クロヘキシル−3−ヒドロキシ−1−プロペニ
ル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−N−(フエニルスルホニル)−5−ヘ
プテンアミド0.095g(収率54%)を得た。 元素分析 計算値:C,67.11%;H,8.10%; N,2.65%、 実測値:C,67.03%;H,7.83%; N,2.79%。 実施例 13 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−N−(メチルスルホニル)
−5−ヘプテンアミドの製造:− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−t−ブチルジ
メチルシリルオキシ−1−プロペニル)−7−
オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−
N−(メチルスルホニル)−5−ヘプテンアミド
の製造:− 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
(3−シクロヘキシル−3−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−1−プロペニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−
ヘプテン酸(実施例18・B項の生成物)0.176g
(0.38ミリモル)と無水THF3mlの混合物に、
トリエチルアミン0.187g(1.85ミリモル、5当
量)とイソシアン酸メチルスルホニル0.224g
(1.85ミリモル、5当量)を加える。混合物を
アルゴン雰囲気下、25℃で1時間撹拌し、酢酸
エチル50mlで希釈して飽和塩化アンモニウム10
ml、水10mlおよび食塩水10mlで順次洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。粗生成物を
LP−1シリカゲル上、酢酸エチル:ヘキサン
(1/2)溶液(溶離剤として)によるフラツ
シユクロマトグラフイーで精製し、清澄な油状
物として標記A項の化合物0.125g(収率61%)
を得る。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−プロピニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−N−(メチルスル
ホニル)−5−ヘプテンアミドの製造:− アルゴン雰囲気下、前記A項の化合物0.125g
(0.23ミリモル)の混合物(25℃)に、テトラ
ブチルアンモニウムフルオリド0.7256g(2.3ミ
リモル、10当量)を加える。混合物を45℃で15
時間還流し、冷やしてエーテル50mlで希釈し、
飽和塩化アンモニウム10mlで洗う。水層をエー
テル20mlで抽出し、エーテル溶液を合して水10
mlおよび食塩水10mlで洗い、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。粗生成物をLP−1シリカゲ
ル上、ヘキサン:酢酸エチル(2:3)溶液
(溶離剤として)によるフラツシユクロマトグ
ラフイーで精製し、清澄な無色油状物として
〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−
(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1−
プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−N−(メチルスルホニル)−
5−ヘプテンアミド0.0321g(収率32%)を得
た。 元素分析 計算値:C,62.84%;H,8.48%; N,3.19%、 実測値:C,62.72%;H,8.47%; N,3.22%。 実施例 14 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:
− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−プロピニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
の製造:− 水素化ナトリウム(0.280g、5.9ミリモル
(油中50%))と無水ジメトキシエタン100mlの
スラリーをジメチル−2−オキソ−2−シクロ
ヘキシルエチルホスホネート1.37g(5.9ミリモ
ル)のDME10ml溶液(0℃)で処理する。混
合物を室温で2時間撹拌し、次いで1β,2α
(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホルミル−7−オ
キサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5
−ヘプテン酸メチルエステル1.1g(4.1モル)の
DME10ml溶液で処理する。混合物を室温で1.5
時間撹拌し、氷酢酸0.354g(5.9ミリモル)を加
えて反応を停止させ、減圧下に濃縮する。残留
物をエーテルに溶解し、5%炭酸水素カリウム
で(100ml×1回)洗う。エーテル層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮する。残渣
をLP−1シリカゲル上、ヘキサン/エーテル
(7:3)によるクロマトグラフイーに付して
精製して油状物1.1gを得る。 この粗油状物1.1gと塩化セリウム・七水和物
1.1g(2.9ミリモル)のメタノール30ml溶液を氷
浴で冷やし、水素化ホウ素ナトリウム0.112g
(2.9ミリモル)を30秒に渡つて少量づつ添加処
理する。混合物を室温で10分間撹拌し、飽和塩
化アンモニウム溶液200mlに注ぎ、酢酸エチル
で(100ml×5回)抽出する。抽出物を合して
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮する。残渣を
LP−1シリカゲル上、ヘキサン/酢酸エチル
(4:1)で溶離するカラムクロマトグラフイ
ーにより精製して標記A項の化合物0.33gを得
る。シリカゲル上、ヘキサン/酢酸エチル
(1:1)によるA項の化合物のTLCのRf値
0.5。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
の製造:− 上記A項で得られたアルコールエステル体
0.33g(0.9ミリモル)をテトラヒドロフラン/
水65ml/15ml)に溶解し、0℃に冷やして水酸
化リチウム(9ミリモル)の水9ml溶液を滴加
処理する。混合物を0℃で1時間、次いで室温
で7時間撹拌し、冷室で週末まで放置する。混
合物を10%シユウ酸でPH3に調節して水500ml
に注ぎ、エーテルで(200ml×3回)抽出する。
エーテル抽出物を合して食塩水で洗い、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮する。残渣
をLP−1シリカゲル上、2%メタノール/ジ
クロロメタンで溶離するフラツシユクロマトグ
ラフイーにより精製して標記化合物0.200gを得
た。 これを更にCC−7シリカゲル上、蒸留した
ペンタン300ml、ペンタン/エーテル(蒸留)
(1:1)200ml相当量およびエーテル(蒸留)
300mlで溶離することにより精製し、ミリポア
フイルターに通して過する。 シリカゲル上、酢酸エチルによるTLCのRf
値0.33相当(PMA噴霧および加熱)。 実施例 15 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテノールの製
造:− 1β,2β(5Z),3α,4β〕−7−〔3−(3−シク
ロ
ヘキシル−3−ヒドロキシル−1−プロペニル)
−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イ
ル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル(実施例1
に記載のように製せられる。)0.400g(1.1ミリモ
ル)と無水テトラヒドロフラン(THF)10mlの
混合物(0℃)に、THF中水素化アルミニウム
リチウム1M溶液0.6mlをゆつくり加える。混合物
を0℃で30分間撹拌し、3%水−THF溶液中で
ゆつくり反応を停止させる。乾燥セライト0.500g
を加え、混合物を1時間撹拌し、エーテル100ml
で希釈し、過して標記化合物0.325gを得た。 実施例 16 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシル−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテンアミドの製
造:− 前記実施例1で製せられた酸生成物0.4565g
(1.3ミリモル)と無水THF10mlの混合物に、p
−ニトロフエノール0.1913g(1.4ミリモル)、4,
4−ジメチルアミノピリジン約0.010gおよびN,
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド0.2833g
(1.4ミリモル)を加える。混合物をアルゴン雰囲
気下に25℃で2時間撹拌し、この溶液に無水アン
モニアを1時間通してゆつくり発泡させる。溶媒
を蒸発させ、粗油状物をシリカゲル上、ジクロロ
メタン中5%メタノール溶離剤によるカラムクロ
マトグラフイー精製、標記化合物0.3332gを得た。 実施例 17 〔1β,2β(5Z),3α(1E,2S*),4β〕−N−プロ
ピル−7−〔3−(3−ヒドロキシ−3−シクロ
ヘキシル−1−プロペニル)−7−オキサビシ
クロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ンアミドの製造:− 上記実施例16の記載に従つてp−ニトロフエノ
ールエステル体を製し、プロピルアミン0.590g
(10ミリモル)を加え、混合物を3時間撹拌する。
減圧下に溶媒を除き、得られた粗油状物をシリカ
ゲル上、ヘキサン/酢酸エチル(1:2)溶液
(溶離剤)によるカラムクロマトグラフイーで精
製し、標記化合物0.2195gを得た。 実施例 18 〔1β,2β(5Z),3α(1E,2S*),4β〕−N−フエ
ニル−7−〔3−(3−ヒドロキシ−3−シクロ
ヘキシル−1−プロペニル)−7−オキサビシ
クロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ンアミドの製造:− プロピルアミンの代わりにアニリンを用い、実
施例17記載のように処理して標記化合物を得た。 実施例 19 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロヘプチル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:
− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−オキソ−3−シクロヘプチル−3−
ヒドロキシ−1−プロペニル)−7−オキサビ
シクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプ
テン酸の製造:− アルゴン雰囲気下、鉱油中50%水素化ナトリ
ウム0.1994g(4.15ミリモル、1.1当量)と無水ジ
メトキシエタン(DME)100mlのスラリーに、
2−オキソ−2−シクロヘプチルプロピルジメ
チルホスホネート1.108g(1.49ミリモル、1.2当
量)とDME20mlの混合物を、0℃で添加する。
混合物をアルゴン雰囲気下、25℃で1時間撹拌
する。この溶液(25℃)に、実施例1記載のよ
うに製せられた〔1β,2β(5Z),3α,4β〕−7−
〔3−ホルミル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステル1.013g(3.77ミリモル)とDME20mlの
混合物を加える。30分後、氷酢酸1mlを加えて
反応を停止させて濃縮し、エーテル500mlに溶
解する。エーテル溶液を5%炭酸水素カリウム
(100ml×3回)および食塩水(100ml)で洗い、
無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮する。残渣
をLP−1シリカゲルカラム上、エーテル/ヘ
キサン(3:7)で溶離するフラツシユクロマ
トグラフイーにより精製して標記A項の化合物
0.898g(収率61.7%)を得る。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,2S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘプチル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル、および C 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘプチル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステルの製造:− アルゴン雰囲気下、下記A項の化合物0.898
g(2.32ミリモル)の乾燥メタノール20ml溶液
に、25℃で塩化セリウム(35%水含有)0.889
g(2.32ミリモル、1当量)を加える。混合物
を25℃で10分間撹拌し、0℃に冷やして水素化
ホウ素ナトリウム0.0897g(2.32ミリモル、4
当量)をゆつくり加える。0℃で10分間撹拌
後、反応混合物を飽和塩化アンモニウム150ml
に注ぐ。混合物をエーテルで(100ml×3回)
抽出する。エーテル抽出物を水(100ml×3回)
および食塩水(100ml)で洗う。有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮する。 残渣をWaters HPLC上、酢酸エチル/ヘキ
サン(1:3)で溶離して精製し、標記B項の
化合物0.270gと標記C項の化合物0.243g(収
率56.9%)を得る。 シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(1:
1)によるTLCのRf値:B項の化合物0.61相
当、C項の化合物0.51相当。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘプチル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
の製造:− 前記B項のアルコールエステル体0.163g
(0.42ミリモル)を80%テトラヒドロフラン−
水の溶液15mlに溶解し、0℃に冷やして1N水
酸化リチウム4.3mlを適加する。混合物を0℃
で撹拌し、15時間に渡つて撹拌しながら25℃ま
でゆつくり加温する。高度減圧下にTHFを蒸
発させ、残渣を水10mlで希釈し、10%シユウ酸
水溶液でPH3に調節し、エーテル(30ml×3
回)抽出する。この有機層を水(30ml×3回)
および食塩水(30ml)で洗い、生成物を無水硫
酸マグネシウムで乾燥、濃縮して油状物を得
る。 油状物をCC−シリカゲル上、蒸留したペン
タン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカーボネー
ト膜に通して精製する。高度減圧下に4日間溶
媒を蒸発させて標記化合物0.153g(97.3%)
を得た。シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン
(3:1)によるTLCのRf値0.44相当。 元素分析(水0.18モル含有) 計算値:C,72.74%;H,9.64%、 実測値:C,72.74%;H,9.62%。 実施例 20 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロヘプチル)3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造: 前記実施例19のC項記載のように製せられたア
ルコールエステル体0.153g(0.39ミリモル)を
80%テトラヒドロフラン−水の溶液15mlに溶解
し、0℃に冷やして1N水酸化リチウム3.9mlに適
加する。混合物を0℃で撹拌し、次いで18時間に
渡つて撹拌しながら25℃までゆつくり加温する。
高度減圧下にTHFを蒸発させ、残留物を水10ml
で希釈し、10%シユウ酸水溶液でPH3に調節し、
エーテルで(100ml×3回)抽出する。有機層を
水(30ml×3回)および食塩水(30ml)で洗い、
生成物を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して
油状物を得る。 この油状物をCC−7シリカゲル上、蒸留した
ペンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカーボネ
ート膜に通して過することにより精製する。高
度減圧下に4日間溶媒を蒸発させて標記化合物
0.145g(98.3%)を得た。 シリカゲル上、酢酸エチル(3:1)による
TLCのRf値0.34相当。 元素分析(水0.17モル含有) 計算値:C,72.78%;H,9.64%、 実測値:C,72.78%;H,9.76%。 実施例 21 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(4−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−オキソ−4−シクロヘキシル−1−
ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 新しく蒸留したジイソプロピルアミン0.4027
g(3.98ミリモル、1.05当量)と乾燥トルエン
30mlの混合物(−78℃)に、ヘキサン中n−ブ
チルリチウム(1.6M)溶液2.49ml(3.98ミリモ
ル、1.05当量)を加える。混合物を5分間撹拌
し、混合物(−78℃)に2−オキソ−2−シク
ロヘキシルプロピルジメチルホスホネート
1.034g(4.17ミリモル、1.1当量)を添加する。
混合物を撹拌しながら25℃まで加温し、この混
合物(25℃)に、〔1β,2β(5Z),3α,4β〕−7
−〔3−ホルミル−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(実施例1に記載されたように
製せられる。)1.0g(3.79ミリモル)を加え
る。4.5時間後、氷酢酸0.5mlを加えて反応を停
止させ、エーテル300mlで希釈する。このエー
テル溶液を5%炭酸水素ナトリウム溶液(100
ml×3回)および食塩水(100ml)で洗う。有
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して
粗油状物1.38gを得る。この油状物を精製する
ことなく次反応工程に使用する。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(4−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステル、および C 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(4−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステルの製造:− アルゴン雰囲気下、前記A項の粗生成物1.05
gの乾燥メタノール25ml溶液に、35%水含有塩
化セリウム1.04g(2.71ミリモル、1当量)を
25℃で添加する。混合物を25℃で10分間撹拌
し、0℃に冷やして水素化ホウ素ナトリウム
0.105g(2.71ミリモル、4当量)をゆつくり
加える。0℃で10分間撹拌後、反応混合物を飽
和塩化アンモニウム150mlに注ぐ。混合物をエ
ーテルで(100ml×3回)抽出する。エーテル
抽出物を水(100ml×3回)および食塩水(100
ml)で洗い、有機層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥、濃縮する。 LP−1シリカゲル上、ヘキサン中30%酢酸
エチルで溶離して分離、精製して標記B項の化
合物0.233gと標記C項の化合物0.111gを得
る。 シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(1:
1)によるTLCのRf値:B項の化合物0.51相
当、C項の化合物0.36相当。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(4−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造
−: 前記B項の生成物0.233g(0.6ミリモル)を
80%テトラヒドロフラン−水の溶液25mlに溶解
し、0℃に冷やして1N水酸化リチウム溶液6.0
mlを滴加する。混合物を0℃で撹拌し、次いで
15時間に渡つてゆつくり25℃まで加温する。高
度減圧下にTHFを蒸発させ、残留物を水10ml
で希釈して10%シユウ酸水溶液でPH3に調節
し、エーテルで(50ml×3回)抽出する。有機
層を水(50ml×3回)および食塩水(50ml)で
洗う。生成物を無水硫酸マグネシウムで乾燥、
濃縮して油状物を得る。 この油状物をCC−7カラム上、蒸留したペ
ンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカーボネ
ート膜に通して過することにより精製する。
高度減圧下、溶媒を7日間蒸発させ、〔1β,2β
(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3−(4−シ
クロヘキシル−3−ヒドロキシ−1−ブテニ
ル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−5−ヘプテン酸0.2067g(91.5%)
を得た。 元素分析(水0.2モル含有) 計算値:C,72.68%;H,9.65%、 実測値:C,72.68%;H,9.72%。 シリカゲル上、酢酸エチルによるTLCのRf
値0.41相当。 実施例 22 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−(4−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 前記実施例21のC項で製せられたアルコールエ
ステル体0.111g(0.28ミリモル)を80%テトラ
ヒドロフラン−水の溶液15mlに溶解し、0℃に冷
やして1N水酸化リチウム2.8mlを滴加する。混合
物を0℃で撹拌し、次いで15時間に渡つてゆつく
り25℃に加温する。高度減圧下にTHFを蒸発さ
せ、残留物を水10mlで希釈して10%シユウ酸水溶
液でPH3に調節し、エーテルで(30ml×3回)抽
出する。有機層を水(30ml×3回)および食塩水
(30ml)で洗う。生成物を無水硫酸マグネシウム
で乾燥、濃縮して油状物を得る。 この油状物をCC−7シリカゲルカラム上、蒸
留したペンテン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカ
ーボネート膜に通して精製する。高度減圧下に7
日間溶媒を蒸発させて〔1β,2β(5Z),3α(1E,
3R*),4β〕−7−〔3−(4−シクロヘキシル−3
−ヒドロキシ−1−ブテニル)−7−オキサビシ
クロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン
酸0.1028gを得た。 元素分析 計算値:C,73.36%;H,9.64%、 実測値:C,73.03%;H,9.61%。 シリカゲル上、酢酸エチルによるTLCのRf値
0.32相当。 実施例 23 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−1
−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−オキソ−4−(3−チエニル)−1−
ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 新しく蒸留したジイソプロピルアミン0.4027
g(3.98ミリモル、1.05当量)と乾燥トルエン
30mlの混合物(−78℃)に、ヘキサン中n−ブ
チルリチウム(1.6M)溶液2.47ml(3.98ミリモ
ル、1.05当量)を加える。混合物を5分間撹拌
し、混合物(−78℃)に2−オキソ−3−(3
−チエニル)プロピルジメチルホスホネート
1.034g(4.17ミリモル、1.1当量)を添加する。
混合物を撹拌しながら25℃まで加温し、この混
合物(25℃)に、〔1β,2β(5Z),3β,4β〕−7
−〔3−ホルミル−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(実施例1に記載されたように
製せられる。)1.0g(3.79ミリモル)を加え
る。3時間後、氷酢酸0.5mlを加えて反応を停
止させ、エーテル300mlで希釈する。このエー
テル溶液を5%炭酸水素ナトリウム溶液(100
ml×3回)および食塩水(100ml)で洗う。有
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して
粗油状物1.05gを得る。この油状物を精製する
ことなく次反応工程に使用する。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステル、および C 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−〔3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−
1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステルの製造:− アルゴン雰囲気下、前記A項の粗生成物
1.427gの乾燥メタノール30ml溶液に、35%水
含有塩化セリウム1.416g(3.69ミリモル、1
当量)を25℃で添加する。混合物を25℃で10分
間撹拌し、0℃に冷やして水素化ホウ素ナトリ
ウム0.1427g(3.69ミリモル、4当量)をゆつ
くり加える。0℃で10分間撹拌後、反応混合物
を飽和塩化アンモニウム200mlに注ぐ。混合物
をエーテルで(100ml×3回)抽出する。エー
テル抽出物を水(100ml×3回)および食塩水
(100ml)で洗い、有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥、濃縮する。 Water HPLC上、ヘキサン中35%酢酸エチ
ルで溶離して分離、精製して標記B項の化合物
0.201gを標記C項の化合物0.107gを得る。 シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(1:
1)によるTLCのRf値:B項の化合物0.39相
当、C項の化合物0.29相当。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−〔3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−
1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:
− 前記B項のアルコールエステル体0.201g
(0.52ミリモル)を80%テトラヒドロフラン−
水の溶液20mlに溶解し、0℃に冷やして1N水
酸化リチウム溶液5.2mlを滴加する。混合物を
0℃で撹拌し、次いで15時間に渡つてゆつくり
25℃まで加温する。高度減圧下にTHFを蒸発
させ、残留物を水10mlで希釈して10%シユウ酸
水溶液でPH3に調節し、エーテルで(100ml×
3回)抽出する。有機層を水(100ml×3回)
および食塩水(100ml)で洗う。生成物を無水
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して油状物を得
る。 この油状物をCC−7カラム上、蒸留したペ
ンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカーボネ
ート膜に通して過することにより精製する。
高度減圧下、溶媒を7日間蒸発させ、〔1β,2β
(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3−〔3−ヒ
ドロキシ−4−(3−チエニル)−1−ブテニ
ル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−5−ヘプテン酸0.150g(76.6%)を
得た。 元素分析 計算値:C,66.99%;H,7.49%、 実測値:C,66.76%;H,7.67%。 シリカゲル上、酢酸エチルによるTLCのRf
値0.53相当。 実施例 24 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−1
−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 前記実施例23のC項で製せられたアルコールエ
ステル体0.170g(0.44ミリモル)を80%テトラ
ヒドロフラン−水の溶液20mlに溶解し、0℃に冷
やして1N水酸化リチウム溶液4.4mlに滴加する。
混合物を0℃で撹拌し、次いで15時間に渡つてゆ
つくり25℃まで加温する。高度減圧下にTHFを
蒸発させ、残留物を水10mlで希釈して10%シユウ
酸水溶液でPH3に調節し、エーテルで(50ml×3
回)抽出する。有機層を水(30ml×3回)および
食塩水(30ml)で洗う。生成物を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥、濃縮して油状物を得る。 この油状物をCC−7シリカゲルカラム上、蒸
留したペンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカ
ーボネート膜に通して過することにより精製す
る。高度減圧下、溶媒を7日間蒸発させ、〔1β,
2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3−〔3−
ヒ
ドロキシ−4−(3−チエニル)−1−ブテニル〕
−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イ
ル〕−5−ヘプテン酸0.106g(63.9%)を得た。 元素分析 計算値:C,66.99%;H,7.49%、 実測値:C,66.80%;H,7.65%。 シリカゲル上、酢酸エチルによるTLCのRf値
0.45相当。 実施例 25 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−1
−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエス
テルの製造:− A 〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホルミ
ル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステルの製
造:− N−メチルニトロニトロソグアニジンを用い
る方法により、ジアゾメタンのエーテル溶液を
製する(エーテル50ml中、このグアニジン化合
物3gに40%水酸化カリウム9mlを0℃に滴加
する)。この溶液(水酸化カリウムペレツトで
乾燥)を、〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3−
(ヒドロキシメチル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(米国特許第4143054号記載の
ように製せられる。)2.54g(10ミリモル)の
エーテル150ml溶液に、撹拌しながら10分間に
渡つて滴加する。0℃で30分間撹拌を続け、こ
の終時点で酢酸1.5mlを加えて過剰量のジアゾ
メタンを分解する。この溶液を炭酸水素ナトリ
ウム溶液および食塩水で洗い、硫酸ナトリウム
で乾燥し、減圧下に濃縮してエステル体2.60g
を得る。 無水塩化メチレン中、三酸化クロム・ピリジ
ニウム塩の溶液を製し(三酸化クロム5.9g
(59ミリモル)、ピリジン9.5ml(118ミリモル)
および塩化メチレン200mlから製する)、室温で
25分間撹拌する。これに乾燥セライト(100℃
で一夜乾燥)8g、次いで上記エステル体2.61
g(9.8ミリモル)の塩化メチレン5ml溶液を
加える。この混合物を窒素雰囲気下、15分間撹
拌して後の処理を行なう。セライト−三酸化ク
ロム混合物を去して液を飽和炭酸水素ナト
リウム溶液(100ml×2回)、水(200ml)およ
び食塩水(100ml)で順次洗浄する。硫酸ナト
リウムで乾燥後、混合物を減圧下に濃縮して標
記アルデヒド体2.34gを得る。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−
(3−オキソ−4−(3−チエニル)−1−ブテ
ニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステルの
製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.185
g(3.85ミリモル、50%鉱油分散液)を乾燥
DME70mlに懸濁する。室温で強く撹拌しなが
らこれに、乾燥DME10ml中2−オキソ−3−
(3−チエニル)プロピルジメチルホスホネー
ト1.303g(5.25ミリモル)を滴加する(黄色
懸濁液が得られる。)。90分間撹拌後、乾燥
DME5ml中前記A項のアルデヒド体0.932g
(3.5ミリモル)を加え、3時間撹拌を続ける。
酢酸を加えて反応を停止させ、エーテル250ml
相当に注ぎ、これを飽和炭酸水素ナトリウムお
よび食塩で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。減圧下に過して溶媒を蒸発させ、生成し
た黄緑色油状物1.85gをシリカゲル上、クロマ
トグラフイーに付し、石油エーテル/エーテル
(4:1)、(3:1)および(2:1)で溶離
するクロマトグラフイーにより精製する。所望
のトランスエノン体として〔1β,2α(5Z),3α
(1E),4β〕−7−〔3−(3−オキソ−4−(3
−チエニル)−1−ブテニル〕−7−オキサビシ
クロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ン酸メチルエステル0.469g(36%)を得る。 C 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−〔3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−
1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステル、および D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステルの製造:− 上記B項のエノン化合物0.475g(1.22ミリ
モル)をメタノール12mlとTHF1.2mlに溶解
し、0℃に冷やして塩化第一セリウム・7.6水
和物0.469g(1.22ミリモル)を加え、次いで
水素化ホウ素ナトリウム0.0453g(1.22ミリモ
ル)を少量づつ添加する。氷浴を除き、8分間
撹拌を続ける。反応混合物を飽和塩化アンモニ
ウム90mlに注ぎ、生成物を酢酸エチルで(50ml
×5回)抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥する。
これを過し、溶媒を蒸発させ、得られた粘稠
な油状物0.550gをシリカゲルカラム上、クロ
マトグラフイーに付し、石油エーテル/エーテ
ル(7:3)〜(1:1)で溶離して精製し、
標記C項の異性体0.317g(66%)と標記D項
の異性体0.115g(24%)を得た。 シリカゲル上、エーテル/石油エーテル
(3:2)、バニリンによるTLCのRf値0.22。 元素分析(標記C項の化合物:C22H30O4Sと
して)、 計算値:C,67.66%;H,7.74%; S,8.21%、 実測値:C,67.28%;H,7.76%; S,8.01%。 実施例 26 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−(3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−1
−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− アルゴン雰囲気下、〔1β,2α(5Z),3α(1E,
3R*),4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−
(3−チエニル)−1−ブテニル〕−7−オキサビ
シクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ン酸メチルエステル(実施例25・D項のエステル
体)0.0937g(0.24ミリモル)を、THF13mlと水
2.4mlに溶解する。混合物を0℃に冷却し、この
時点で1N水酸化リチウム2.4mlを加える。混合物
を室温に暖め、更に6.5時間撹拌を続ける。混合
物を飽和シユウ酸でPH3に調節し、水80mlに注
ぐ。生成物をエーテルで(40〜60ml×3回)抽出
する。エーテル層を合して水(40ml×3回)およ
び食塩水(25ml)で洗い、硫酸マグネシウムで乾
燥する。過して減圧下に溶媒を蒸発させ、無色
油状生成物0.0885g(98%)を得た。シリカゲル
上、エーテルおよびバニリンによるTLCのRf値
0.25。 元素分析、C21H28O4Sとして、 計算値:C,66.99%;H,7.50%; S,8.52%、 実測値:C,66.64%;H,7.31%; S,8.52%。 実施例 27 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−1
−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− アルゴン雰囲気下、〔1β,2α(5Z),3α(1E,
3S*),4β〕−7−〔3−〔3−ヒドロキシ−4−
(3−チエニル)−1−ブテニル〕−7−オキサビ
シクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ン酸メチルエステル(実施例25・C項のエステル
体)0.237g(0.608ミリモル)をTHF32mlと水6
mlに溶解し、0℃に冷やす。1N水酸化リチウム
6mlを加え、混合物を室温に暖める。6.5時間撹
拌後、混合物を飽和シユウ酸でPH3に調節する。
これを水200mlに注ぎ、生成物をエーテルで(100
〜150ml×3回)抽出する。エーテル層を合して
水(100ml×3回)および食塩水(50ml)で洗い、
硫酸マグネシウムで乾燥する。これを過して減
圧下に溶媒を蒸発させ、無色油状生成物0.2126g
(92%)を得た。シリカゲル上、エーテル、バニ
リンによるTLCのRf値0.32。 元素分析、C21H28O4S・0.2H2Oとして、 計算値:C,66.36%;H,7.53%; S,8.43%、 実測値:C,66.51%;H,7.77%; S,8.07%。 実施例 28 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−フエノキシ−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− A 〔1β,2α(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−
〔3−オキソ−4−フエノキシ−1−ブテニル)
−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−
イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.264
g(5.5ミリモル(鉱油中50%))を乾燥ジメト
キシエタン50mlに懸濁する。2−オキソ−3−
フエノキシプロピルジメチルホスホネート1.9
g(7.5ミリモル)のDME10ml溶液を加える。
混合物はほとんど透明となり、溶液から沈澱が
生成し始まる。45分後、蒸留した(dist)
HMPA(ヘキサメチルリン酸トリアミド)を加
え、混合物を室温で更に45分間撹拌する。これ
にアルデヒド体:〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7
−〔3−ホルミル−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル1.33g(5ミリモル)のDME4
ml溶液を加え、混合物を室温で一夜撹拌する。
氷酢酸0.6mlを加えて反応を停止させ、減圧下
に溶媒を除く。残留物をエーテルに溶解し、
1N塩酸で3回、飽和炭酸水素ナトリウムで2
回洗う。このエーテル溶液を硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下に溶媒を除き、油状物2.25g
を得る。これを110gシリカゲル60上、クロマ
トグラフイーに付し、エーテル−石油エーテル
(2:3)で溶離し、標記A項に示す所望の化
合物0.906g(46%)を得た。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエノキシ−1−
ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステ
ル、および C 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエノキシ−1−
ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステ
ルの製造:− アルゴン雰囲気下、A項の化合物0.906g
(2.27ミリモル)と塩化セリウム・水和物0.872
g(2.27ミリモル、35.7%)を、メタノール22
mlとTHF2mlに溶解する。この溶液を氷浴上で
冷やし、水素化ホウ素ナトリウム0.086g
(2.27ミリモル)を少量づつ30秒で添加する。
氷浴を除き、混合物を8分間撹拌し、次いで飽
和塩化アンモニウム溶液200mlに注ぐ。生成物
を酢酸エチルで(50ml×5回)抽出し、乾燥し
て減圧下に溶媒を除いて残留する粘稠な油状物
0.9gを得る。これを50gシリカゲル60上、ク
ロマトグラフイーに付し、エーテル−石油エー
テル(3:2)で溶離して標記B項の異性体
0.445g(49%)と標記C項の異性体0.268g
(29%)を得る。シリカゲル上、エーテル−石
油エーテル(2:1)、バニリンを用いるTLC
のRf値0.32および0.21。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエノキシ−1−
ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 窒素雰囲気下、前記B項のメチルエステル体
0.438g(1.1ミリモル)をTHF55mlと水10.5ml
に溶解する。この溶液を氷浴上で冷やし、1N
水酸化リチウム11.0mlを加える。氷浴を除き、
混合物を室温で6時間撹拌する。飽和シユウ酸
溶液を加えてPH3に調節して混合物を水400ml
に注ぐ。生成物をエーテルで(200ml×3回)
抽出し、エーテル抽出物を合して水で3回、飽
和塩化ナトリウム溶液で1回洗い、乾燥して減
圧下に溶媒を除き、粘性を有する油状物として
標記D項の化合物0.407g(95%)を得た。シ
リカゲル上、エーテルとバニリンによるTLC
のRf値0.29。 元素分析、C23H30O5・0.2H2Oとして、 計算値:C,70.81%;H,7.86%、 実測値:C,70.86%;H,7.85%。 実施例 29 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−(3−ヒドロキシ−4−フエノキシ−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− アルゴン雰囲気下、〔1β,2α(5Z),3α(1E,
