JPH0380513A - パラジウム銀電着粉末の焼結速度の変化方法 - Google Patents
パラジウム銀電着粉末の焼結速度の変化方法Info
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- JPH0380513A JPH0380513A JP2105132A JP10513290A JPH0380513A JP H0380513 A JPH0380513 A JP H0380513A JP 2105132 A JP2105132 A JP 2105132A JP 10513290 A JP10513290 A JP 10513290A JP H0380513 A JPH0380513 A JP H0380513A
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- H01G4/008—Selection of materials
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- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
本発明は多層セラミックコンデンサー(MLC)の製造
及び特にMLC内の内部電極を形成させるために用いる
銀及びパラジウム銀粉末に関する。
及び特にMLC内の内部電極を形成させるために用いる
銀及びパラジウム銀粉末に関する。
本発明を要約すれば多層セラミックコンデンサー内の内
部電極に対して使用する銀又はパラジウム銀粉末に対し
て添加する焼結制御剤を記述する。
部電極に対して使用する銀又はパラジウム銀粉末に対し
て添加する焼結制御剤を記述する。
イリジウム及びロジウムの樹脂酸塩を添加剤として使用
する。
する。
MLCは一般に、内部電極がスクリーン印刷しである誘
電体テープの多数の層を重ね合わせることによって製造
する。重ね合わせたブロックを切断又はさいの目に切っ
て個々のMLCを形成させ、次いでそれを高温で焼尽す
る。誘電体のテープは、急速に蒸発する液体又は溶剤中
でBaTiO3又はニオブ酸鉛マグネシウムタングステ
ンのようなセラミック誘電体粉末及びアクリル又はポリ
ビニルブチロール樹脂のスラリーを生成させることによ
って、製造する。このスラリーをガラス板、プラスチッ
ク板又は金属ベルト上に流延し、次いで乾燥して厚さ約
1.0〜2.0mmの薄いテープ又はフィルムとする。
電体テープの多数の層を重ね合わせることによって製造
する。重ね合わせたブロックを切断又はさいの目に切っ
て個々のMLCを形成させ、次いでそれを高温で焼尽す
る。誘電体のテープは、急速に蒸発する液体又は溶剤中
でBaTiO3又はニオブ酸鉛マグネシウムタングステ
ンのようなセラミック誘電体粉末及びアクリル又はポリ
ビニルブチロール樹脂のスラリーを生成させることによ
って、製造する。このスラリーをガラス板、プラスチッ
ク板又は金属ベルト上に流延し、次いで乾燥して厚さ約
1.0〜2.0mmの薄いテープ又はフィルムとする。
内部電極インキは一般に、平均粒径が1.0〜5.0ミ
クロンの金属微粉末を樹脂と溶剤から成るビヒクル系中
に分散させることによって製造する。このインキを誘電
体テープ上に所望するコンデンサーの最終寸法によって
決定されるパターンでスクリーン印刷する。次いで所望
のコンデンサーに基づく所定の数に従ってテープの層を
積み重ねたのち、その積み重ねを熱と圧力下に積層する
ことによって単一体のブロックを形成させる。この積層
物又はブロックを次いで個々のMLCとして切断する。
クロンの金属微粉末を樹脂と溶剤から成るビヒクル系中
に分散させることによって製造する。このインキを誘電
体テープ上に所望するコンデンサーの最終寸法によって
決定されるパターンでスクリーン印刷する。次いで所望
のコンデンサーに基づく所定の数に従ってテープの層を
積み重ねたのち、その積み重ねを熱と圧力下に積層する
ことによって単一体のブロックを形成させる。この積層
物又はブロックを次いで個々のMLCとして切断する。
次いでMLCを徐々に一般に12〜48時間かけて約3
00〜350 ’Cの温度に加熱する。この加熱工程は
結合剤焼尽工程と呼ばれ、焼成前にMLCから大部分の
有機成分を徐々に焼き尽くすことによって除去するため
に用いられる。有機物を除去したのち、MLCを炉中で
、誘電体の組成で決まる、通常は1150〜1350°
Cの範囲の温度で、焼尽する。
00〜350 ’Cの温度に加熱する。この加熱工程は
結合剤焼尽工程と呼ばれ、焼成前にMLCから大部分の
有機成分を徐々に焼き尽くすことによって除去するため
に用いられる。有機物を除去したのち、MLCを炉中で
、誘電体の組成で決まる、通常は1150〜1350°
Cの範囲の温度で、焼尽する。
焼尽工程の間に、MLCは、有機結合剤が既に除去しで
あるから、たとえば急速な加熱による機械的衝撃、焼結
速度の相違及び熱衝撃のようなストレスによって損傷を
受けやすいから、きわめて、弱い。焼尽工程の間に温度
を上げるにつれて、内部電極粉末は焼結して、500〜
850°Cの範囲で約20%収縮する。この間に、誘電
体は、きわめて僅かな変化を受けるにすぎない。温度の
上昇を統けるにつれて、誘電体焼結し、850〜110
0°Cの範囲で約20%収縮する。二つの材料は異なる
温度又は時間で焼結するから、MLC中に応力が発現し
、それが材料の異なる層の分離を生じさせて、離層と呼
ばれる欠陥を与える。離層は、その後のMLCの破壊の
場所となることがきわめて多い。この離層の問題は、内
部電極粉末、結合剤系及びプロセス制御の選択によって
、できる限り小さくすることが必要である。残念ながら
、たとえば結合剤の焼尽のようないくつかの操作に要す
る過大な時間のため、あるいは温度及び時間を包含する
異なる操作に対するきわめて狭い加工条件許容範囲のた
めに、これらのことが製造を著るしく制限する。
あるから、たとえば急速な加熱による機械的衝撃、焼結
速度の相違及び熱衝撃のようなストレスによって損傷を
受けやすいから、きわめて、弱い。焼尽工程の間に温度
を上げるにつれて、内部電極粉末は焼結して、500〜
850°Cの範囲で約20%収縮する。この間に、誘電
体は、きわめて僅かな変化を受けるにすぎない。温度の
上昇を統けるにつれて、誘電体焼結し、850〜110
0°Cの範囲で約20%収縮する。二つの材料は異なる
温度又は時間で焼結するから、MLC中に応力が発現し
、それが材料の異なる層の分離を生じさせて、離層と呼
ばれる欠陥を与える。離層は、その後のMLCの破壊の
場所となることがきわめて多い。この離層の問題は、内
部電極粉末、結合剤系及びプロセス制御の選択によって
、できる限り小さくすることが必要である。残念ながら
、たとえば結合剤の焼尽のようないくつかの操作に要す
る過大な時間のため、あるいは温度及び時間を包含する
異なる操作に対するきわめて狭い加工条件許容範囲のた
めに、これらのことが製造を著るしく制限する。
問題を一層複雑とすることとして、電極中で用いる銀の
量に依存して、焼成工程の間に300〜600°Cの範
囲においてパラジウムが酸化を受け、次いで還元される
。実質的に純粋なパラジウムにおいては、それは約80
0℃の温度で還元される。
量に依存して、焼成工程の間に300〜600°Cの範
囲においてパラジウムが酸化を受け、次いで還元される
。実質的に純粋なパラジウムにおいては、それは約80
0℃の温度で還元される。
酸化パラジウムの生成は15〜50%の電極の膨張をも
たらし、脱酸素は電極の収縮を生じさせ、その後に直ち
に焼結が生じ始める。この膨張と収縮は1.さらにML
