JPH0379919A

JPH0379919A - 高周波加熱調理装置

Info

Publication number: JPH0379919A
Application number: JP21429889A
Authority: JP
Inventors: Kazuo Ogawa; 一男小川
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1989-08-21
Filing date: 1989-08-21
Publication date: 1991-04-04
Anticipated expiration: 2013-07-02
Also published as: JP2772681B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［発明の目的ゴ（産業上の利用分野）本発明は、加熱調理室内にこもる臭気に対する対策を施
した高周波加熱調理装置に関する。

（従来の技術）一般に、高周波加熱調理装置は、加熱調理室内に収容し
た食品を、マグネトロンで発生した高周波により加熱す
るようになっている。

（発明が解決し、ようとする課題）加熱調理時には、食品から臭い成分を含んだ蒸気等の気
体が発生し、それが加熱調理室の内壁面に付着して残臭
として長期間残る。このため、加熱調理室の扉を開放し
たときに、残臭が使用者に不快感を与えてしまう。しか
も、後で調理する食品に、前に調理した食品の残臭が移
ってしまい、食品の風味も損なってしまう。

また、従来より、自動調理を行うために、加熱調理室内
に収容した食品から発生する蒸気等の気体を検出する気
体センサを設け、この気体センサの検出結果に基づいて
加熱時間を制御するようにしたものがあるが、食品から
発生する気体と共に、加熱調理室の内壁面から発生する
残臭をも気体センサで検出することになるため、検出精
度が低下して調理の仕上り具合が悪くなってしまうとい
う問題がある。

本発明はこの様な事情を考慮してなされたもので、従っ
てその目的は、加熱調理室内の残臭に起因する問題を解
消できる高周波加熱調理装置を提供するにある。

［発明の構成］（課題を解決するための手段）本発明の高周波加熱調理装置は、加熱調理室の内壁面の
一部又は全部に脱臭塗料を塗布したことを特徴とする。

この場合、加熱調理室内に収容した食品から発生する蒸
気等の気体を検出する気体センサを設け、この気体セン
サの検出結果に基づいて加熱時間を制御するように構成
しても良い。

（作用）加熱調理室の内壁面に塗布された脱臭塗料によって残臭
成分が吸着分解される。これにより、加熱調理室内の残
臭が取り除かれて、残臭による使用者の不快感が解消さ
れると共に、食品への移具による風味低下が防止され、
更には、気体センサにより自動調理を行う場合でも、気
体センサが残臭を検出せずに食品から発生した気体のみ
を検出するようになるので、検出精度が向上して調理の
仕上り具合が良くなる。

（実施例）以下、本発明の一実施例を第１図乃至第５図に基づいて
説明する。１は高周波加熱調理装置の外箱で、その内部
に配設した内箱２内を加熱調理室３としている。そして
、加熱調理室３の前面は扉４によって開閉され、また、
外箱１の前面右側部に設けた操作パネル５には、スター
トキー等の各種操作キー６が設けられている。更に、加
熱調理室３の底部には回転皿７が設けられ、この回転皿
７がモータ８（第２図参照）により回転駆動される。一
方、加熱調理室３の上部には、導波管９を介してマグネ
トロン１０が設けられている。そして、マグネトロン１
０を冷却するための冷却ファン１１が設けられ、その冷
却風が加熱調理室３の右側面部の送風孔１２から加熱調
理室３内に供給され、加熱調理室３の左側面部の排気孔
１３から排気ダクト１４を通して排気されるようになっ
ている。

一方、操作キー６からの操作信号は制御回路１５に人力
され、この制御回路１５によりリレー駆動フィル１６を
通断電してリレー接点１７をオン・オフすることにより
、マグネトロン１０の動作を制御する。この場合、排気
ダクト１４内に気体センサ１８が設けられ、この気体セ
ンサ１８の出力信号が制御回路１５に人力される。自動
調理を行う場合には、この気体センサ１８の出力に基づ
いて次のように制御される。即ち、第４図は調理中の気
体センサ１８の出力電圧の経時的変化を示したもので、
調理開始（スタートキーの押圧）からｔ１秒（約１０〜
１６秒）は、冷却ファン１１のみを運転して加熱調理３
内を換気し、加熱調理室３内の残留ガスを排出するリフ
レッシュ運転を実行する。このとき、加熱調理室３内の
ガス濃度低下に伴って気体センサ１８の出力電圧が上昇
する。そして、リフレッシュ運転後、マグネトロン１０
を動作させて高周波を発生し、加熱調理室３内の食品を
加熱する。この加熱開始後、暫くの間は、食品から蒸気
等の気体が発生せず、冷却ファン１１の換気効果により
気体センサ１８の出力電圧が上昇し続けるが、やがて加
熱の進行と共に食品から蒸気等の気体が発生して加熱調
理室３内の気体濃度が上昇するようになると、気体セン
サ１８の出力電圧が低下し始める。このとき、気体セン
サ１８の出力電圧の最大値ｖ　ｍａｘを制御回路１５の
マイクロコンピュータが記憶する。この後、気体センサ
１８の出力電圧が最大値Ｖ　ｍａｘから所定値αだけ低
下した時点ｔ２を検出し、それまでの加熱時間Ｔ”ｔ、
−ｔ２を求める。そして、この加熱時間Ｔに定数βを掛
は合わせて追い加熱時間βＴを算出し、時刻ｔ２から時
間βＴだけ経過した時点ｔ、で調理を終了する。