3R*),4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−フ
エノキシ−1−ブテニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メ
チルエステル(実施例28・C項のメチルエステル
体)0.121g(0.3ミリモル)を、THF15mlと水
2.9mlに溶解する。この溶液を氷浴上で冷やし、
1N水酸化リチウム3.0mlを加える。氷浴を除いて
混合物を室温で6.5時間撹拌する。シユウ酸の飽
和溶液でPH3に調節し、混合物を水125mlに注ぐ。
生成物をエーテルで(50ml×3回)抽出し、エー
テル抽出物を合して水で3回、飽和塩化ナトリウ
ム溶液で1回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して
減圧下に溶媒を除き、粘稠な油状物として標記化
合物0.109g(93%)を得る。シリカゲル上、エ
ーテルとバニリンによるTLCのRf値0.15。 元素分析、C23H30O5・0.2H2Oとして、 計算値:C,70.81%;H,7.86%、 実測値:C,70.66%;H,7.65%。 実施例 30 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブテ
ニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− A 〔1β,2α(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−
(3−オキソ−4−フエニル−1−ブテニル)−
7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イ
ル〕−5−ヘプテン酸の製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.238
g(4.95ミリモル(鉱油中50%))を乾燥ジメ
トキシエタン90mlに懸濁する。2−オキソ−3
−フエニルプロピルジメチルホスホネート1.63
g(6.75ミリモル)のDME10ml溶液を加え、
混合物を室温で90分間撹拌する。これに〔1β,
2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホルミル−7−
オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−
5−ヘプテン酸メチルエステル(実施例25に記
載のように製せられる。)1.2g(4.5ミリモル)
のDME5ml溶液を加え、混合物を室温で4.5時
間撹拌する。氷酢酸0.5mlを加えて反応を停止
させ、減圧下に溶媒を除く。残留物をエーテル
と飽和炭酸水素ナトリウム溶液の間に分配す
る。エーテル層を更に飽和炭酸水素ナトリウム
で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に
乾涸し、油状物2.25gを得る。これを120gシ
リカゲル60上、クロマトグラフイーに付してエ
ーテル−石油エーテル(2:3)で溶離し、標
記A項の化合物(単一斑点の物質)0.980g
(60%)を得る。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル、
および C 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル
の製造:− アルゴン雰囲気下、前記A項の化合物0.980
g(2.6ミリモル)と塩化セリウム()水和
物(水35.7%)0.982g(2.5ミリモル)を、メ
タノール25mlとTHF2mlに溶解する。溶液を氷
浴で冷やし、水素化ホウ素ナトリウム0.097g
(2.6ミリモル)を少量づつ30秒で添加する。氷
浴を除き、混合物を8分間撹拌し、飽和塩化ア
ンモニウム溶液200mlに注ぐ。生成物を酢酸エ
チルで(50ml×5回)抽出し、乾燥して減圧下
に溶媒を除いて粘稠な油状物0.930gを得る。
これを65gシリカゲル60上、クロマトグラフイ
ーに付してエーテル−石油エーテル(3:2)
で溶離し、標記B項のメチルエステル体0.446
g(45%)および標記C項の異性体0.156g
(16%)を得る。シリカゲル上、エーテル−石
油エーテル(3:2)、バニリンによるTLCの
Rf値0.44および0.30。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− アルゴン雰囲気下、上記B項のメチルエステ
ル体0.440g(1.14ミリモル)をTHF58mlと水
11mlに溶解する。溶液を氷浴で冷やし、撹拌し
ながら1N水酸化リチウム11.4mlを加える。氷
浴を除き、混合物を室温で6時間撹拌する。飽
和シユウ酸溶液を加えてPH3に調節し、この混
合物を水400mlに注ぐ。生成物をエーテルで
(200ml×3回)で抽出し、エーテル抽出物を合
して水で3回、飽和塩化ナトリウム溶液で1回
で洗い、乾燥して減圧下に溶媒を除き、油状物
として標記化合物0.425g(98%)を得た。シ
リカゲル上、エーテル、バニリンによるTLC
のRf値0.18。 元素分析、C23H30O4・0.3H2Oとして、 計算値:C,73.49%;H,8.21%、 実測値:C,73.66%;H,8.52%。 実施例 31 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブテ
ニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− アルゴン雰囲気下、〔1β,2α(5Z),3α(1E,
3R*),4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−フ
エニル−1−ブテニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メ
チルエステル(実施例30・C項のメチルエステル
体)0.150g(0.39ミリモル)をTHF20mlと水3.8
mlに溶解する。溶液を氷浴で冷やし、1N水酸化
リチウム3.9mlを加える。氷浴を除き、混合物を
室温で6時間撹拌する。飽和シユウ酸溶液でPH3
に調節し、混合物を水150mlに注ぐ。生成物をエ
ーテルで(50ml×3回)抽出し、エーテル抽出物
を合して水で3回、飽和塩化ナトリウムで1回洗
い、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を除き、標
記B項の化合物0.142g(97%)を得た。シリカ
ゲル上、エーテルおよびバニリンによるTLCの
Rf値0.12。 元素分析、C23H30O4・0.2MH2Oとして、 計算値:C,73.84%;H,8.19%、 実測値:C,74.00%;H,8.39%。 実施例 32 〔1β,2β(5Z),3α(3S*),4β〕−7−〔3−(
3
−ヒドロキシ−1−オクチニル)−7−オキサ
ビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘ
プテン酸の製造:− A 〔1β,2β(5Z),3α(1EZ),4β〕−7−〔3
−
(2−ブロモ−3−オキソ−1−オクテニル)−
7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イ
ル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 鉱油中50%水素化ナトリウム0.144g(3ミ
リモル)と無水ジメトキシエタン(DME)40
mlのスラリーに、1−ブロモ−2−オキソヘプ
チルジメチルホスホネート0.9632g(3.2ミリ
モル)のDME5ml溶液を加える。混合物を25℃
で90分間撹拌し、〔1β,2β(5Z),3α,4β〕−7
−〔3−ホルミル−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(実施例1記載のように製せら
れる。)0.700g(2.6ミリモル)のDME5ml溶液
を加え、混合物を25℃で3時間撹拌する。氷酢
酸0.2mlを加えて反応を停止させ、減圧下に溶
媒を除く。残留物をエーテルで希釈し、飽和炭
酸水素ナトリウム溶液で洗う。エーテル層を硫
酸マグネシウムで乾燥して過し、減圧下に乾
涸して油状物1.2gを得る。これをシリカゲル
上、クロマトグラフイーに付して酢酸エチル、
ヘキサンで溶離し、EおよびZ異性体の混合物
として標記A項の化合物0.9940gを得る。 B 〔1β,2β(5Z),3α(3S*R*,1EZ),4β〕−7
−〔3−(2−ブロモ−3−ヒドロキシ−1−オ
クテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステ
ルの製造:− メタノール20ml中A項のケトン化合物0.994
g(2.1ミリモル)と塩化セリウム・七水和物
0.9795g(2.5ミリモル)の混合物(0℃)に、
水素化ホウ素ナトリウム0.094g(2.5ミリモ
ル)を加える。混合物を10分間撹拌し、飽和塩
化アンモニウム溶液200mlに注ぎ、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、油状物として標記B項の
化合物1.0gを得る。 C 〔1β,2β(5Z),3α(3S*),4β〕−7−〔3
−
(3−ヒドロキシ−1−オクチニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−
ヘプテン酸メチルエステル、および D 〔1β,2β(5Z),3α(3R*),4β〕−7−〔3
−
(3−ヒドロキシ−1−オクチニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−
ヘプテン酸メチルエステルの製造:− 上記B項の化合物1.0g(2.1ミリモル)と無
水テトラヒドロフラン10mlの混合物に、カリウ
ムt−ブトキシ0.480g(4.3ミリモル)を加え
る。混合物を15分間撹拌し、0.1N塩酸で酸性
とし、酢酸エチルで抽出し、飽和炭酸水素ナト
リウムで洗つて無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、油状物0.862gを得る。この物質をシリカ
上、クロマトグラフイーに付し、エーテル−ヘ
キサン(1:1)で溶離して精製し、標記C項
の異性体0.310gと標記D項の異性体0.253gを
得る。エーテル−石油エーテル(1:1)によ
るそれぞれのRf値0.45および0.40。 E 〔1β,2β(5Z),3α(3S*),4β〕−7−〔3
−
(3−ヒドロキシ−1−オクチニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−
ヘプテン酸の製造:− 前記C項のエステル体0.310g(0.79ミリモ
ル)をTHF40mlと水10mlに溶解し、0℃に冷
やして1N水酸化リチウム溶液6.9mlを加える。
混合物を25℃で6時間撹拌し、10%シユウ酸で
PH3に調節して水300mlで希釈し、エーテルで
(200ml×3回)抽出する。エーテル層を水およ
び食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥
して標記化合物0.00282gを得た。 実施例 33 〔1β,2β(5Z),3α(3R*),4β〕−7−〔3−(
3
−ヒドロキシ−1−オクチニル)−7−オキサ
ビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘ
プテン酸の製造:− 前記実施例32・D項のエステル体0.253g
(0.64ミリモル)をTHF40mlと水10mlに溶解し、
0℃に冷やして1N水酸化リチウム7mlを加える。
混合物を6時間撹拌してシユウ酸でPH3に調節
し、水200mlで希釈してエーテルで(200ml×3
回)抽出する。エーテル層を水および食塩水で洗
い、硫酸マグネシウムで乾燥して標記化合物
0.00226gを得た。 実施例34および35 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−6−〔3
−(3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシル−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−1−(1H−テトラゾル−
5−イル)−4−ヘキセン、および 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−6−
〔3−(3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシル−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−1−(1H−テトラ
ゾル−5−イル)−4−ヘキセンの製造:− A 〔1β,2β(5Z),3β,4β〕−6−〔3−ヒドロ
キシメチル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−1−(1H−テトラゾル−5
−イル)−4−ヘキセンの製造:− トリフエニル−4−(1H−テトラゾル−5−
イル)−ブチルホスホニウムブロミド5.5g
(11.8ミリモル)とテトラヒドロフラン
(THF)100mlの混合物(0℃)に、カリウム
t−ブトキシド1.39g(11.8ミリモル)を加え
る。混合物を25℃で30分間撹拌し、THF30ml
中(エンド)オクタヒドロ−5,8−エポキシ
−1H−ベンゾピラン−3−オール(米国特許
第4143054号記載のように製せられる。)を加え
る。混合物を2時間撹拌し、希塩酸水溶液を加
えて反応を停止させる。水層を酢酸エチル250
mlで抽出し、有機溶液を合して減圧下に蒸発さ
せ、5%炭酸水素ナトリウム溶液500mlで希釈
し、エーテル100mlで洗い、希塩酸でPH3に調
節して酢酸エチルで(500ml×3回)抽出する。
この有機溶液を合して無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、シリカ上、クロマトグラフイーに付し
塩化メチレン中5%メタノールで溶離して精製
し、標記A項の化合物0.756gを得る。 B 〔1β,2β(5Z),3β,4β〕−7−〔3−ホルミ
ル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−1−(1H−テトラゾル−5−イル)−
4−ヘキセンの製造:− アルゴン雰囲気下、上記A項の化合物0.756
g(2.5ミリモル)と無水塩化メチレン15mlの
混合物(25℃)に、塩化クロム酸ピリジニウム
塩0.110g(5.4ミリモル)を加える。混合物を
3時間撹拌し、エーテル100mlで希釈してフロ
ロシルに通して過し、蒸発させて標記B項の
化合物0.672gを得る。 C 〔1β,2β(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホルミ
ル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−1−(1H−テトラゾル−5−イル)−
4−ヘキサンの製造:− 前記B項のアルコール体0.690g(2.3ミリモ
ル)に、ナトリウムメトキシド0.066g(1.25
ミリモル)を加える。混合物を25℃で2時間撹
拌し、飽和塩化アンモニウム50mlで希釈してエ
ーテルで(100ml×4回)抽出する。エーテル
層を食塩水で洗つて硫酸マグネシウムで乾燥
し、標記C項の化合物0.685gを得る。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−
(3−オキソ−3−シクロヘキシル−1−プロ
ペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−1−(1H−テトラゾル−5−イ
ル)−4−ヘキセンの製造:− 水素化ナトリウム0.190g(3.9ミリモル、鉱
油中50%)と無水ジメトキシエタン(DME)
60mlの混合物に、2−オキソ−2−シクロヘキ
シルエチルジメチルホスホネート0.880g(3.9
ミリモル)を加える。混合物を25℃で1.5時間
撹拌し、この溶液(25℃)に、前記C項の化合
物0.68gをDME10mlの混合物を加える。1時
間後、氷酢酸0.5mlを加えて反応を停止させて
濃縮し、エーテル500mlに溶解する。エーテル
溶液を水100mlと食塩水100mlで洗い、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、シリカ上、塩化メチレン中
5%メタノール溶離剤によるクロマトグラフイ
ーに付し、標記D項の化合物0.823gを得る。 E 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−6−
〔3−(3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシル−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−1−(1H−テトラ
ゾル−5−イル)−4−ヘキセン、および F 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−6−
〔3−(3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシル−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−1−(1H−テトラ
ゾル−5−イル)−4−ヘキセンの製造:− アルゴン雰囲気下、前記D項の化合物0.823
g(2.15ミリモル)の乾燥メタノール20ml溶液
に、塩化セリウム・七水和物0.890g(2.32ミ
リモル)を25℃で添加する。混合物を0℃に冷
やし、水素化ホウ素ナトリウム0.0890g(2.32
ミリモル)を加える。これを10分間撹拌し、飽
和塩化アンモニウム150mlで希釈してエーテル
で(100ml×3回)抽出し、水洗して無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。残渣をWaters
HPLC上、塩化メチレン中2%メタノールで溶
離して精製し、標記E項の化合物0.232gと標
記F項の化合物0.211gを得た。 実施例 36 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*,4R*,S*),4β〕
−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−メチル−オ
クト−1−エン−6−イニル)−7−オキサビ
シクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプ
テン酸の製造:− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E,4R*S*),4β〕−7
−
〔3−(3−オキソ−4−メチル−オクト−1−
エン−6−イニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステルの製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.3016
g(鉱油中50%)と無水ジメトキシエタン
(DME)150mlのスラリーに、2−オキソ−3
−メチルヘプト−5−インジメチルホスホネー
ト(米国特許第4235930号記載のように製せら
れる。)1.32g(5.7ミリモル)とDME15mlの混
合物を0℃で添加する。混合物を25℃で1.5時
間撹拌し、この溶液(25℃)に、〔1β,2β
(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホルミル−7−オ
キサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5
−ヘプテン酸メチルエステル(実施例1の生成
物)1.05g(3.9ミリモル)とDME15mlの混合
物を加える。1時間後、氷酢酸0.7mlを加えて
反応を停止させ、濃縮してエーテル500mlに溶
解し、5%炭酸水素ナトリウム(100ml×3回)
および食塩水(100ml)で洗う。有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥、濃縮して標記A項の粗生
成物1.66gを得る。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*,4R*S*),4β〕
−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−メチル−オ
クト−1−エン−6−イニル)−7−オキサビ
シクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプ
テン酸メチルエステル、および C 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*,4R*,S*),
4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−メチル
−オクト−1−エン−6−イニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5ヘ
プテン酸メチルエステルの製造:− アルゴン雰囲気下、前記A項の生成物の乾燥
メタノール30ml溶液に、塩化セリウム・七水和
物1.8g(4.6ミリモル)を25℃で添加する。こ
の混合物を0℃に冷やして水素化ホウ素ナトリ
ウム0.180g(4.6ミリモル)を加える。混合物
を0℃で10分間撹拌し、飽和塩化アンモニウム
200mlで希釈してエーテルで(100ml×3回)抽
出する。エーテル層を水および食塩水で洗い、
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。 残留物をWatersHPLC上、酢酸エチル/ヘ
キサン(1:4)で溶離して精製し、標記B項
の化合物0.232gと標記C項の化合物0.216gを
得る。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*,4R*,S*),
4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−メチル
−オクト−1−エン−6−イニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−
ヘプテン酸の製造:− 前記B項のアルコールエステル体0.232g
(0.6ミリモル)を80%テトラヒドロフラン−水
の溶液30mlに溶解してこの溶液(0℃)に、
1N水酸化リチウム溶液5.5mlを加える。混合物
を水10mlで希釈してシユウ酸でPH3に調節し、
エーテルで(100ml×3回)抽出し、食塩水で
洗浄する。生成物を無水硫酸マグネシウムで乾
燥して標記化合物0.172gを得た。 実施例 37 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*,4R*S*),4β〕−
7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−メチル−オク
ト−1−エン−6−イニル)−7−オキサビシ
クロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ン酸の製造:− 上記実施例36・B項の化合物の代わりに同C項
の化合物を用い、同D項と同様に処理して標記化
合物を得た。 実施例 38 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*,4R*S*,5Z),
4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−メチル
−オクタジエン)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
の製造:− 前記実施例36の処理における2−オキソ−3−
メチル−ヘプト−5−インジメチルホスホネート
の代わりにcis−2−オキソ−3−メチル−ヘプ
ト−5−エンジメチルホスホネート〔この化合物
は2−オキソ−3−メチル−ヘプト−5−インジ
メチルホスホネートを接触的還元することにより
得られる(Journal of American Chemical
Society第78巻2518頁(1956年)参照)。〕を用い、
同様に処理して標記化合物を得た。 実施例 39 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*,4R*S*,5Z),
4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−メチル
−1,5−オクタジエン)−7−オキサビシク
ロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン
酸の製造:− 前記実施例37の処理における2−オキソ−3−
メチル−ヘプト−5−インジメチルホスホネート
の代わりにcis−2−オキソ−3−メチル−ヘプ
ト−5−エンジメチルホスホネートを用い、同様
に処理して標記化合物を得た。 実施例 40 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−N−ヒドロキシ−5−ヘ
プテンアミドの製造:− 前記実施例1・C1項の化合物0.200g(0.53ミ
リモル)と95%エタノール20mlの混合物に、ヒド
ロキシアミン・塩酸塩0.3657g(5.3ミリモル)
と酢酸ナトリウム0.4346g(5.3ミリモル)を加
える。混合物をアルゴン雰囲気下に18時間還流
し、25℃に冷やしてエーテル200mlで希釈し、水
20mlおよび食塩水20mlで洗い、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、これをシリカゲル上、クロマトグ
ラフイーに付し、5%メタノールで溶離して標記
化合物0.1056gを得た。 実施例 41 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−〔3−(3−ピリジル)−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:
− 前記実施例1における2−オキソ−2−シクロ
ヘキシルエチルジメチルホスホネートの代わりに
2−オキソ−2−(3−ピリジル)エチルジメチ
ルホスホネート(前記のように製せられる。)を
用い、同様に処理して標記化合物を得た。 実施例 42 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−〔4−3−ピリジル)−3−ヒドロキシ−1−
ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 前記実施例1における2−オキソ−2−シクロ
ヘキシルジメチルホスホネートの代わりに2−オ
キソ−3−(3−ピリジル)プロピルジメチルホ
スホネートを用い、同様に処理して標記化合物を
得た。 実施例43および44 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4α),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ペ
ンテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動す
る異性体A)、および 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4β),4β〕−7
−〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−
ペンテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動
する異性体B)の製造:− A 2−フエニルプロピオン酸メチルの製造:− メタノール180mlと濃硫酸2ml中2−フエニ
ルプロピオン酸8.4g(56ミリモル)を4時間
加熱還流する。反応混合物を室温に冷やして減
圧下に30ml相当に濃縮し、これを氷水100ml相
当に注ぐ。生成物をエーテル(150ml×3回)
抽出し、抽出物を飽和炭酸水素ナトリウムおよ
び水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥する。
過して溶媒を蒸発させて得られた黄色油状物
8.9gを蒸留し、無色油状物8.34g(51ミリモ
ル)を得る。収率91%、沸点73℃/1.5mmHg。 B 2−オキソ−3−フエニルブチルジメチルホ
スホネートの製造:− メチルホスホン酸ジメチル12.4g(100ミリ
モル)のTHF90ml溶液(−78℃)を磁気撹拌
しながらこれに1.6Mn−ブチルリチウム62.5ml
(100ミリモル)を滴加する。−78℃で30分間撹
拌を続け、次いで前記A項のエステル体8.2g
(50ミリモル)を滴加して黄色溶液を得る。−78
℃で3時間撹拌後、混合物を室温に加温し、1
時間撹拌する。酢酸を加えてPH5〜6にするこ
とにより反応を停止させる。減圧下に溶媒を除
き、水100mlを加える。生成物を塩化メチレン
で(100ml×3回)抽出し、抽出物を飽和炭酸
水素ナトリウムと水で洗い、硫酸マグネシウム
で乾燥する。これを過して溶媒を蒸発させ、
黄色油状物を得る。これを分別蒸留して所望の
化合物8.1g(31.6ミリモル)を得る。収率63
%、沸点142〜144℃/0.2mmHg。 C 〔1β,2α(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−
(3−オキソ−4−フエニル−1−ペンテニル)
−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−
イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステルの製
造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.201
g(4.18ミリモル、鉱油中50%)を、蒸留した
ジメトキシエタン70mlで懸濁し、前記B項のホ
スホネート体1.45g(4.7ミリモル)のDME10
ml溶液で処理し、混合物を室温で90分間撹拌す
る。次いで〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3
−ホルミル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエス
テル1.031g(3.8ミリモル)のDME5ml溶液を
加え、混合物を室温で一夜撹拌する。氷酢酸
0.5mlを加えて反応を停止させ、減圧下に溶媒
を除く。エーテルと飽和炭酸水素ナトリウムを
加え、各層を分離する。エーテル層を飽和炭酸
水素ナトリウム溶液で1回洗つて硫酸マグネシ
ウムで乾燥、過し、減圧下に乾涸して粘稠な
油状物を得る。これをシリカゲル60(110g)
上、クロマトグラフイーに付し、エーテル−石
油エーテル(2:3)で溶離し、油状物として
標記C項の化合物0.992g(66%)を得る。早
く移動する物質0.098g(6.5%)を単離してこ
れを 1H−NMRによりシス・二重結合異性体
と同定した。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4α),4β〕−
7
−〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−
ペンテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエス
テル(早く移動する異性体A)の製造:− 上記C項の化合物0.99g(2.49ミリモル)と
塩化第一セリウム・7.6水和物0.954g(2.49ミ
リモル)をメタノール25mlとTHF2mlに溶解す
る。この溶液を氷浴で冷やして水素化ホウ素ナ
トリウム0.0941g(2.5ミリモル)を少量づつ
30秒間で加える。氷浴を除き、混合物を10分撹
拌し、次いで飽和塩化アンモニウム溶液200ml
に注ぐ。生成物を酢酸エチルで(50ml×5回)
抽出する。酢酸エチル抽出物を合して硫酸マグ
ネシウムで乾燥、過し、減圧下に溶媒を除い
て粘稠な油状物0.953gを得る。これをシリカ
ゲル60g上クロマトグラフイーに付し、エーテ
ル−石油エーテル(3:2)で溶離し、早く移
動するほとんど清澄な異性体0.616gと遅く移
動する異性体(すなわち〔1β,2α(5Z),3α
(1E,3β),4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−
4−フエニル−1−ペンテニル)−7−オキサ
ビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘ
プテン酸メチルエステル)0.150g(15%)を
得る。シリカゲル上、エーテル−石油エーテル
(3:2)とバニリンによるTLCのRf値0.35お
よび0.25。 上記早く移動する異性体Aを再びクロマトグ
ラフイーに付し、同様の溶離剤で溶離して標記
D項の化合物0.605g(61%)を得る。 E 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4α),4β〕−
7
−〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−
ペンテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動
する異性体A)、および 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4β),4β〕−7
−〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−
ペンテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動
する異性体B)の製造:− 上記D項のメチルエステル体0.599g(1.5ミ
リモル)をTHF75mlおよび水13.5mlに溶解し、
1N水酸化リチウム溶液15mlで処理する。この
混合物をアルゴン雰囲気下、室温で5時間撹拌
する。飽和シユウ酸溶液を加えてPH3に調節
し、混合物を水450mlに注ぐ。生成物をエーテ
ルで(200ml×3回)抽出する。エーテル抽出
物を合して水(200ml×3回)、飽和塩化ナトリ
ウム溶液(200ml×1回)で洗い、硫酸マグネ
シウムで乾燥、過し、減圧下に乾涸して油状
物0.544g(94%)を得る。これをシリカゲル
60上、クロマトグラフイーに付し、塩化メチレ
ン中3%メタノールで溶離して2種の異性体を
得る。早く移動する異性体Aは〔1β,2α(5Z),
3α(1E,3α,4α),4β〕−7−〔3−(3−ヒド
ロキシ−4−フエニル−1−ペンテニル)−7
−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕
−5−ヘプテン酸、遅く移動する異性体B
(0.205g)は、〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,
4α),4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−
フエニル−1−ペンテニル)−7−オキサビシ
クロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ン酸である。更に0.112gを加えて計算した混
合物分画の合計収率は78%である。シリカゲル
上、塩化メチレン中5%、バニリンによる
TLCのRf値0.40および0.32。 元素分析、C24H32O4として、 計算値:C,74.97%;H,8.39%、 実測値:C,74.84%;H,8.42%。 TLCおよびスペクトルデータは、この物質が
早く移動する物質(異性体A)95%以上の物質で
あることを示している。 実施例 45 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−(3
−
(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ペンテ
ニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸(遅く移動する異
性体)の製造:− 前記実施例43および44に記載したメチルエステ
ル体(遅く移動する異性体)、すなわち〔1β,2α
(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−〔3−(3−ヒ
ド
ロキシ−4−フエニル−1−ペンテニル)−7−
オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5
−ヘプテン酸メチルエステル0.144g(0.36ミリ
モル)を、THF18mlと水3.2mgに溶解する。1N
水酸化リチウム溶液3.6mlを加え、混合物をアル
ゴン雰囲気下に室温で5時間撹拌する。シユウ酸
の飽和溶液を加えてPH3に調節し、この溶液を水
150mlに注ぐ。生成物をエーテルで(75ml×3回)
抽出し、エーテル抽出物を合して水(75ml×3
回)および飽和塩化ナトリウム溶液75mlで洗う。
この溶液を硫酸マグネシウムで乾燥、過して減
圧下に溶媒を除き、標記生成物0.136g(98%)
を得た。シリカゲル上、塩化メチレン中5%メタ
ノール、バニリンによるTLCのRf値0.22。 元素分析、C24H32O4として、 計算値:C,74.94%;H,8.39%、 実測値:C,74.58%;H,8.36%。 実施例 46 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−4−(2−メチルフエニル)
−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− A 2−オキソ−3−(2−メチルフエニル)プ
ロピルジメチルホスホネートの製造:− アルゴン雰囲気下、蒸留したTHF130ml中、
蒸留したメチルホスホン酸ジメチル9.1ml
(10.5g、77ミリモル)の溶液を−78℃に冷却
し、ヘキサン中1.15Nn−ブチルリチウム70ml
(80ミリモル)溶液を30分間で滴加処理する。
滴加終了後、混合物を−78℃で30分間撹拌す
る。o−トリル酢酸メチルエステル6.56g(40
ミリモル)のTHF7ml溶液を15分間で滴加し、
−78℃で3.5時間撹拌後、冷浴を除いて1時間
撹拌を続ける。酢酸を加えてPH6に調節するこ
とにより反応を停止させる。減圧下に溶媒を除
き、残留物に水100mlを加え、生成物を塩化メ
チレンで(100ml×3回)抽出する。抽出物を
合して飽和炭酸水素ナトリウムで1回、水で1
回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に
溶媒を除く。残渣を蒸留して標記化合物3.8g
(37%)を得る。沸点133〜135℃/0.1mmHg。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−オキソ−4−(2−メチルフエニル)−
1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステルの製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.201
g(4.18ミリモル、鉱油中50%)を蒸留したジ
メトキシエタン70mlに懸濁する。前記A項のホ
スホネート体1.46g(5.7ミリモル)のDME7ml
溶液を加え、混合物を室温で90分間撹拌する。
これに〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホ
ルミル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル
1.031g(3.8ミリモル)のDME5ml溶液を加え、
混合物を室温で一夜撹拌する。酢酸0.5mlを加
えて反応を停止させ、減圧下に溶媒を除いて残
留物にエーテルと飽和炭酸水素ナトリウム溶液
を加える。各層を分離し、エーテル層を炭酸水
素ナトリウム溶液で洗つて硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に溶媒を除いて黄色油状物を得
る。これをシリカゲル60(110g)上、クロマト
グラフイーに付し、エーテル/石油エーテルで
溶離して得られた標記B項の化合物を放置して
結晶化させる。シリカゲル上、エーテル/石油
エーテル(1:1)を用いるTLC(紫外線およ
びバニリンで可視化)のRf0.33。早く移動する
物質(Rf0.45)0.410g(27%)を単離し、シ
ス・二重結合を有する異性体として同定した。 C 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(2−メチルフエニ
ル)−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(早く移動する異性体)の製
造:− 上記B項の化合物0.930g(2.33ミリモル)
および塩化第一セリウム・7.6水和物0.896ml
(2.33ミリモル)をメタノール25mlとTHF4ml
に溶解する。0〜5℃に冷やした後、水素化ホ
ウ素ナトリウム0.088g(2.33ミリモル)を少
量づつ30秒で添加する。氷浴を除き、混合物を
10分間撹拌し、飽和塩化アンモニウム溶液175
mlに注ぐ。生成物を酢酸エチルで(50ml×5
回)で抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を除き、油状物を得る。これをシリ
カゲル60(110g)上、クロマトグラフイーに付
し、エーテル−石油エーテル(3:2)で溶離
し標記C項の化合物の早く移動する異性体
0.479g(51%)と遅く移動する異性体0.184g
(20%)を得る。シリカゲル上、エーテル−石
油エーテル(3:2)およびバニリンを用いる
TLCのRf値0.39(早く移動する異性体)および
0.21(遅く移動する異性体)。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(2−メチルフエニ
ル)−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− アルゴン雰囲気下、上記C項のメチルエステ
ル体(早く移動する異性体)0.479g(1.2ミリ
モル)をTHF60mlと水11mlに溶解する。1N水
酸化リチウム溶液12.0mlを加えてこの混合物を
室温で6時間撹拌する。これに飽和シユウ酸溶
液を加えてPH3に調節し、混合物を水450mlに
注ぐ。生成物をエーテルで(200ml×3回)抽
出し、エーテル抽出物を合して水(200ml×3
回)飽和塩化ナトリウム溶液(200ml×1回)
で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に
溶媒を除く。得られた油状物をシリカゲル60
(50g)上、クロマトグラフイーに付し、塩化
メチレン中3%メタノールで溶離して精製し、
標記化合物0.2965g(64%)を得た。シリカゲ
ル上、塩化メチレン中5%メタノールおよびバ
ニリンを用いるTLCのRf値0.24。 元素分析、C24H32O4として 計算値:C,74.97%;H,8.39%、 実測値:C,74.91%;H,8.63%。 実施例 47 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−4−(2−メチルフエニル)
−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(遅く移動する異性体)の製造:− アルゴン雰囲気下、遅く移動する異性体:
〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−〔3
−〔3
−ヒドロキシ−4−(2−メチルフエニル)−1−
ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル
(実施例46に記載の化合物)0.184g(0.46ミリモ
ル)をTHF25mlと水4mlに溶解し、1N水酸化リ
チウム溶液4.6mlで処理する。混合物を室温で6.5
時間撹拌し、シユウ酸の飽和溶液を加えてPH3に
調節する。この溶液を水150mlに注ぎ、生成物を
エーテルで(7ml×3回)抽出する。エーテル抽
出物を合して水(75ml×3回)および飽和塩化ナ
トリウム溶液75mlで洗い、硫酸マグネシウムで乾
燥して減圧下に溶媒を除き、粘性ある油状物とし
て標記化合物0.165g(93%)を得た。シリカゲ
ル上、塩化メチレン中5%メタノールおよびバニ
リンを用いるTLCのRf値0.17。 元素分析、C24H32O4として 計算値:C,74.97%;H,8.39%、 実測値:C,74.91%;H,8.56%。 実施例 48 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−4−(3−メチルフエニル)
−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− A 2−オキソ−3−(3−メチルフエニル)プ
ロピルジメチルホスホネートの製造:− アルゴン雰囲気下、蒸留したTHF130ml中、
蒸留後のメチルホスホン酸ジメチル9.1ml
(10.5g、77ミリモル)の溶液を−78℃に冷却
し、ヘキサン中1.15Nn−ブチルリチウム70ml
(80ミリモル)の溶液を30分間に滴加処理する。
滴加終了後、混合物を−78℃で30分間撹拌す
る。次いでm−トリル酢酸メチルエステル6.56
g(40ミリモル)のTHF7ml溶液を15分間に渡
つて滴加する。−78℃で3.5時間撹拌後、冷浴を
除き、混合物を更に60分間撹拌する。酢酸を加
えてPH6に調節することにより反応を停止させ
る。減圧下に溶媒を除いて残渣に水70mlを加え
る。生成物を塩化メチレンで(100ml×3回)
抽出する。抽出物を合して1回水洗し、硫酸マ
グネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を除く。残
留物を減圧蒸留して沸点133〜135℃/0.1mmHg
の留分として標記A項のホスホネート体5.6g
(55%)を得る。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−オキソ−4−(3−メチルフエニル)−
1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステルの製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.201
g(4.18ミリモル、鉱油中50%)を、蒸留した
ジメトキシエタンに懸濁する。上記A項のホス
ホネート体1.46g(5.7ミリモル)のDME7ml溶
液を加える。混合物はほとんど透明となり、綿
毛様固形物が晶出し始まる。室温で90分間撹拌
後、〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホルミ
ル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル1.031
g(3.8ミリモル)のDME5ml溶液を加える。
混合物を室温で一夜撹拌した後、氷酢酸0.5ml
を加えて反応を停止させる。減圧下に溶媒を除
いて残留物にエーテルと飽和炭酸水素ナトリウ
ム溶液を加える。各層を分離してエーテル層を
炭酸水素ナトリウム溶液で1回洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を除き、黄
色油状物を得る。これをシリカゲル60(110g)
上、クロマトグラフイーに付し、エーテル−石
油エーテル(1:2)で溶離し、無色油状物と
して標記B項の化合物1.009g(67%)を得る。
シリカゲル上、エーテル−石油エーテル(1:
1)およびバニリンによるTLCのRf値0.34。ま
たこれより早く移動する物質(Rf値0.42)
0.262g(17%)を単離してこの物質をシス・
二重結合の異性体と同定した。 C 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(3−メチルフエニ
ル)−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステルの製造:− 上記B項の化合物1.005g(2.5ミリモル)お
よび塩化第一セリウム・7.6水和物0.968g(2.5
ミリモル)をメタノール25mlとTHF2mlに溶解
する。溶液を氷浴上で冷やし、水素ホウ素ナト
リウム0.0955g(2.5ミリモル)を少量づつ30
秒で加える。氷浴を除いて混合物を8分間撹拌
した後、飽和塩化アンモニウム溶液200mlに注
ぐ。生成物を酢酸エチルで(50ml×5回)抽出
し、乾燥して減圧下に溶媒を除く。残留油状物
をシリカゲル60(110g)上、クロマトグラフイ
ーに付し、エーテル−石油エーテル(1:1)、
次いで(3:2)で溶離して早く移動する異性
体0.634g(63%)と遅く移動する異性体0.210
g(21%)を得る。シリカゲル上、エーテル−
石油エーテル(3:2)およびバニリンによる
TLCのRf値0.35(早く移動する異性体)および
0.15(遅く移動する異性体)。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(3−メチルフエニ
ル)−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− アルゴン雰囲気下、上記C項のメチルエステ
ル体(早く移動する異性体)0.634g(1.59ミ
リモル)を、蒸留したTHF75mlと水14mlに溶
解する。溶液を1N水酸化リチウム溶液15.9ml
で処理し、室温で6時間撹拌する。シユウ酸飽
和溶液を加えてPH3に調節し、溶液を水450ml
に注ぐ。生成物をエーテルで(200ml×3回)
抽出し、エーテル抽出物を合して水(200ml×
3回)および飽和塩化ナトリウム溶液(200ml
×1回)で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して
減圧下に溶媒を除き、無色油状物を得る。これ
をシリカゲル60(50g)上、クロマトグラフイ
ーに付し、塩化メチレン中3%メタノールで溶
離し、無色油状物として標記生成物0.513g
(8.4%)を得た。シリカゲル上、塩化メチレン
中5%メタノールおよびバニリンによるTLC
のRf値0.27。 元素分析、C24H32O4として、 計算値:C,74.97%;H,8.39%、 実測値:C,74.98%;H,8.42%。 実施例 49 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−4−(3−メチルフエニル)
−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(遅く移動する異性体)の製造:− アルゴン雰囲気下、実施例48・C項で製せられ
たメチルエステル体(遅く移動する異性体)すな
わち〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(3−メチルフエニル)
−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエス
テル0.210g(0.53ミリモル)をTHF25mlと水5
mlに溶解する。これに1N水酸化リチウム溶液5.3
mlを加え、混合物を室温で6.5時間撹拌する。飽
和シユウ酸溶液を加えてPH3に調節した後、溶液
を水150mlに注ぐ。生成物をエーテルで(75ml×
3回)抽出する。抽出物を合して水(75ml×3
回)および飽和塩化ナトリウム溶液75mlで洗い、
硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を除
き、無色油状物として標記生成物0.191g(94%)
を得た。シリカゲル上、塩化メチレン中5%メタ
ノールおよびバニリンによるTLCのRf値0.18。 元素分析、C24H32O4として、 計算値:C,74.97%;H,8.39%、 実測値:C,75.09%;H,8.39%。 実施例 50 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−4−メチル−フエニル−1
−ペンテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移
動する異性体)の製造:− A 2−オキソ−3−メチル−3−フエニルブチ
ルジメチルホスホネートの製造:− 水素化ナトリウム0.3744g(7.8ミリモル、
鉱油中50%)を新しく蒸留したTHF5mlで洗
い、THF78mlに懸濁する。これに2−オキソ
−3−フエニルブチルジメチルホスホネート
(実施例43・B項記載のように製せられる。)
2.0g(7.8ミリモル)を0℃で滴加する。混合
物を室温で1時間撹拌し、次いで−78℃に冷却
してヘキサン中n−ブチルリチウム1.7M溶液
4.85ml(7.8ミリモル)で処理する。混合物を
−78℃で15分間、0℃で1時間撹拌する。ヨウ
化メチル1.5ml(24ミリモル)を加えて混合物
を0℃で1時間撹拌後、氷酢酸を加えて反応を
停止させる。反応混合物を注意して飽和炭酸水
素ナトリウム溶液に注ぎ、生成物を酢酸エチル
で(150ml×3回)抽出する。抽出物を合して
飽和炭酸水素ナトリウム溶液および飽和塩化ナ
トリウム溶液で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥し
て減圧下に溶媒を除き、褐色油状物を得る。こ
れをクーゲルロール(kugelroh)により蒸留
し、沸点170℃/0.15mmHgの留分として標記A
項のホスホネート体1.9g(92%)を得る。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−(3−オキソ−4−メチル−4−フエニル−
1−ペンテニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステルの製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.201
g(4.18ミリモル、鉱油中50%)を蒸留したジ
メトキシエタン70mlに懸濁する。前記A項のホ
スホネート体1.54g(5.7ミリモル)のDME7ml
溶液を加え、混合物を室温で90分間撹拌する。
これに〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホ
ルミル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル
1.031g(3.8ミリモル)のDME5ml溶液を加え、
混合物を室温で一夜撹拌する。氷酢酸0.5mlを
加えて反応を停止させ、減圧下に溶媒を除いて
残留物にエーテルと飽和炭酸水素ナトリウム溶
液を加える。各層を分離し、エーテル層を飽和
炭酸水素ナトリウム溶液で1回洗つて硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を除いて黄色
油状物を得る。これをシリカゲル60上、クロマ
トグラフイーに付し、エーテル/石油エーテル
で溶離し、油状物として標記B項の化合物1.0
g(64%)を得る。シリカゲル上、エーテル/
石油エーテル(1:1)を用いるTLC(バニリ
ンで可視化)のRf値0.48。 C〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−〔
3−
(3−ヒドロキシ−4−メチル−4−フエニル
−1−ペンテニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(早く移動する異性体)の製
造:− 上記B項のケトン体1.0g(2.43ミリモル)
および塩化第一セリウム・7.6水和物0.932ml
(2.43ミリモル)をメタノール25mlに溶解する。
溶液を氷浴で冷やした後、水素化ホウ素ナトリ
ウム0.092g(2.43ミリモル)を少量づつ30秒
で添加する。氷浴を除き、混合物を8分間撹拌
し、飽和塩化アンモニウム溶液200mlに注ぐ。
生成物を酢酸エチルで(50ml×5回)で抽出
し、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒
を除き、油状物を得る。これをシリカゲル60
(60g)上、クロマトグラフイーに付し、エー
テル−石油エーテル(2:3)で溶離し標記C
項の化合物の早く移動する異性体0.690g(69
%)と遅く移動する異性体0.97g(9.7%)を
得る。シリカゲル上、エーテル−石油エーテル
(3:2)およびバニリンを用いるTLCのRf値
0.46(早く移動する異性体)および0.32(遅く移
動する異性体)。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−(3−ヒドロキシ−4−メチル−4−フエニ
ル)−1−ペンテニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− 上記C項のメチルエステル体(早く移動する異
性体)0.680g(1.67ミリモル)をTHF75mlと水
15mlに溶解する。1N水酸化リチウム溶液16.7ml
を加えてこの混合物を室温で7時間撹拌する。こ
れに飽和シユウ酸溶液を加えてPH3に調節し、溶
液を水450mlに注ぐ。生成物をエーテルで(200ml
×3回)抽出し、エーテル抽出物を合して水
(200ml×3回)、飽和塩化ナトリウム溶液(200ml
×1回)で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を除く。得られた油状物をシリカゲル
60(40g)上、クロマトグラフイーに付し、塩化
メチレン中3%メタノールで溶離し、標記化合物
0.545g(82%)を得た。シリカゲル上、塩化メ
チレン中5%メタノールおよびバニリンによる
TLCのRf値0.32。 元素分析、C24H35O4として、 計算値:C,75.34%;H,8.60%、 実測値:C,75.07%;H,8.37%。 実施例 51 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−4−メチル−4−フエニル
−1−ペンテニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(遅く移動する異性体)の製造:− 前記実施例50・C項で製せられる遅く移動する
メチルエステル体:〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β)
,
4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−メチル−
4−フエニル−1−ペンテニル)−7−オキサビ
シクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ン酸メチルエステル0.095g(0.23ミリモル)を
THF12mlと水2mlに溶解し、1N水酸化リチウム
溶液2.3mlを加え、混合物を室温で6.5時間撹拌
し、シユウ酸の飽和溶液を加えてPH3に調節し、
この溶液を水100mlに注ぎ、生成物をエーテルで
(50ml×3回)抽出する。エーテル抽出物を合し
て水(50ml×3回)、飽和塩化ナトリウム溶液で
(50ml×1回)洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し
て減圧下に溶媒を除き、油状物として標記化合物
0.091g(99%)を得た。シリカゲル上、塩化メ
チレン中5%メタノールおよびバニリンを用いる
TLCのRf値0.2。 元素分析、C25H34O4として、 計算値:C,75.34%;H,8.60%、 実測値:C,75.64%;H,8.44%。 実施例 52 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−3−(1−メチルシクロヘキ
シル)−1−プロペニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− A 2−オキソ−2−(1−メチルシクロヘキシ
ル)ジメチルホスホネートの製造: 蒸留したメチルホスホン酸ジメチル9.1ml
(10.5g、77ミリモル)のTHF130ml溶液(−
78℃)を撹拌しながらこれに、ヘキサン中n−
ブチルリチウム(1.15M)溶液70ml(80ミリモ
ル)を滴加する。−78℃で30分間撹拌を続けた
後、1−メチル−1−シクロヘキサンカルボン
酸メチルエステル6.24g(40ミリモル)の
THF8ml溶液を15分間に渡つて滴加する。混合
物を−78℃で3.5時間、次いで室温で2時間撹
拌する。酢酸を加えてPH6相当に調節すること
により反応を停止させる。減圧下に溶媒を除い
て残渣に水70mlを加える。生成物を塩化メチレ
ンで(100ml×3回)抽出し、抽出物を合して
水で1回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を除き、油状物を得る。これを蒸留
し、沸点120〜122℃/0.2mmHgの留分として標
記化合物6.0g(60.5%)を得る。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−オキソ−3−(1−メチルシクロヘキシ
ル)−1−プロペニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステルの製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.201
g(4.18ミリモル、鉱油中50%)を蒸留したジ
メトキシエタン70mlに懸濁し、前記A項のホス
ホネート体1.42g(5.7ミリモル)のDME7ml溶
液を加える。混合物を室温で90分間撹拌する。
これに〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホ
ルミル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル
1.031g(3.8ミリモル)のDME5ml溶液を加え、
混合物を室温で一夜撹拌する。氷酢酸0.5mlを
加えて反応を停止させ、減圧下に溶媒を除いて
残留物にエーテルと飽和炭酸水素ナトリウム溶
液を加えて各層を分離する。エーテル層を炭酸
水素ナトリウム溶液で1回洗つて硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下に溶媒を除いて黄色油状
物を得る。これをシリカゲル60(110g)上、ク
ロマトグラフイーに付し、エーテル/石油エー
テルで溶離し、油状物として標記B項の化合物
を1.241gを得る。 シリカゲル上、エーテル/石油エーテル
(1:1)を用いるTLC(バニリンで可視化)
のRf値0.48。また早く移動する物質(Rf値
0.56)の0.050g(3%)を単離し、シス・二
重結合の異性体として同定した。 C 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−3−(1−メチルシクロヘ
キシル)−1−プロペニル〕−7−オキサビシク
ロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン
酸メチルエステル(早く移動する異性体)の製
造:− 上記B項の化合物1.226g(3.1ミリモル)お
よび塩化第一セリウム・7.6水和物1.18g(3.1
ミリモル)をメタノール30mlとTHF2mlに溶解
する。この溶液を氷浴上で冷やした後、水素化
ホウ素ナトリウム0.117g(3.1ミリモル)を少
量づつ30秒で添加する。氷浴を除き、混合物を
8分間撹拌し、飽和塩化アンモニウム溶液175
mlに注ぐ。生成物を酢酸エチルで(50ml×5
回)で抽出し、乾燥して減圧下に溶媒を除き、
油状物1.22gを得る。これをシリカゲル60(80
g)上、クロマトグラフイーに付し、エーテル
−石油エーテル(1:1)で溶離し標記C項の
化合物の早く移動する異性体に富む物質0.930
gと遅く移動する異性体0.142g(12%)を得
る。エーテル−石油エーテル(3:2)および
バニリンを用いるTLCのRf値0.41(早く移動す
る異性体)および0.2(遅く移動する異性体)。
早く移動する異性体をシリカゲル60上、再びク
ロマトグラフイーに付し、ベンゼン中10%酢酸
エチルで溶離して標記C項の清澄な化合物
0.602g(50%)を得る。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−3−メチルシクロヘキシ
ル)−1−プロペニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− アルゴン雰囲気下、上記C項のメチルエステ
ル体(早く移動する異性体)0.602g(1.54ミ
リモル)をTHF75mlと水14mlに溶解し、1N水
酸化リチウム溶液15.4mlを加える。この混合物
を室温で6.5時間撹拌する。これに飽和シユウ
酸溶液を加えてPH3に調節し、溶液を水450ml
に注ぐ。生成物をエーテルで(200ml×3回)
抽出し、エーテル抽出物を合して水(200ml×
3回)および飽和塩化ナトリウム溶液(200ml
×1回)で洗い、乾燥して減圧下に溶媒を除
き、油状物0.574gを得る。これをシリカゲル
60(40g)上、クロマトグラフイーに付し、塩
化メチレン中3%メタノールで溶離し、無色油
状物として標記生成物0.479g(83%)を得た。
シリカゲル上、塩化メチレン中5%メタノール
およびバニリンを用いるTLCのRf値0.56。 元素分析、C23H36O4として 計算値:C,73.37%;H,9.64%、 実測値:C,73.06%;H,9.70%。 実施例 53 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−3−(1−メチルシクロヘキ
シル)−1−プロペニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(遅く移動する異性体)の製造:− 上記実施例52・C項で製せられる遅く移動する
メチルエステル体すなわち〔1β,2α(5Z),3α
(1E,3β),4β〕−7−〔3−〔3−ヒドロキシ−3
−(1−メチルシクロヘキシル)−1−プロペニ
ル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−
イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル0.142g
(0.36ミリモル)をアルゴン雰囲気下にTHF18ml
と水3.2mlに溶解する。この溶液を1N水酸化リチ
ウム溶液3.6mlで処理し、混合物を室温で6.5時間
撹拌し、シユウ酸の飽和溶液を加えてPH3に調節
し、混合物を水150mlに注ぐ。生成物をエーテル
で(75ml×3回)抽出する。エーテル抽出物を合
して水(75ml×3回、飽和塩化ナトリウム溶液75
mlで1回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧
下に溶媒を除き、油状物0.132gを得る。これを
シリカゲル60(15g)上、クロマトグラフイーに
付し、塩化メチレン中3%メタノールで溶離して
標記化合物0.097g(72%)を得た。シリカゲル
上、塩化メチレン中5%メタノールおよびバニリ
ンを用いるTLCのRf値0.18。 元素分析、C23H35O4として、 計算値:C,73.37%;H,9.64%、 実測値:C,73.24%;H,9.67%。 実施例 54 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−4−(4−メチルフエニル)
−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− A 2−オキソ−3−(4−メチルフエニル)プ
ロピルジメチルホスホネートの製造:− アルゴン雰囲気下、蒸留したメチルホスホン
酸ジメチル5.6ml(6.44g、47ミリモル)の蒸
留したTHF80ml溶液を−78℃に冷却し、ヘキ
サン中1.65Mn−ブチルリチウム溶液30ml(49
ミリモル)溶液を30分間で滴加処理する。滴加
終了後、混合物を−78℃で30分間撹拌する。p
−トリル酢酸メチルエステル4.025g(24.5ミ
リモル)のTHF5ml溶液を15分間で滴加し、−
78℃で3.5時間撹拌後、冷浴を除いて混合物を
更に1時間撹拌する。酢酸を加えてPH6に調節
することにより反応を停止させる。減圧下に溶
媒を除き、残留物に水75mlを加え、生成物を塩
化メチレンで(75ml×3回)抽出する。抽出物
を合して飽和炭酸水素ナトリウム75mlで1回、
水75mlで1回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し
て減圧下に溶媒を除き油状物を得る。これを減
圧下に蒸留して標記ホスホネート体3.06g(49
%)を得る。沸点132〜134℃/0.1mmHg。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−オキソ−4−(4−メチルフエニル)−
1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステルの製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.201
g(4.18ミリモル、鉱油中50%)を蒸留したジ
メトキシエタン70mlに懸濁する。前記A項のホ
スホネート体1.46g(5.7ミリモル)のDME7ml
溶液を加える。綿毛様固体が沈澱する。混合物
を室温で90分間撹拌する。これに〔1β,2α
(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホルミル−7−オ
キサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5
−ヘプテン酸メチルエステル1.03g(3.8ミリ
モル)のDME5ml溶液を加える。混合物を室温
で一夜撹拌し、次いで氷酢酸0.5mlを加えて反
応を停止させる。減圧下に溶媒を除いて残留物
にエーテルと飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加
える。各層を分離し、有機層を炭酸水素ナトリ
ウム溶液で1回洗つて硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に溶媒を除いて生成物を得る(放置
して結晶化する)。これをシリカゲル60上、ク
ロマトグラフイーに付し、エーテル/石油エー
テル(1:3)で溶離して得られた標記B項の
化合物1.064g(70%)を放置して結晶化させ
る。シリカゲル上、エーテル/石油エーテル
(1:1)を用いるTLC(バニリンで可視化)
のRf0.36。また早く移動する物質(Rf0.43)
0.228g(15%)を単離し、シス・二重結合を
有する異性体として同定した。 C 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(4−メチルフエニ
ル)−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステルの製造:− 上記B項の化合物1.06g(2.66ミリモル)お
よび塩化第一セリウム・7.6水和物1.02g(2.66
ミリモル)をメタノール25mlとTHF2mlに溶解
する。溶液を氷浴上で冷やし、水素化ホウ素ナ
トリウム0.101g(2.66ミリモル)を少量づつ
30秒で添加する。氷浴を除き、混合物を10分間
撹拌し、飽和塩化アンモニウム溶液175mlに注
ぐ。生成物を酢酸エチル(50ml×5回)で抽出
し、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒
を除き、油状物を得る。これをシリカゲル
(100g)上、クロマトグラフイーに付し、エー
テル−石油エーテル(3:2)で溶離し標記C
項の化合物(早く移動する異性体)0.602g
(57%)と遅く移動する異性体0.185g(17%)
を得る。シリカゲル上、エーテル−石油エーテ
ル(3:2)およびバニリンを用いるTLCの
Rf値0.35(早く移動する異性体)および0.12(遅
く移動する異性体)。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(4−メチルフエニ
ル)−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− アルゴン雰囲気下、上記C項のメチルエステ
ル体(早く移動する異性体)0.602g(1.5ミリ
モル)をTHF75mlと水14mlに溶解する。1N水
酸化リチウム溶液15mlを加えてこの混合物を室
温で7時間撹拌する。これに飽和シユウ酸溶液
を加えてPH3に調節し、溶液を水450mlに注ぐ。
生成物をエーテルで(200ml×3回)抽出し、
エーテル抽出物を合して水(200ml×3回)お
よび飽和塩化ナトリウム溶液(200ml×1回)
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に
溶媒を除く。残留油状物をシリカゲル60(50g)
上、クロマトグラフイーに付し、塩化メチレン
中3%メタノールで溶離し、無色油状物として
清澄な標記生成物0.416g(72%)を得た。シ
リカゲル上、塩化メチレン中5%メタノールお
よびバニリンによるTLCのRf値0.30。 元素分析、C24H32O4として、 計算値:C,74.97%;H,8.39%、 実測値:C,75.08%;H,8.48%。 実施例 55 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−4−(4−メチルフエニル)
−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル−5−ヘプテン酸
(遅く移動する異性体)の製造:− 上記実施例54・B項のメチルエステル体(遅く
移動する異性体)0.185g(0.46ミリモル)をア
ルゴン雰囲気下、THF25mlおよび水4mlに溶解
する。これに1N水酸化リチウム溶液4.6mlを加
え、混合物を室温で7時間撹拌する。飽和シユウ
酸溶液を加えてPH3に調節し、この溶液を水150
mlに注ぐ。生成物をエーテルで(75ml×3回)抽
出し、抽出物を合して水(75ml×3回)および飽
和塩化ナトリウム溶液(75ml)で洗い、硫酸マグ
ネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を除き、無色油
状物として標記生成物0.177g(99%)を得た。
シリカゲル上、塩化メチレン中5%メタノールお
よびバニリンによるTLCのRf値0.23。 元素分析、C24H32O4として、 計算値:C,74.97%;H,8.39%、 実測値:C,74.80%;H,8.08%。 実施例 56 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4α),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ヘ
キセニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動す
る異性体)の製造:− A オキソ−3−フエニルペンチルジメチルホス
ホネートの製造:− 蒸留したメチルホスホン酸ジメチル12.8ml
(14.75g、108ミリモル)のTHF(蒸留)180ml
溶液を、アルゴン雰囲気下、−78℃に冷却し、
これを撹拌しながらヘキサン中1.65Mn−ブチ
ルリチウム68ml(112.4ミリモル)溶液を30分
間に渡つて適加処理する。混合物を−78℃で更
に30分間撹拌し、次いで2−フエニル酪酸メチ
ルエステル10.0g(56.2ミリモル)のTHF15ml
溶液を15分間で滴加する。−78℃で3.5時間撹拌
後、冷浴を除いて75分後に氷酢酸を加えてPH6
に調節する。減圧下に溶媒の大部分を除き、残
留物に水100mlを加える。生成物を塩化メチレ
ンで(125ml×3回)抽出する。抽出物を合し
て飽和炭酸水素ナトリウム100mlで1回、水100
mlで1回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を除く。残渣を蒸留して標記ホスホ
ネート体10.5g(69%)を得る。沸点134〜136
℃/0.1mmHg。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4α),4β〕−
7
−〔3−(3−オキソ−4−フエニル−1−ヘキ
セニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル
の製造:− アルゴン雰囲気下、水化ナトリウム0.201g
(4.18ミリモル、鉱油中50%)を、蒸留したジ
メトキシエタン70mlに懸濁する。前記A項のホ
スホネート体1.54g(5.7ミリモル)のDME7ml
溶液を加え、混合物を室温で90分間撹拌後、こ
れに〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホル
ミル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル
1.031g(3.8ミリモル)のDME5ml溶液を加え
る。混合物を室温で一夜撹拌し、次いで氷酢酸
0.5mlを加えて反応を停止させる。減圧下に溶
媒を除いて残留物にエーテルと飽和炭酸水素ナ
トリウム溶液を加える。各層を分離し、エーテ
ル層を炭酸水素ナトリウム溶液で1回洗つて硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を除い
て油状物を得る。これをHPLC、次いでシリカ
ゲル60(100g)上、クロマトグラフイーに付
し、エーテル/石油エーテル(1:3)で溶離
し、油状物として標記化合物1.130g(72%)
を得る。シリカゲル上、エーテル/石油エーテ
ル(1:1)を用いるTLC(紫外線およびバニ
リンで可視化)のRf0.43。 C 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4α),4β〕−
7
−〔3−〔3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−
ヘキセニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエス
テルの製造:− 上記B項の化合物1.125g(2.73ミリモル)
および塩化第一セリウム・7.6水和物1.047ml
(2.73ミリモル)をアルゴン雰囲気下にメタノ
ール25mlに溶解する。溶液を氷浴上で冷やし水
素化ホウ素ナトリウム0.104g(2.73ミリモル)
を少量づつ20秒で添加する。氷浴を除き、混合
物を8分間撹拌後、飽和塩化アンモニウム溶液
175mlに注ぐ。生成物を酢酸エチルで(50ml×
5回)で抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥して
減圧下に溶媒を除く。残留油状物をシリカゲル
60(100g)上、クロマトグラフイーに付し、エ
ーテル−石油エーテル(55:45)で溶離し標記
C項の化合物の早く移動する異性体0.660g
(58%)と遅く移動する異性体0.186g(16.5
%)を得る。エーテル−石油エーテル(3:
2)を用いるTLCのRf値0.51(早く移動する異
性体)および0.24(遅く移動する異性体)。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4α),4β〕−
7
−〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−
ヘキセニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動
する異性体)の製造:− アルゴン雰囲気下、上記C項の早く移動する
異性体0.655g(14ミリモル)をTHF75mlと水
14mlに溶解し、1N水酸化リチウム溶液15.8ml
を加える。この混合物を室温で6.5時間撹拌し、
次いでこれに飽和シユウ酸溶液を加えてPH3に
調節する。混合物を水450mlに注いだ後、生成
物をエーテルで(200ml×3回)抽出し、エー
テル抽出物を合して水(200ml×3回)および
飽和塩化ナトリウム溶液200mlで洗い、硫酸マ
グネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を除く。残
留油状物はシリカゲル上、5%メタノール/塩
化メチレン、バニリンによるTLCでRf0.49(早
く移動する異性体A)とRf0.40(早く移動する
異性体B)から成る主要斑点2個を示す。これ
をシリカゲル60(80g)上、クロマトグラフイ
ーに付し、塩化メチレン中3%メタノールで溶
離して非常に標記異性体Aに富む0.238g、混
合物0.114gおよび異性体Bに富む0.194の分画
3個(全量0.546g(86.7%)を得る。標記異
性体Aに富む分画をシリカゲル60(40g)上、
再びクロマトグラフイーに付し、塩化メチレン
中2%メタノールで溶離してTLCにより明ら
かに認められる標記異性体A0.1801gを得た。 元素分析、C25H34O4として、 計算値:C,75.34%;H,8.60%、 実測値:C,75.53%;H,8.61%。 この物質は放置後、ワツクス状固体となる。 実施例 57 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4β),4β〕−7−
〔3−〔3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ヘ
キセニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動す
る異性体B)の製造:− 異性体Bに富む物質として実施例56・D項に記
載した分画0.194gをシリカゲル60(30g)上、再
度クロマトグラフイーに付し、塩化メチレン中
2.5%メタノールで溶離して標記異性体0.0954g
(早く移動する異性体B)を得た。この物質は純
度95%以上(不純物は実施例56記載の異性体Aの
それである。)であることがTLCにより示され
る。シリカゲル上、5%メタノール/塩化メチレ
ンおよびバニリンによるTLCのRf0.40(0.49(異性
体A)における痕跡量を含む)。 元素分析、C25H34O4として、 計算値:C,75.34%;H,8.60%、 実測値:C,75.28%;H,8.36%。 実施例 58 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−〔3
−
(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ヘプテ
ニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動する異
性体)の製造:− 前記実施例56・C項に記載の遅く移動する異性
体0.182g(0.44ミリモル)をアルゴン雰囲気下、
THF25mlと水4mlに溶解し、1N水酸化リチウム
溶液4.4mlで処理する。これを室温で7時間撹拌
後、飽和シユウ酸溶液を加えてPH3に調節する。
混合物を水150mlに注ぎ、エーテルで(75ml×3
回)抽出する。エーテル抽出物を合して水(75ml
×3回)および飽和塩化ナトリウム溶液75mlで洗
い、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を
除き、油状物0.172gを得る。シリカゲル上、5
%メタノール/塩化メチレンおよびバニリンを用
いるTLCにより、主要斑点Rf0.34(異性体B)と
非常に小さい斑点Rf0.42(実施例56の異性体A)
を示す。この油状物をシリカゲル60(30g)上、
クロマトグラフイーに付し、塩化メチレン中3%
メタノールで溶離し、ワツクス様固体として標記
生成物0.1006g(57%)を得た。シリカゲル上、
塩化メチレン中7%メタノールおよびバニリンに
よるTLCのRf0.34(B)およびRf0.42(異性体A少
量)。この物質の含量は異性体B95%と概算され
る。またカラムから異性体Aに富む物質0.026g
および混合物(Bの含有%がより大なる物質)
0.021gを得る。 元素分析、C25H34O4として、 計算値:C,75.34%;H,8.60%、 実測値:C,75.37%;H,8.50%。 実施例 59 〔1β,2α(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−〔3
−ヒドロキシ−3−(1,2,3,4−テトラ
ヒドロ−1−ナフタレニル)−1−プロペニル〕
−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−
イル〕−5−ヘプテン酸(異性体B)の製造:
− 式: で示される異性体Bのメチルエステル(製造につ
いて実施例60参照)0.466g(1.1ミリモル)をア
ルゴン雰囲気下、THF50mlと水9mlに溶解する。
1N水酸化ナトリウム溶液11mlを加え、混合物を
室温で7.5時間撹拌する。これに飽和シユウ酸溶
液を加えてPH3に調節し、混合物を水300mlに注
ぐ。生成物をエーテルで(125ml×3回)抽出し、
エーテル抽出物を合して水(125ml×3回)およ
び飽和塩化ナトリウム溶液(125ml×1回)で洗
い、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を
除く。残留油状物0.470gをシリカゲル60上、ク
ロマトグラフイーに付し、塩化メチレン中3%メ
タノールで溶離して標記化合物0.2409g(53%)
を得た。シリカゲル上、塩化メチレン中5%メタ
ノールおよびバニリンによるTLCのRf値0.27。 元素分析、C26H34O4・0.25H2Oとして、 計算値:C,75.24%;H,8.38%、 実測値:C,75.25%;H,8.38%。 実施例 60 〔1β,2α(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−〔3
−ヒドロキシ−3−(1,2,3,4−テトラ
ヒドロ−1−ナフタレニル)−1−プロペニル〕
−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−
イル〕−5−ヘプテン酸(異性体A)の製造:
− 式: で示される化合物の製造:− 三頚フラスコ(1000ml)に滴下ロート(150
ml)、凝縮器およびアセチレンガス導入管を付属
する。この系の窒素気流下に火災乾燥する。系を
室温に冷やし、エーテル中3M臭化メチルマグネ
シウム100ml(300ミリモル)を滴下ロートに、
THF200mlを三頚フラスコ内に入れる。THFを
室温で磁気撹拌しながら、−78℃トラツプと濃硫
酸トラツプに通したアセチレンガスを該THFに
通して発泡させる。THFを10分間アセチレンで
飽和させ、次いで臭化メチルマグネシウムを少量
づつ(一時に5ml相当)室温で添加する。この添
加を2.5時間に渡つて続ける(混合物は暗緑色懸
濁液となる)。添加終了後、混合物を更に1時間
撹拌する。臭化メチルマグネシウムのために使用
した滴下ロートを、アルゴン雰囲気下THF62ml
中テトラロン38ml(0.287ミリモル)含有滴下ロ
ートに置き換える。混合物を0℃に冷やし、45分
間に渡つて上記テトラロンを滴加する。混合物を
室温に暖めて一夜撹拌し、氷含有飽和塩化アンモ
ニウム(200ml容+100ml)に注ぐ。THF層を分
離して水層をエーテルで(300ml×4回)抽出す
る。有機(THFおよびエーテル)層を合して水
洗(200ml×2回)し、硫酸マグネシウムで乾燥
する。これを過し、溶媒を蒸発させて得られた
褐色油状物45gを分別する。82〜90℃/0.3mmHg
の分画は所望の化合物に富む分画(出発物質で汚
染されている)である。この分画を更に石油エー
テル/酢酸エチル(5:1)で溶離して精製して