Cにひずみを与えて離層に寄与する。
たらし、脱酸素は電極の収縮を生じさせ、その後に直ち
に焼結が生じ始める。この膨張と収縮は1.さらにML
Cにひずみを与えて離層に寄与する。
第1図は1150°Cで焼尽する典型的な誘電体粉末の
膨張計の記録であり第2図は典型的な内部電極粉末の記
録である。これらの記録は二つの材料に対して焼結が生
じ始める温度範囲を示す。電極粉末ビヒクル及びプロセ
スの注意深い選択に加えた従来の解決方法は、粉末の予
備合金化と予備酸化である(たとえば、米国特許第4,
500.368号参照)。
膨張計の記録であり第2図は典型的な内部電極粉末の記
録である。これらの記録は二つの材料に対して焼結が生
じ始める温度範囲を示す。電極粉末ビヒクル及びプロセ
スの注意深い選択に加えた従来の解決方法は、粉末の予
備合金化と予備酸化である(たとえば、米国特許第4,
500.368号参照)。
発明の要約
本発明は、大部分の焼結が通常よりも高い温度で生じる
ように内部電極粉末において焼却が生じる速度を変化さ
せるための材料及び方法を目的とする。これは、誘電体
が焼結する時期と同じ時期に内部電極粉末の焼結の約5
0%が生じることを可能とする。これは、内部電極粉末
、すなわち、銀及びパラジウム粉末並びにそれらの混合
物に対して直接に堆積させる金属有機樹脂酸塩の形態に
あるイリジウム、ロジウム又はそれらの混合物の添加に
よって達成される。内部電極粉末の焼結は、従来よりも
遥かにゆっくりと且つ遥かに広い温度範囲で、且つ少な
くとも部分的に、誘電体を結合する間に、生じるから従
来の方法に従って製造するMLCにおいて表われるもの
よりも遥かに小さなレベルのストレスが焼成の間に発現
するにすぎない。このストレスの低下はMLCの離層の
傾向を低下させ且つ材料とプロセスに対する広い寛容度
を製造者に与えると共に限界に近いプロセスで比較的高
い収率が得られる。
ように内部電極粉末において焼却が生じる速度を変化さ
せるための材料及び方法を目的とする。これは、誘電体
が焼結する時期と同じ時期に内部電極粉末の焼結の約5
0%が生じることを可能とする。これは、内部電極粉末
、すなわち、銀及びパラジウム粉末並びにそれらの混合
物に対して直接に堆積させる金属有機樹脂酸塩の形態に
あるイリジウム、ロジウム又はそれらの混合物の添加に
よって達成される。内部電極粉末の焼結は、従来よりも
遥かにゆっくりと且つ遥かに広い温度範囲で、且つ少な
くとも部分的に、誘電体を結合する間に、生じるから従
来の方法に従って製造するMLCにおいて表われるもの
よりも遥かに小さなレベルのストレスが焼成の間に発現
するにすぎない。このストレスの低下はMLCの離層の
傾向を低下させ且つ材料とプロセスに対する広い寛容度
を製造者に与えると共に限界に近いプロセスで比較的高
い収率が得られる。
発明の詳細な説明
本発明に従って、銀の粒子又はパラジウムと銀の粒子の
混合物のいずれかの、内部電極粉末の粒子を、結合剤焼
尽又は焼成工程の間に有機金属化合物を分解させたとき
に粒子上に重量で約0.1〜lO%のイリジウム又はロ
ジウム金属を堆積させるような具合に、金属有機樹脂酸
塩の形態にあるイリジウム又はロジウムで被覆すること
によって、内部電極粉末の焼結速度の変化を達成するこ
とができる。他のことわりがない限りは、イリジウム又
はロジウム樹脂酸塩の重量による百分率は、摩砕及び結
合剤焼成工程後の電極粉砕中のイリジウム又はロジウム
金属の百分率を意味する。これは摩砕前に粉末に加えた
イリジウム又はロジウムの樹脂酸塩の重量による百分率
を意味するものではない。焼結速度の変化は、100%
銀粉末及びパラジウム銀粉末において達成することがで
きる。
混合物のいずれかの、内部電極粉末の粒子を、結合剤焼
尽又は焼成工程の間に有機金属化合物を分解させたとき
に粒子上に重量で約0.1〜lO%のイリジウム又はロ
ジウム金属を堆積させるような具合に、金属有機樹脂酸
塩の形態にあるイリジウム又はロジウムで被覆すること
によって、内部電極粉末の焼結速度の変化を達成するこ
とができる。他のことわりがない限りは、イリジウム又
はロジウム樹脂酸塩の重量による百分率は、摩砕及び結
合剤焼成工程後の電極粉砕中のイリジウム又はロジウム
金属の百分率を意味する。これは摩砕前に粉末に加えた
イリジウム又はロジウムの樹脂酸塩の重量による百分率
を意味するものではない。焼結速度の変化は、100%
銀粉末及びパラジウム銀粉末において達成することがで
きる。
60/40〜0/100のパラジウム/銀の比において
最良の結果が認められる。パラジウムの比が比較的高く
なると効果は次第に低くなる。イリジウムとロジウムは
100%パラジウムの粉末の焼結速度の変化に対しては
何らの効果をも示さない。
最良の結果が認められる。パラジウムの比が比較的高く
なると効果は次第に低くなる。イリジウムとロジウムは
100%パラジウムの粉末の焼結速度の変化に対しては
何らの効果をも示さない。
銀パラジウム電極粉末の製造方式に依存して、イリジウ
ム又はaジウム焼結添加剤は、種々の方法で添加するこ
とができる。しかしながら、きわめて低いか又はゼロ粉
末度の摩砕値を有するパラジウム銀粉末を与える振動摩
砕方法によって調製することが現在のところでは好適で
ある。たとえば微粉化ミル及びボールミルのような他の
方法を用いて粉末を調製することもできる。微粉化方法
を用いるときは、微粉化前に金属粉に溶液を添加し、次
いで粉末を乾燥することにより、金属粉を予備被覆する
ことによって、粒子に焼結制御添加剤を付与する。ボー
ルミル方法を用いるときは、ボールミルプロセスの間に
焼結制御添加剤を加える。摩砕プロセス後に焼結制御添
加剤を加え、且つ摩砕した粉末と適当な方法によって混
合することもできる。あるいは、焼結制御適当なを加え
ることなく粉末を摩砕することもできる。次いで焼結制
御添加剤及び用材とシックナーを含有する適当な媒体中
で混合することによって、粉末をインキ状とする。イン
キは3本ロールミル上で混和することが好ましいが、他
の適当な手段を用いることもできる。焼結制御添加剤を
含有する摩砕金属を適当な媒体と混合することによって
インキとすることもできる。
ム又はaジウム焼結添加剤は、種々の方法で添加するこ
とができる。しかしながら、きわめて低いか又はゼロ粉
末度の摩砕値を有するパラジウム銀粉末を与える振動摩
砕方法によって調製することが現在のところでは好適で
ある。たとえば微粉化ミル及びボールミルのような他の
方法を用いて粉末を調製することもできる。微粉化方法
を用いるときは、微粉化前に金属粉に溶液を添加し、次
いで粉末を乾燥することにより、金属粉を予備被覆する
ことによって、粒子に焼結制御添加剤を付与する。ボー
ルミル方法を用いるときは、ボールミルプロセスの間に
焼結制御添加剤を加える。摩砕プロセス後に焼結制御添
加剤を加え、且つ摩砕した粉末と適当な方法によって混
合することもできる。あるいは、焼結制御適当なを加え
ることなく粉末を摩砕することもできる。次いで焼結制
御添加剤及び用材とシックナーを含有する適当な媒体中
で混合することによって、粉末をインキ状とする。イン
キは3本ロールミル上で混和することが好ましいが、他
の適当な手段を用いることもできる。焼結制御添加剤を
含有する摩砕金属を適当な媒体と混合することによって
インキとすることもできる。
一般に、振動摩砕方法は、小メツシユ(−10/+20
)のりジルコニアビーズ、一般にはラウリル酸、ステア
リン酸、パルミチン酸、ミリスチン酸又はカプリル酸の
ような飽和又は不飽和脂肪酸である潤滑剤及び酢酸エチ
ル、テレピン油、エステル、脂肪酸炭化水素、アルコー
ル、テルペン、芳香族炭化水素及びそれらの混合物のよ