而して、本実施例では、加熱調理室３の内壁面（内箱２
の内面）のうち左右両側面及び背面に脱臭塗料１９が塗
布されている。脱臭塗料１９としては、臭い成分を中和
分解する酵素、酵素補助剤等を念んだ水系エマルジョン
タイプのもの（例えば川上塗料株式会社製の商品名「さ
れやかＡＪ）を使用するのが好ましい。酵素により臭い
成分が絶えず分解されるので、脱臭効果を長期的に持続
させることができ、しかも、酵素の主成分は天然素材よ
り抽出したものを使用できるので、人畜に全く無害であ
るという利点がある。また、上記水系エマルジョンタイ
プの脱臭塗料１９の塗膜は、一般のアクリルエマルジョ
ン塗膜と比較して多孔質となり、その多孔質層に臭気が
吸着され易くなっている。この実施例では、脱臭塗料１
９の塗布面積を拡大するために、第３図に示すように加
熱調理室３の内壁面が波形に形成されている。

斯かる構成とすれば、加熱調理室３内の臭気が脱臭塗料
１つの塗膜多孔質層に吸着され、酵素により臭い成分を
分解して脱臭するほか、補助剤の働きにより脱臭作用が
一層促進されることになる。

このため、第５図に示すように、従来に比し、加熱調理
室３内の臭気濃度が速やかに低下するようになり、加熱
調理室３内の残臭が取り除かれて、残臭による使用者の
不快感が解消されると共に、食品への移真による風味低
下が防止される。しかも、使用者が拭き掃除等により残
臭成分を取り除く必要がないので、掃除の煩わしさから
解放される。また、脱臭塗料１９は、常温下で酵素の働
きにより脱臭効果を得ることができるので、例えば脱臭
装置として酸化触媒を用いた場合とは異なり、ヒータ等
の別部品を必要とせず、構成が極めて簡単で低コスト化
が可能である。

ところで、気体センサ１８の出力電圧に基づいて自動調
理する場合、従来構造のものでは、食品から発生する気
体と共に、加熱調理室の内壁面から発生する残臭をも気
体センサで検出することに収るため（残臭の分だけ気体
濃度が高くなるため）第４図に二点鎖線で示すように気
体センサの出力電圧が全体的に低下して、正常な検出状
態を得られず、追い加熱時間βＴが不適切になって調理
の仕上り具合が悪くなってしまうという問題があった。

　この点、本実施例では、加熱調理室３の内壁面に脱臭
塗料１９が塗布されているので、残臭成分が脱臭塗料１
９の塗膜層によって吸着・分解され、加熱調理室３内の
残臭気体濃度が大幅に低下する。このため、食品から出
る気体のみを気体センサ１８によって検出することがで
きて、気体の検出精度が大幅に向上し、追い加熱時間β
Ｔが適切になって調理の仕上り具合が良くなる。

また、上記実施例では、脱臭塗料１つの塗布面積を拡大
するために、内箱２の側面と背面を波形に形成したので
、内箱２を薄板で構成しても十分に剛性を確保でき、材
料コストの低減と軽量化が可能となる。

尚、内箱２の形状は、第６図に示すように角張った波形
に形成しても良い。但し、従来と同様の平板で形成した
内箱の内面に脱臭塗料を塗布する構成としても、本発明
の所期の目的は達成できる。

また、加熱調理室３の内壁面のうち脱臭塗料１つを塗布
する部分は、第７図に示すように上下両面と背面、或は
第８図に示すように左右両面と上面、或は第９図に示す
ように左右両面と下面、或は第１０図に示すように上下
左右の４面であっても良く、勿論、全面であっても良い
。

［発明の効果コ本発明は以上の説明から明らかなように、加熱調理室の
内壁面の一部又は全部に脱臭塗料を塗布したので、脱臭
塗料の塗膜層による残臭成分の吸着分解により、加熱調
理室内の残臭が取り除かれて、残臭による使用者の不快
感を解消できると共に、食品への浮具による風味低下を
防止できる。

この場合、食品から発生する蒸気等の気体を検出する気
体センサの出力に基づいて自動調理するものでは、気体
センサが残臭を検出せずに食品から発生した気体のみを
検出することができるので、検出精度が向上して調理の
仕上り具合を良くすることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第５図は本発明の一実施例を示したもので、
第１図は全体の外観斜視図、第２図は電気的構成を示す
図、第３図は内箱の横断面図、第４図は気体センサの出
力電圧の経時的変化を示す図、第５図は臭気濃度の経時
的変化図である。そして、昂６図は内箱の他の実施例を示す第３図相当図
、第７図乃至第１０図はそれぞれ異なる実施例における
脱臭塗料の塗布部分を示す斜視図である。図面中、２は内箱、３は加熱調理室、１０はマグネトロ
ン、１５は制御回路、１８は気体センサ、１９は脱臭塗
料である。

Claims

【特許請求の範囲】１、加熱調理室内で食品を高周波加熱するようにしたも
のにおいて、前記加熱調理室の内壁面の一部又は全部に
脱臭塗料を塗布したことを特徴とする高周波加熱調理装
置。２、加熱調理室内に収容した食品から発生する蒸気等の
気体を検出する気体センサを設け、この気体センサの検
出結果に基づいて加熱時間を制御するようにしたことを
特徴とする請求項１記載の高周波加熱調理装置。