純粋な無色油状生成物20g(0.12モル、42%)を
得る。 式: で示される化合物の製造:− 乾燥塩化メチレン20ml中アルコール体()
3.4g(20ミリモル)とトリエチルアミン2.8ml
(20ミリモル)の混合物(0℃)に、乾燥塩化メ
チレン7.2ml中クロロ亜リン酸ジエチル3.1g(20
ミリモル)を滴加する。混合物を0℃で1時間お
よび室温で1時間撹拌し、食塩水50ml相当に注
ぎ、生成物をクロロホルムで(50ml×3回)で抽
出する。クロロホルム層を合して食塩水40mlで洗
い、硫酸マグネシウムで乾燥する。過して溶媒
を蒸発させ、得られた黄色油状物6.5gをシリカ
(Silica)60(175g)カラム上、石油エーテル/
酢酸エチル(9/1)1000mlおよび塩化メチレ
ン/メタノール(93/7)で溶離して精製し、わ
づかに褐色を帯びた油状生成物4.96g(17ミリモ
ル、85%)を得る。 式: で示される化合物の製造:− メタノール12ml中ホスホネート体()3.76g
(12.8ミリモル)を室温の下にジエチルアミン24
g(328ミリモル)で処理する。混合物を室温で
96時間撹拌し、減圧下に濃縮し、得られた褐色油
状物をシリカカラム(Silic AR.CC−7)120g
上、塩化メチレン中1〜2%メタノールで溶離し
て精製し、わずかに褐色を帯びた油状生成物3.89
g(10.68ミリモル、83%)を得る。 式: で示される化合物の製造:− エナミン体()2.9g(7.9ミリモル)を
THF120ml、水25mlおよびTFA25mlに溶解し、
おだやかな還流温度で24時間加熱する。これを減
圧下に濃縮して残留物を酢酸エチル80mlに溶解
し、飽和炭酸水素ナトリウムで洗う。水層を酢酸
エチル80mlで再抽出し、酢酸エチル層を合して食
塩水で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥する。過し
た溶媒を蒸発させ、得られた黄褐色油状物2.4g
をカラム(Silic AR.CC−7約80g)上、塩化メ
チレン1%メタノールで溶離して精製する。主要
分画クーゲルロール蒸留により精製して黄色油状
物約1.96g(6.32ミリモル、80%)を得る。225
℃/0.03mmHgの浴温の留分として所望の生成物
を得る。 式: で示される化合物の製造:− 水素化ナトリウム0.201g(4.18ミリモル(鉱
油中50%NaH))と蒸留した乾燥ジメトキシエタ
ン70mlの懸濁液を、アルゴン雰囲気下に撹拌し、
ホスホネート体()1.77g(5.7ミリモル)の
DME7ml溶液を加える。混合物を室温で100分間
撹拌する。次いで式: で示されるアルデヒド1.03g(3.8ミリモル)の
DME5ml溶液を加え、混合物を室温で一夜撹拌す
る。氷酢酸0.5mlを加えて反応を停止させ、減圧
下に溶媒を除く。残渣エーテルに溶解し、飽和炭
酸水素ナトリウム溶液で2回洗い、硫酸マグネシ
ウムで乾燥して減圧下に溶媒を除く。黄色油状生
成物をシリカゲル60(140g)上、クロマトグラフ
イーに付し、無水油状物として化合物()1.33
g(83%)を得る。シリカゲル上、エーテル−石
油エーテル(1:1)および紫外線+ヨウ素によ
るTLCのRf値0.35。またシス・二重結合の異性体
0.099g(6%、Rf0.46)も得られた。 式: で示される化合物の製造:− 化合物()1.33g(3.15ミリモル)と塩化第
一セリウム・7.6水和物1.21g(3.15ミリモル)を
アルゴン雰囲気下、メタノール25mlに溶解する。
溶液を氷浴で冷やして撹拌しながら水素化ホウ素
ナトリウム0.119g(3.15ミリモル)を少量づつ
30秒で添加する。冷浴を除き、混合物を8分間撹
拌した後、飽和塩化アンモニウム溶液200mlに注
ぐ。生成物を酢酸エチルで(50ml×5回)抽出
し、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を
除き、油状物1.33gを得る。これをシリカゲル60
(100g)上、クロマトグラフイーに付し、エーテ
ル−石油エーテル(1:1)で溶出する。シリカ
ゲル上、エーテル−石油エーテル(3:2)およ
びバニリンによるTLCで次の3種の異性体を得
る。異性体A0.479g(36%)、Rf0.40;異性体
B0.620g(47%)、Rf0.29(実施例59参照);およ
び異性体C0.154g(11.5%)、Rf0.20。各異性体を
再度クロマトグラフイーに付し、少量の不純物を
除く。 標記(実施例60)化合物の製造:− アルゴン雰囲気下、メチルエステル体()
(上記異性体A)0.381g(0.9ミリモル)を
THF40mlと水8mlに溶解し、1N水酸化リチウム
溶液9.0mlで処理する。混合物を室温で7時間撹
拌後、飽和シユウ酸溶液でPH3〜4に調節する。
溶液を水250mlに注ぎ、エーテルで(100ml×3
回)抽出する。エーテル抽出物を合して水(100
ml×3回)および飽和塩化ナトリウム溶液100ml
で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶
媒を除き、油状物を得る。これをシリカゲル60
(50g)上、クロマトグラフイーに付し、塩化メ
チレン中3%メタノールで溶離して標記化合物
(G947025)を得た。シリカゲル上、塩化メチレ
ンとバニリンによりTLCのRf値0.35。 元素分析、C26H34O4・0.4H2Oとして、 計算値:C,77.75%;H,8.40%、 実測値:C,74.71%;H,8.34%。 実施例 61 〔1β,2α(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−(4
−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1−ペン
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸(遅く移動する
異性体)の製造:− 式: で示される化合物の製造:− 2−フエニルプロピオン酸メチルエステル5.15
g(31.4ミリモル)を氷酢酸100mlに溶解し、酸
化白金0.2gで処理する。53psiを越えない圧力で
上記混合物を一夜水素化する(5.5時間で完全に
水素を吸収する。)。触媒を別し、減圧下で酢酸
の大部分を除く。残渣をエーテルに溶解し、飽和
炭酸水素ナトリウム溶液で2回洗い、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を除いた後、蒸留し、40
〜42℃/0.5mmHgの留分として生成物4.55g(85
%)を集める。 式: で示される化合物の製造:− アルゴン雰囲気下、蒸留したメチルホスホン酸
ジメチル5.86ml(6.74g、49ミリモル)を、蒸留
したTHF80mlに溶解し、−78℃に冷却する。撹拌
しながらヘキサン中n−ブチルリチウム溶液
(1.65M)を30分間で滴加する。これを更に30分
間撹拌後、化合物()4.36g(25.6ミリモル)
のTHF5ml溶液を10分間で滴加する。混合物を−
78℃で3.5時間撹拌し、冷浴を除いて1時間撹拌
を続ける。氷酢酸を加えてPH6に調節し、減圧下
に溶媒の大部分を除き、水75mlを加える。生成物
を塩化メチレンで(75ml×3回)抽出し、抽出物
を合して飽和炭酸水素ナトリウム溶液75mlおよび
水75mlで洗う。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
下に溶媒を除いて蒸留し、沸点122〜124℃/0.01
mmHgの留分として生成物()4.55g(68%)
を得る。 式: で示される化合物の製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.201g
(4.18ミリモル、鉱油中50%)を、蒸留したジメ
トキシエタン70mlに懸濁し、ホスホネート体
()1.49g(5.7ミリモル)のDME7ml溶液を加
える。混合物を室温で90分間撹拌し、次いで式: で示されるアルデヒド1.03g(3.8ミリモル)の
DME5mlを加える。室温で一夜撹拌後、酢酸0.5
mlを加えて反応を停止させ、減圧下に溶媒を除
く。残留物をエーテルと飽和炭酸水素ナトリウム
溶液に溶解する。各層に分離し、エーテル層を飽
和炭酸水素ナトリウム溶液で1回洗い、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下に乾涸する。得られた
油状物をシリカゲル60(140g)上、クロマトグラ
フイーに付し、エーテル−石油エーテル(1:
3)で溶離し、油状物として化合物()1.181
g(77%)を得る。シリカゲル上、エーテル−石
油エーテル(1:1)および紫外線とバニリンに
よるTLCのRf値0.45。 式: で示される化合物の製造:− アルゴン雰囲気下、ケトン体()1.176g
(2.91ミリモル)および塩化第一セリウム・7.6水
和物1.116g(2.91ミリモル)をメタノールに溶
解し、溶液を0℃に冷やし、水素化ホウ素ナトリ
ウム0.111g(2.91ミリモル)を少量づつ20秒で
添加する。氷浴を除いて混合物を8分間撹拌後、
飽和塩化アンモニウム溶液175mlに注ぐ。生成物
を酢酸エチルで(50ml×5回)抽出し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥して減圧下に乾涸する。残留油状
物をシリカゲル60(100g)上、クロマトグラフイ
ーに付し、エーテル−石油エーテル(55:45)で
溶離し、早く移動する異性体0.708g(60%)と
遅く移動する異性体()0.258g(22%)を得
る。シリカゲル上、エーテル−石油エーテル
(3:2)およびバニリンによるTLCのRf値0.24
(遅く移動する異性体)および0.47(早く移動する
異性体)。遅く移動する異性体は単一異性体であ
ると考えられる。 標記(実施例61)化合物の製造:− メチルエステル体の遅く移動する異性体()
0.253g(0.62ミリモル)をアルゴン雰囲気下、
THF30mlと水5mlに溶解し、1N水酸化リチウム
溶液6.2mlで処理する。室温で7時間撹拌後、飽
和シユウ酸溶液を加えてPH3に調節する。この溶
液を水200mlに注ぎ、生成物をエーテルで(100ml
×3回)抽出する。抽出物を合して水(100ml×
3回)および飽和塩化ナトリウム溶液100mlで洗
い、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を
除く。残留油状物をシリカゲル60(25g)上、ク
ロマトグラフイーに付し、塩化メチレン中3%メ
タノールで溶離して得られた所望の化合物0.1786
g(74%)は放置してワツクス様固体となる。シ
リカゲル上、塩化メチレン中5%メタノールおよ
びバニリンによるTLCのRf値0.27。この物質は
TLCおよび 13C・NMRにより単一異性体である
ことを示す。 元素分析、C24H38O4として、 計算値:C,73.81%;H,9.81%、 実測値:C,73.70%;H,9.55%。 実施例 62 〔1β,2α(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−(4
−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1−ペン
チル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動する異
性体AおよびB)の製造:− 前記実施例61記載のメチルエステル体の早く移
動する異性体0.480g(1.12ミリモル)をアルゴ
ン雰囲気下、THF60mlと水10mlに溶解する。こ
れに1N水酸化リチウム溶液11.2mlを加えて混合
物を室温で6.5時間撹拌する、飽和シユウ酸溶液
を加えてPH3に調節し、混合物を水375mlに注ぐ。
生成物をエーテルで(175ml×3回)抽出する。
エーテル抽出物を合して水(175ml×3回)およ
び飽和塩化ナトリウム溶液175mlで洗い、硫酸マ
グネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を除き、油状
物0.486gを得る。 多量の遊離酸(0.460g相当)をシリカゲル60
(55g)上、クロマトグラフイーに付し、塩化メ
チレン中2.5%メタノールで溶離して主要分画
0.3115gと少量の後分画0.0449gを得た(全収率
77%)。双方がTLCにおいて単一斑点(シリカゲ
ル上、5%メタノール/塩化メチレンおよびバニ
リンの使用によるRf値0.41)を示す。 元素分析、C24H38O4として、 計算値:C,73.81%;H,9.81%、 実測値:(G653186)C,73.58%;H,9.48
%。
ることができる。式: で示される化合物(米国特許第4143054号に開示
された方法により製せられる。)と式: (C6H5)3P(CH2)n′CN4・HBr 〔F〕 〔式中、m′は1〜8を表わす。〕 で示されるウイツチヒ試薬を、カリウムt−ブト
キシドまたは水素化ナトリウム−ジメチルスルホ
キシドの存在下、化合物〔E〕:〔F〕のモル比約
1〜0.2:1で反応させて、式: 〔式中、m′は前記と同意義。〕 で示される化合物を製し、次いでこれをコリンズ
酸化反応に付して式: 〔式中、m′は前記と同意義。〕 で示される化合物を得る。 上記アルデヒド体〔〕を、前記化合物
〔〕もしくは〔A〕の製法に関して先に述べ
たのと同様に、ジアルコキシホスホネート〔A〕
と反応させて式: 〔式中、m′およびYは前記と同意義。〕 で示されるXがテトラゾリルである化合物〔〕
を得、更にこれを前記のように還元して式: 〔式中、mおよびYは前記と同意義。〕 で示されるXがテトラゾリルである化合物〔〕
を得ることができる。 なお前記ウイツチヒ試薬〔F〕はジヤーナル・
オブ・メデイシナル・ケミストリー(J.Med.
Chem.)第22巻1341(1979年)1343頁に記載の方
法および次の反応工程図に従つて製造することが
できる。 Bが−C≡C−、Aが(CH2)2または−CH=
CH−である本発明化合物〔〕は以下に示す方
法により製造することができる。式: 〔式中、Aは(CH2)2または−CH=CH−を表
わす。mおよびR1は前記と同意義。〕 で示されるアルデヒドと式: 〔式中、X′はハロゲン(好ましくは塩素また
は臭素を表わす。Yは前記と同意義。〕 で示されるホスホネート(米国特許第4169145号
に開示されたように製せられる。)を、化合物
〔A〕:〔G〕のモル比約1〜0.2:1で、テトラ
ヒドロフラン中、カリウムt−ブトキシドもしく
はジメチルスルホキシド中、水素化ナトリウムの
存在下に反応させ、得られたホスホネート生成物
α−ハロエノン体(これはEおよびZ異性体の混
合物である。)をテトラヒドロフラン中、カリウ
ムt−ブトキシドのような塩基で処理することに
より、式: 〔式中、Aは−(CH2)2−または−CH=CH−
を表わす。m、R1およびYは前記と同意義。〕 で示される化合物(Bが−C≡C−である本発明
化合物〔〕)を得ることができる。 上記イノン体〔〕を更に水素化ホウ素ナ
トリウム−塩化第一セリウムで還元することによ
り化合物〔A〕を得ることができる。同様の操
作は米国特許第4169145号のイグザンプル23およ
びIl.Farmaco−Ed.Sc.O Vol.31−fasc.10pp.763
〜766(1975年)のガンドルフイ(C.Gandolfi)と
その共同研究者によるα−Halo−α,β−
unsaturated Ketones:a synthe−tic
approach to 13−dehydroprostaglan−dinsとい
う表題の論文に記載されている。 Bが−C≡C−である他の化合物は、化合物
〔XI〕、〔〕、〔〕、〔〕、〔〕、〔
〕、〔XI〕、〔〕および〔〕の製造
のための前記操作に従つて製造することができ
る。 本発明化合物〔〕に包含される化合物、すな
わち式: 〔式中、AはCH=CH、XはCO2R1であつて
よい。BおよびYは前記と同意義。〕 で示される化合物は次の方法により製造すること
ができる。式: で示される不飽和二酸化合物(米国特許第
4143054号に開示されたように製せられる。)を出
発物質として使用し、米国特許第4143054号に開
示されたように処理して式: 〔式中、mおよびR1は前記と同意義。〕 で示される化合物を得る。次いでこの化合物〔
〕を用い、前記化合物〔B〕と〔
C〕の製造で説明した方法に従つて処理すること
により、本発明化合物〔〕を得ることができ
る。 XがCO2R1以外の基である他の不飽和化合物
〔〕は、Aが−CH=CH−である前記化合物、
〔XI〕、〔〕、〔〕、〔〕、〔〕、〔
〕、〔XI〕、〔〕および〔〕のすべ
ての場合の製造で説明した方法に従つて製造する
ことができる。 本発明化合物は式〔〕、〔〕、および〔〕
中の星印(*)で示したように5個所の不整中心
を有する。前記各式中に星印を記載していない
が、これらの化合物のすべての立体異性体が存在
することは明らかであつて、種々の立体異性体の
すべてが本発明の範囲内にある。 本発明化合物の種々の立体異性体、すなわちシ
スエキソ、シスエンド型とすべてのトランス型お
よび立体異性体対は、後記実施例に示すように製
造し、また米国特許第4143054号に開示された出
発物質を用い、その操作に従つて製造することが
できる。かかる立体異性体の例を次に示す。 上記式中の波線(〓)はそれぞれ式〔a〕、
〔b〕、〔c〕および〔d〕のヒドロキシ基
がR(β)またはS(α)のいずれかであることを
示す。 本明細書中の各化合物の核は、都合上、 で示されているが、この核は で表わすことができることを理解されるべきこと
である。 本発明化合物は血小板凝集抑制剤として、たと
えば冠状動脈血栓および脳血栓形成のような血栓
症を処置するために有用な心臓血管剤である。ま
た本発明化合物は、たとえば狭心症のような心筋
虚血症の処置のための血管拡張効果を有する選択
的トロンボキサンA2シンテターゼ抑制剤である。
本発明の活性化合物は、その約1〜100mg/Kg、
好ましくは約1〜50mg/Kg、特に約2〜25mg/Kg
の摂生有効投与量を1日1回または2〜4回に分
けて上記疾病にかかりやすいことで知られた種々
の哺乳類に経口的もしくは非経口的に投与するこ
とができる。 本発明の活性化合物は、この化合物〔〕また
はその2種ないしそれ以上の混合物を単位投与剤
型当り約5〜500mg含有せしめた錠剤、カプセル
剤、溶液もしくは懸濁液のような組成物として使
用することができる。活性化合物は、これを生理
学的に許容される媒体もしくは担体、賦形剤、結
合剤、保存剤、安定剤、香味剤などと、許容され
る薬学的慣行に適合するように常套の方法で組合
わせて製剤することができる。このような薬理学
的用途に加うるに、本発明化合物〔〕のうちの
ある種のものは前述のようにその他の種類の化合
物〔〕製造のための中間体として有用である。 次に実施例をあげて本発明の好ましい化合物の
製造法を具体的に説明する。 実施例 1 [1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β]−7−〔3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]
ヘプト−2−イル]−5−ヘプテン酸の製造: A 〔1β,2β(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホルミ
ル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステルの製
造:− ピリジン8.7mlのジクロロメタン200ml溶液を
強く撹拌しながらこれに三酸化クロム5.38gを
少量づつ添加処理する。添加終了後、混合物を
室温で20分間撹拌し、セライト8g、次いでジ
クロロメタン10ml中〔1β,2β(5Z),3β,4β〕−
7−〔3−(ヒドロキシメチル)−7−オキサビ
シクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−5−ヘプ
テン酸メチルエステル(米国特許第4143054号
に開示されたように製せられる。)2.58g(9.6ミ
リモル)で処理する。混合物を室温で20分間撹
拌し、セライトに通して過する。液を5%
炭酸水素ナトリウムで(100ml×2回)、10%塩
酸で(100ml×2回)、更に5%炭酸水素ナトリ
ウムで(100ml×2回)洗浄する。このジクロ
ロメタン溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下に濃縮する。残留物をシリカ−CC−7
(200ml)上クロマトグラフイーに付し、(1)ジク
ロロメタン、(2)ジエチルエーテルで溶離してア
ルデヒド体2gを得る。NMR(C−13およびプ
ロトン)により生成物は異性体(90%シス−エ
ンド−および10%トランス−アルデヒド)の混
合物であることが示された(減圧下、室温で長
い時間乾燥すると分解する。)。シリカゲル上、
ベンゼン/酢酸エチル(4:1)によるTLC
のRf値は0.5(バニリンと加熱により可視化)。 B 1β,2β(5Z),3α,(1E),4β〕−7−〔3−
3
−オキソ−3−シクロヘキシル−1−プロペニ
ル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2
−イル]−5−ヘプテン酸メチルエステルの製
造:− アルゴン雰囲気下、50%水素化ナトリウム
0.180g(3.75ミリモル、1.44当量)と無水ジメト
キシエタン(DME)60mlのスラリーに、2−
オキソ−2−シクロヘキシルエチルジメチルホ
スホネート0.870g(3.75ミリモル、1.44当量)と
ジメトキシエタン10mlの混合物を0℃で加え
る。混合物を25℃で1.5時間撹拌し、この溶液
(25℃)に〔1β,2β(5Z),3α,4β)〕−7−〔3
−ホルミル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエス
テル(前記A項で得られた化合物)0.700g(2.6
ミリモル)とジメトキシエタン10mlの混合物を
加える。1時間後、氷酢酸0.5mlを加えて反応
を停止させ、濃縮し、エーテル200mlに溶解し
て5%炭酸水素カリウム150mlで洗い、無水硫
酸マグネシウムで乾燥、濃縮する。残渣をLP
−1シリカゲル上、フラツシユクロマトグラフ
イーに付し、エーテル/ヘキサン(3:7)で
溶離して精製し、標記Bの化合物0.515g(収率
52%)を得る。 C1 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル、および C2 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル]−5−ヘプテン酸
メチルエステルの製造:− アルゴン雰囲気下、前記B項の化合物0.515g
(1.38ミリモル)の乾燥メタノール15ml溶液に、
塩化セリウム・七水和物0.513g(1.38ミリモル、
1当量)を25℃で添加する。混合物を10分間撹
拌し、0℃に冷やして水素化ホウ素ナトリウム
0.0532g(1.38ミリモル、4当量)を加える。0
℃で20分間撹拌後、アセトン1mlを加えて反応
を停止させ、高度減圧下に濃縮し、酢酸エチル
100mlで希釈して食塩水100mlで洗う。水層を酢
酸エチル100mlで再抽出する。有機層を合して
無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮する。残渣
をLP−1シリカゲルカラム上、フラツシユク
ロマトグラフイーに付し、酢酸エチル−ヘキサ
ン(1:4)で溶離することにより精製し、標
記C1項の化合物0.210gと標記C2項の化合物
0.191gを得る。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β−7−〔
3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]
ヘプト−2−イル]−ヘプテン酸の製造:− 80%テトラヒドロフラン−水の溶液30ml(0
℃に冷却)に上記C1項のアルコールエステル
体0.200g(0.53ミリモル)を溶解し、1N水酸化
リチウム溶液5.3mlを滴加する。混合物を0℃
で撹拌し、25℃までゆつくり加温して18時間撹
拌する。高度減圧下にTHFを蒸発させ、残留
物を水10mlで希釈して10%シユウ酸水溶液でPH
3に調節し、エーテル(60ml×3回)および食
塩水(50ml)で抽出する。生成物を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥、濃縮して油状物を得る。 この油状物をCC−7シリカゲル上、蒸留し
たペンタン/エーテルで傾斜溶離して精製し、
ポリカーボネート膜に通して過する。高度減
圧下10日間溶媒を蒸発させて標記化合物0.165g
(86%)を得た。シリカゲル上、酢酸エチル/
ヘキサン(4:1)によるTLCのRf値0.58に
相当。 元素分析、 計算値:C,72.89%;H,9.45%、 実測値:C,72.68%;H,9.15%。 実施例 2 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:
− 80%テトラヒドロフラン(THF)−水の溶液
30ml(0℃)中、C2項(実施例1のアルコー
ルエステル体0.166gに、1M水酸化リチウム溶
液4.4mlをゆつくり加える。混合物を0℃で撹
拌し、更に18時間撹拌する間に25℃に加温す
る。THFを蒸発させ、残留物で水10mlで希釈
し、10%シユウ酸水溶液でPH3に調節してエー
テル(60ml×3回)および食塩水(50ml)で抽
出する。生成物を無水硫酸マグネシウムで乾
燥、濃縮して油状物を得る。油状物をCC−7
シリカゲルカラム上、ペンタン−エーテル傾斜
溶離剤によるクロマトグラフイーに付し、ポリ
カーボネート膜に通して過し、次いで減圧下
に溶媒を除き、油状物として標記化合物0.043g
(27%)を得た。シリカゲル上、酢酸エチル/
ヘキサン(4:1)によるTLCのRf値0.38。 元素分析、 計算値:C,72.89%;H,9.45%、 実測値:C,72.33%;H,9.36%。 標記化合物(ゆつくり移動する異性体)モル当
り水0.16モルに対して補正された計算値; C,72.33%;H,9.47%。 実施例 3 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(4−シクロペンシル−3−ヒドロキシ−1
−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−
(3−オキソ−4−シクロペンチル−1−ブテ
ニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステルの
製造:− アルゴン雰囲気下、鉱油中50%水素化ナトリ
ウム0.240g(4.76ミリモル、1.1当量)とジメト
キシエタン(DME)60mlのスラリーに、2−
オキソ−3−シクロペンチルプロピルジメチル
ホスホネート1.26g(5.41ミリモル、1.2当量)と
DME10mlの混合物を0℃で添加する。混合物
をアルゴン雰囲気下に25℃で1時間撹拌し、こ
の溶液(25℃)に、〔1β,2β(5Z),3α,4β〕−
7−〔3−ホルミル−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(実施例1のA項に記載のよう
に製せられる。)1.2g(4.53ミリモル)と
DME10mlの混合物を加える。1時間後、氷酢
酸1mlを加えて反応を停止させ、濃縮し、エー
テル300mlに溶解する。エーテル溶液を5%炭
酸水素カリウム(100ml×3回)および食塩水
(100ml)で洗う。有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥、濃縮して標記Aの粗生成物1.76gを
得る。この粗油状物を精製することなく次の反
応工程に直接使用する。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(4−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステル、および C 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(4−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステルの製造:− アルゴン雰囲気下、前記A項の粗生成物
1.76gの乾燥メタノール30ml溶液に、35%水含
有塩化セリウム1.73g(4.53ミリモル、1当量)
を25℃で添加する。混合物を25℃で10分間撹拌
し、0℃に冷却して水素化ホウ素ナトリウム
0.175g(4.53ミリモル、4当量)をゆつくり加
える。0℃で10分間撹拌後、反応混合物を飽和
塩化アンモニウム200mlに注ぐ。混合物をエー
テルで(100ml×3回)抽出し、エーテル抽出
物を水(100ml×3回)、食塩水(100ml)で洗
う。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃
縮する。 残渣をWatersHPLC上、酢酸エチル/ヘキ
サン(1:3)で溶離して精製、分離し、標記
B項の化合物0.276gと標記C項の化合物0.225g
を得る。 シリカゲル上、ヘキサン/酢酸エチル(1:
1)によるTLCのRf値:化合物B=0.50相当、
化合物C=0.45相当。 D 1β,2β(5Z),3α,(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(4−シクロペンチル−3−ヒドロキシ1
−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 前記B項のアルコールエステル体0.161g
(0.42ミリモル)を80%テトラヒドロフラン−
水の溶液20mlに溶解し、0℃に冷やして1N水
酸化リチウム溶液4.2mlを滴加する。混合物を
0℃で撹拌し、次いで18時間に渡つて撹拌しな
がらゆつくり25℃まで加温する。高度減圧下に
THFを蒸発させ、残留物を水10mlで希釈して
10%シユウ酸水溶液でPH3に調節し、エーテル
で(50ml×3回)抽出する。有機層を水(50ml
×3回)および食塩水(50ml)で洗う。生成物
を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して油状
物を得る。 この油状物をCC−7シリカゲルカラム上、
蒸留したペンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポ
リカーボネート膜に通して過する。高度減圧
下に10日間溶媒を蒸発させ、〔1β,2β(5Z),3α
(1E,3S*),4β〕−7−〔3−(3−シクロペン
チル−3−ヒドロキシ−1−ブテニル−7−オ
キサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5
−ヘプテン酸0.151g(99.3%)を得た。シリカ
ゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(4:1)によ
るTLCのRf値0.48相当。 元素分析 計算値:C,72.89%;H,9.45%、 実測値:C,72.59%;H,9.26%。 実施例 4 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔
3
−(4−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−1−
ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 前記C項のアルコールエステル体(実施例3に
記されたように製せられる。)0.100g(0.27ミリモ
ル)を80%テトラヒドロフラン−水の溶液10mlに
溶解し、0℃に冷やして1N水酸化リチウム溶液
2.7mlを滴加する。混合物を0℃で撹拌し、次い
で18時間に渡つて撹拌しながら25℃までゆつくり
加温する。高度減圧下にTHFを蒸発させ、残留
物を水10mlで希釈して10%シユウ酸水溶液でPH3
に調節し、エーテルで(50ml×3回)抽出する。
有機層を水(50ml×3回)および食塩水(50ml)
で洗う。無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、
油状物を得る。 この油状物をCC−7シリカゲルカラム上、蒸
留したペンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカ
ーボネート膜に通して過することにより精製す
る。高度減圧下に10日間溶媒を蒸発させ、標記化
合物0.090g(92.0%)を得た。 シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(4:
1)によりTLCのRf値0.38相当。 元素分析 計算値:C,72.89%;H,9.45%、 実測値:C,72.73%;H,9.70%。 実施例 5 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(4−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−1
−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエス
テルの製造:− 前記実施例3のB項記載のように標記化合物を
合成する。 この生成物をCC−7シリカゲルカラム上、蒸
留したペンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカ
ーボネート膜に通して精製する。高度減圧下に12
日間溶媒を蒸発させて生成物を得た。 シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(1:
1)によるTLCのRf値0.50相当。 元素分析(水0.16モル含有) 計算値:C,72.79%;H,9.64%、 実測値:C,72.79%;H,9.58%。 実施例 6 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−(4−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−1
−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエス
テルの製造:− 前記実施例3のC項記載のように標記化合物を
合成する。 生成物をCC−7シリカゲルカラム上、蒸留し
たペンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカーボ
ネート膜に通して精製する。高度減圧下に12日間
溶媒を蒸発させて生成物を得た。 シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(1:
1)によるTLCのRf値0.45相当。 元素分析(水0.21モル含有) 計算値:C,72.61%;H,9.64%、 実測値:C,72.61%;H,9.62%。 実施例 7 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブテ
ニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−
(3−オキソ−4−フエニル−1−ブテニル)−
7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イ
ル〕−5−ヘプテン酸メチルエステルの製造:
− 新しく蒸留したジイソプロピルアミン
0.4116gと乾燥トルエン80mlの混合物(−78℃)
に、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液
(1.6M)2.3ml(3.71ミリモル)を加える。混合
物を5分間撹拌し、この混合物(−78℃)に2
−オキソ−3−フエニルプロピルジメチルホス
ホネート0.9525g(3.91ミリモル、1.1当量)を加
える。混合物を撹拌しながら25℃まで加温す
る。この混合物に〔1β,2β(5Z),3α,4β〕−7
−〔3−ホルミル−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(実施例1のA項に従つて製せ
られる。)0.938g(3.55ミリモル)を加える。2.5
時間後、氷酢酸0.5mlで反応を停止させ、エー
テル300mlで希釈する。エーテル溶液を5%炭
酸水素ナトリウム溶液(100ml×3回)および
食塩水(100ml)で洗う。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥、濃縮して粗油状物1.22gを
得る。この油状物を精製することなく次反応工
程に使用する。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−1−フエニル−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル、
および C 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル
の製造:− アルゴン雰囲気中、上記A項の粗生成物
1.22gの乾燥メタノール30ml溶液に、35%水含
有塩化セリウム1.18g(2.64ミリモル、1当量)
を25℃で加える。混合物を25℃で10分間撹拌
し、0℃に冷やして水素化ホウ素ナトリウム
0.119g(2.64ミリモル、4当量)をゆつくり加
える。0℃で10分間撹拌後、反応混合物を飽和
塩化アンモニウム200mlに注ぐ。混合物をエー
テルで(100ml×3回)抽出する。エーテル抽
出物を水(100ml×3回)および食塩水(100
ml)で洗う。有機層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥、濃縮する。 Waters HPLC上、ヘキサン中30%酢酸エチ
ルで溶離することにより分離、精製し、標記B
項の化合物0.299gと標記C項の化合物0.272gを
得る。 シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(1:
1)によるTLCのRf値、B項の化合物:0.44
相当、C項の化合物:0.35相当。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 前記B項のアルコールエステル体0.299g
(0.78ミリモル)を80%テトラヒドロフラン−
水の溶液50mlに溶解し、0℃で冷やして1N水
酸化リチウム溶液7.8mlを滴加する。混合物を
0℃で撹拌し、次いで15時間に渡つて25℃まで
ゆつくり加温する。高度減圧下にTHFを蒸発
させ、残留物を水10mlで希釈して10%シユウ酸
水溶液でPH3に調節し、エーテルで(100ml×
3回)抽出する。有機層を水(100ml×3回)
および食塩水(100ml)で洗う。生成物を無水
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して油状物を得
る。 この油状物をCC−7カラム上、蒸留したペ
ンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカーボネ
ート膜に通して過することにより精製する。
高度減圧下に12日間溶媒を蒸発させて、〔1β,
2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3−(3−
ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブテニル)−
7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イ
ル〕−5−ヘプテン酸0.131gを得た。 元素分析 計算値:C,74.55%;H,8.16%、 実測値:C,74.42%;H,8.21%。 実施例 8 前記C項のアルコールエステル体(実施例7の
生成物)0.272gを80%テトラヒドロフラン−水の
溶液40mlに溶解し、0℃に冷やして1N水酸化ナ
トリウム溶液7.1mlを滴下する。混合物を0℃で
撹拌し、次いで15時間に渡つて25℃までゆつくり
加温する。高度減圧下にTHFを蒸発させ、残留
物を水10mlに希釈して10%シユウ酸水溶液でPH3
に調節し、エーテルで(100ml×3回)抽出する。
有機層を水(100ml×3回)および食塩水(100
ml)で洗う。生成物を無水硫酸マグネシウムで乾
燥、濃縮して油状物を得る。 この油状物をCC−7シリカゲルカラム上、蒸
留したペンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカ
ーボネート膜に通して過することにより精製す
る。高度減圧下に12日間溶媒を蒸発させて〔1β,
2β(5Z),3α(1E,3R*),4β−7−〔3−(3−ヒ
ドロキシ−4−フエニル−1−ブテニル)−7−
オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5
−ヘプテン酸0.176gを得た。 元素分析(水0.17モル含有) 計算値:C,73.93%;H,8.19%、 実測値:C,73.93%;H,7.94%。 実施例 9 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:
− A 1β,2β(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−(
3
−オキソ−シクロペンチル−1−プロペニル)
−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−
イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 新しく蒸留したジイソプロピルアミン
0.3756g(3.71ミリモル、1.1当量)と乾燥トルエ
ン80mlの混合物(−78℃)に、ヘキサン中n−
ブチルリチウム(1.6M)溶液2.3ml(3.71ミリ
モル、1.1当量)を加える。混合物を5分間撹
拌し、混合物(−78℃)に2−オキソ−2−シ
クロペンチルエチルジメチルホスホネート
0.8917g(4.05ミリモル、1.2当量)を添加する。
混合物を撹拌しながら25℃まで加温し、この混
合物(25℃)に、〔1β,2β(5Z),3β,4α〕−7
−〔3−ホルミル−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(実施例1の生成物)0.900g
(3.41ミリモル)を加える。2.5時間後、氷酢酸
0.5mlを加えて反応を停止させ、エーテル300ml
で希釈する。このエーテル溶液を5%炭酸水素
ナトリウム溶液(100ml×3回)および食塩水
(100ml)で洗う。有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥、濃縮して粗油状物1.26gを得る。こ
の油状物を精製することなく次反応工程に使用
する。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−3−シクロペンチル−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル、および C 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシル−3−シクロペンチル
−1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステルの製造:− アルゴン雰囲気下、前記A項の粗生成物
1.25gの乾燥メタノール30ml溶液に、35%水含
有塩化セリウム1.29g(3.41ミリモル、1当量)
を25℃で添加する。混合物を25℃で10分間撹拌
し、0℃に冷やして水素化ホウ素ナトリウム
0.130g(3.41ミリモル、4当量)をゆつくり加
える。0℃で10分間撹拌後、反応混合物を飽和
塩化アンモニウム200mlに注ぐ。混合物をエー
テルで(100ml×3回)抽出する。エーテル抽
出物を水(100ml×3回)および食塩水(100
ml)で洗い、有機層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥、濃縮する。 Waters HPLC上、ヘキサン中30%酢酸エチ