うな、摩砕後の容易な除去のための高い乾燥速度を有す
る溶剤と共に、粉末を振動的に摩砕することからなって
いる。振動摩砕は粉末の凝集を破壊して球状を潤滑剤で
被覆し、それによってインキの調製において粉末が容易
に分散できるようにする。摩砕は、どのような適当な摩
砕装置を用いて行なってもよいが、現在のところではス
ウエコミルが好適である。振動摩砕方法−を用いて内部
電極粉末を調製するときには、振動摩砕手順の間にイリ
ジウム又はロジウム金属有機樹脂酸塩を添加する。
)のりジルコニアビーズ、一般にはラウリル酸、ステア
リン酸、パルミチン酸、ミリスチン酸又はカプリル酸の
ような飽和又は不飽和脂肪酸である潤滑剤及び酢酸エチ
ル、テレピン油、エステル、脂肪酸炭化水素、アルコー
ル、テルペン、芳香族炭化水素及びそれらの混合物のよ
うな、摩砕後の容易な除去のための高い乾燥速度を有す
る溶剤と共に、粉末を振動的に摩砕することからなって
いる。振動摩砕は粉末の凝集を破壊して球状を潤滑剤で
被覆し、それによってインキの調製において粉末が容易
に分散できるようにする。摩砕は、どのような適当な摩
砕装置を用いて行なってもよいが、現在のところではス
ウエコミルが好適である。振動摩砕方法−を用いて内部
電極粉末を調製するときには、振動摩砕手順の間にイリ
ジウム又はロジウム金属有機樹脂酸塩を添加する。
本発明による有機金属樹脂酸塩は、ヘテロ原子架橋を通
じて有機及び無機分子のような配位子に結合した中心金
属を包含する化合物である。樹脂酸塩は天然に生じる樹
脂酸塩(ロジン)と合成樹脂酸塩、例えば、−数式: %式%) ここでRは8〜20炭素原子を有する炭化水素基であり
且つMlは十〇の原子価を有する中心金属イオンである
、 を有するカルボン酸塩;−数式: %式%) ここでRは8〜20炭素原子を有する炭化水素基であり
、且つM〜は十〇の原子価を有する中心金属イオンであ
る、 を有するアルコラード;−数式: %式%) ここでRは8〜16炭素原子を有する炭化水素基であり
、且つMは+nの原子価を有する中心金属イオンである
、 を有する金属メルカプチド;−数式: %式%) ここでRは8〜16炭素原子を有する炭化水素部分であ
り且つMは+nの原子価を有する中心金属イオンである
、 を有する二つの異なる種類の配位子を有する金属有機化
合物;−数式: ここでRは8〜16炭素原子を有する炭化水素部分であ
り且つMは+nの原子価を有する中心金属イオンである
、 を有するアルデヒド官能基含有化合物;及び式%式%) ここでRは8〜16炭素原子を含有する炭化水素部分で
あり且つMは+nの原子価を有する中心金属イオンであ
る、 を有するアルコキシドを包含する。
じて有機及び無機分子のような配位子に結合した中心金
属を包含する化合物である。樹脂酸塩は天然に生じる樹
脂酸塩(ロジン)と合成樹脂酸塩、例えば、−数式: %式%) ここでRは8〜20炭素原子を有する炭化水素基であり
且つMlは十〇の原子価を有する中心金属イオンである
、 を有するカルボン酸塩;−数式: %式%) ここでRは8〜20炭素原子を有する炭化水素基であり
、且つM〜は十〇の原子価を有する中心金属イオンであ
る、 を有するアルコラード;−数式: %式%) ここでRは8〜16炭素原子を有する炭化水素基であり
、且つMは+nの原子価を有する中心金属イオンである
、 を有する金属メルカプチド;−数式: %式%) ここでRは8〜16炭素原子を有する炭化水素部分であ
り且つMは+nの原子価を有する中心金属イオンである
、 を有する二つの異なる種類の配位子を有する金属有機化
合物;−数式: ここでRは8〜16炭素原子を有する炭化水素部分であ
り且つMは+nの原子価を有する中心金属イオンである
、 を有するアルデヒド官能基含有化合物;及び式%式%) ここでRは8〜16炭素原子を含有する炭化水素部分で
あり且つMは+nの原子価を有する中心金属イオンであ
る、 を有するアルコキシドを包含する。
現在のところでは、三塩化イリジウム−トリス−ジ−n
−ブチルスルフィド及び2−エチルへキサン酸ロジウム
が好適であるけれども、分解して内部電極粉末をイリジ
ウム又はロジウムで被覆する如何なるロジウム又はイリ
ジウム金属有機樹脂酸塩をも使用することができる。金
属有機樹脂酸塩は、焼尽及び焼成工程後の分解後に内部
電極粉末の重量に対して0.1〜10.0重量%、好ま
しくは0.1〜0.5重量%のイリジウム又はロジウム
を与えるように添加するが、ロジウム金属有機樹脂酸塩
に対しては約0.1−0.25重量%が好適量であり、
イリジウム金属有機樹脂酸塩に対しては約0.25〜0
.5重量%が好適量である。イリジウム及びロジウム樹
脂塩は混合物として添加することもできる。現在のとこ
ろでは、約6:l乃至約0.65:lのIr:Rhの比
を有する混合物を用いることが好ましいが、他の比率を
用いることもできる。
−ブチルスルフィド及び2−エチルへキサン酸ロジウム
が好適であるけれども、分解して内部電極粉末をイリジ
ウム又はロジウムで被覆する如何なるロジウム又はイリ
ジウム金属有機樹脂酸塩をも使用することができる。金
属有機樹脂酸塩は、焼尽及び焼成工程後の分解後に内部
電極粉末の重量に対して0.1〜10.0重量%、好ま
しくは0.1〜0.5重量%のイリジウム又はロジウム
を与えるように添加するが、ロジウム金属有機樹脂酸塩
に対しては約0.1−0.25重量%が好適量であり、
イリジウム金属有機樹脂酸塩に対しては約0.25〜0
.5重量%が好適量である。イリジウム及びロジウム樹
脂塩は混合物として添加することもできる。現在のとこ
ろでは、約6:l乃至約0.65:lのIr:Rhの比
を有する混合物を用いることが好ましいが、他の比率を
用いることもできる。
振動的な摩砕と金属有機樹脂酸塩の添加後に、生皮した
粉末を乾燥する。どのような適当な乾燥手段をも用いる
ことができるけれども、現在のところでは回転真空乾燥
によって又は蒸気テーブル上で粉末を乾燥することが好
ましい。
粉末を乾燥する。どのような適当な乾燥手段をも用いる
ことができるけれども、現在のところでは回転真空乾燥
によって又は蒸気テーブル上で粉末を乾燥することが好
ましい。
次いで、MLCを結合剤焼尽工程に送る。結合剤焼尽工
程は一般に室温から出発して300〜4oo’cまで温
度を上昇させて、12〜24時間にわたって行う。その
直後に、MLCを焼成工程中に送る。MLCのための焼
成工程の間に、鎖中には溶解しないロジウム又はイリジ
ウムが、粒子間のパラジウムと銀の相互拡散に対する障
壁として働らく。焼成工程は一般に、誘電体に依存して
、1050〜1250℃の温度で6〜12時間にわたっ
て行なう。通常はパラジウムの脱酸素後に相互拡散がか
なり迅速に具合よく生じる。合金固溶体相を形成すべき
パラジウムと銀の拡散は、何らの添加剤をも包含しない
かのように進行する。この障壁効果は拡散が生じること
を妨げることはなく、焼結が遥かに低い速度で生じるよ
うにプロセルを遅延させるのみである。結合剤焼尽工程
と焼成工程の間に、イリジウム又はロジウム金属有機樹
脂酸塩は分解してパラジウム銀粉末を、きわめて微細な
イリジウム又はロジウム粒子の被覆する。
程は一般に室温から出発して300〜4oo’cまで温
度を上昇させて、12〜24時間にわたって行う。その
直後に、MLCを焼成工程中に送る。MLCのための焼
成工程の間に、鎖中には溶解しないロジウム又はイリジ
ウムが、粒子間のパラジウムと銀の相互拡散に対する障
壁として働らく。焼成工程は一般に、誘電体に依存して
、1050〜1250℃の温度で6〜12時間にわたっ
て行なう。通常はパラジウムの脱酸素後に相互拡散がか