ルで溶離して分離、精製して標記B項の化合物
0.426gと標記C項の化合物0.297gを得る。 シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(1:
1)によるTLCのRf値:B項の化合物0.55相
当、C項の化合物0.42相当。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
の製造:− 前記B項のアルコールエステル体0.426g
(1.18ミリモル)を80%テトラヒドロフラン−
水の溶液50mlに溶解し、0℃に冷やして1N水
酸化リチウム溶液11.8mlを滴加する。混合物を
0℃で撹拌し、次いで15時間に渡つてゆつくり
25℃まで加温する。高度減圧下にTHFを蒸発
させ、残留物を水10mlで希釈して10%シユウ酸
水溶液でPH3に調節し、エーテルで(100ml×
3回)抽出する。有機層を水(100ml×3回)
および食塩水(100ml)で洗う。生成物を無水
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して油状物を得
る。 この油状物をCC−7カラム上、蒸留したペ
ンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカーボネ
ート膜に通して過することにより精製する。
高度減圧下、溶媒を11日間蒸発させ、〔1β,2β
(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3−(3−シ
クロペンチル−3−ヒドロキシ−1−プロペニ
ル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−5−ヘプテン酸0.252gを得た。 元素分析 計算値:C,72.39%;H,9.25%、 実測値:C,72.49%;H,9.29%。 実施例 10 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:
− 上記実施例9・C項で製せられたアルコールエ
ステル体0.297g(0.82ミリモル)を80%テトラヒ
ドロフラン−水の溶液40mlに溶解し、0℃に冷や
して1N水酸化リチウム溶液8.2mlを滴加する。混
合物を0℃で撹拌し、次いで15時間に渡つてゆつ
くり25℃まで暖める。高度減圧下にTHFを蒸発
させ、残留物を水10mlで希釈して10%シユウ酸水
溶液でPH3に調節し、エーテルで(100ml×3回)
抽出する。有機層を水(100ml×3回)および食
塩水(100ml)で洗う。生成物を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥、濃縮して油状物を得る。 この油状物をCC−7カラム上、蒸留したペン
タン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカーボネート
膜に通して過することにより精製する。高度減
圧下、溶媒を11日間蒸発させて標記化合物0.304g
を得た。 元素分析 計算値:C,72.39%;H,9.25%、 実測値:C,72.31%;H,9.45%。 実施例 11 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−N−アセ
チル−7−〔3−(3−シクロヘキシル−3−ヒ
ドロキシ−1−プロペニル)−7−オキサビシ
クロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ンアミドの製造:− 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔
3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1−
プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(実施例1の生
成物)0.1826g(0.50ミリモル)と無水THF3mlの
混合物に、p−ニトロフエノール(PNP)
0.0765g(0.55ミリモル、1.1当量)、4−ジメチル
アミノピリジン約0.005gおよびN,N′−ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド(DCC)0.1133g(0.55ミ
リモル、1.1当量)を加える。アルゴン雰囲気下、
混合物を25℃で2時間撹拌し、更にPNP0.0350g
(0.25ミリモル、0.5当量)とDCC0.0520g(0.25ミ
リモル、0.5当量)を加え、混合物を1時間撹拌
してp−ニトロフエノールエステル溶液を得る。
鉱油中50%水素化ナトリウム0.060g(1.25ミリモ
ル、乾燥ペンタンで3回洗つたもの)とアセトア
ミド0.0923g(1.25ミリモル、2.5当量)の無水
THF3ml溶液を、あらかじめアルゴン雰囲気下に
25℃で3時間撹拌した後、この溶液に上記p−ニ
トロフエノールエステル溶液を注射器で添加す
る。この明澄色混合物を1時間撹拌し、これを飽
和塩化アンモニウム50mlと2N塩酸5mlの溶液に
ゆつくり加え、酢酸エチルで(50ml×2回)抽出
し、水20mlおよび食塩水、20mlで洗い、無水硫産
マグネシウムで乾燥する。この酢酸エチル溶液を
18時間0℃に冷やし、溶液から晶出したPNPを
別して溶液を蒸発させ、粗油状物約0.200gを得
る。LP−1シリカゲル上、ヘキサン/酢酸エチ
ル(1:1)によるフラツシユクロマトグラフイ
ーに付し、次いでWhatman1mmPKGFシリカゲル
プレート(20×20cm)上、ヘキサン:酢酸エチル
溶離剤によるプレパラテイブ薄層クロマトグラフ
イーに付し、清澄な無色油状物として〔1β,2β
(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−N−アセチル−7−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシル−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテンアミド0.039g
(19%)を得た。 元素分析、C24H37NO4として 計算値:C,71.43%;H,9.24%; N,3.47%、 実測値:C,71.30%;H,9.31%; N,3.63%。 実施例 12 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−N−(フエニルスルホニ
ル)−5−ヘプテンアミドの製造:− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−シクロヘキシル−3−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−1−プロペニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−
ヘプテン酸メチルエステルの製造:− アルゴン雰囲気中、25℃で〔1β,2β(5Z),
3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3−シクロヘキシル
−3−ヒドロキシ−1−プロペニル)−7−オ
キサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5
−ヘプテン酸メチルエステル(実施例1記載の
ように製せられる。)0.5408g(1.44ミリモル)
と無水DMF5mlの混合物に、ジメチル−tert−
ブチルシリルクロリド0.4335g(2.9ミリモル、
2当量)とイミダゾール0.3923g(5.76ミリモ
ル、4当量)を加え、2時間撹拌する。溶媒を
蒸発させて残留油状物をエーテル150mlで希釈
し、飽和塩化アンモニウム25mlと飽和炭酸水素
ナトリウム25mlで洗い、無水硫酸マグネシウム
で乾燥、蒸発させて標記A項の化合物0.760gを
得る。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−シクロヘキシル−3−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−1−プロペニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−
ヘプテン酸の製造:− 上記A項のエステル体0.760g(1.4ミリモル)
と80%THF水溶液80mlに、水中1N水酸化リチ
ウム20mlを加え、アルゴン雰囲気下に25℃で30
時間撹拌する。混合物をシユウ酸でPH3相当に
調節し、水500mlで希釈してエーテルで(250ml
×3回)抽出する。エーテル層を水100mlおよ
び食塩水100mlで洗い、無水硫酸マグネシウム
で乾燥、蒸発させて油状物を得る。 C 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−シクロヘキシル−3−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−1−プロペニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−N−
(フエニルスルホニル)−5−ヘプテンアミドの
製造:− アルゴン雰囲気下、上記B項の酸0.161g
(0.34ミリモル)と無水THF3mlの混合物(25
℃)に、トリエチルアミン0.0687g(0.68ミリモ
ル、2.0当量)とイソシアン酸ベンゼンスルホ
ニル0.1245g(0.68ミリモル、2.0当量を加える。
混合物を1時間撹拌して酢酸エチル50mlで希釈
し、飽和塩化アンモニウム10ml、水10mlおよび
食塩水10mlで順次洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥して油状物0.260gを得る。この生成物
をLP−1シリカゲル上、塩化メチレン中1%
メタノール溶離剤によるフラツシユクロマトグ
ラフイーで精製し、灰白色固体として標記C項
の化合物0.2128g(99%)を得る。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−N−(フエニルス
ルホニル)−5−ヘプテンアミドの製造:− 上記C項の化合物0.2128g(0.35ミリモル)と
THF3mlの混合物にテトラブチルアンモニウム
フルオリド1.1g(3.5ミリモル、10当量)を加
え、この溶液をアルゴン雰囲気下に45℃で66時
間還流する。反応混合物を冷やし、エーテル50
mlで希釈して飽和塩化アンモニウム10mlで洗
い、水層をエーテル20mlで抽出する。エーテル
溶液を合して水10mlおよび食塩水10mlで洗い、
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。この粗生成
物をLP−1シリカゲル上、ヘキサン:酢酸エ
チル(1:1)溶離剤によるクロマトグラフイ
ーで精製し、白色泡状物質として〔1β,2β
(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3−(3−シ
クロヘキシル−3−ヒドロキシ−1−プロペニ
ル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−N−(フエニルスルホニル)−5−ヘ
プテンアミド0.095g(収率54%)を得た。 元素分析 計算値:C,67.11%;H,8.10%; N,2.65%、 実測値:C,67.03%;H,7.83%; N,2.79%。 実施例 13 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−N−(メチルスルホニル)
−5−ヘプテンアミドの製造:− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−t−ブチルジ
メチルシリルオキシ−1−プロペニル)−7−
オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−
N−(メチルスルホニル)−5−ヘプテンアミド
の製造:− 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
(3−シクロヘキシル−3−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−1−プロペニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−
ヘプテン酸(実施例18・B項の生成物)0.176g
(0.38ミリモル)と無水THF3mlの混合物に、
トリエチルアミン0.187g(1.85ミリモル、5当
量)とイソシアン酸メチルスルホニル0.224g
(1.85ミリモル、5当量)を加える。混合物を
アルゴン雰囲気下、25℃で1時間撹拌し、酢酸
エチル50mlで希釈して飽和塩化アンモニウム10
ml、水10mlおよび食塩水10mlで順次洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。粗生成物を
LP−1シリカゲル上、酢酸エチル:ヘキサン
(1/2)溶液(溶離剤として)によるフラツ
シユクロマトグラフイーで精製し、清澄な油状
物として標記A項の化合物0.125g(収率61%)
を得る。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−プロピニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−N−(メチルスル
ホニル)−5−ヘプテンアミドの製造:− アルゴン雰囲気下、前記A項の化合物0.125g
(0.23ミリモル)の混合物(25℃)に、テトラ
ブチルアンモニウムフルオリド0.7256g(2.3ミ
リモル、10当量)を加える。混合物を45℃で15
時間還流し、冷やしてエーテル50mlで希釈し、
飽和塩化アンモニウム10mlで洗う。水層をエー
テル20mlで抽出し、エーテル溶液を合して水10
mlおよび食塩水10mlで洗い、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。粗生成物をLP−1シリカゲ
ル上、ヘキサン:酢酸エチル(2:3)溶液
(溶離剤として)によるフラツシユクロマトグ
ラフイーで精製し、清澄な無色油状物として
〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−
(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1−
プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−N−(メチルスルホニル)−
5−ヘプテンアミド0.0321g(収率32%)を得
た。 元素分析 計算値:C,62.84%;H,8.48%; N,3.19%、 実測値:C,62.72%;H,8.47%; N,3.22%。 実施例 14 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:
− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−プロピニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
の製造:− 水素化ナトリウム(0.280g、5.9ミリモル
(油中50%))と無水ジメトキシエタン100mlの
スラリーをジメチル−2−オキソ−2−シクロ
ヘキシルエチルホスホネート1.37g(5.9ミリモ
ル)のDME10ml溶液(0℃)で処理する。混
合物を室温で2時間撹拌し、次いで1β,2α
(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホルミル−7−オ
キサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5
−ヘプテン酸メチルエステル1.1g(4.1モル)の
DME10ml溶液で処理する。混合物を室温で1.5
時間撹拌し、氷酢酸0.354g(5.9ミリモル)を加
えて反応を停止させ、減圧下に濃縮する。残留
物をエーテルに溶解し、5%炭酸水素カリウム
で(100ml×1回)洗う。エーテル層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮する。残渣
をLP−1シリカゲル上、ヘキサン/エーテル
(7:3)によるクロマトグラフイーに付して
精製して油状物1.1gを得る。 この粗油状物1.1gと塩化セリウム・七水和物
1.1g(2.9ミリモル)のメタノール30ml溶液を氷
浴で冷やし、水素化ホウ素ナトリウム0.112g
(2.9ミリモル)を30秒に渡つて少量づつ添加処
理する。混合物を室温で10分間撹拌し、飽和塩
化アンモニウム溶液200mlに注ぎ、酢酸エチル
で(100ml×5回)抽出する。抽出物を合して
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮する。残渣を
LP−1シリカゲル上、ヘキサン/酢酸エチル
(4:1)で溶離するカラムクロマトグラフイ
ーにより精製して標記A項の化合物0.33gを得
る。シリカゲル上、ヘキサン/酢酸エチル
(1:1)によるA項の化合物のTLCのRf値
0.5。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
の製造:− 上記A項で得られたアルコールエステル体
0.33g(0.9ミリモル)をテトラヒドロフラン/
水65ml/15ml)に溶解し、0℃に冷やして水酸
化リチウム(9ミリモル)の水9ml溶液を滴加
処理する。混合物を0℃で1時間、次いで室温
で7時間撹拌し、冷室で週末まで放置する。混
合物を10%シユウ酸でPH3に調節して水500ml
に注ぎ、エーテルで(200ml×3回)抽出する。
エーテル抽出物を合して食塩水で洗い、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮する。残渣
をLP−1シリカゲル上、2%メタノール/ジ
クロロメタンで溶離するフラツシユクロマトグ
ラフイーにより精製して標記化合物0.200gを得
た。 これを更にCC−7シリカゲル上、蒸留した
ペンタン300ml、ペンタン/エーテル(蒸留)
(1:1)200ml相当量およびエーテル(蒸留)
300mlで溶離することにより精製し、ミリポア
フイルターに通して過する。 シリカゲル上、酢酸エチルによるTLCのRf
値0.33相当(PMA噴霧および加熱)。 実施例 15 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテノールの製
造:− 1β,2β(5Z),3α,4β〕−7−〔3−(3−シク
ロ
ヘキシル−3−ヒドロキシル−1−プロペニル)
−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イ
ル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル(実施例1
に記載のように製せられる。)0.400g(1.1ミリモ
ル)と無水テトラヒドロフラン(THF)10mlの
混合物(0℃)に、THF中水素化アルミニウム
リチウム1M溶液0.6mlをゆつくり加える。混合物
を0℃で30分間撹拌し、3%水−THF溶液中で
ゆつくり反応を停止させる。乾燥セライト0.500g
を加え、混合物を1時間撹拌し、エーテル100ml
で希釈し、過して標記化合物0.325gを得た。 実施例 16 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシル−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテンアミドの製
造:− 前記実施例1で製せられた酸生成物0.4565g
(1.3ミリモル)と無水THF10mlの混合物に、p
−ニトロフエノール0.1913g(1.4ミリモル)、4,
4−ジメチルアミノピリジン約0.010gおよびN,
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド0.2833g
(1.4ミリモル)を加える。混合物をアルゴン雰囲
気下に25℃で2時間撹拌し、この溶液に無水アン
モニアを1時間通してゆつくり発泡させる。溶媒
を蒸発させ、粗油状物をシリカゲル上、ジクロロ
メタン中5%メタノール溶離剤によるカラムクロ
マトグラフイー精製、標記化合物0.3332gを得た。 実施例 17 〔1β,2β(5Z),3α(1E,2S*),4β〕−N−プロ
ピル−7−〔3−(3−ヒドロキシ−3−シクロ
ヘキシル−1−プロペニル)−7−オキサビシ
クロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ンアミドの製造:− 上記実施例16の記載に従つてp−ニトロフエノ
ールエステル体を製し、プロピルアミン0.590g
(10ミリモル)を加え、混合物を3時間撹拌する。
減圧下に溶媒を除き、得られた粗油状物をシリカ
ゲル上、ヘキサン/酢酸エチル(1:2)溶液
(溶離剤)によるカラムクロマトグラフイーで精
製し、標記化合物0.2195gを得た。 実施例 18 〔1β,2β(5Z),3α(1E,2S*),4β〕−N−フエ
ニル−7−〔3−(3−ヒドロキシ−3−シクロ
ヘキシル−1−プロペニル)−7−オキサビシ
クロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ンアミドの製造:− プロピルアミンの代わりにアニリンを用い、実
施例17記載のように処理して標記化合物を得た。 実施例 19 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロヘプチル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:
− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−オキソ−3−シクロヘプチル−3−
ヒドロキシ−1−プロペニル)−7−オキサビ
シクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプ
テン酸の製造:− アルゴン雰囲気下、鉱油中50%水素化ナトリ
ウム0.1994g(4.15ミリモル、1.1当量)と無水ジ
メトキシエタン(DME)100mlのスラリーに、
2−オキソ−2−シクロヘプチルプロピルジメ
チルホスホネート1.108g(1.49ミリモル、1.2当
量)とDME20mlの混合物を、0℃で添加する。
混合物をアルゴン雰囲気下、25℃で1時間撹拌
する。この溶液(25℃)に、実施例1記載のよ
うに製せられた〔1β,2β(5Z),3α,4β〕−7−
〔3−ホルミル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステル1.013g(3.77ミリモル)とDME20mlの
混合物を加える。30分後、氷酢酸1mlを加えて
反応を停止させて濃縮し、エーテル500mlに溶
解する。エーテル溶液を5%炭酸水素カリウム
(100ml×3回)および食塩水(100ml)で洗い、
無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮する。残渣
をLP−1シリカゲルカラム上、エーテル/ヘ
キサン(3:7)で溶離するフラツシユクロマ
トグラフイーにより精製して標記A項の化合物
0.898g(収率61.7%)を得る。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,2S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘプチル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル、および C 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘプチル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステルの製造:− アルゴン雰囲気下、下記A項の化合物0.898
g(2.32ミリモル)の乾燥メタノール20ml溶液
に、25℃で塩化セリウム(35%水含有)0.889
g(2.32ミリモル、1当量)を加える。混合物
を25℃で10分間撹拌し、0℃に冷やして水素化
ホウ素ナトリウム0.0897g(2.32ミリモル、4
当量)をゆつくり加える。0℃で10分間撹拌
後、反応混合物を飽和塩化アンモニウム150ml
に注ぐ。混合物をエーテルで(100ml×3回)
抽出する。エーテル抽出物を水(100ml×3回)
および食塩水(100ml)で洗う。有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮する。 残渣をWaters HPLC上、酢酸エチル/ヘキ
サン(1:3)で溶離して精製し、標記B項の
化合物0.270gと標記C項の化合物0.243g(収
率56.9%)を得る。 シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(1:
1)によるTLCのRf値:B項の化合物0.61相
当、C項の化合物0.51相当。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−シクロヘプチル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
の製造:− 前記B項のアルコールエステル体0.163g
(0.42ミリモル)を80%テトラヒドロフラン−
水の溶液15mlに溶解し、0℃に冷やして1N水
酸化リチウム4.3mlを適加する。混合物を0℃
で撹拌し、15時間に渡つて撹拌しながら25℃ま
でゆつくり加温する。高度減圧下にTHFを蒸
発させ、残渣を水10mlで希釈し、10%シユウ酸
水溶液でPH3に調節し、エーテル(30ml×3
回)抽出する。この有機層を水(30ml×3回)
および食塩水(30ml)で洗い、生成物を無水硫
酸マグネシウムで乾燥、濃縮して油状物を得
る。 油状物をCC−シリカゲル上、蒸留したペン
タン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカーボネー
ト膜に通して精製する。高度減圧下に4日間溶
媒を蒸発させて標記化合物0.153g(97.3%)
を得た。シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン
(3:1)によるTLCのRf値0.44相当。 元素分析(水0.18モル含有) 計算値:C,72.74%;H,9.64%、 実測値:C,72.74%;H,9.62%。 実施例 20 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロヘプチル)3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造: 前記実施例19のC項記載のように製せられたア
ルコールエステル体0.153g(0.39ミリモル)を
80%テトラヒドロフラン−水の溶液15mlに溶解
し、0℃に冷やして1N水酸化リチウム3.9mlに適
加する。混合物を0℃で撹拌し、次いで18時間に
渡つて撹拌しながら25℃までゆつくり加温する。
高度減圧下にTHFを蒸発させ、残留物を水10ml
で希釈し、10%シユウ酸水溶液でPH3に調節し、
エーテルで(100ml×3回)抽出する。有機層を
水(30ml×3回)および食塩水(30ml)で洗い、
生成物を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して
油状物を得る。 この油状物をCC−7シリカゲル上、蒸留した
ペンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカーボネ
ート膜に通して過することにより精製する。高
度減圧下に4日間溶媒を蒸発させて標記化合物
0.145g(98.3%)を得た。 シリカゲル上、酢酸エチル(3:1)による
TLCのRf値0.34相当。 元素分析(水0.17モル含有) 計算値:C,72.78%;H,9.64%、 実測値:C,72.78%;H,9.76%。 実施例 21 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(4−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−オキソ−4−シクロヘキシル−1−
ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 新しく蒸留したジイソプロピルアミン0.4027
g(3.98ミリモル、1.05当量)と乾燥トルエン
30mlの混合物(−78℃)に、ヘキサン中n−ブ
チルリチウム(1.6M)溶液2.49ml(3.98ミリモ
ル、1.05当量)を加える。混合物を5分間撹拌
し、混合物(−78℃)に2−オキソ−2−シク
ロヘキシルプロピルジメチルホスホネート
1.034g(4.17ミリモル、1.1当量)を添加する。
混合物を撹拌しながら25℃まで加温し、この混
合物(25℃)に、〔1β,2β(5Z),3α,4β〕−7
−〔3−ホルミル−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(実施例1に記載されたように
製せられる。)1.0g(3.79ミリモル)を加え
る。4.5時間後、氷酢酸0.5mlを加えて反応を停
止させ、エーテル300mlで希釈する。このエー
テル溶液を5%炭酸水素ナトリウム溶液(100
ml×3回)および食塩水(100ml)で洗う。有
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して
粗油状物1.38gを得る。この油状物を精製する
ことなく次反応工程に使用する。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(4−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステル、および C 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(4−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステルの製造:− アルゴン雰囲気下、前記A項の粗生成物1.05
gの乾燥メタノール25ml溶液に、35%水含有塩
化セリウム1.04g(2.71ミリモル、1当量)を
25℃で添加する。混合物を25℃で10分間撹拌
し、0℃に冷やして水素化ホウ素ナトリウム
0.105g(2.71ミリモル、4当量)をゆつくり
加える。0℃で10分間撹拌後、反応混合物を飽
和塩化アンモニウム150mlに注ぐ。混合物をエ
ーテルで(100ml×3回)抽出する。エーテル
抽出物を水(100ml×3回)および食塩水(100
ml)で洗い、有機層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥、濃縮する。 LP−1シリカゲル上、ヘキサン中30%酢酸
エチルで溶離して分離、精製して標記B項の化
合物0.233gと標記C項の化合物0.111gを得
る。 シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(1:
1)によるTLCのRf値:B項の化合物0.51相
当、C項の化合物0.36相当。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(4−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造
−: 前記B項の生成物0.233g(0.6ミリモル)を
80%テトラヒドロフラン−水の溶液25mlに溶解
し、0℃に冷やして1N水酸化リチウム溶液6.0
mlを滴加する。混合物を0℃で撹拌し、次いで
15時間に渡つてゆつくり25℃まで加温する。高
度減圧下にTHFを蒸発させ、残留物を水10ml
で希釈して10%シユウ酸水溶液でPH3に調節
し、エーテルで(50ml×3回)抽出する。有機
層を水(50ml×3回)および食塩水(50ml)で
洗う。生成物を無水硫酸マグネシウムで乾燥、
濃縮して油状物を得る。 この油状物をCC−7カラム上、蒸留したペ
ンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカーボネ
ート膜に通して過することにより精製する。
高度減圧下、溶媒を7日間蒸発させ、〔1β,2β
(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3−(4−シ
クロヘキシル−3−ヒドロキシ−1−ブテニ
ル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−5−ヘプテン酸0.2067g(91.5%)
を得た。 元素分析(水0.2モル含有) 計算値:C,72.68%;H,9.65%、 実測値:C,72.68%;H,9.72%。 シリカゲル上、酢酸エチルによるTLCのRf
値0.41相当。 実施例 22 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−(4−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 前記実施例21のC項で製せられたアルコールエ
ステル体0.111g(0.28ミリモル)を80%テトラ
ヒドロフラン−水の溶液15mlに溶解し、0℃に冷
やして1N水酸化リチウム2.8mlを滴加する。混合
物を0℃で撹拌し、次いで15時間に渡つてゆつく
り25℃に加温する。高度減圧下にTHFを蒸発さ
せ、残留物を水10mlで希釈して10%シユウ酸水溶
液でPH3に調節し、エーテルで(30ml×3回)抽
出する。有機層を水(30ml×3回)および食塩水
(30ml)で洗う。生成物を無水硫酸マグネシウム
で乾燥、濃縮して油状物を得る。 この油状物をCC−7シリカゲルカラム上、蒸
留したペンテン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカ
ーボネート膜に通して精製する。高度減圧下に7
日間溶媒を蒸発させて〔1β,2β(5Z),3α(1E,
3R*),4β〕−7−〔3−(4−シクロヘキシル−3
−ヒドロキシ−1−ブテニル)−7−オキサビシ
クロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン
酸0.1028gを得た。 元素分析 計算値:C,73.36%;H,9.64%、 実測値:C,73.03%;H,9.61%。 シリカゲル上、酢酸エチルによるTLCのRf値
0.32相当。 実施例 23 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−1
−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−オキソ−4−(3−チエニル)−1−
ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 新しく蒸留したジイソプロピルアミン0.4027
g(3.98ミリモル、1.05当量)と乾燥トルエン
30mlの混合物(−78℃)に、ヘキサン中n−ブ
チルリチウム(1.6M)溶液2.47ml(3.98ミリモ
ル、1.05当量)を加える。混合物を5分間撹拌
し、混合物(−78℃)に2−オキソ−3−(3
−チエニル)プロピルジメチルホスホネート
1.034g(4.17ミリモル、1.1当量)を添加する。
混合物を撹拌しながら25℃まで加温し、この混
合物(25℃)に、〔1β,2β(5Z),3β,4β〕−7
−〔3−ホルミル−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(実施例1に記載されたように
製せられる。)1.0g(3.79ミリモル)を加え
る。3時間後、氷酢酸0.5mlを加えて反応を停
止させ、エーテル300mlで希釈する。このエー
テル溶液を5%炭酸水素ナトリウム溶液(100
ml×3回)および食塩水(100ml)で洗う。有
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して
粗油状物1.05gを得る。この油状物を精製する
ことなく次反応工程に使用する。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステル、および C 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−〔3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−
1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステルの製造:− アルゴン雰囲気下、前記A項の粗生成物
1.427gの乾燥メタノール30ml溶液に、35%水
含有塩化セリウム1.416g(3.69ミリモル、1
当量)を25℃で添加する。混合物を25℃で10分
間撹拌し、0℃に冷やして水素化ホウ素ナトリ
ウム0.1427g(3.69ミリモル、4当量)をゆつ
くり加える。0℃で10分間撹拌後、反応混合物
を飽和塩化アンモニウム200mlに注ぐ。混合物
をエーテルで(100ml×3回)抽出する。エー
テル抽出物を水(100ml×3回)および食塩水
(100ml)で洗い、有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥、濃縮する。 Water HPLC上、ヘキサン中35%酢酸エチ
ルで溶離して分離、精製して標記B項の化合物
0.201gを標記C項の化合物0.107gを得る。 シリカゲル上、酢酸エチル/ヘキサン(1:
1)によるTLCのRf値:B項の化合物0.39相
当、C項の化合物0.29相当。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−〔3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−
1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:
− 前記B項のアルコールエステル体0.201g
(0.52ミリモル)を80%テトラヒドロフラン−
水の溶液20mlに溶解し、0℃に冷やして1N水
酸化リチウム溶液5.2mlを滴加する。混合物を
0℃で撹拌し、次いで15時間に渡つてゆつくり
25℃まで加温する。高度減圧下にTHFを蒸発
させ、残留物を水10mlで希釈して10%シユウ酸
水溶液でPH3に調節し、エーテルで(100ml×
3回)抽出する。有機層を水(100ml×3回)
および食塩水(100ml)で洗う。生成物を無水
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して油状物を得
る。 この油状物をCC−7カラム上、蒸留したペ
ンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカーボネ
ート膜に通して過することにより精製する。
高度減圧下、溶媒を7日間蒸発させ、〔1β,2β
(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3−〔3−ヒ
ドロキシ−4−(3−チエニル)−1−ブテニ
ル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−5−ヘプテン酸0.150g(76.6%)を
得た。 元素分析 計算値:C,66.99%;H,7.49%、 実測値:C,66.76%;H,7.67%。 シリカゲル上、酢酸エチルによるTLCのRf
値0.53相当。 実施例 24 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−1
−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 前記実施例23のC項で製せられたアルコールエ
ステル体0.170g(0.44ミリモル)を80%テトラ
ヒドロフラン−水の溶液20mlに溶解し、0℃に冷
やして1N水酸化リチウム溶液4.4mlに滴加する。
混合物を0℃で撹拌し、次いで15時間に渡つてゆ
つくり25℃まで加温する。高度減圧下にTHFを
蒸発させ、残留物を水10mlで希釈して10%シユウ
酸水溶液でPH3に調節し、エーテルで(50ml×3
回)抽出する。有機層を水(30ml×3回)および
食塩水(30ml)で洗う。生成物を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥、濃縮して油状物を得る。 この油状物をCC−7シリカゲルカラム上、蒸
留したペンタン/エーテルで傾斜溶離し、ポリカ
ーボネート膜に通して過することにより精製す
る。高度減圧下、溶媒を7日間蒸発させ、〔1β,
2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3−〔3−
ヒ
ドロキシ−4−(3−チエニル)−1−ブテニル〕
−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イ
ル〕−5−ヘプテン酸0.106g(63.9%)を得た。 元素分析 計算値:C,66.99%;H,7.49%、 実測値:C,66.80%;H,7.65%。 シリカゲル上、酢酸エチルによるTLCのRf値
0.45相当。 実施例 25 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−1
−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエス
テルの製造:− A 〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホルミ
ル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステルの製
造:− N−メチルニトロニトロソグアニジンを用い
る方法により、ジアゾメタンのエーテル溶液を
製する(エーテル50ml中、このグアニジン化合
物3gに40%水酸化カリウム9mlを0℃に滴加
する)。この溶液(水酸化カリウムペレツトで
乾燥)を、〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3−
(ヒドロキシメチル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(米国特許第4143054号記載の
ように製せられる。)2.54g(10ミリモル)の
エーテル150ml溶液に、撹拌しながら10分間に
渡つて滴加する。0℃で30分間撹拌を続け、こ
の終時点で酢酸1.5mlを加えて過剰量のジアゾ
メタンを分解する。この溶液を炭酸水素ナトリ
ウム溶液および食塩水で洗い、硫酸ナトリウム
で乾燥し、減圧下に濃縮してエステル体2.60g
を得る。 無水塩化メチレン中、三酸化クロム・ピリジ
ニウム塩の溶液を製し(三酸化クロム5.9g
(59ミリモル)、ピリジン9.5ml(118ミリモル)
および塩化メチレン200mlから製する)、室温で
25分間撹拌する。これに乾燥セライト(100℃
で一夜乾燥)8g、次いで上記エステル体2.61
g(9.8ミリモル)の塩化メチレン5ml溶液を
加える。この混合物を窒素雰囲気下、15分間撹
拌して後の処理を行なう。セライト−三酸化ク
ロム混合物を去して液を飽和炭酸水素ナト
リウム溶液(100ml×2回)、水(200ml)およ
び食塩水(100ml)で順次洗浄する。硫酸ナト
リウムで乾燥後、混合物を減圧下に濃縮して標
記アルデヒド体2.34gを得る。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−
(3−オキソ−4−(3−チエニル)−1−ブテ
ニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステルの
製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.185
g(3.85ミリモル、50%鉱油分散液)を乾燥
DME70mlに懸濁する。室温で強く撹拌しなが
らこれに、乾燥DME10ml中2−オキソ−3−
(3−チエニル)プロピルジメチルホスホネー
ト1.303g(5.25ミリモル)を滴加する(黄色
懸濁液が得られる。)。90分間撹拌後、乾燥
DME5ml中前記A項のアルデヒド体0.932g
(3.5ミリモル)を加え、3時間撹拌を続ける。
酢酸を加えて反応を停止させ、エーテル250ml
相当に注ぎ、これを飽和炭酸水素ナトリウムお
よび食塩で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。減圧下に過して溶媒を蒸発させ、生成し
た黄緑色油状物1.85gをシリカゲル上、クロマ
トグラフイーに付し、石油エーテル/エーテル
(4:1)、(3:1)および(2:1)で溶離
するクロマトグラフイーにより精製する。所望
のトランスエノン体として〔1β,2α(5Z),3α
(1E),4β〕−7−〔3−(3−オキソ−4−(3
−チエニル)−1−ブテニル〕−7−オキサビシ
クロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ン酸メチルエステル0.469g(36%)を得る。 C 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−〔3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−
1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステル、および D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステルの製造:− 上記B項のエノン化合物0.475g(1.22ミリ
モル)をメタノール12mlとTHF1.2mlに溶解
し、0℃に冷やして塩化第一セリウム・7.6水
和物0.469g(1.22ミリモル)を加え、次いで
水素化ホウ素ナトリウム0.0453g(1.22ミリモ
ル)を少量づつ添加する。氷浴を除き、8分間
撹拌を続ける。反応混合物を飽和塩化アンモニ
ウム90mlに注ぎ、生成物を酢酸エチルで(50ml
×5回)抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥する。
これを過し、溶媒を蒸発させ、得られた粘稠
な油状物0.550gをシリカゲルカラム上、クロ
マトグラフイーに付し、石油エーテル/エーテ
ル(7:3)〜(1:1)で溶離して精製し、
標記C項の異性体0.317g(66%)と標記D項
の異性体0.115g(24%)を得た。 シリカゲル上、エーテル/石油エーテル
(3:2)、バニリンによるTLCのRf値0.22。 元素分析(標記C項の化合物:C22H30O4Sと
して)、 計算値:C,67.66%;H,7.74%; S,8.21%、 実測値:C,67.28%;H,7.76%; S,8.01%。 実施例 26 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−(3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−1
−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− アルゴン雰囲気下、〔1β,2α(5Z),3α(1E,
3R*),4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−
(3−チエニル)−1−ブテニル〕−7−オキサビ
シクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ン酸メチルエステル(実施例25・D項のエステル
体)0.0937g(0.24ミリモル)を、THF13mlと水
2.4mlに溶解する。混合物を0℃に冷却し、この
時点で1N水酸化リチウム2.4mlを加える。混合物
を室温に暖め、更に6.5時間撹拌を続ける。混合
物を飽和シユウ酸でPH3に調節し、水80mlに注
ぐ。生成物をエーテルで(40〜60ml×3回)抽出
する。エーテル層を合して水(40ml×3回)およ
び食塩水(25ml)で洗い、硫酸マグネシウムで乾
燥する。過して減圧下に溶媒を蒸発させ、無色
油状生成物0.0885g(98%)を得た。シリカゲル
上、エーテルおよびバニリンによるTLCのRf値
0.25。 元素分析、C21H28O4Sとして、 計算値:C,66.99%;H,7.50%; S,8.52%、 実測値:C,66.64%;H,7.31%; S,8.52%。 実施例 27 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−1
−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− アルゴン雰囲気下、〔1β,2α(5Z),3α(1E,
3S*),4β〕−7−〔3−〔3−ヒドロキシ−4−
(3−チエニル)−1−ブテニル〕−7−オキサビ
シクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ン酸メチルエステル(実施例25・C項のエステル
体)0.237g(0.608ミリモル)をTHF32mlと水6
mlに溶解し、0℃に冷やす。1N水酸化リチウム
6mlを加え、混合物を室温に暖める。6.5時間撹
拌後、混合物を飽和シユウ酸でPH3に調節する。
これを水200mlに注ぎ、生成物をエーテルで(100
〜150ml×3回)抽出する。エーテル層を合して
水(100ml×3回)および食塩水(50ml)で洗い、
硫酸マグネシウムで乾燥する。これを過して減
圧下に溶媒を蒸発させ、無色油状生成物0.2126g
(92%)を得た。シリカゲル上、エーテル、バニ
リンによるTLCのRf値0.32。 元素分析、C21H28O4S・0.2H2Oとして、 計算値:C,66.36%;H,7.53%; S,8.43%、 実測値:C,66.51%;H,7.77%; S,8.07%。 実施例 28 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−フエノキシ−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− A 〔1β,2α(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−
〔3−オキソ−4−フエノキシ−1−ブテニル)
−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−
イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.264
g(5.5ミリモル(鉱油中50%))を乾燥ジメト
キシエタン50mlに懸濁する。2−オキソ−3−
フエノキシプロピルジメチルホスホネート1.9
g(7.5ミリモル)のDME10ml溶液を加える。
混合物はほとんど透明となり、溶液から沈澱が
生成し始まる。45分後、蒸留した(dist)
HMPA(ヘキサメチルリン酸トリアミド)を加
え、混合物を室温で更に45分間撹拌する。これ
にアルデヒド体:〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7
−〔3−ホルミル−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル1.33g(5ミリモル)のDME4
ml溶液を加え、混合物を室温で一夜撹拌する。
氷酢酸0.6mlを加えて反応を停止させ、減圧下
に溶媒を除く。残留物をエーテルに溶解し、
1N塩酸で3回、飽和炭酸水素ナトリウムで2
回洗う。このエーテル溶液を硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下に溶媒を除き、油状物2.25g
を得る。これを110gシリカゲル60上、クロマ
トグラフイーに付し、エーテル−石油エーテル
(2:3)で溶離し、標記A項に示す所望の化
合物0.906g(46%)を得た。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエノキシ−1−
ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステ
ル、および C 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエノキシ−1−
ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステ
ルの製造:− アルゴン雰囲気下、A項の化合物0.906g
(2.27ミリモル)と塩化セリウム・水和物0.872
g(2.27ミリモル、35.7%)を、メタノール22
mlとTHF2mlに溶解する。この溶液を氷浴上で
冷やし、水素化ホウ素ナトリウム0.086g
(2.27ミリモル)を少量づつ30秒で添加する。
氷浴を除き、混合物を8分間撹拌し、次いで飽
和塩化アンモニウム溶液200mlに注ぐ。生成物
を酢酸エチルで(50ml×5回)抽出し、乾燥し
て減圧下に溶媒を除いて残留する粘稠な油状物
0.9gを得る。これを50gシリカゲル60上、ク
ロマトグラフイーに付し、エーテル−石油エー
テル(3:2)で溶離して標記B項の異性体
0.445g(49%)と標記C項の異性体0.268g
(29%)を得る。シリカゲル上、エーテル−石
油エーテル(2:1)、バニリンを用いるTLC
のRf値0.32および0.21。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエノキシ−1−
ブテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 窒素雰囲気下、前記B項のメチルエステル体
0.438g(1.1ミリモル)をTHF55mlと水10.5ml
に溶解する。この溶液を氷浴上で冷やし、1N
水酸化リチウム11.0mlを加える。氷浴を除き、
混合物を室温で6時間撹拌する。飽和シユウ酸
溶液を加えてPH3に調節して混合物を水400ml
に注ぐ。生成物をエーテルで(200ml×3回)
抽出し、エーテル抽出物を合して水で3回、飽
和塩化ナトリウム溶液で1回洗い、乾燥して減
圧下に溶媒を除き、粘性を有する油状物として
標記D項の化合物0.407g(95%)を得た。シ
リカゲル上、エーテルとバニリンによるTLC
のRf値0.29。 元素分析、C23H30O5・0.2H2Oとして、 計算値:C,70.81%;H,7.86%、 実測値:C,70.86%;H,7.85%。 実施例 29 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−(3−ヒドロキシ−4−フエノキシ−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− アルゴン雰囲気下、〔1β,2α(5Z),3α(1E,
3R*),4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−フ
エノキシ−1−ブテニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メ
チルエステル(実施例28・C項のメチルエステル
体)0.121g(0.3ミリモル)を、THF15mlと水
2.9mlに溶解する。この溶液を氷浴上で冷やし、
1N水酸化リチウム3.0mlを加える。氷浴を除いて
混合物を室温で6.5時間撹拌する。シユウ酸の飽
和溶液でPH3に調節し、混合物を水125mlに注ぐ。
生成物をエーテルで(50ml×3回)抽出し、エー
テル抽出物を合して水で3回、飽和塩化ナトリウ
ム溶液で1回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して
減圧下に溶媒を除き、粘稠な油状物として標記化
合物0.109g(93%)を得る。シリカゲル上、エ
ーテルとバニリンによるTLCのRf値0.15。 元素分析、C23H30O5・0.2H2Oとして、 計算値:C,70.81%;H,7.86%、 実測値:C,70.66%;H,7.65%。 実施例 30 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブテ
ニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− A 〔1β,2α(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−
(3−オキソ−4−フエニル−1−ブテニル)−
7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イ
ル〕−5−ヘプテン酸の製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.238
g(4.95ミリモル(鉱油中50%))を乾燥ジメ
トキシエタン90mlに懸濁する。2−オキソ−3
−フエニルプロピルジメチルホスホネート1.63
g(6.75ミリモル)のDME10ml溶液を加え、
混合物を室温で90分間撹拌する。これに〔1β,
2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホルミル−7−
オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−
5−ヘプテン酸メチルエステル(実施例25に記
載のように製せられる。)1.2g(4.5ミリモル)
のDME5ml溶液を加え、混合物を室温で4.5時
間撹拌する。氷酢酸0.5mlを加えて反応を停止
させ、減圧下に溶媒を除く。残留物をエーテル
と飽和炭酸水素ナトリウム溶液の間に分配す
る。エーテル層を更に飽和炭酸水素ナトリウム
で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に
乾涸し、油状物2.25gを得る。これを120gシ
リカゲル60上、クロマトグラフイーに付してエ
ーテル−石油エーテル(2:3)で溶離し、標
記A項の化合物(単一斑点の物質)0.980g
(60%)を得る。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル、
および C 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル
の製造:− アルゴン雰囲気下、前記A項の化合物0.980
g(2.6ミリモル)と塩化セリウム()水和
物(水35.7%)0.982g(2.5ミリモル)を、メ
タノール25mlとTHF2mlに溶解する。溶液を氷
浴で冷やし、水素化ホウ素ナトリウム0.097g
(2.6ミリモル)を少量づつ30秒で添加する。氷
浴を除き、混合物を8分間撹拌し、飽和塩化ア
ンモニウム溶液200mlに注ぐ。生成物を酢酸エ
チルで(50ml×5回)抽出し、乾燥して減圧下
に溶媒を除いて粘稠な油状物0.930gを得る。
これを65gシリカゲル60上、クロマトグラフイ
ーに付してエーテル−石油エーテル(3:2)
で溶離し、標記B項のメチルエステル体0.446
g(45%)および標記C項の異性体0.156g
(16%)を得る。シリカゲル上、エーテル−石
油エーテル(3:2)、バニリンによるTLCの
Rf値0.44および0.30。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− アルゴン雰囲気下、上記B項のメチルエステ
ル体0.440g(1.14ミリモル)をTHF58mlと水
11mlに溶解する。溶液を氷浴で冷やし、撹拌し
ながら1N水酸化リチウム11.4mlを加える。氷
浴を除き、混合物を室温で6時間撹拌する。飽
和シユウ酸溶液を加えてPH3に調節し、この混
合物を水400mlに注ぐ。生成物をエーテルで
(200ml×3回)で抽出し、エーテル抽出物を合
して水で3回、飽和塩化ナトリウム溶液で1回
で洗い、乾燥して減圧下に溶媒を除き、油状物
として標記化合物0.425g(98%)を得た。シ
リカゲル上、エーテル、バニリンによるTLC
のRf値0.18。 元素分析、C23H30O4・0.3H2Oとして、 計算値:C,73.49%;H,8.21%、 実測値:C,73.66%;H,8.52%。 実施例 31 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−7−〔3
−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブテ
ニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− アルゴン雰囲気下、〔1β,2α(5Z),3α(1E,
3R*),4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−フ
エニル−1−ブテニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メ
チルエステル(実施例30・C項のメチルエステル
体)0.150g(0.39ミリモル)をTHF20mlと水3.8
mlに溶解する。溶液を氷浴で冷やし、1N水酸化
リチウム3.9mlを加える。氷浴を除き、混合物を
室温で6時間撹拌する。飽和シユウ酸溶液でPH3
に調節し、混合物を水150mlに注ぐ。生成物をエ
ーテルで(50ml×3回)抽出し、エーテル抽出物
を合して水で3回、飽和塩化ナトリウムで1回洗
い、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を除き、標
記B項の化合物0.142g(97%)を得た。シリカ
ゲル上、エーテルおよびバニリンによるTLCの
Rf値0.12。 元素分析、C23H30O4・0.2MH2Oとして、 計算値:C,73.84%;H,8.19%、 実測値:C,74.00%;H,8.39%。 実施例 32 〔1β,2β(5Z),3α(3S*),4β〕−7−〔3−(
3
−ヒドロキシ−1−オクチニル)−7−オキサ
ビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘ
プテン酸の製造:− A 〔1β,2β(5Z),3α(1EZ),4β〕−7−〔3
−
(2−ブロモ−3−オキソ−1−オクテニル)−
7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イ
ル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 鉱油中50%水素化ナトリウム0.144g(3ミ
リモル)と無水ジメトキシエタン(DME)40
mlのスラリーに、1−ブロモ−2−オキソヘプ
チルジメチルホスホネート0.9632g(3.2ミリ
モル)のDME5ml溶液を加える。混合物を25℃
で90分間撹拌し、〔1β,2β(5Z),3α,4β〕−7
−〔3−ホルミル−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(実施例1記載のように製せら
れる。)0.700g(2.6ミリモル)のDME5ml溶液
を加え、混合物を25℃で3時間撹拌する。氷酢
酸0.2mlを加えて反応を停止させ、減圧下に溶
媒を除く。残留物をエーテルで希釈し、飽和炭
酸水素ナトリウム溶液で洗う。エーテル層を硫
酸マグネシウムで乾燥して過し、減圧下に乾
涸して油状物1.2gを得る。これをシリカゲル
上、クロマトグラフイーに付して酢酸エチル、
ヘキサンで溶離し、EおよびZ異性体の混合物
として標記A項の化合物0.9940gを得る。 B 〔1β,2β(5Z),3α(3S*R*,1EZ),4β〕−7
−〔3−(2−ブロモ−3−ヒドロキシ−1−オ
クテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステ
ルの製造:− メタノール20ml中A項のケトン化合物0.994
g(2.1ミリモル)と塩化セリウム・七水和物
0.9795g(2.5ミリモル)の混合物(0℃)に、
水素化ホウ素ナトリウム0.094g(2.5ミリモ
ル)を加える。混合物を10分間撹拌し、飽和塩
化アンモニウム溶液200mlに注ぎ、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、油状物として標記B項の
化合物1.0gを得る。 C 〔1β,2β(5Z),3α(3S*),4β〕−7−〔3
−
(3−ヒドロキシ−1−オクチニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−
ヘプテン酸メチルエステル、および D 〔1β,2β(5Z),3α(3R*),4β〕−7−〔3
−
(3−ヒドロキシ−1−オクチニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−
ヘプテン酸メチルエステルの製造:− 上記B項の化合物1.0g(2.1ミリモル)と無
水テトラヒドロフラン10mlの混合物に、カリウ
ムt−ブトキシ0.480g(4.3ミリモル)を加え
る。混合物を15分間撹拌し、0.1N塩酸で酸性
とし、酢酸エチルで抽出し、飽和炭酸水素ナト
リウムで洗つて無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、油状物0.862gを得る。この物質をシリカ
上、クロマトグラフイーに付し、エーテル−ヘ
キサン(1:1)で溶離して精製し、標記C項
の異性体0.310gと標記D項の異性体0.253gを
得る。エーテル−石油エーテル(1:1)によ
るそれぞれのRf値0.45および0.40。 E 〔1β,2β(5Z),3α(3S*),4β〕−7−〔3
−
(3−ヒドロキシ−1−オクチニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−
ヘプテン酸の製造:− 前記C項のエステル体0.310g(0.79ミリモ
ル)をTHF40mlと水10mlに溶解し、0℃に冷
やして1N水酸化リチウム溶液6.9mlを加える。
混合物を25℃で6時間撹拌し、10%シユウ酸で
PH3に調節して水300mlで希釈し、エーテルで
(200ml×3回)抽出する。エーテル層を水およ
び食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥
して標記化合物0.00282gを得た。 実施例 33 〔1β,2β(5Z),3α(3R*),4β〕−7−〔3−(
3
−ヒドロキシ−1−オクチニル)−7−オキサ
ビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘ
プテン酸の製造:− 前記実施例32・D項のエステル体0.253g
(0.64ミリモル)をTHF40mlと水10mlに溶解し、
0℃に冷やして1N水酸化リチウム7mlを加える。
混合物を6時間撹拌してシユウ酸でPH3に調節
し、水200mlで希釈してエーテルで(200ml×3
回)抽出する。エーテル層を水および食塩水で洗
い、硫酸マグネシウムで乾燥して標記化合物
0.00226gを得た。 実施例34および35 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−6−〔3
−(3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシル−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−1−(1H−テトラゾル−
5−イル)−4−ヘキセン、および 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−6−
〔3−(3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシル−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−1−(1H−テトラ
ゾル−5−イル)−4−ヘキセンの製造:− A 〔1β,2β(5Z),3β,4β〕−6−〔3−ヒドロ
キシメチル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−1−(1H−テトラゾル−5
−イル)−4−ヘキセンの製造:− トリフエニル−4−(1H−テトラゾル−5−
イル)−ブチルホスホニウムブロミド5.5g
(11.8ミリモル)とテトラヒドロフラン
(THF)100mlの混合物(0℃)に、カリウム
t−ブトキシド1.39g(11.8ミリモル)を加え
る。混合物を25℃で30分間撹拌し、THF30ml
中(エンド)オクタヒドロ−5,8−エポキシ
−1H−ベンゾピラン−3−オール(米国特許
第4143054号記載のように製せられる。)を加え
る。混合物を2時間撹拌し、希塩酸水溶液を加
えて反応を停止させる。水層を酢酸エチル250
mlで抽出し、有機溶液を合して減圧下に蒸発さ
せ、5%炭酸水素ナトリウム溶液500mlで希釈
し、エーテル100mlで洗い、希塩酸でPH3に調
節して酢酸エチルで(500ml×3回)抽出する。
この有機溶液を合して無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、シリカ上、クロマトグラフイーに付し
塩化メチレン中5%メタノールで溶離して精製
し、標記A項の化合物0.756gを得る。 B 〔1β,2β(5Z),3β,4β〕−7−〔3−ホルミ
ル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−1−(1H−テトラゾル−5−イル)−
4−ヘキセンの製造:− アルゴン雰囲気下、上記A項の化合物0.756
g(2.5ミリモル)と無水塩化メチレン15mlの
混合物(25℃)に、塩化クロム酸ピリジニウム
塩0.110g(5.4ミリモル)を加える。混合物を
3時間撹拌し、エーテル100mlで希釈してフロ
ロシルに通して過し、蒸発させて標記B項の
化合物0.672gを得る。 C 〔1β,2β(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホルミ
ル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−1−(1H−テトラゾル−5−イル)−
4−ヘキサンの製造:− 前記B項のアルコール体0.690g(2.3ミリモ
ル)に、ナトリウムメトキシド0.066g(1.25
ミリモル)を加える。混合物を25℃で2時間撹
拌し、飽和塩化アンモニウム50mlで希釈してエ
ーテルで(100ml×4回)抽出する。エーテル
層を食塩水で洗つて硫酸マグネシウムで乾燥
し、標記C項の化合物0.685gを得る。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−
(3−オキソ−3−シクロヘキシル−1−プロ
ペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−1−(1H−テトラゾル−5−イ
ル)−4−ヘキセンの製造:− 水素化ナトリウム0.190g(3.9ミリモル、鉱
油中50%)と無水ジメトキシエタン(DME)
60mlの混合物に、2−オキソ−2−シクロヘキ
シルエチルジメチルホスホネート0.880g(3.9
ミリモル)を加える。混合物を25℃で1.5時間
撹拌し、この溶液(25℃)に、前記C項の化合
物0.68gをDME10mlの混合物を加える。1時
間後、氷酢酸0.5mlを加えて反応を停止させて
濃縮し、エーテル500mlに溶解する。エーテル
溶液を水100mlと食塩水100mlで洗い、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、シリカ上、塩化メチレン中
5%メタノール溶離剤によるクロマトグラフイ
ーに付し、標記D項の化合物0.823gを得る。 E 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−6−
〔3−(3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシル−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−1−(1H−テトラ
ゾル−5−イル)−4−ヘキセン、および F 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β〕−6−
〔3−(3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシル−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−1−(1H−テトラ
ゾル−5−イル)−4−ヘキセンの製造:− アルゴン雰囲気下、前記D項の化合物0.823
g(2.15ミリモル)の乾燥メタノール20ml溶液
に、塩化セリウム・七水和物0.890g(2.32ミ
リモル)を25℃で添加する。混合物を0℃に冷
やし、水素化ホウ素ナトリウム0.0890g(2.32
ミリモル)を加える。これを10分間撹拌し、飽
和塩化アンモニウム150mlで希釈してエーテル
で(100ml×3回)抽出し、水洗して無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。残渣をWaters
HPLC上、塩化メチレン中2%メタノールで溶
離して精製し、標記E項の化合物0.232gと標
記F項の化合物0.211gを得た。 実施例 36 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*,4R*,S*),4β〕
−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−メチル−オ
クト−1−エン−6−イニル)−7−オキサビ
シクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプ
テン酸の製造:− A 〔1β,2β(5Z),3α(1E,4R*S*),4β〕−7
−
〔3−(3−オキソ−4−メチル−オクト−1−
エン−6−イニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステルの製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.3016
g(鉱油中50%)と無水ジメトキシエタン
(DME)150mlのスラリーに、2−オキソ−3
−メチルヘプト−5−インジメチルホスホネー
ト(米国特許第4235930号記載のように製せら
れる。)1.32g(5.7ミリモル)とDME15mlの混
合物を0℃で添加する。混合物を25℃で1.5時
間撹拌し、この溶液(25℃)に、〔1β,2β
(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホルミル−7−オ
キサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5
−ヘプテン酸メチルエステル(実施例1の生成
物)1.05g(3.9ミリモル)とDME15mlの混合
物を加える。1時間後、氷酢酸0.7mlを加えて
反応を停止させ、濃縮してエーテル500mlに溶
解し、5%炭酸水素ナトリウム(100ml×3回)
および食塩水(100ml)で洗う。有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥、濃縮して標記A項の粗生
成物1.66gを得る。 B 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*,4R*S*),4β〕
−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−メチル−オ
クト−1−エン−6−イニル)−7−オキサビ
シクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプ
テン酸メチルエステル、および C 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*,4R*,S*),
4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−メチル
−オクト−1−エン−6−イニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5ヘ
プテン酸メチルエステルの製造:− アルゴン雰囲気下、前記A項の生成物の乾燥
メタノール30ml溶液に、塩化セリウム・七水和
物1.8g(4.6ミリモル)を25℃で添加する。こ
の混合物を0℃に冷やして水素化ホウ素ナトリ
ウム0.180g(4.6ミリモル)を加える。混合物
を0℃で10分間撹拌し、飽和塩化アンモニウム
200mlで希釈してエーテルで(100ml×3回)抽
出する。エーテル層を水および食塩水で洗い、
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。 残留物をWatersHPLC上、酢酸エチル/ヘ
キサン(1:4)で溶離して精製し、標記B項
の化合物0.232gと標記C項の化合物0.216gを
得る。 D 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*,4R*,S*),
4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−メチル
−オクト−1−エン−6−イニル)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−
ヘプテン酸の製造:− 前記B項のアルコールエステル体0.232g
(0.6ミリモル)を80%テトラヒドロフラン−水
の溶液30mlに溶解してこの溶液(0℃)に、
1N水酸化リチウム溶液5.5mlを加える。混合物
を水10mlで希釈してシユウ酸でPH3に調節し、
エーテルで(100ml×3回)抽出し、食塩水で
洗浄する。生成物を無水硫酸マグネシウムで乾
燥して標記化合物0.172gを得た。 実施例 37 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*,4R*S*),4β〕−
7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−メチル−オク
ト−1−エン−6−イニル)−7−オキサビシ
クロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ン酸の製造:− 上記実施例36・B項の化合物の代わりに同C項
の化合物を用い、同D項と同様に処理して標記化
合物を得た。 実施例 38 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*,4R*S*,5Z),
4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−メチル
−オクタジエン)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
の製造:− 前記実施例36の処理における2−オキソ−3−
メチル−ヘプト−5−インジメチルホスホネート
の代わりにcis−2−オキソ−3−メチル−ヘプ
ト−5−エンジメチルホスホネート〔この化合物
は2−オキソ−3−メチル−ヘプト−5−インジ
メチルホスホネートを接触的還元することにより
得られる(Journal of American Chemical
Society第78巻2518頁(1956年)参照)。〕を用い、
同様に処理して標記化合物を得た。 実施例 39 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3R*,4R*S*,5Z),
4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−メチル
−1,5−オクタジエン)−7−オキサビシク
ロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン
酸の製造:− 前記実施例37の処理における2−オキソ−3−
メチル−ヘプト−5−インジメチルホスホネート
の代わりにcis−2−オキソ−3−メチル−ヘプ
ト−5−エンジメチルホスホネートを用い、同様
に処理して標記化合物を得た。 実施例 40 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−N−ヒドロキシ−5−ヘ
プテンアミドの製造:− 前記実施例1・C1項の化合物0.200g(0.53ミ
リモル)と95%エタノール20mlの混合物に、ヒド
ロキシアミン・塩酸塩0.3657g(5.3ミリモル)
と酢酸ナトリウム0.4346g(5.3ミリモル)を加
える。混合物をアルゴン雰囲気下に18時間還流
し、25℃に冷やしてエーテル200mlで希釈し、水
20mlおよび食塩水20mlで洗い、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、これをシリカゲル上、クロマトグ
ラフイーに付し、5%メタノールで溶離して標記
化合物0.1056gを得た。 実施例 41 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−〔3−(3−ピリジル)−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:
− 前記実施例1における2−オキソ−2−シクロ
ヘキシルエチルジメチルホスホネートの代わりに
2−オキソ−2−(3−ピリジル)エチルジメチ
ルホスホネート(前記のように製せられる。)を
用い、同様に処理して標記化合物を得た。 実施例 42 〔1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β〕−7−〔3
−〔4−3−ピリジル)−3−ヒドロキシ−1−
ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸の製造:− 前記実施例1における2−オキソ−2−シクロ
ヘキシルジメチルホスホネートの代わりに2−オ
キソ−3−(3−ピリジル)プロピルジメチルホ
スホネートを用い、同様に処理して標記化合物を
得た。 実施例43および44 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4α),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ペ
ンテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動す
る異性体A)、および 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4β),4β〕−7
−〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−
ペンテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動
する異性体B)の製造:− A 2−フエニルプロピオン酸メチルの製造:− メタノール180mlと濃硫酸2ml中2−フエニ
ルプロピオン酸8.4g(56ミリモル)を4時間
加熱還流する。反応混合物を室温に冷やして減
圧下に30ml相当に濃縮し、これを氷水100ml相
当に注ぐ。生成物をエーテル(150ml×3回)
抽出し、抽出物を飽和炭酸水素ナトリウムおよ
び水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥する。
過して溶媒を蒸発させて得られた黄色油状物
8.9gを蒸留し、無色油状物8.34g(51ミリモ
ル)を得る。収率91%、沸点73℃/1.5mmHg。 B 2−オキソ−3−フエニルブチルジメチルホ
スホネートの製造:− メチルホスホン酸ジメチル12.4g(100ミリ
モル)のTHF90ml溶液(−78℃)を磁気撹拌
しながらこれに1.6Mn−ブチルリチウム62.5ml
(100ミリモル)を滴加する。−78℃で30分間撹
拌を続け、次いで前記A項のエステル体8.2g
(50ミリモル)を滴加して黄色溶液を得る。−78
℃で3時間撹拌後、混合物を室温に加温し、1
時間撹拌する。酢酸を加えてPH5〜6にするこ
とにより反応を停止させる。減圧下に溶媒を除
き、水100mlを加える。生成物を塩化メチレン
で(100ml×3回)抽出し、抽出物を飽和炭酸
水素ナトリウムと水で洗い、硫酸マグネシウム
で乾燥する。これを過して溶媒を蒸発させ、
黄色油状物を得る。これを分別蒸留して所望の
化合物8.1g(31.6ミリモル)を得る。収率63
%、沸点142〜144℃/0.2mmHg。 C 〔1β,2α(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−
(3−オキソ−4−フエニル−1−ペンテニル)
−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−
イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステルの製
造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.201
g(4.18ミリモル、鉱油中50%)を、蒸留した
ジメトキシエタン70mlで懸濁し、前記B項のホ
スホネート体1.45g(4.7ミリモル)のDME10
ml溶液で処理し、混合物を室温で90分間撹拌す
る。次いで〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3
−ホルミル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエス
テル1.031g(3.8ミリモル)のDME5ml溶液を
加え、混合物を室温で一夜撹拌する。氷酢酸
0.5mlを加えて反応を停止させ、減圧下に溶媒
を除く。エーテルと飽和炭酸水素ナトリウムを
加え、各層を分離する。エーテル層を飽和炭酸
水素ナトリウム溶液で1回洗つて硫酸マグネシ
ウムで乾燥、過し、減圧下に乾涸して粘稠な
油状物を得る。これをシリカゲル60(110g)
上、クロマトグラフイーに付し、エーテル−石
油エーテル(2:3)で溶離し、油状物として
標記C項の化合物0.992g(66%)を得る。早
く移動する物質0.098g(6.5%)を単離してこ
れを 1H−NMRによりシス・二重結合異性体
と同定した。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4α),4β〕−
7
−〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−
ペンテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエス
テル(早く移動する異性体A)の製造:− 上記C項の化合物0.99g(2.49ミリモル)と
塩化第一セリウム・7.6水和物0.954g(2.49ミ
リモル)をメタノール25mlとTHF2mlに溶解す
る。この溶液を氷浴で冷やして水素化ホウ素ナ
トリウム0.0941g(2.5ミリモル)を少量づつ
30秒間で加える。氷浴を除き、混合物を10分撹
拌し、次いで飽和塩化アンモニウム溶液200ml
に注ぐ。生成物を酢酸エチルで(50ml×5回)
抽出する。酢酸エチル抽出物を合して硫酸マグ
ネシウムで乾燥、過し、減圧下に溶媒を除い
て粘稠な油状物0.953gを得る。これをシリカ
ゲル60g上クロマトグラフイーに付し、エーテ
ル−石油エーテル(3:2)で溶離し、早く移
動するほとんど清澄な異性体0.616gと遅く移
動する異性体(すなわち〔1β,2α(5Z),3α
(1E,3β),4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−
4−フエニル−1−ペンテニル)−7−オキサ
ビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘ
プテン酸メチルエステル)0.150g(15%)を
得る。シリカゲル上、エーテル−石油エーテル