なり迅速に具合よく生じる。合金固溶体相を形成すべき
パラジウムと銀の拡散は、何らの添加剤をも包含しない
かのように進行する。この障壁効果は拡散が生じること
を妨げることはなく、焼結が遥かに低い速度で生じるよ
うにプロセルを遅延させるのみである。結合剤焼尽工程
と焼成工程の間に、イリジウム又はロジウム金属有機樹
脂酸塩は分解してパラジウム銀粉末を、きわめて微細な
イリジウム又はロジウム粒子の被覆する。
パラジウム銀粉末上のイリジウム又はロジウムの効果の
例は膨張計又は熱機械分析(TMA)の結果によって、
もっともよく示すことができる。
例は膨張計又は熱機械分析(TMA)の結果によって、
もっともよく示すことができる。
各図中において、それぞれの結果は、試料の大きさ、装
置中で用いた圧縮ペレットの初期密度及び使用した装置
の部品のような条件によって影響を受けるから、収縮の
量は相対的なものであるにすぎない。興味のある点は、
収縮が生じる温度領域である。
置中で用いた圧縮ペレットの初期密度及び使用した装置
の部品のような条件によって影響を受けるから、収縮の
量は相対的なものであるにすぎない。興味のある点は、
収縮が生じる温度領域である。
実施例1
従来の方法に従って、振動摩砕方法を用いて重量で30
%のパラジウムと重量で70%の銀を含有するパラジウ
ム銀内部電極粉末を調製した。先ず、100gの粉末、
0.7gのステアリン酸、55gの酢酸エチル、55g
のラクトールスピリット及び900gのZrO2摩砕ビ
ーズの全部をスウエコ摩砕機のかん中に入れて、1時間
摩砕した。次いで粉末を陶器ざら中に出し、Z ro
2を除き、蒸気テーブル上で約85°Cにおいて乾燥し
たのち、−100メツシユにふるった。粉末を試験する
ために、7gの粉末をに×に″のペレット状に圧縮した
。生皮したペレットを膨張計中に押し込み、1時間に約
5℃で室温から1000°Cまで昇温した。第2図はこ
の粉末に対する膨張計からの記録を示す。図から明らか
なように、全部の収縮が500〜800 ’Oの温度範
囲で生じる。800〜1000°Cの温度範囲における
試料長さの増大は、現時点では十分には理解できないが
、パラジウムの還元から取り込まれたガスによるペレッ
ト内の火ぶくれによって生じるものと考えられる。これ
は、特に最終圧縮温度が850 ’Oを越える場合には
、すべての試料において生じるものではない。
%のパラジウムと重量で70%の銀を含有するパラジウ
ム銀内部電極粉末を調製した。先ず、100gの粉末、
0.7gのステアリン酸、55gの酢酸エチル、55g
のラクトールスピリット及び900gのZrO2摩砕ビ
ーズの全部をスウエコ摩砕機のかん中に入れて、1時間
摩砕した。次いで粉末を陶器ざら中に出し、Z ro
2を除き、蒸気テーブル上で約85°Cにおいて乾燥し
たのち、−100メツシユにふるった。粉末を試験する
ために、7gの粉末をに×に″のペレット状に圧縮した
。生皮したペレットを膨張計中に押し込み、1時間に約
5℃で室温から1000°Cまで昇温した。第2図はこ
の粉末に対する膨張計からの記録を示す。図から明らか
なように、全部の収縮が500〜800 ’Oの温度範
囲で生じる。800〜1000°Cの温度範囲における
試料長さの増大は、現時点では十分には理解できないが
、パラジウムの還元から取り込まれたガスによるペレッ
ト内の火ぶくれによって生じるものと考えられる。これ
は、特に最終圧縮温度が850 ’Oを越える場合には
、すべての試料において生じるものではない。
実施fl12
2−エチルヘキサン塩酸として0.25重量%のロジウ
ムを摩砕工程中に添加した以外は、実施例1中に記した
ものと同一の振動摩砕方法によって、30%のパラジウ
ムと70%の銀の粉末を調製した。スウエコ摩砕機のか
んに下記の材料を入れ tこ 。
ムを摩砕工程中に添加した以外は、実施例1中に記した
ものと同一の振動摩砕方法によって、30%のパラジウ
ムと70%の銀の粉末を調製した。スウエコ摩砕機のか
んに下記の材料を入れ tこ 。
48.0gの粉末;0.35gのステアリン酸:32.
5gのラクトールスピリット;32−5gの酢酸エチル
;0.85gのRh樹脂酸塩(この樹脂酸塩のロジウム
含量は14%であった)及び400gのZrO,ビーズ
。かくして得た粉末を実施例1と同様にして膨張計中で
試験した。
5gのラクトールスピリット;32−5gの酢酸エチル
;0.85gのRh樹脂酸塩(この樹脂酸塩のロジウム
含量は14%であった)及び400gのZrO,ビーズ
。かくして得た粉末を実施例1と同様にして膨張計中で
試験した。
第3図から明らかなように、従来の組成物を用いる第2
図においては全部の収縮が生じている範囲である550
〜750 ’Oの範囲において50%の収縮が生じるの
みである。残りの50%の収縮は750〜1000℃の
範囲で生じる。第1図において認められるように、この
範囲は誘電体中で実質的に全部の収縮が生じる範囲でも
ある。
図においては全部の収縮が生じている範囲である550
〜750 ’Oの範囲において50%の収縮が生じるの
みである。残りの50%の収縮は750〜1000℃の
範囲で生じる。第1図において認められるように、この
範囲は誘電体中で実質的に全部の収縮が生じる範囲でも
ある。
実施例3
摩砕工程中に、トリクロリド−トリス−ジーn −ブチ
ルスルフィドとして0.5重量%のイリジウムを加えた
以外は、実施例1に記載と同様な振動摩砕プロセスによ
って30%のパラジウムと70%の銀の粉末を調製した
。かくして得た粉末を実施例2と同様にして膨張計中で
試験した。以下の材料を使用して、その全部を一緒に摩
砕した:50.0gの金属粉末;0.35gのステアリ
ン酸;32.5gのラクトールスピリット;32.5g
の酢酸エチル:1.15gのIr樹脂酸塩(この樹脂酸
塩は24%の金属Irを含有する)、及び400gのZ
r Ozビーズ。
ルスルフィドとして0.5重量%のイリジウムを加えた
以外は、実施例1に記載と同様な振動摩砕プロセスによ
って30%のパラジウムと70%の銀の粉末を調製した
。かくして得た粉末を実施例2と同様にして膨張計中で
試験した。以下の材料を使用して、その全部を一緒に摩
砕した:50.0gの金属粉末;0.35gのステアリ
ン酸;32.5gのラクトールスピリット;32.5g
の酢酸エチル:1.15gのIr樹脂酸塩(この樹脂酸
塩は24%の金属Irを含有する)、及び400gのZ
r Ozビーズ。
第4図から明らかなように、実質的に全部の収縮が55
0−1000°Cで生じる。約300°Cにおいて僅か
な収縮が存在するが、これは摩砕中に用いた金属有機相
と潤滑剤の分解のためである。
0−1000°Cで生じる。約300°Cにおいて僅か
な収縮が存在するが、これは摩砕中に用いた金属有機相
と潤滑剤の分解のためである。
実施例4
パラジウムの銀に対する比率を60重量%のパラジウム
と40重量%の銀とした以外は、実施例1に記載したも
のと同一の振動摩砕プロセスにより2種の別々のパラジ
ウム銀粉末を調製した。
と40重量%の銀とした以外は、実施例1に記載したも
のと同一の振動摩砕プロセスにより2種の別々のパラジ
ウム銀粉末を調製した。
方のパラジウム銀粉末(材料A)に対して、振動摩砕プ
ロセス中に、2−エチルヘキサン酸塩として0.51重
量%のロジウムを、他方の粉末(材料B)に対して、ト
リクロリド−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドとして
0.55重量%のイリジウムを加えた。材料Aは下記の
材料を用いて調製して、その全部を一緒に摩砕した: 50gの金属粉末;0.35gのステアリン酸;32.