(3:2)とバニリンによるTLCのRf値0.35お
よび0.25。 上記早く移動する異性体Aを再びクロマトグ
ラフイーに付し、同様の溶離剤で溶離して標記
D項の化合物0.605g(61%)を得る。 E 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4α),4β〕−
7
−〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−
ペンテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動
する異性体A)、および 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4β),4β〕−7
−〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−
ペンテニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動
する異性体B)の製造:− 上記D項のメチルエステル体0.599g(1.5ミ
リモル)をTHF75mlおよび水13.5mlに溶解し、
1N水酸化リチウム溶液15mlで処理する。この
混合物をアルゴン雰囲気下、室温で5時間撹拌
する。飽和シユウ酸溶液を加えてPH3に調節
し、混合物を水450mlに注ぐ。生成物をエーテ
ルで(200ml×3回)抽出する。エーテル抽出
物を合して水(200ml×3回)、飽和塩化ナトリ
ウム溶液(200ml×1回)で洗い、硫酸マグネ
シウムで乾燥、過し、減圧下に乾涸して油状
物0.544g(94%)を得る。これをシリカゲル
60上、クロマトグラフイーに付し、塩化メチレ
ン中3%メタノールで溶離して2種の異性体を
得る。早く移動する異性体Aは〔1β,2α(5Z),
3α(1E,3α,4α),4β〕−7−〔3−(3−ヒド
ロキシ−4−フエニル−1−ペンテニル)−7
−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕
−5−ヘプテン酸、遅く移動する異性体B
(0.205g)は、〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,
4α),4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−
フエニル−1−ペンテニル)−7−オキサビシ
クロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ン酸である。更に0.112gを加えて計算した混
合物分画の合計収率は78%である。シリカゲル
上、塩化メチレン中5%、バニリンによる
TLCのRf値0.40および0.32。 元素分析、C24H32O4として、 計算値:C,74.97%;H,8.39%、 実測値:C,74.84%;H,8.42%。 TLCおよびスペクトルデータは、この物質が
早く移動する物質(異性体A)95%以上の物質で
あることを示している。 実施例 45 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−(3
−
(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ペンテ
ニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸(遅く移動する異
性体)の製造:− 前記実施例43および44に記載したメチルエステ
ル体(遅く移動する異性体)、すなわち〔1β,2α
(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−〔3−(3−ヒ
ド
ロキシ−4−フエニル−1−ペンテニル)−7−
オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5
−ヘプテン酸メチルエステル0.144g(0.36ミリ
モル)を、THF18mlと水3.2mgに溶解する。1N
水酸化リチウム溶液3.6mlを加え、混合物をアル
ゴン雰囲気下に室温で5時間撹拌する。シユウ酸
の飽和溶液を加えてPH3に調節し、この溶液を水
150mlに注ぐ。生成物をエーテルで(75ml×3回)
抽出し、エーテル抽出物を合して水(75ml×3
回)および飽和塩化ナトリウム溶液75mlで洗う。
この溶液を硫酸マグネシウムで乾燥、過して減
圧下に溶媒を除き、標記生成物0.136g(98%)
を得た。シリカゲル上、塩化メチレン中5%メタ
ノール、バニリンによるTLCのRf値0.22。 元素分析、C24H32O4として、 計算値:C,74.94%;H,8.39%、 実測値:C,74.58%;H,8.36%。 実施例 46 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−4−(2−メチルフエニル)
−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− A 2−オキソ−3−(2−メチルフエニル)プ
ロピルジメチルホスホネートの製造:− アルゴン雰囲気下、蒸留したTHF130ml中、
蒸留したメチルホスホン酸ジメチル9.1ml
(10.5g、77ミリモル)の溶液を−78℃に冷却
し、ヘキサン中1.15Nn−ブチルリチウム70ml
(80ミリモル)溶液を30分間で滴加処理する。
滴加終了後、混合物を−78℃で30分間撹拌す
る。o−トリル酢酸メチルエステル6.56g(40
ミリモル)のTHF7ml溶液を15分間で滴加し、
−78℃で3.5時間撹拌後、冷浴を除いて1時間
撹拌を続ける。酢酸を加えてPH6に調節するこ
とにより反応を停止させる。減圧下に溶媒を除
き、残留物に水100mlを加え、生成物を塩化メ
チレンで(100ml×3回)抽出する。抽出物を
合して飽和炭酸水素ナトリウムで1回、水で1
回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に
溶媒を除く。残渣を蒸留して標記化合物3.8g
(37%)を得る。沸点133〜135℃/0.1mmHg。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−オキソ−4−(2−メチルフエニル)−
1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステルの製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.201
g(4.18ミリモル、鉱油中50%)を蒸留したジ
メトキシエタン70mlに懸濁する。前記A項のホ
スホネート体1.46g(5.7ミリモル)のDME7ml
溶液を加え、混合物を室温で90分間撹拌する。
これに〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホ
ルミル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル
1.031g(3.8ミリモル)のDME5ml溶液を加え、
混合物を室温で一夜撹拌する。酢酸0.5mlを加
えて反応を停止させ、減圧下に溶媒を除いて残
留物にエーテルと飽和炭酸水素ナトリウム溶液
を加える。各層を分離し、エーテル層を炭酸水
素ナトリウム溶液で洗つて硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に溶媒を除いて黄色油状物を得
る。これをシリカゲル60(110g)上、クロマト
グラフイーに付し、エーテル/石油エーテルで
溶離して得られた標記B項の化合物を放置して
結晶化させる。シリカゲル上、エーテル/石油
エーテル(1:1)を用いるTLC(紫外線およ
びバニリンで可視化)のRf0.33。早く移動する
物質(Rf0.45)0.410g(27%)を単離し、シ
ス・二重結合を有する異性体として同定した。 C 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(2−メチルフエニ
ル)−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(早く移動する異性体)の製
造:− 上記B項の化合物0.930g(2.33ミリモル)
および塩化第一セリウム・7.6水和物0.896ml
(2.33ミリモル)をメタノール25mlとTHF4ml
に溶解する。0〜5℃に冷やした後、水素化ホ
ウ素ナトリウム0.088g(2.33ミリモル)を少
量づつ30秒で添加する。氷浴を除き、混合物を
10分間撹拌し、飽和塩化アンモニウム溶液175
mlに注ぐ。生成物を酢酸エチルで(50ml×5
回)で抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を除き、油状物を得る。これをシリ
カゲル60(110g)上、クロマトグラフイーに付
し、エーテル−石油エーテル(3:2)で溶離
し標記C項の化合物の早く移動する異性体
0.479g(51%)と遅く移動する異性体0.184g
(20%)を得る。シリカゲル上、エーテル−石
油エーテル(3:2)およびバニリンを用いる
TLCのRf値0.39(早く移動する異性体)および
0.21(遅く移動する異性体)。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(2−メチルフエニ
ル)−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− アルゴン雰囲気下、上記C項のメチルエステ
ル体(早く移動する異性体)0.479g(1.2ミリ
モル)をTHF60mlと水11mlに溶解する。1N水
酸化リチウム溶液12.0mlを加えてこの混合物を
室温で6時間撹拌する。これに飽和シユウ酸溶
液を加えてPH3に調節し、混合物を水450mlに
注ぐ。生成物をエーテルで(200ml×3回)抽
出し、エーテル抽出物を合して水(200ml×3
回)飽和塩化ナトリウム溶液(200ml×1回)
で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に
溶媒を除く。得られた油状物をシリカゲル60
(50g)上、クロマトグラフイーに付し、塩化
メチレン中3%メタノールで溶離して精製し、
標記化合物0.2965g(64%)を得た。シリカゲ
ル上、塩化メチレン中5%メタノールおよびバ
ニリンを用いるTLCのRf値0.24。 元素分析、C24H32O4として 計算値:C,74.97%;H,8.39%、 実測値:C,74.91%;H,8.63%。 実施例 47 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−4−(2−メチルフエニル)
−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(遅く移動する異性体)の製造:− アルゴン雰囲気下、遅く移動する異性体:
〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−〔3
−〔3
−ヒドロキシ−4−(2−メチルフエニル)−1−
ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル
(実施例46に記載の化合物)0.184g(0.46ミリモ
ル)をTHF25mlと水4mlに溶解し、1N水酸化リ
チウム溶液4.6mlで処理する。混合物を室温で6.5
時間撹拌し、シユウ酸の飽和溶液を加えてPH3に
調節する。この溶液を水150mlに注ぎ、生成物を
エーテルで(7ml×3回)抽出する。エーテル抽
出物を合して水(75ml×3回)および飽和塩化ナ
トリウム溶液75mlで洗い、硫酸マグネシウムで乾
燥して減圧下に溶媒を除き、粘性ある油状物とし
て標記化合物0.165g(93%)を得た。シリカゲ
ル上、塩化メチレン中5%メタノールおよびバニ
リンを用いるTLCのRf値0.17。 元素分析、C24H32O4として 計算値:C,74.97%;H,8.39%、 実測値:C,74.91%;H,8.56%。 実施例 48 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−4−(3−メチルフエニル)
−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− A 2−オキソ−3−(3−メチルフエニル)プ
ロピルジメチルホスホネートの製造:− アルゴン雰囲気下、蒸留したTHF130ml中、
蒸留後のメチルホスホン酸ジメチル9.1ml
(10.5g、77ミリモル)の溶液を−78℃に冷却
し、ヘキサン中1.15Nn−ブチルリチウム70ml
(80ミリモル)の溶液を30分間に滴加処理する。
滴加終了後、混合物を−78℃で30分間撹拌す
る。次いでm−トリル酢酸メチルエステル6.56
g(40ミリモル)のTHF7ml溶液を15分間に渡
つて滴加する。−78℃で3.5時間撹拌後、冷浴を
除き、混合物を更に60分間撹拌する。酢酸を加
えてPH6に調節することにより反応を停止させ
る。減圧下に溶媒を除いて残渣に水70mlを加え
る。生成物を塩化メチレンで(100ml×3回)
抽出する。抽出物を合して1回水洗し、硫酸マ
グネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を除く。残
留物を減圧蒸留して沸点133〜135℃/0.1mmHg
の留分として標記A項のホスホネート体5.6g
(55%)を得る。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−オキソ−4−(3−メチルフエニル)−
1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステルの製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.201
g(4.18ミリモル、鉱油中50%)を、蒸留した
ジメトキシエタンに懸濁する。上記A項のホス
ホネート体1.46g(5.7ミリモル)のDME7ml溶
液を加える。混合物はほとんど透明となり、綿
毛様固形物が晶出し始まる。室温で90分間撹拌
後、〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホルミ
ル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2
−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル1.031
g(3.8ミリモル)のDME5ml溶液を加える。
混合物を室温で一夜撹拌した後、氷酢酸0.5ml
を加えて反応を停止させる。減圧下に溶媒を除
いて残留物にエーテルと飽和炭酸水素ナトリウ
ム溶液を加える。各層を分離してエーテル層を
炭酸水素ナトリウム溶液で1回洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を除き、黄
色油状物を得る。これをシリカゲル60(110g)
上、クロマトグラフイーに付し、エーテル−石
油エーテル(1:2)で溶離し、無色油状物と
して標記B項の化合物1.009g(67%)を得る。
シリカゲル上、エーテル−石油エーテル(1:
1)およびバニリンによるTLCのRf値0.34。ま
たこれより早く移動する物質(Rf値0.42)
0.262g(17%)を単離してこの物質をシス・
二重結合の異性体と同定した。 C 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(3−メチルフエニ
ル)−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステルの製造:− 上記B項の化合物1.005g(2.5ミリモル)お
よび塩化第一セリウム・7.6水和物0.968g(2.5
ミリモル)をメタノール25mlとTHF2mlに溶解
する。溶液を氷浴上で冷やし、水素ホウ素ナト
リウム0.0955g(2.5ミリモル)を少量づつ30
秒で加える。氷浴を除いて混合物を8分間撹拌
した後、飽和塩化アンモニウム溶液200mlに注
ぐ。生成物を酢酸エチルで(50ml×5回)抽出
し、乾燥して減圧下に溶媒を除く。残留油状物
をシリカゲル60(110g)上、クロマトグラフイ
ーに付し、エーテル−石油エーテル(1:1)、
次いで(3:2)で溶離して早く移動する異性
体0.634g(63%)と遅く移動する異性体0.210
g(21%)を得る。シリカゲル上、エーテル−
石油エーテル(3:2)およびバニリンによる
TLCのRf値0.35(早く移動する異性体)および
0.15(遅く移動する異性体)。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(3−メチルフエニ
ル)−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− アルゴン雰囲気下、上記C項のメチルエステ
ル体(早く移動する異性体)0.634g(1.59ミ
リモル)を、蒸留したTHF75mlと水14mlに溶
解する。溶液を1N水酸化リチウム溶液15.9ml
で処理し、室温で6時間撹拌する。シユウ酸飽
和溶液を加えてPH3に調節し、溶液を水450ml
に注ぐ。生成物をエーテルで(200ml×3回)
抽出し、エーテル抽出物を合して水(200ml×
3回)および飽和塩化ナトリウム溶液(200ml
×1回)で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して
減圧下に溶媒を除き、無色油状物を得る。これ
をシリカゲル60(50g)上、クロマトグラフイ
ーに付し、塩化メチレン中3%メタノールで溶
離し、無色油状物として標記生成物0.513g
(8.4%)を得た。シリカゲル上、塩化メチレン
中5%メタノールおよびバニリンによるTLC
のRf値0.27。 元素分析、C24H32O4として、 計算値:C,74.97%;H,8.39%、 実測値:C,74.98%;H,8.42%。 実施例 49 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−4−(3−メチルフエニル)
−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(遅く移動する異性体)の製造:− アルゴン雰囲気下、実施例48・C項で製せられ
たメチルエステル体(遅く移動する異性体)すな
わち〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(3−メチルフエニル)
−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエス
テル0.210g(0.53ミリモル)をTHF25mlと水5
mlに溶解する。これに1N水酸化リチウム溶液5.3
mlを加え、混合物を室温で6.5時間撹拌する。飽
和シユウ酸溶液を加えてPH3に調節した後、溶液
を水150mlに注ぐ。生成物をエーテルで(75ml×
3回)抽出する。抽出物を合して水(75ml×3
回)および飽和塩化ナトリウム溶液75mlで洗い、
硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を除
き、無色油状物として標記生成物0.191g(94%)
を得た。シリカゲル上、塩化メチレン中5%メタ
ノールおよびバニリンによるTLCのRf値0.18。 元素分析、C24H32O4として、 計算値:C,74.97%;H,8.39%、 実測値:C,75.09%;H,8.39%。 実施例 50 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−4−メチル−フエニル−1
−ペンテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移
動する異性体)の製造:− A 2−オキソ−3−メチル−3−フエニルブチ
ルジメチルホスホネートの製造:− 水素化ナトリウム0.3744g(7.8ミリモル、
鉱油中50%)を新しく蒸留したTHF5mlで洗
い、THF78mlに懸濁する。これに2−オキソ
−3−フエニルブチルジメチルホスホネート
(実施例43・B項記載のように製せられる。)
2.0g(7.8ミリモル)を0℃で滴加する。混合
物を室温で1時間撹拌し、次いで−78℃に冷却
してヘキサン中n−ブチルリチウム1.7M溶液
4.85ml(7.8ミリモル)で処理する。混合物を
−78℃で15分間、0℃で1時間撹拌する。ヨウ
化メチル1.5ml(24ミリモル)を加えて混合物
を0℃で1時間撹拌後、氷酢酸を加えて反応を
停止させる。反応混合物を注意して飽和炭酸水
素ナトリウム溶液に注ぎ、生成物を酢酸エチル
で(150ml×3回)抽出する。抽出物を合して
飽和炭酸水素ナトリウム溶液および飽和塩化ナ
トリウム溶液で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥し
て減圧下に溶媒を除き、褐色油状物を得る。こ
れをクーゲルロール(kugelroh)により蒸留
し、沸点170℃/0.15mmHgの留分として標記A
項のホスホネート体1.9g(92%)を得る。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−(3−オキソ−4−メチル−4−フエニル−
1−ペンテニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステルの製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.201
g(4.18ミリモル、鉱油中50%)を蒸留したジ
メトキシエタン70mlに懸濁する。前記A項のホ
スホネート体1.54g(5.7ミリモル)のDME7ml
溶液を加え、混合物を室温で90分間撹拌する。
これに〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホ
ルミル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル
1.031g(3.8ミリモル)のDME5ml溶液を加え、
混合物を室温で一夜撹拌する。氷酢酸0.5mlを
加えて反応を停止させ、減圧下に溶媒を除いて
残留物にエーテルと飽和炭酸水素ナトリウム溶
液を加える。各層を分離し、エーテル層を飽和
炭酸水素ナトリウム溶液で1回洗つて硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を除いて黄色
油状物を得る。これをシリカゲル60上、クロマ
トグラフイーに付し、エーテル/石油エーテル
で溶離し、油状物として標記B項の化合物1.0
g(64%)を得る。シリカゲル上、エーテル/
石油エーテル(1:1)を用いるTLC(バニリ
ンで可視化)のRf値0.48。 C〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−〔
3−
(3−ヒドロキシ−4−メチル−4−フエニル
−1−ペンテニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステル(早く移動する異性体)の製
造:− 上記B項のケトン体1.0g(2.43ミリモル)
および塩化第一セリウム・7.6水和物0.932ml
(2.43ミリモル)をメタノール25mlに溶解する。
溶液を氷浴で冷やした後、水素化ホウ素ナトリ
ウム0.092g(2.43ミリモル)を少量づつ30秒
で添加する。氷浴を除き、混合物を8分間撹拌
し、飽和塩化アンモニウム溶液200mlに注ぐ。
生成物を酢酸エチルで(50ml×5回)で抽出
し、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒
を除き、油状物を得る。これをシリカゲル60
(60g)上、クロマトグラフイーに付し、エー
テル−石油エーテル(2:3)で溶離し標記C
項の化合物の早く移動する異性体0.690g(69
%)と遅く移動する異性体0.97g(9.7%)を
得る。シリカゲル上、エーテル−石油エーテル
(3:2)およびバニリンを用いるTLCのRf値
0.46(早く移動する異性体)および0.32(遅く移
動する異性体)。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−(3−ヒドロキシ−4−メチル−4−フエニ
ル)−1−ペンテニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− 上記C項のメチルエステル体(早く移動する異
性体)0.680g(1.67ミリモル)をTHF75mlと水
15mlに溶解する。1N水酸化リチウム溶液16.7ml
を加えてこの混合物を室温で7時間撹拌する。こ
れに飽和シユウ酸溶液を加えてPH3に調節し、溶
液を水450mlに注ぐ。生成物をエーテルで(200ml
×3回)抽出し、エーテル抽出物を合して水
(200ml×3回)、飽和塩化ナトリウム溶液(200ml
×1回)で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を除く。得られた油状物をシリカゲル
60(40g)上、クロマトグラフイーに付し、塩化
メチレン中3%メタノールで溶離し、標記化合物
0.545g(82%)を得た。シリカゲル上、塩化メ
チレン中5%メタノールおよびバニリンによる
TLCのRf値0.32。 元素分析、C24H35O4として、 計算値:C,75.34%;H,8.60%、 実測値:C,75.07%;H,8.37%。 実施例 51 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−4−メチル−4−フエニル
−1−ペンテニル)−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(遅く移動する異性体)の製造:− 前記実施例50・C項で製せられる遅く移動する
メチルエステル体:〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β)
,
4β〕−7−〔3−(3−ヒドロキシ−4−メチル−
4−フエニル−1−ペンテニル)−7−オキサビ
シクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテ
ン酸メチルエステル0.095g(0.23ミリモル)を
THF12mlと水2mlに溶解し、1N水酸化リチウム
溶液2.3mlを加え、混合物を室温で6.5時間撹拌
し、シユウ酸の飽和溶液を加えてPH3に調節し、
この溶液を水100mlに注ぎ、生成物をエーテルで
(50ml×3回)抽出する。エーテル抽出物を合し
て水(50ml×3回)、飽和塩化ナトリウム溶液で
(50ml×1回)洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し
て減圧下に溶媒を除き、油状物として標記化合物
0.091g(99%)を得た。シリカゲル上、塩化メ
チレン中5%メタノールおよびバニリンを用いる
TLCのRf値0.2。 元素分析、C25H34O4として、 計算値:C,75.34%;H,8.60%、 実測値:C,75.64%;H,8.44%。 実施例 52 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−3−(1−メチルシクロヘキ
シル)−1−プロペニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− A 2−オキソ−2−(1−メチルシクロヘキシ
ル)ジメチルホスホネートの製造: 蒸留したメチルホスホン酸ジメチル9.1ml
(10.5g、77ミリモル)のTHF130ml溶液(−
78℃)を撹拌しながらこれに、ヘキサン中n−
ブチルリチウム(1.15M)溶液70ml(80ミリモ
ル)を滴加する。−78℃で30分間撹拌を続けた
後、1−メチル−1−シクロヘキサンカルボン
酸メチルエステル6.24g(40ミリモル)の
THF8ml溶液を15分間に渡つて滴加する。混合
物を−78℃で3.5時間、次いで室温で2時間撹
拌する。酢酸を加えてPH6相当に調節すること
により反応を停止させる。減圧下に溶媒を除い
て残渣に水70mlを加える。生成物を塩化メチレ
ンで(100ml×3回)抽出し、抽出物を合して
水で1回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を除き、油状物を得る。これを蒸留
し、沸点120〜122℃/0.2mmHgの留分として標
記化合物6.0g(60.5%)を得る。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−オキソ−3−(1−メチルシクロヘキシ
ル)−1−プロペニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステルの製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.201
g(4.18ミリモル、鉱油中50%)を蒸留したジ
メトキシエタン70mlに懸濁し、前記A項のホス
ホネート体1.42g(5.7ミリモル)のDME7ml溶
液を加える。混合物を室温で90分間撹拌する。
これに〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホ
ルミル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル
1.031g(3.8ミリモル)のDME5ml溶液を加え、
混合物を室温で一夜撹拌する。氷酢酸0.5mlを
加えて反応を停止させ、減圧下に溶媒を除いて
残留物にエーテルと飽和炭酸水素ナトリウム溶
液を加えて各層を分離する。エーテル層を炭酸
水素ナトリウム溶液で1回洗つて硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下に溶媒を除いて黄色油状
物を得る。これをシリカゲル60(110g)上、ク
ロマトグラフイーに付し、エーテル/石油エー
テルで溶離し、油状物として標記B項の化合物
を1.241gを得る。 シリカゲル上、エーテル/石油エーテル
(1:1)を用いるTLC(バニリンで可視化)
のRf値0.48。また早く移動する物質(Rf値
0.56)の0.050g(3%)を単離し、シス・二
重結合の異性体として同定した。 C 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−3−(1−メチルシクロヘ
キシル)−1−プロペニル〕−7−オキサビシク
ロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン
酸メチルエステル(早く移動する異性体)の製
造:− 上記B項の化合物1.226g(3.1ミリモル)お
よび塩化第一セリウム・7.6水和物1.18g(3.1
ミリモル)をメタノール30mlとTHF2mlに溶解
する。この溶液を氷浴上で冷やした後、水素化
ホウ素ナトリウム0.117g(3.1ミリモル)を少
量づつ30秒で添加する。氷浴を除き、混合物を
8分間撹拌し、飽和塩化アンモニウム溶液175
mlに注ぐ。生成物を酢酸エチルで(50ml×5
回)で抽出し、乾燥して減圧下に溶媒を除き、
油状物1.22gを得る。これをシリカゲル60(80
g)上、クロマトグラフイーに付し、エーテル
−石油エーテル(1:1)で溶離し標記C項の
化合物の早く移動する異性体に富む物質0.930
gと遅く移動する異性体0.142g(12%)を得
る。エーテル−石油エーテル(3:2)および
バニリンを用いるTLCのRf値0.41(早く移動す
る異性体)および0.2(遅く移動する異性体)。
早く移動する異性体をシリカゲル60上、再びク
ロマトグラフイーに付し、ベンゼン中10%酢酸
エチルで溶離して標記C項の清澄な化合物
0.602g(50%)を得る。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−3−メチルシクロヘキシ
ル)−1−プロペニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− アルゴン雰囲気下、上記C項のメチルエステ
ル体(早く移動する異性体)0.602g(1.54ミ
リモル)をTHF75mlと水14mlに溶解し、1N水
酸化リチウム溶液15.4mlを加える。この混合物
を室温で6.5時間撹拌する。これに飽和シユウ
酸溶液を加えてPH3に調節し、溶液を水450ml
に注ぐ。生成物をエーテルで(200ml×3回)
抽出し、エーテル抽出物を合して水(200ml×
3回)および飽和塩化ナトリウム溶液(200ml
×1回)で洗い、乾燥して減圧下に溶媒を除
き、油状物0.574gを得る。これをシリカゲル
60(40g)上、クロマトグラフイーに付し、塩
化メチレン中3%メタノールで溶離し、無色油
状物として標記生成物0.479g(83%)を得た。
シリカゲル上、塩化メチレン中5%メタノール
およびバニリンを用いるTLCのRf値0.56。 元素分析、C23H36O4として 計算値:C,73.37%;H,9.64%、 実測値:C,73.06%;H,9.70%。 実施例 53 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−3−(1−メチルシクロヘキ
シル)−1−プロペニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(遅く移動する異性体)の製造:− 上記実施例52・C項で製せられる遅く移動する
メチルエステル体すなわち〔1β,2α(5Z),3α
(1E,3β),4β〕−7−〔3−〔3−ヒドロキシ−3
−(1−メチルシクロヘキシル)−1−プロペニ
ル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−
イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル0.142g
(0.36ミリモル)をアルゴン雰囲気下にTHF18ml
と水3.2mlに溶解する。この溶液を1N水酸化リチ
ウム溶液3.6mlで処理し、混合物を室温で6.5時間
撹拌し、シユウ酸の飽和溶液を加えてPH3に調節
し、混合物を水150mlに注ぐ。生成物をエーテル
で(75ml×3回)抽出する。エーテル抽出物を合
して水(75ml×3回、飽和塩化ナトリウム溶液75
mlで1回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧
下に溶媒を除き、油状物0.132gを得る。これを
シリカゲル60(15g)上、クロマトグラフイーに
付し、塩化メチレン中3%メタノールで溶離して
標記化合物0.097g(72%)を得た。シリカゲル
上、塩化メチレン中5%メタノールおよびバニリ
ンを用いるTLCのRf値0.18。 元素分析、C23H35O4として、 計算値:C,73.37%;H,9.64%、 実測値:C,73.24%;H,9.67%。 実施例 54 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−4−(4−メチルフエニル)
−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− A 2−オキソ−3−(4−メチルフエニル)プ
ロピルジメチルホスホネートの製造:− アルゴン雰囲気下、蒸留したメチルホスホン
酸ジメチル5.6ml(6.44g、47ミリモル)の蒸
留したTHF80ml溶液を−78℃に冷却し、ヘキ
サン中1.65Mn−ブチルリチウム溶液30ml(49
ミリモル)溶液を30分間で滴加処理する。滴加
終了後、混合物を−78℃で30分間撹拌する。p
−トリル酢酸メチルエステル4.025g(24.5ミ
リモル)のTHF5ml溶液を15分間で滴加し、−
78℃で3.5時間撹拌後、冷浴を除いて混合物を
更に1時間撹拌する。酢酸を加えてPH6に調節
することにより反応を停止させる。減圧下に溶
媒を除き、残留物に水75mlを加え、生成物を塩
化メチレンで(75ml×3回)抽出する。抽出物
を合して飽和炭酸水素ナトリウム75mlで1回、
水75mlで1回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し
て減圧下に溶媒を除き油状物を得る。これを減
圧下に蒸留して標記ホスホネート体3.06g(49
%)を得る。沸点132〜134℃/0.1mmHg。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−オキソ−4−(4−メチルフエニル)−
1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕
ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエ
ステルの製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.201
g(4.18ミリモル、鉱油中50%)を蒸留したジ
メトキシエタン70mlに懸濁する。前記A項のホ
スホネート体1.46g(5.7ミリモル)のDME7ml
溶液を加える。綿毛様固体が沈澱する。混合物
を室温で90分間撹拌する。これに〔1β,2α
(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホルミル−7−オ
キサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5
−ヘプテン酸メチルエステル1.03g(3.8ミリ
モル)のDME5ml溶液を加える。混合物を室温
で一夜撹拌し、次いで氷酢酸0.5mlを加えて反
応を停止させる。減圧下に溶媒を除いて残留物
にエーテルと飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加
える。各層を分離し、有機層を炭酸水素ナトリ
ウム溶液で1回洗つて硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に溶媒を除いて生成物を得る(放置
して結晶化する)。これをシリカゲル60上、ク
ロマトグラフイーに付し、エーテル/石油エー
テル(1:3)で溶離して得られた標記B項の
化合物1.064g(70%)を放置して結晶化させ
る。シリカゲル上、エーテル/石油エーテル
(1:1)を用いるTLC(バニリンで可視化)
のRf0.36。また早く移動する物質(Rf0.43)
0.228g(15%)を単離し、シス・二重結合を
有する異性体として同定した。 C 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(4−メチルフエニ
ル)−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
メチルエステルの製造:− 上記B項の化合物1.06g(2.66ミリモル)お
よび塩化第一セリウム・7.6水和物1.02g(2.66
ミリモル)をメタノール25mlとTHF2mlに溶解
する。溶液を氷浴上で冷やし、水素化ホウ素ナ
トリウム0.101g(2.66ミリモル)を少量づつ
30秒で添加する。氷浴を除き、混合物を10分間
撹拌し、飽和塩化アンモニウム溶液175mlに注
ぐ。生成物を酢酸エチル(50ml×5回)で抽出
し、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒
を除き、油状物を得る。これをシリカゲル
(100g)上、クロマトグラフイーに付し、エー
テル−石油エーテル(3:2)で溶離し標記C
項の化合物(早く移動する異性体)0.602g
(57%)と遅く移動する異性体0.185g(17%)
を得る。シリカゲル上、エーテル−石油エーテ
ル(3:2)およびバニリンを用いるTLCの
Rf値0.35(早く移動する異性体)および0.12(遅
く移動する異性体)。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β〕−7−
〔3
−〔3−ヒドロキシ−4−(4−メチルフエニ
ル)−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル〕−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)の製造:− アルゴン雰囲気下、上記C項のメチルエステ
ル体(早く移動する異性体)0.602g(1.5ミリ
モル)をTHF75mlと水14mlに溶解する。1N水
酸化リチウム溶液15mlを加えてこの混合物を室
温で7時間撹拌する。これに飽和シユウ酸溶液
を加えてPH3に調節し、溶液を水450mlに注ぐ。
生成物をエーテルで(200ml×3回)抽出し、
エーテル抽出物を合して水(200ml×3回)お
よび飽和塩化ナトリウム溶液(200ml×1回)
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に
溶媒を除く。残留油状物をシリカゲル60(50g)
上、クロマトグラフイーに付し、塩化メチレン
中3%メタノールで溶離し、無色油状物として
清澄な標記生成物0.416g(72%)を得た。シ
リカゲル上、塩化メチレン中5%メタノールお
よびバニリンによるTLCのRf値0.30。 元素分析、C24H32O4として、 計算値:C,74.97%;H,8.39%、 実測値:C,75.08%;H,8.48%。 実施例 55 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−〔3
−
〔3−ヒドロキシ−4−(4−メチルフエニル)
−1−ブテニル〕−7−オキサビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イル−5−ヘプテン酸
(遅く移動する異性体)の製造:− 上記実施例54・B項のメチルエステル体(遅く
移動する異性体)0.185g(0.46ミリモル)をア
ルゴン雰囲気下、THF25mlおよび水4mlに溶解
する。これに1N水酸化リチウム溶液4.6mlを加
え、混合物を室温で7時間撹拌する。飽和シユウ
酸溶液を加えてPH3に調節し、この溶液を水150
mlに注ぐ。生成物をエーテルで(75ml×3回)抽
出し、抽出物を合して水(75ml×3回)および飽
和塩化ナトリウム溶液(75ml)で洗い、硫酸マグ
ネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を除き、無色油
状物として標記生成物0.177g(99%)を得た。
シリカゲル上、塩化メチレン中5%メタノールお
よびバニリンによるTLCのRf値0.23。 元素分析、C24H32O4として、 計算値:C,74.97%;H,8.39%、 実測値:C,74.80%;H,8.08%。 実施例 56 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4α),4β〕−7−
〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ヘ
キセニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動す
る異性体)の製造:− A オキソ−3−フエニルペンチルジメチルホス
ホネートの製造:− 蒸留したメチルホスホン酸ジメチル12.8ml
(14.75g、108ミリモル)のTHF(蒸留)180ml
溶液を、アルゴン雰囲気下、−78℃に冷却し、
これを撹拌しながらヘキサン中1.65Mn−ブチ
ルリチウム68ml(112.4ミリモル)溶液を30分
間に渡つて適加処理する。混合物を−78℃で更
に30分間撹拌し、次いで2−フエニル酪酸メチ
ルエステル10.0g(56.2ミリモル)のTHF15ml
溶液を15分間で滴加する。−78℃で3.5時間撹拌
後、冷浴を除いて75分後に氷酢酸を加えてPH6
に調節する。減圧下に溶媒の大部分を除き、残
留物に水100mlを加える。生成物を塩化メチレ
ンで(125ml×3回)抽出する。抽出物を合し
て飽和炭酸水素ナトリウム100mlで1回、水100
mlで1回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を除く。残渣を蒸留して標記ホスホ
ネート体10.5g(69%)を得る。沸点134〜136