5gのラクトールスピリット;32.5gの酢酸エチル
;1.15gのIr樹脂酸塩(この樹脂酸塩は24%の
金属1rを含有する)及び400gのZr0zビーズ。
ロセス中に、2−エチルヘキサン酸塩として0.51重
量%のロジウムを、他方の粉末(材料B)に対して、ト
リクロリド−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドとして
0.55重量%のイリジウムを加えた。材料Aは下記の
材料を用いて調製して、その全部を一緒に摩砕した: 50gの金属粉末;0.35gのステアリン酸;32.
5gのラクトールスピリット;32.5gの酢酸エチル
;1.15gのIr樹脂酸塩(この樹脂酸塩は24%の
金属1rを含有する)及び400gのZr0zビーズ。
材料Bの下記の材料を用いて調製した:50gの金属粉
末;0.35gのステアリン酸;32.5gのラクトー
ルスピリット;32.5gの酢酸エチル;1.70gの
Rh樹脂酸塩(この樹脂酸塩は14%のRh金属を含有
する)及び400gのZrO2ビーズ。
末;0.35gのステアリン酸;32.5gのラクトー
ルスピリット;32.5gの酢酸エチル;1.70gの
Rh樹脂酸塩(この樹脂酸塩は14%のRh金属を含有
する)及び400gのZrO2ビーズ。
材料C(焼結制御添加剤を用いずに製造した対照試料)
は下記の材料を用いて調製した:50gの金属粉末;0
.35gのステアリン酸:32.5gのラクトールスピ
リット;32.5gの酢酸エチル及び400gのZrO
2ビーズ。
は下記の材料を用いて調製した:50gの金属粉末;0
.35gのステアリン酸:32.5gのラクトールスピ
リット;32.5gの酢酸エチル及び400gのZrO
2ビーズ。
第5図は材料A−Cの収縮結果を示す。
実施例5
各粉末に対するパラジウムの銀に対する比率を15%の
パラジウムと85%の銀とした以外は、実施例1に記載
したものと同一の振動摩砕プロセスによって2種のパラ
ジウム銀粉末を調製した。
パラジウムと85%の銀とした以外は、実施例1に記載
したものと同一の振動摩砕プロセスによって2種のパラ
ジウム銀粉末を調製した。
摩砕プロセス中に、一方の粉末に対して2−エチルへキ
サン酸塩として0.5%のロジウムを添加しく材料A)
、他方の粉末に対してはトリクロリド−トリス−ジ−n
−ブチルスルフィドとして0゜5重量%のイリジウムを
加えた。材料A及びBを、対照試料(材料C)と共に、
実施例1と同様にして膨張計中で試験した。材料Aは下
記の材料から調製し、その全部を一緒に摩砕した: 50gの金属粉末;0.35gのステアリン酸;32.
5gのラクトールスピリット;32.5gの酢酸エチル
;1.15gのI「樹脂酸塩(この樹脂酸塩は24%の
Ir金属を含有した)及び400gのZrO2ビーズ。
サン酸塩として0.5%のロジウムを添加しく材料A)
、他方の粉末に対してはトリクロリド−トリス−ジ−n
−ブチルスルフィドとして0゜5重量%のイリジウムを
加えた。材料A及びBを、対照試料(材料C)と共に、
実施例1と同様にして膨張計中で試験した。材料Aは下
記の材料から調製し、その全部を一緒に摩砕した: 50gの金属粉末;0.35gのステアリン酸;32.
5gのラクトールスピリット;32.5gの酢酸エチル
;1.15gのI「樹脂酸塩(この樹脂酸塩は24%の
Ir金属を含有した)及び400gのZrO2ビーズ。
材料Bは下記の材料から調製し、その全部を一緒に摩砕
した: 50gの金属粉末;0.35gのステアリン酸;3.2
.5gのラクトールスピリット;32.5gの酢酸エチ
ル;1.70gのRh樹脂酸塩(この樹脂酸塩は14%
のRh金属を含有した)及び400gのZr0zビーズ
。
した: 50gの金属粉末;0.35gのステアリン酸;3.2
.5gのラクトールスピリット;32.5gの酢酸エチ
ル;1.70gのRh樹脂酸塩(この樹脂酸塩は14%
のRh金属を含有した)及び400gのZr0zビーズ
。
材料Cは下記の材料から調製し、その全部を一緒に摩砕
した: 50gの金属粉末;0.35gのステアリン酸;32.
5’gのラクトールスピリット;32.5gの酢酸エチ
ル及び400gのZrO2ビーズ。
した: 50gの金属粉末;0.35gのステアリン酸;32.
5’gのラクトールスピリット;32.5gの酢酸エチ
ル及び400gのZrO2ビーズ。
第6図は、この実施例の材料A−Cの収縮結果を示す。
実施例6
実施例1に記載したような振動摩砕プロセスの間に、実
質的に100%の銀粉末に対して2−エチルヘキサン酸
塩として0.25%のロジウムを加えた(材料A)。ト
リクロリド−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドとして
0.5%のイリジウムを加える以外は同様な方法によっ
て別の銀粉末を調製した(材料B)。材料A及びBを、
対照試料(材料C)と共に、実施例1に記したようにし
て膨張計中で試験した。
質的に100%の銀粉末に対して2−エチルヘキサン酸
塩として0.25%のロジウムを加えた(材料A)。ト
リクロリド−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドとして
0.5%のイリジウムを加える以外は同様な方法によっ
て別の銀粉末を調製した(材料B)。材料A及びBを、
対照試料(材料C)と共に、実施例1に記したようにし
て膨張計中で試験した。
材料Aは下記の材料から調製し、その全部を一緒に摩砕
した: 200gの金属粉末;1.4gのステアリン酸;130
gのラクトールスピリット;130gの酢酸エチル;3
.4gのRh樹脂酸塩(この樹脂酸塩は0.25%のR
h金属を含有した);0.2gの硫黄X及び1600g
(1’)ZrOzt’−ス。
した: 200gの金属粉末;1.4gのステアリン酸;130
gのラクトールスピリット;130gの酢酸エチル;3
.4gのRh樹脂酸塩(この樹脂酸塩は0.25%のR
h金属を含有した);0.2gの硫黄X及び1600g
(1’)ZrOzt’−ス。
材料Bは下記の材料から戊り;その全部を一緒に摩砕し
た: 200gの粉末;1.4gのステアリン酸;130gの
ラクトールスピリット;130gの酢酸エチル;4.3
5gのIr樹脂酸塩(この樹脂酸塩は24%のIr金属
を含有した);0.2gの硫黄基及び1600gのZr
01ビーズ。
た: 200gの粉末;1.4gのステアリン酸;130gの
ラクトールスピリット;130gの酢酸エチル;4.3
5gのIr樹脂酸塩(この樹脂酸塩は24%のIr金属
を含有した);0.2gの硫黄基及び1600gのZr
01ビーズ。
材料Cは下記の材料から戒り:その全部を一緒に摩砕し
た: 200gの粉末;1.4gのステアリン酸:130gの
ラクトールスピリット;130gの酢酸エチル;0.2
gの硫黄基及び1600gのZrO2ビーズ。
た: 200gの粉末;1.4gのステアリン酸:130gの
ラクトールスピリット;130gの酢酸エチル;0.2
gの硫黄基及び1600gのZrO2ビーズ。
本硫黄は大きな塊まりの生成を防ぐために銀に添加する
。
。
第7図は材料A−Cの収縮結果を示す。純銀への添加は
焼結速度の著しい変化を生じさせ、且つ低焼成多層コン
デンサーにおける使用に対して望ましい結果を与えるた
めには、全添加量を低下させるべきかも知れない。
焼結速度の著しい変化を生じさせ、且つ低焼成多層コン
デンサーにおける使用に対して望ましい結果を与えるた
めには、全添加量を低下させるべきかも知れない。
以下の実施例はイリジウムとロジウムの焼結制御添加剤
の混合物を記す。
の混合物を記す。
実施例 7
摩砕プロセスの間に粉末に対して、イリジウムトリクロ
リド−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドとしての0.
25重量%のイリジウムと2−エチルヘキサン酸として
の0.12重量%のロジウムの混合物を加える以外は、
実施例1中に記すと同様な振動摩砕プロセスによって、
30%パラジウム、70%銀粉末を調製した。かくして
得た粉末を実施例1と同様に膨張社中で試験した。粉末
を仕上げるために下記の材料を使用し、その全部を一緒
に摩砕した。
リド−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドとしての0.
25重量%のイリジウムと2−エチルヘキサン酸として
の0.12重量%のロジウムの混合物を加える以外は、
実施例1中に記すと同様な振動摩砕プロセスによって、
30%パラジウム、70%銀粉末を調製した。かくして
得た粉末を実施例1と同様に膨張社中で試験した。粉末
を仕上げるために下記の材料を使用し、その全部を一緒
に摩砕した。
50.0g銀/パラジウム粉末;0.35gのステアリ
ン酸;32.5gのラクトールスピリット;32.5g
の酢酸エチル; 400gのZrO2ビーズ;0.47
gのRh樹脂酸塩(この樹脂酸塩は14%のRh金属を
含有した)及び0.57gのIr樹脂酸塩(この樹脂酸
塩は24%のIr金属を含有した)。
ン酸;32.5gのラクトールスピリット;32.5g
の酢酸エチル; 400gのZrO2ビーズ;0.47
gのRh樹脂酸塩(この樹脂酸塩は14%のRh金属を
含有した)及び0.57gのIr樹脂酸塩(この樹脂酸
塩は24%のIr金属を含有した)。
第8図は膨張社中の試験によるこ、の実施例の粉末の収
縮を示す。
縮を示す。
実施例 8
摩砕工程の間に粉末に対して、イリジウムトリクロリド
−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドとしての0.35
重量%のイリジウムと2−エチルヘキサン酸ロジウムと
しての0.06重量%のロジウムの混合物を添加する以
外は、実施例1に記載のものと同様な振動摩砕プロセス
によって30%パラジウム、70%銀粉末を調製した。
−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドとしての0.35
重量%のイリジウムと2−エチルヘキサン酸ロジウムと
しての0.06重量%のロジウムの混合物を添加する以
外は、実施例1に記載のものと同様な振動摩砕プロセス
によって30%パラジウム、70%銀粉末を調製した。
かくして得た粉末を実施例1と同様にして膨張社中で試
験した。粉末を仕上げるために下記の材料を用い、その
全部を一緒に摩砕した。
験した。粉末を仕上げるために下記の材料を用い、その
全部を一緒に摩砕した。
50.0gの銀/パラジウム粉末;0.35gのステア
リン酸;35.5gのラクトールスピリット32.5g
の酢酸エチル; 400gのZrO*ビーズ;0.64
gのRh樹脂酸塩(この樹脂酸塩は14%のRh金属を
含有した)及び0.29gのIr樹脂酸塩(この樹脂酸
塩は24%のIr金属を含有した) 第9図は膨張社中の試験によるこの実施例の粉末の収縮
を示す。
リン酸;35.5gのラクトールスピリット32.5g
の酢酸エチル; 400gのZrO*ビーズ;0.64
gのRh樹脂酸塩(この樹脂酸塩は14%のRh金属を
含有した)及び0.29gのIr樹脂酸塩(この樹脂酸
塩は24%のIr金属を含有した) 第9図は膨張社中の試験によるこの実施例の粉末の収縮
を示す。
摩砕工程の間に粉末に対して、イリジウムトリクロリド
−トリス−n−ブチルスルフィドとしての0.12重量
%のイリジウムと2エチルヘキサン酸塩としての0.1
8重量%のロジウムの混合物を添加した以外は、実施例
1に記したものと同一の振動摩砕プロセスによって30
%パラジウム、70%銀粉末を調製した。かくして得た
粉末を実施例1と同様に膨張社中で試験した。粉末を仕
上げるために下記の材料を使用し、その全部を一緒に摩
砕した。
−トリス−n−ブチルスルフィドとしての0.12重量
%のイリジウムと2エチルヘキサン酸塩としての0.1
8重量%のロジウムの混合物を添加した以外は、実施例
1に記したものと同一の振動摩砕プロセスによって30
%パラジウム、70%銀粉末を調製した。かくして得た
粉末を実施例1と同様に膨張社中で試験した。粉末を仕
上げるために下記の材料を使用し、その全部を一緒に摩
砕した。
50.0g銀/パラジウム粉末;0.35gのステアリ
ン酸;32.5gのラクトールスピリット;32.5g
の酢酸エチル;400gのZrO2ビーズ;0.21g
のRh樹脂酸塩(この樹脂酸塩は14%のRh金属を含
有した)及び0.87gのIr樹脂酸塩(この樹脂酸塩
は24%のIr金属を含有した)。
ン酸;32.5gのラクトールスピリット;32.5g
の酢酸エチル;400gのZrO2ビーズ;0.21g
のRh樹脂酸塩(この樹脂酸塩は14%のRh金属を含
有した)及び0.87gのIr樹脂酸塩(この樹脂酸塩
は24%のIr金属を含有した)。
第1O図は膨張計による試験におけるこの実施例の粉末
を収縮を示す。
を収縮を示す。
実施例 10
摩砕工程の間に粉末に対して、イリジウムトリクロリド
−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドとしての0.25
重量のイリジウムと2−エチルへキサン酸塩としての0
.25重量%のロジウムの混合物を添加する以外は、実
施例1に記したものと同一の振動摩砕ブロセズによって
30%パラジウム/70%銀粉末を調製した。かくして
得た粉末を実施例1と同様にして膨張社中で試験した。
−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドとしての0.25
重量のイリジウムと2−エチルへキサン酸塩としての0
.25重量%のロジウムの混合物を添加する以外は、実
施例1に記したものと同一の振動摩砕ブロセズによって
30%パラジウム/70%銀粉末を調製した。かくして
得た粉末を実施例1と同様にして膨張社中で試験した。
粉末の仕上げには下記の材料を使用し、その全部を一緒
に摩砕した: 50.0gの銀パラジウム粉末;0.35gのステアリ
ン酸;32.5gのラクトールスピリット;32.5g
の酢酸エチル; 400gのZrO2ビーズ;0.85
gのRh樹脂酸塩(この樹脂酸塩は14%のRh金属を
含有した)及びIr樹脂酸塩(この樹脂酸塩は24%の
Ir金属を含有した)。
に摩砕した: 50.0gの銀パラジウム粉末;0.35gのステアリ
ン酸;32.5gのラクトールスピリット;32.5g
の酢酸エチル; 400gのZrO2ビーズ;0.85
gのRh樹脂酸塩(この樹脂酸塩は14%のRh金属を
含有した)及びIr樹脂酸塩(この樹脂酸塩は24%の
Ir金属を含有した)。
第11図は膨張社中の試験におけるこの実施例の粉末の
収縮を示す。
収縮を示す。
実施例 11
実施例1中に記すと同様な振動摩砕プロセスによって、
同一の成分を含有する30%パラジウム/70%銀粉末
を調製した。摩砕操作後に、インキを形成させるための
10.8gの媒体と共に、粉末に対して0.6gのイリ
ジウム樹脂酸塩、すなわち、イリジウムトリクロリド−
トリス−ジ−n−ブチルスルフィド(この樹脂酸塩は重
量で24%のイリジウム金属を含有した)を添加しt;
。
同一の成分を含有する30%パラジウム/70%銀粉末
を調製した。摩砕操作後に、インキを形成させるための
10.8gの媒体と共に、粉末に対して0.6gのイリ
ジウム樹脂酸塩、すなわち、イリジウムトリクロリド−