℃/0.1mmHg。 B 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4α),4β〕−
7
−〔3−(3−オキソ−4−フエニル−1−ヘキ
セニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル
の製造:− アルゴン雰囲気下、水化ナトリウム0.201g
(4.18ミリモル、鉱油中50%)を、蒸留したジ
メトキシエタン70mlに懸濁する。前記A項のホ
スホネート体1.54g(5.7ミリモル)のDME7ml
溶液を加え、混合物を室温で90分間撹拌後、こ
れに〔1β,2α(5Z),3α,4β〕−7−〔3−ホル
ミル−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエステル
1.031g(3.8ミリモル)のDME5ml溶液を加え
る。混合物を室温で一夜撹拌し、次いで氷酢酸
0.5mlを加えて反応を停止させる。減圧下に溶
媒を除いて残留物にエーテルと飽和炭酸水素ナ
トリウム溶液を加える。各層を分離し、エーテ
ル層を炭酸水素ナトリウム溶液で1回洗つて硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を除い
て油状物を得る。これをHPLC、次いでシリカ
ゲル60(100g)上、クロマトグラフイーに付
し、エーテル/石油エーテル(1:3)で溶離
し、油状物として標記化合物1.130g(72%)
を得る。シリカゲル上、エーテル/石油エーテ
ル(1:1)を用いるTLC(紫外線およびバニ
リンで可視化)のRf0.43。 C 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4α),4β〕−
7
−〔3−〔3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−
ヘキセニル〕−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸メチルエス
テルの製造:− 上記B項の化合物1.125g(2.73ミリモル)
および塩化第一セリウム・7.6水和物1.047ml
(2.73ミリモル)をアルゴン雰囲気下にメタノ
ール25mlに溶解する。溶液を氷浴上で冷やし水
素化ホウ素ナトリウム0.104g(2.73ミリモル)
を少量づつ20秒で添加する。氷浴を除き、混合
物を8分間撹拌後、飽和塩化アンモニウム溶液
175mlに注ぐ。生成物を酢酸エチルで(50ml×
5回)で抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥して
減圧下に溶媒を除く。残留油状物をシリカゲル
60(100g)上、クロマトグラフイーに付し、エ
ーテル−石油エーテル(55:45)で溶離し標記
C項の化合物の早く移動する異性体0.660g
(58%)と遅く移動する異性体0.186g(16.5
%)を得る。エーテル−石油エーテル(3:
2)を用いるTLCのRf値0.51(早く移動する異
性体)および0.24(遅く移動する異性体)。 D 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4α),4β〕−
7
−〔3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−
ヘキセニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘ
プト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動
する異性体)の製造:− アルゴン雰囲気下、上記C項の早く移動する
異性体0.655g(14ミリモル)をTHF75mlと水
14mlに溶解し、1N水酸化リチウム溶液15.8ml
を加える。この混合物を室温で6.5時間撹拌し、
次いでこれに飽和シユウ酸溶液を加えてPH3に
調節する。混合物を水450mlに注いだ後、生成
物をエーテルで(200ml×3回)抽出し、エー
テル抽出物を合して水(200ml×3回)および
飽和塩化ナトリウム溶液200mlで洗い、硫酸マ
グネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を除く。残
留油状物はシリカゲル上、5%メタノール/塩
化メチレン、バニリンによるTLCでRf0.49(早
く移動する異性体A)とRf0.40(早く移動する
異性体B)から成る主要斑点2個を示す。これ
をシリカゲル60(80g)上、クロマトグラフイ
ーに付し、塩化メチレン中3%メタノールで溶
離して非常に標記異性体Aに富む0.238g、混
合物0.114gおよび異性体Bに富む0.194の分画
3個(全量0.546g(86.7%)を得る。標記異
性体Aに富む分画をシリカゲル60(40g)上、
再びクロマトグラフイーに付し、塩化メチレン
中2%メタノールで溶離してTLCにより明ら
かに認められる標記異性体A0.1801gを得た。 元素分析、C25H34O4として、 計算値:C,75.34%;H,8.60%、 実測値:C,75.53%;H,8.61%。 この物質は放置後、ワツクス状固体となる。 実施例 57 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4β),4β〕−7−
〔3−〔3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ヘ
キセニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
ト−2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動す
る異性体B)の製造:− 異性体Bに富む物質として実施例56・D項に記
載した分画0.194gをシリカゲル60(30g)上、再
度クロマトグラフイーに付し、塩化メチレン中
2.5%メタノールで溶離して標記異性体0.0954g
(早く移動する異性体B)を得た。この物質は純
度95%以上(不純物は実施例56記載の異性体Aの
それである。)であることがTLCにより示され
る。シリカゲル上、5%メタノール/塩化メチレ
ンおよびバニリンによるTLCのRf0.40(0.49(異性
体A)における痕跡量を含む)。 元素分析、C25H34O4として、 計算値:C,75.34%;H,8.60%、 実測値:C,75.28%;H,8.36%。 実施例 58 〔1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β〕−7−〔3
−
(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ヘプテ
ニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動する異
性体)の製造:− 前記実施例56・C項に記載の遅く移動する異性
体0.182g(0.44ミリモル)をアルゴン雰囲気下、
THF25mlと水4mlに溶解し、1N水酸化リチウム
溶液4.4mlで処理する。これを室温で7時間撹拌
後、飽和シユウ酸溶液を加えてPH3に調節する。
混合物を水150mlに注ぎ、エーテルで(75ml×3
回)抽出する。エーテル抽出物を合して水(75ml
×3回)および飽和塩化ナトリウム溶液75mlで洗
い、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を
除き、油状物0.172gを得る。シリカゲル上、5
%メタノール/塩化メチレンおよびバニリンを用
いるTLCにより、主要斑点Rf0.34(異性体B)と
非常に小さい斑点Rf0.42(実施例56の異性体A)
を示す。この油状物をシリカゲル60(30g)上、
クロマトグラフイーに付し、塩化メチレン中3%
メタノールで溶離し、ワツクス様固体として標記
生成物0.1006g(57%)を得た。シリカゲル上、
塩化メチレン中7%メタノールおよびバニリンに
よるTLCのRf0.34(B)およびRf0.42(異性体A少
量)。この物質の含量は異性体B95%と概算され
る。またカラムから異性体Aに富む物質0.026g
および混合物(Bの含有%がより大なる物質)
0.021gを得る。 元素分析、C25H34O4として、 計算値:C,75.34%;H,8.60%、 実測値:C,75.37%;H,8.50%。 実施例 59 〔1β,2α(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−〔3
−ヒドロキシ−3−(1,2,3,4−テトラ
ヒドロ−1−ナフタレニル)−1−プロペニル〕
−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−
イル〕−5−ヘプテン酸(異性体B)の製造:
− 式: で示される異性体Bのメチルエステル(製造につ
いて実施例60参照)0.466g(1.1ミリモル)をア
ルゴン雰囲気下、THF50mlと水9mlに溶解する。
1N水酸化ナトリウム溶液11mlを加え、混合物を
室温で7.5時間撹拌する。これに飽和シユウ酸溶
液を加えてPH3に調節し、混合物を水300mlに注
ぐ。生成物をエーテルで(125ml×3回)抽出し、
エーテル抽出物を合して水(125ml×3回)およ
び飽和塩化ナトリウム溶液(125ml×1回)で洗
い、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を
除く。残留油状物0.470gをシリカゲル60上、ク
ロマトグラフイーに付し、塩化メチレン中3%メ
タノールで溶離して標記化合物0.2409g(53%)
を得た。シリカゲル上、塩化メチレン中5%メタ
ノールおよびバニリンによるTLCのRf値0.27。 元素分析、C26H34O4・0.25H2Oとして、 計算値:C,75.24%;H,8.38%、 実測値:C,75.25%;H,8.38%。 実施例 60 〔1β,2α(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−〔3
−ヒドロキシ−3−(1,2,3,4−テトラ
ヒドロ−1−ナフタレニル)−1−プロペニル〕
−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−
イル〕−5−ヘプテン酸(異性体A)の製造:
− 式: で示される化合物の製造:− 三頚フラスコ(1000ml)に滴下ロート(150
ml)、凝縮器およびアセチレンガス導入管を付属
する。この系の窒素気流下に火災乾燥する。系を
室温に冷やし、エーテル中3M臭化メチルマグネ
シウム100ml(300ミリモル)を滴下ロートに、
THF200mlを三頚フラスコ内に入れる。THFを
室温で磁気撹拌しながら、−78℃トラツプと濃硫
酸トラツプに通したアセチレンガスを該THFに
通して発泡させる。THFを10分間アセチレンで
飽和させ、次いで臭化メチルマグネシウムを少量
づつ(一時に5ml相当)室温で添加する。この添
加を2.5時間に渡つて続ける(混合物は暗緑色懸
濁液となる)。添加終了後、混合物を更に1時間
撹拌する。臭化メチルマグネシウムのために使用
した滴下ロートを、アルゴン雰囲気下THF62ml
中テトラロン38ml(0.287ミリモル)含有滴下ロ
ートに置き換える。混合物を0℃に冷やし、45分
間に渡つて上記テトラロンを滴加する。混合物を
室温に暖めて一夜撹拌し、氷含有飽和塩化アンモ
ニウム(200ml容+100ml)に注ぐ。THF層を分
離して水層をエーテルで(300ml×4回)抽出す
る。有機(THFおよびエーテル)層を合して水
洗(200ml×2回)し、硫酸マグネシウムで乾燥
する。これを過し、溶媒を蒸発させて得られた
褐色油状物45gを分別する。82〜90℃/0.3mmHg
の分画は所望の化合物に富む分画(出発物質で汚
染されている)である。この分画を更に石油エー
テル/酢酸エチル(5:1)で溶離して精製して
純粋な無色油状生成物20g(0.12モル、42%)を
得る。 式: で示される化合物の製造:− 乾燥塩化メチレン20ml中アルコール体()
3.4g(20ミリモル)とトリエチルアミン2.8ml
(20ミリモル)の混合物(0℃)に、乾燥塩化メ
チレン7.2ml中クロロ亜リン酸ジエチル3.1g(20
ミリモル)を滴加する。混合物を0℃で1時間お
よび室温で1時間撹拌し、食塩水50ml相当に注
ぎ、生成物をクロロホルムで(50ml×3回)で抽
出する。クロロホルム層を合して食塩水40mlで洗
い、硫酸マグネシウムで乾燥する。過して溶媒
を蒸発させ、得られた黄色油状物6.5gをシリカ
(Silica)60(175g)カラム上、石油エーテル/
酢酸エチル(9/1)1000mlおよび塩化メチレ
ン/メタノール(93/7)で溶離して精製し、わ
づかに褐色を帯びた油状生成物4.96g(17ミリモ
ル、85%)を得る。 式: で示される化合物の製造:− メタノール12ml中ホスホネート体()3.76g
(12.8ミリモル)を室温の下にジエチルアミン24
g(328ミリモル)で処理する。混合物を室温で
96時間撹拌し、減圧下に濃縮し、得られた褐色油
状物をシリカカラム(Silic AR.CC−7)120g
上、塩化メチレン中1〜2%メタノールで溶離し
て精製し、わずかに褐色を帯びた油状生成物3.89
g(10.68ミリモル、83%)を得る。 式: で示される化合物の製造:− エナミン体()2.9g(7.9ミリモル)を
THF120ml、水25mlおよびTFA25mlに溶解し、
おだやかな還流温度で24時間加熱する。これを減
圧下に濃縮して残留物を酢酸エチル80mlに溶解
し、飽和炭酸水素ナトリウムで洗う。水層を酢酸
エチル80mlで再抽出し、酢酸エチル層を合して食
塩水で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥する。過し
た溶媒を蒸発させ、得られた黄褐色油状物2.4g
をカラム(Silic AR.CC−7約80g)上、塩化メ
チレン1%メタノールで溶離して精製する。主要
分画クーゲルロール蒸留により精製して黄色油状
物約1.96g(6.32ミリモル、80%)を得る。225
℃/0.03mmHgの浴温の留分として所望の生成物
を得る。 式: で示される化合物の製造:− 水素化ナトリウム0.201g(4.18ミリモル(鉱
油中50%NaH))と蒸留した乾燥ジメトキシエタ
ン70mlの懸濁液を、アルゴン雰囲気下に撹拌し、
ホスホネート体()1.77g(5.7ミリモル)の
DME7ml溶液を加える。混合物を室温で100分間
撹拌する。次いで式: で示されるアルデヒド1.03g(3.8ミリモル)の
DME5ml溶液を加え、混合物を室温で一夜撹拌す
る。氷酢酸0.5mlを加えて反応を停止させ、減圧
下に溶媒を除く。残渣エーテルに溶解し、飽和炭
酸水素ナトリウム溶液で2回洗い、硫酸マグネシ
ウムで乾燥して減圧下に溶媒を除く。黄色油状生
成物をシリカゲル60(140g)上、クロマトグラフ
イーに付し、無水油状物として化合物()1.33
g(83%)を得る。シリカゲル上、エーテル−石
油エーテル(1:1)および紫外線+ヨウ素によ
るTLCのRf値0.35。またシス・二重結合の異性体
0.099g(6%、Rf0.46)も得られた。 式: で示される化合物の製造:− 化合物()1.33g(3.15ミリモル)と塩化第
一セリウム・7.6水和物1.21g(3.15ミリモル)を
アルゴン雰囲気下、メタノール25mlに溶解する。
溶液を氷浴で冷やして撹拌しながら水素化ホウ素
ナトリウム0.119g(3.15ミリモル)を少量づつ
30秒で添加する。冷浴を除き、混合物を8分間撹
拌した後、飽和塩化アンモニウム溶液200mlに注
ぐ。生成物を酢酸エチルで(50ml×5回)抽出
し、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を
除き、油状物1.33gを得る。これをシリカゲル60
(100g)上、クロマトグラフイーに付し、エーテ
ル−石油エーテル(1:1)で溶出する。シリカ
ゲル上、エーテル−石油エーテル(3:2)およ
びバニリンによるTLCで次の3種の異性体を得
る。異性体A0.479g(36%)、Rf0.40;異性体
B0.620g(47%)、Rf0.29(実施例59参照);およ
び異性体C0.154g(11.5%)、Rf0.20。各異性体を
再度クロマトグラフイーに付し、少量の不純物を
除く。 標記(実施例60)化合物の製造:− アルゴン雰囲気下、メチルエステル体()
(上記異性体A)0.381g(0.9ミリモル)を
THF40mlと水8mlに溶解し、1N水酸化リチウム
溶液9.0mlで処理する。混合物を室温で7時間撹
拌後、飽和シユウ酸溶液でPH3〜4に調節する。
溶液を水250mlに注ぎ、エーテルで(100ml×3
回)抽出する。エーテル抽出物を合して水(100
ml×3回)および飽和塩化ナトリウム溶液100ml
で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶
媒を除き、油状物を得る。これをシリカゲル60
(50g)上、クロマトグラフイーに付し、塩化メ
チレン中3%メタノールで溶離して標記化合物
(G947025)を得た。シリカゲル上、塩化メチレ
ンとバニリンによりTLCのRf値0.35。 元素分析、C26H34O4・0.4H2Oとして、 計算値:C,77.75%;H,8.40%、 実測値:C,74.71%;H,8.34%。 実施例 61 〔1β,2α(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−(4
−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1−ペン
テニル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト
−2−イル〕−5−ヘプテン酸(遅く移動する
異性体)の製造:− 式: で示される化合物の製造:− 2−フエニルプロピオン酸メチルエステル5.15
g(31.4ミリモル)を氷酢酸100mlに溶解し、酸
化白金0.2gで処理する。53psiを越えない圧力で
上記混合物を一夜水素化する(5.5時間で完全に
水素を吸収する。)。触媒を別し、減圧下で酢酸
の大部分を除く。残渣をエーテルに溶解し、飽和
炭酸水素ナトリウム溶液で2回洗い、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を除いた後、蒸留し、40
〜42℃/0.5mmHgの留分として生成物4.55g(85
%)を集める。 式: で示される化合物の製造:− アルゴン雰囲気下、蒸留したメチルホスホン酸
ジメチル5.86ml(6.74g、49ミリモル)を、蒸留
したTHF80mlに溶解し、−78℃に冷却する。撹拌
しながらヘキサン中n−ブチルリチウム溶液
(1.65M)を30分間で滴加する。これを更に30分
間撹拌後、化合物()4.36g(25.6ミリモル)
のTHF5ml溶液を10分間で滴加する。混合物を−
78℃で3.5時間撹拌し、冷浴を除いて1時間撹拌
を続ける。氷酢酸を加えてPH6に調節し、減圧下
に溶媒の大部分を除き、水75mlを加える。生成物
を塩化メチレンで(75ml×3回)抽出し、抽出物
を合して飽和炭酸水素ナトリウム溶液75mlおよび
水75mlで洗う。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
下に溶媒を除いて蒸留し、沸点122〜124℃/0.01
mmHgの留分として生成物()4.55g(68%)
を得る。 式: で示される化合物の製造:− アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム0.201g
(4.18ミリモル、鉱油中50%)を、蒸留したジメ
トキシエタン70mlに懸濁し、ホスホネート体
()1.49g(5.7ミリモル)のDME7ml溶液を加
える。混合物を室温で90分間撹拌し、次いで式: で示されるアルデヒド1.03g(3.8ミリモル)の
DME5mlを加える。室温で一夜撹拌後、酢酸0.5
mlを加えて反応を停止させ、減圧下に溶媒を除
く。残留物をエーテルと飽和炭酸水素ナトリウム
溶液に溶解する。各層に分離し、エーテル層を飽
和炭酸水素ナトリウム溶液で1回洗い、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下に乾涸する。得られた
油状物をシリカゲル60(140g)上、クロマトグラ
フイーに付し、エーテル−石油エーテル(1:
3)で溶離し、油状物として化合物()1.181
g(77%)を得る。シリカゲル上、エーテル−石
油エーテル(1:1)および紫外線とバニリンに
よるTLCのRf値0.45。 式: で示される化合物の製造:− アルゴン雰囲気下、ケトン体()1.176g
(2.91ミリモル)および塩化第一セリウム・7.6水
和物1.116g(2.91ミリモル)をメタノールに溶
解し、溶液を0℃に冷やし、水素化ホウ素ナトリ
ウム0.111g(2.91ミリモル)を少量づつ20秒で
添加する。氷浴を除いて混合物を8分間撹拌後、
飽和塩化アンモニウム溶液175mlに注ぐ。生成物
を酢酸エチルで(50ml×5回)抽出し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥して減圧下に乾涸する。残留油状
物をシリカゲル60(100g)上、クロマトグラフイ
ーに付し、エーテル−石油エーテル(55:45)で
溶離し、早く移動する異性体0.708g(60%)と
遅く移動する異性体()0.258g(22%)を得
る。シリカゲル上、エーテル−石油エーテル
(3:2)およびバニリンによるTLCのRf値0.24
(遅く移動する異性体)および0.47(早く移動する
異性体)。遅く移動する異性体は単一異性体であ
ると考えられる。 標記(実施例61)化合物の製造:− メチルエステル体の遅く移動する異性体()
0.253g(0.62ミリモル)をアルゴン雰囲気下、
THF30mlと水5mlに溶解し、1N水酸化リチウム
溶液6.2mlで処理する。室温で7時間撹拌後、飽
和シユウ酸溶液を加えてPH3に調節する。この溶
液を水200mlに注ぎ、生成物をエーテルで(100ml
×3回)抽出する。抽出物を合して水(100ml×
3回)および飽和塩化ナトリウム溶液100mlで洗
い、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を
除く。残留油状物をシリカゲル60(25g)上、ク
ロマトグラフイーに付し、塩化メチレン中3%メ
タノールで溶離して得られた所望の化合物0.1786
g(74%)は放置してワツクス様固体となる。シ
リカゲル上、塩化メチレン中5%メタノールおよ
びバニリンによるTLCのRf値0.27。この物質は
TLCおよび 13C・NMRにより単一異性体である
ことを示す。 元素分析、C24H38O4として、 計算値:C,73.81%;H,9.81%、 実測値:C,73.70%;H,9.55%。 実施例 62 〔1β,2α(5Z),3α(1E),4β〕−7−〔3−(4
−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1−ペン
チル)−7−オキサビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−
2−イル〕−5−ヘプテン酸(早く移動する異
性体AおよびB)の製造:− 前記実施例61記載のメチルエステル体の早く移
動する異性体0.480g(1.12ミリモル)をアルゴ
ン雰囲気下、THF60mlと水10mlに溶解する。こ
れに1N水酸化リチウム溶液11.2mlを加えて混合
物を室温で6.5時間撹拌する、飽和シユウ酸溶液
を加えてPH3に調節し、混合物を水375mlに注ぐ。
生成物をエーテルで(175ml×3回)抽出する。
エーテル抽出物を合して水(175ml×3回)およ
び飽和塩化ナトリウム溶液175mlで洗い、硫酸マ
グネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を除き、油状
物0.486gを得る。 多量の遊離酸(0.460g相当)をシリカゲル60
(55g)上、クロマトグラフイーに付し、塩化メ
チレン中2.5%メタノールで溶離して主要分画
0.3115gと少量の後分画0.0449gを得た(全収率
77%)。双方がTLCにおいて単一斑点(シリカゲ
ル上、5%メタノール/塩化メチレンおよびバニ
リンの使用によるRf値0.41)を示す。 元素分析、C24H38O4として、 計算値:C,73.81%;H,9.81%、 実測値:(G653186)C,73.58%;H,9.48
%。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式: [式中、AおよびBは同一もしくは異なつても
よく、AはCH=CHまたは(CH2)2、BはCH=
CH、C≡Cまたは(CH2)2、 mは1〜8、 XはOH;【式】CO2R1(ここにR1はH または低級アルキル);または【式】(こ こにZはH、低級アルキル、アリール、SO2−Q
(Qは低級アルキルまたはアリール)、【式】ま たはOR2(R2はH))、 Yはアリール(低級)アルキル;アルケニル;
アルキニル;アリール;ピリジル;ピリジル(低
級)アルキル;置換ピリジル;チエニル;チエニ
ルアルキル;置換チエニル;シクロアルキル;置
換シクロアルキル;シクロアルキルアルキル;置
換シクロアルキルアルキルまたはフエノキシメチ
ル(但し、BがC≡Cである場合、Yはアルキル
であつてよい)、〓は単結合または二重結合(但
し〓が二重結合である場合、AはCH=CHで、
BはCH=CHまたは(CH2)2で、Yはアルケニル
またはアルキニル以外の基である)を表わす] で示される化合物またはその立体異性体。 2 式: で示される特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3 式: で示される特許請求の範囲第1項記載の化合物。 4 Aが(CH2)2またはCH=CH、Bが(CH2)2
またはCH=CHである特許請求の範囲第2項記
載の化合物。 5 XがCO2R1、【式】または 【式】Qがフエニルまたは低級ア ルキルである特許請求の範囲第4項記載の化合
物。 6 Yがフエニルアルキル、チエニルアルキル、
シクロアルキルまたはシクロアルキルアルキルで
ある特許請求の範囲第1項記載の化合物。 7 XがOH、【式】または 【式】である特許請求の範囲第1項記載 の化合物。 8 Yが【式】【式】 【式】【式】 【式】【式】 【式】 【式】【式】 または【式】 である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 9 [1β,2β(5Z),3α(1H,3S*),4β]−7−
[3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1
−プロペニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘ
プト−2−イル]−5−ヘプテン酸または[1β,
2β(5Z),3α(1E,3R*),4β]−7−[3−(3
−
シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1−プロペニ
ル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−
イル]−5−ヘプテン酸もしくはこれらのメチル
エステル類である特許請求の範囲第1項記載の化
合物。 10 [1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β]−6
−[3−(3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシル−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]
ヘプト−2−イル]−1−(1H−テトラゾル−5
−イル)−4−ヘキセンまたは[1β,2β(5Z),3α
(1E,3R*),4β]−6−[3−(3−ヒドロキシ−
3−シクロヘキシル−1−プロペニル)−7−オ
キサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−1−
(1H−テトラゾル−5−イル)−4−ヘキセンで
ある特許請求の範囲第1項記載の化合物。 11 [1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β]−7
−[3−(4−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘ
プト−2−イル]−5−ヘプテン酸または[1β,
2β(5Z),3α(1E,3R*),4β]−7−[3−(4
−
シクロペンチル−3−ヒドロキシ−1−ブテニ
ル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−
イル]−5−ヘプテン酸もしくはこれらのメチル
エステル類である特許請求の範囲第1項記載の化
合物。 12 [1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β]−7
−[3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−
2−イル]−5−ヘプテン酸または[1β,2β
(5Z),3α(1E,3R*),4β]−7−[3−(3−ヒ
ドロキシ−4−フエニル−1−ブテニル)−7−
オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−5
−ヘプテン酸もしくはこれらのメチルエステル類
である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 13 [1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β]−7
−[3−(3−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]
ヘプト−2−イル]−5−ヘプテン酸または
[1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β]−7−[3
−
(3−シクロペンチル−3−ヒドロキシ−1−プ
ロペニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト
−2−イル]−5−ヘプテン酸もしくはこれらの
メチルエステル類である特許請求の範囲第1項記
載の化合物。 14 [1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β]−N
−アセチル−7−[3−(3−シクロヘキシル−3
−ヒドロキシ−1−プロペニル)−7−オキサビ
シクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−5−ヘプテ
ンアミドである特許請求の範囲第1項記載の化合
物。 15 [1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β]−7
−[3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]
ヘプト−2−イル]−N−(フエニルスルホニル)
−5−ヘプテンアミドである特許請求の範囲第1
項記載の化合物。 16 [1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β]−7
−[3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]
ヘプト−2−イル]−N−(メチルスルホニル)−
5−ヘプテンアミドである特許請求の範囲第1項
記載の化合物。 17 [1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β]−7
−[3−(3−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]
ヘプト−2−イル]−5−ヘプテン酸である特許
請求の範囲第1項記載の化合物。 18 [1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β]−7
−[3−(3−シクロヘプチル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]
ヘプト−2−イル]−5−ヘプテン酸または
[1β,2β(5Z),3α(1E,3R*),4β]−7−[3
−
(3−シクロヘプチル−3−ヒドロキシ−1−プ
ロペニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト
−2−イル]−5−ヘプテン酸もしくはこれらの
メチルエステル類である特許請求の範囲第1項記
載の化合物。 19 [1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β]−7
−[3−(4−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘ
プト−2−イル]−5−ヘプテン酸または[1β,
2β(5Z),3α(1E,3R*),4β]−7−[3−(4
−
シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−1−ブテニ
ル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−
イル]−5−ヘプテン酸もしくはこれらのメチル
エステル類である特許請求の範囲第1項記載の化
合物。 20 [1β,2β(5Z),3α(1E,3S*),4β]−7
−[3−[3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘ
プト−2−イル]−5−ヘプテン酸または[1β,
2β(5Z),3α(1E,3R*),4β]−7−[3−[3
−
ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−1−ブテニ
ル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−
イル]−5−ヘプテン酸の名称を有する化合物も
しくはこれらそれぞれのメチルエステル類である
特許請求の範囲第1項記載の化合物。 21 [1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β]−7
−[3−[3−ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−
1−ブテニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘ
プト−2−イル]−5−ヘプテン酸または[1β,
2β(5Z),3α(1E,3R*),4β]−7−[3−[3
−
ヒドロキシ−4−(3−チエニル)−1−ブテニ
ル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−
イル]−5−ヘプテン酸もしくはこれらのメチル
エステル類である特許請求の範囲第1項記載の化
合物。 22 [1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β]−7
−[3−(3−ヒドロキシ−4−フエノキシ−1−
ブテニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト
−2−イル]−5−ヘプテン酸または[1β,2α
(5Z),3α(1E,3R*),4β]−7−[3−(3−ヒ
ドロキシ−4−フエノキシ−1−ブテニル)−7
−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−
5−ヘプテン酸もしくはこれらのメチルエステル
類である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 23 [1β,2α(5Z),3α(1E,3S*),4β]−7
−[3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−ブ
テニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−
2−イル]−5−ヘプテン酸もしくはそのメチル
エステル類である特許請求の範囲第1項記載の化
合物。 24 [1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4α),4β]
−
7−[3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−
ペンテニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプ
ト−2−イル]−5−ヘプテン酸(早く移動する
異性体A);[1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β
]−
7−[3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−
ペンテニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプ
ト−2−イル]−5−ヘプテン酸(早く移動する
異性体B);または[1β,2α(5Z),3α(1E,3β)
,
4β]−7−[3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル
−1−ペンテニル)−7−オキサビシクロ
[2.2.1]ヘプト−2−イル]−5−ヘプテン酸
(遅く移動する異性体)もしくはこれらのメチル
エステル類である特許請求の範囲第1項記載の化
合物。 25 [1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β]−7
−
[3−(3−ヒドロキシ−4−(2−メチルフエニ
ル)−1−ブテニル]−7−オキサビシクロ
[2.2.1]ヘプト−2−イル]−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)または[1β,2α(5Z),3α
(1E,3β),4β]−7−[3−(3−ヒドロキシ−4
−(2−メチルフエニル)−1−ブテニル]−7−
オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−5
−ヘプテン酸(遅く移動する異性体)もしくはこ
れらのメチルエステル類である特許請求の範囲第
1項記載の化合物。 26 [1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β]−7
−
[3−(3−ヒドロキシ−4−(3−メチルフエニ
ル)−1−ブテニル]−7−オキサビシクロ
[2.2.1]ヘプト−2−イル]−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)または[1β,2α(5Z),3α
(1E,3β),4β]−7−[3−[3−ヒドロキシ−4
−(3−メチルフエニル)−1−ブテニル]−7−
オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−5
−ヘプテン酸(遅く移動する異性体)もしくはこ
れらのメチルエステル類である特許請求の範囲第
1項記載の化合物。 27 [1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β]−7
−
[3−[3−ヒドロキシ−4−メチル−4−フエニ
ル−1−ペンテニル)−7−オキサビシクロ
[2.2.1]ヘプト−2−イル]−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)または[1β,2α(5Z),3α
(1E,3β),4β]−7−[3−(3−ヒドロキシ−4
−メチル−4−フエニル−1−ペンテニル)−7
−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−
5−ヘプテン酸(遅く移動する異性体)もしくは
これらのメチルエステル類である特許請求の範囲
第1項記載の化合物。 28 [1β,2α(5Z),3α(1E,3β),4β]−7
−
[3−[3−ヒドロキシ−3−(1−メチルシクロ
ヘキシル)−1−プロペニル]−7−オキサビシク
ロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)または[1β,2α(5Z),3α
(1E,3β),4β]−7−[3−[3−ヒドロキシ−3
−(1−メチルシクロヘキシル)−1−プロペニ
ル]−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−
イル]−5−ヘプテン酸(遅く移動する異性体)
もしくはこれらのメチルエステル類である特許請
求の範囲第1項記載の化合物。 29 [1β,2α(5Z),3α(1E,3α),4β]−7
−
[3−[3−ヒドロキシ−4−(4−メチルフエニ
ル)−1−ブテニル]−7−オキサビシクロ
[2.2.1]ヘプト−2−イル]−5−ヘプテン酸
(早く移動する異性体)または[1β,2α(5Z),3α
(1E,3β),4β]−7−[3−[3−ヒドロキシ−4
−(4−メチルフエニル)−1−ブテニル]−7−
オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル]−5
−ヘプテン酸(遅く移動する異性体)もしくはこ
れらのメチルエステル類である特許請求の範囲第
1項記載の化合物。 30 [1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4α),4β]
−
7−[3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1−
ヘキセニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプ
ト−2−イル]−5−ヘプテン酸(早く移動する
異性体);[1β,2α(5Z),3α(1E,3α,4β),4
β]
−7−[3−(3−ヒドロキシ−4−フエニル−1
−ヘキセニル)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘ
プト−2−イル]−5−ヘプテン酸(早く移動す
る異性体B);または[1β,2β(5Z),3α(1E,
3β),4β]−7−[3−(3−ヒドロキシ−4−フ
エニル−1−ヘプテニル)−7−オキサビシクロ
[2.2.1]ヘプト−2−イル]−5−ヘプテン酸
(遅く移動する異性体)もしくはこれらのメチル
エステル類である特許請求の範囲第1項記載の化
合物。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US31951181A | 1981-11-09 | 1981-11-09 | |
| US319511 | 1981-11-09 | ||
| US378547 | 1982-05-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5890588A JPS5890588A (ja) | 1983-05-30 |
| JPH0378398B2 true JPH0378398B2 (ja) | 1991-12-13 |
Family
ID=23242551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57196706A Granted JPS5890588A (ja) | 1981-11-09 | 1982-11-08 | オキサビシクロヘプタン誘導体と関連化合物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5890588A (ja) |
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| HU (1) | HU190817B (ja) |
| ZA (1) | ZA827529B (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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