トリス−ジ−n−ブチルスルフィド(この樹脂酸塩は重
量で24%のイリジウム金属を含有した)を添加しt;
。
媒体は重量で8%のEHEC■(/X−キュレス社製、
エチルヒドロキシエチルセルロース)、重量で16%の
バーコリンD■(バーキュレス社製、水素化ロジンのメ
チルエステル)、重量で1.5%のトレーペックス■4
.4(アーガスケミカル社製、エポキシトール酸オクチ
ル)、重量で8%のステイベライト■樹脂(パーキュレ
ス製、水素化ウッドロジン)、重量で15.5%のバー
ツル3■(エクソン製、脂肪族石油溶剤混合物)、重量
で6%のH3B@溶剤(アムスコ製、芳香族石油溶剤)
及び重量で45%のシェル溶剤71号(シェルオイル社
製、脂肪族炭化水素溶剤)を含有した。粉末、樹脂酸塩
及び媒体を3本ロール混合機上で全部−緒に混合してイ
ンキを形成させた。
エチルヒドロキシエチルセルロース)、重量で16%の
バーコリンD■(バーキュレス社製、水素化ロジンのメ
チルエステル)、重量で1.5%のトレーペックス■4
.4(アーガスケミカル社製、エポキシトール酸オクチ
ル)、重量で8%のステイベライト■樹脂(パーキュレ
ス製、水素化ウッドロジン)、重量で15.5%のバー
ツル3■(エクソン製、脂肪族石油溶剤混合物)、重量
で6%のH3B@溶剤(アムスコ製、芳香族石油溶剤)
及び重量で45%のシェル溶剤71号(シェルオイル社
製、脂肪族炭化水素溶剤)を含有した。粉末、樹脂酸塩
及び媒体を3本ロール混合機上で全部−緒に混合してイ
ンキを形成させた。
3本ロール混練操作中に追加の3.9gの媒体を加えて
インキの粘度を調製した。次いで一部分のインキを風乾
してペレット状としたのち、実施例1におけるように膨
張社中で試験した。
インキの粘度を調製した。次いで一部分のインキを風乾
してペレット状としたのち、実施例1におけるように膨
張社中で試験した。
第12図は膨張社中の試験における材料の収縮を示す。
実施例 I2
この実施例においては、実施例1,2及び3で調製した
粉末から3種のインキを生皮させた。各インキは同様に
して調製した。すなわち、粉末を実施例11中に記した
ものと同一の媒体と混合し、3本ロールによる混練の間
に追加の媒体を加えて(後添加)インキに対して適当な
粘度を与えた。
粉末から3種のインキを生皮させた。各インキは同様に
して調製した。すなわち、粉末を実施例11中に記した
ものと同一の媒体と混合し、3本ロールによる混練の間
に追加の媒体を加えて(後添加)インキに対して適当な
粘度を与えた。
添加した材料の量を第2表中に示す:
材料A 材料B 材料C
実施例1の粉末 27.5g
実施例2の粉末 27.5g実施例3
の粉末 媒体 18.0g 18.0g後添加
4.5g 4・5g27.5 g 18.0 g 4.5g 3本ロール混練プロセスが完了してインキを形成させた
のち、各インキの試料を採取して風乾しタッチ、ペレッ
ト状とした。次いでペレットヲ膨張計中で収縮について
試験しt;。膨張計試験の結果を第13図(材料A)、
第14図(材料B)及び第15図(材料C)中に示す。
の粉末 媒体 18.0g 18.0g後添加
4.5g 4・5g27.5 g 18.0 g 4.5g 3本ロール混練プロセスが完了してインキを形成させた
のち、各インキの試料を採取して風乾しタッチ、ペレッ
ト状とした。次いでペレットヲ膨張計中で収縮について
試験しt;。膨張計試験の結果を第13図(材料A)、
第14図(材料B)及び第15図(材料C)中に示す。
実施例 13
実施例5の材料Cを出発材料として用いて、下記のよう
に混合した: 50gの実施例5の材料Cニトリクロリ
ド−トリス−ジ−n−ブチルスルフィド(この樹脂酸塩
は24%にイリジウム金属を含有した)として1.Og
のイリジウム;25gの酢酸エチル:25gのラクトー
ルスピリット;及び400gのZrO2ビーズ。各成分
をジャー中に入れ、ロールミル上で粉末が樹脂酸塩で均
一に被覆されるように混和した。かくして得た材料を実
施例1に記すようにして収縮について膨張社中で試験し
た。取得した材料は0.48%のイリジウムを含有した
。第16図はこの材料の収縮を示す。
に混合した: 50gの実施例5の材料Cニトリクロリ
ド−トリス−ジ−n−ブチルスルフィド(この樹脂酸塩
は24%にイリジウム金属を含有した)として1.Og
のイリジウム;25gの酢酸エチル:25gのラクトー
ルスピリット;及び400gのZrO2ビーズ。各成分
をジャー中に入れ、ロールミル上で粉末が樹脂酸塩で均
一に被覆されるように混和した。かくして得た材料を実
施例1に記すようにして収縮について膨張社中で試験し
た。取得した材料は0.48%のイリジウムを含有した
。第16図はこの材料の収縮を示す。
異なる程度に考察したその他の性質は、アルミナ基板上
にスクリーン印刷した内部電極の焼成フィルムの電気抵
抗率、粒子成長及びバックライト密度を包含する。
にスクリーン印刷した内部電極の焼成フィルムの電気抵
抗率、粒子成長及びバックライト密度を包含する。
走査電子顕微鏡を用いる粒子成長とフィルム密度の考察
において、ロジウムを含有するフィルムと添加剤を含有
しないか又はイリジウムを含有するフィルムとを比較す
ると、相違が存在することを認めることができる。イリ
ジウム含有フィルムは添加剤を含有しないフィルムにお
いて見られる通常の粒子生長を示すのに対して、ロジウ
ム含有フィルムは、はとんど又は全く粒子成長を示さず
且つ互いに焼結した小球状体からなっている。ロジウム
フィルムのバックライト密度は、きわめて低く且つ高度
の多孔性を有している。イリジウム含有フィルムのバッ
クライト密度は添加剤を含有しないフィルムときわめて
類似するが、僅かに低く、これは、この場合にはフィル
ムを焼成するためにさらに高い温度を必要とするためで
あると予想される。
において、ロジウムを含有するフィルムと添加剤を含有
しないか又はイリジウムを含有するフィルムとを比較す
ると、相違が存在することを認めることができる。イリ
ジウム含有フィルムは添加剤を含有しないフィルムにお
いて見られる通常の粒子生長を示すのに対して、ロジウ
ム含有フィルムは、はとんど又は全く粒子成長を示さず
且つ互いに焼結した小球状体からなっている。ロジウム
フィルムのバックライト密度は、きわめて低く且つ高度
の多孔性を有している。イリジウム含有フィルムのバッ
クライト密度は添加剤を含有しないフィルムときわめて
類似するが、僅かに低く、これは、この場合にはフィル
ムを焼成するためにさらに高い温度を必要とするためで
あると予想される。
本発明の主な特徴および態様を記すと次のとおりである
。
。
1、銀及び銀とパラジウムの混合物から成るグループか
ら選択した導電性粉末及びイリジウム金属有機樹脂酸塩
並びにロジウム金属有機樹脂酸塩から成るグループから
選択した焼結制御添加剤を含んで成る内部電極材料にし
て、該焼結制御添加剤は、焼結制御添加剤を含有しない
内部電極粉末と比較してより低い速度で且つより広い温
度範囲で焼結が生じるように内部電極粉末の焼結速度を
変化させるために十分な量で存在していることを特徴と
する該内部電極材料。
ら選択した導電性粉末及びイリジウム金属有機樹脂酸塩
並びにロジウム金属有機樹脂酸塩から成るグループから
選択した焼結制御添加剤を含んで成る内部電極材料にし
て、該焼結制御添加剤は、焼結制御添加剤を含有しない
内部電極粉末と比較してより低い速度で且つより広い温
度範囲で焼結が生じるように内部電極粉末の焼結速度を
変化させるために十分な量で存在していることを特徴と
する該内部電極材料。
2、焼結制御添加剤は内部電極粉末の重量で約0.1〜
1.0パーセントの量で存在する、上記第1項記載の内
部電極材料。
1.0パーセントの量で存在する、上記第1項記載の内
部電極材料。
3、焼結制御添加剤は内部電極粉末の重量で約0.1〜
0.5パーセントの量で存在する、上記第2項記載の内
部電極材料。
0.5パーセントの量で存在する、上記第2項記載の内
部電極材料。
4、ロジウム樹脂酸塩は2−エチルヘキサン酸ロジウム
であり、イリジウム樹脂酸塩はイリジウムトリクロリド
−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドである、上記第1
項記載の内部電極材料。
であり、イリジウム樹脂酸塩はイリジウムトリクロリド
−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドである、上記第1
項記載の内部電極材料。
5、導電性粉末はパラジウムと銀の混合物である、上記
第1項記載の内部電極材料。
第1項記載の内部電極材料。
6、混合物は70重量パーセントのパラジウムと30重
量パーセントの銀から成る、上記第5項記載の内部電極
材料。
量パーセントの銀から成る、上記第5項記載の内部電極
材料。
7、混合物は60重量パーセントのパラジウムと40重
量パーセントの銀から成る、上記第5項記載の内部電極
材料。
量パーセントの銀から成る、上記第5項記載の内部電極
材料。
8、混合物の15重量パーセントのパラジウムと85重
量パーセントの銀から成る、上記第5項記載の内部電極
材料。
量パーセントの銀から成る、上記第5項記載の内部電極
材料。
9、導電性粉末は銀である、上記第1項記載の内部電極
材料。
材料。
10、焼結制御添加剤はイリジウム金属有機樹脂酸塩及
びロジウム金属有機樹脂酸塩の混合物である、上記第1
項記載の内部電極材料。
びロジウム金属有機樹脂酸塩の混合物である、上記第1
項記載の内部電極材料。
11、イリジウム金属有機樹脂酸塩とロジウム金属有機
樹脂酸塩の混合物は約6:l乃至0.65:lのイリジ
ウム樹脂酸塩のロジウム樹脂酸塩に対する比で存在する
、上記第1O項記載の内部電極材料。
樹脂酸塩の混合物は約6:l乃至0.65:lのイリジ
ウム樹脂酸塩のロジウム樹脂酸塩に対する比で存在する
、上記第1O項記載の内部電極材料。
12、イリジウム樹脂酸塩のロジウム樹脂酸塩に対する
比は2:1である、上記第11項記載の内部電極材料。
比は2:1である、上記第11項記載の内部電極材料。
13、導電性粉末としてのパラジウムと銀の混合物及び
重量で約0.25〜0.5パーセントのイリジウムトリ
クロトリド−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドを包含
する内部電極材料。
重量で約0.25〜0.5パーセントのイリジウムトリ
クロトリド−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドを包含
する内部電極材料。
14、導電性粉末としてのパラジウムと銀の混合物及び
重量で約0.1〜0.25パーセントの2−エチルヘキ
サン酸ロジウムを包含する内部電極材料。
重量で約0.1〜0.25パーセントの2−エチルヘキ
サン酸ロジウムを包含する内部電極材料。
15、導電性粉末としての銀及び重量で約0゜1−0.
25パーセントの2−エチルヘキサン酸ロジウムを包含
する内部電極材料。
25パーセントの2−エチルヘキサン酸ロジウムを包含
する内部電極材料。
16、導電性粉末としての銀及び重量で約0゜25〜0
.5パーセントのイリジウムトリクロトリド−トリス−
ジ−n−ブチルスルフィドを包含する内部電極材料。
.5パーセントのイリジウムトリクロトリド−トリス−
ジ−n−ブチルスルフィドを包含する内部電極材料。
17、粉末の形態にある、上記第1項記載の内部電極材
料。
料。
18、インキの形態にあり且つ溶剤に基づく媒体を含有
する上記第1項記載の内部電極材料。
する上記第1項記載の内部電極材料。
19、銀及びパラジウムと銀の混合物から成るグループ
から選択した導電性粉末に対して、ロジラム金属樹脂酸
塩及びイリジウム金属樹脂酸塩から成るグループから選
択した焼結制御添加剤を、焼結制御添加剤を含有しない
内部電極材料と比較してより低い速度で且つより広い温
度範囲で焼結が生じるように内部電極粉末の焼結速度を
変化させるために十分な量で添加することを特徴とする
内部電極材料の焼結速度を変化させるための方法。
から選択した導電性粉末に対して、ロジラム金属樹脂酸
塩及びイリジウム金属樹脂酸塩から成るグループから選
択した焼結制御添加剤を、焼結制御添加剤を含有しない
内部電極材料と比較してより低い速度で且つより広い温
度範囲で焼結が生じるように内部電極粉末の焼結速度を
変化させるために十分な量で添加することを特徴とする
内部電極材料の焼結速度を変化させるための方法。
20、焼結制御添加剤は内部電極材料の重量で約0.1
−1.0パーセントの量で存在する、上記第19項記載
の方法。
−1.0パーセントの量で存在する、上記第19項記載
の方法。
21、焼結制御添加剤は内部電極材料の重量で約0.1
−0.5パーセントの量で存在する、上記第20項記載
の方法。
−0.5パーセントの量で存在する、上記第20項記載
の方法。
22、ロジウム樹脂酸塩は2−エチルヘキサン酸ロジウ
ムであり且つイリジウム樹脂酸塩はイリジウムトリクロ
リド−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドである、上記
第19項記載の方法。
ムであり且つイリジウム樹脂酸塩はイリジウムトリクロ
リド−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドである、上記
第19項記載の方法。
23、導電性粉末はパラジウムと銀の混合物である上記
第19項記載の方法。
第19項記載の方法。
24、混合物は30重量パーセントのパラジウムと70
重量パーセントの銀から成る上記第23項記載の方法。
重量パーセントの銀から成る上記第23項記載の方法。
25、混合物の60重量パーセントのパラジウムと40
重量パーセントの銀から成る、上記第19項記載の方法
。
重量パーセントの銀から成る、上記第19項記載の方法
。
26、混合物は15重量パーセントのパラジウムと85
重量パーセントの銀から成る、上記第19項記載の方法
。
重量パーセントの銀から成る、上記第19項記載の方法
。
27、導電性粉末は銀である、上記第19項記載の方法
。
。
28、焼結制御添加剤はイリジウム金属有機樹脂酸塩と
ロジウム金属有機樹脂酸塩・の混合物である、上記第1
9項記載の方法。
ロジウム金属有機樹脂酸塩・の混合物である、上記第1
9項記載の方法。
29、イリジウム金属有機酸塩とロジウム有機金属樹脂
酸塩の混合物は約6:l乃至O,aS:lのイリジウム
樹脂酸塩のロジウム樹脂酸塩に対する比で存在する、上
記第20項記載の方法。
酸塩の混合物は約6:l乃至O,aS:lのイリジウム
樹脂酸塩のロジウム樹脂酸塩に対する比で存在する、上
記第20項記載の方法。
30、イリジウム樹脂酸塩のロジウム樹脂酸塩の比は2
:lである、上記29記載の方法。
:lである、上記29記載の方法。
31、パラジウムと銀の混合物から成る導電性粉末に対
して重量で約0.25〜0.5パーセントのイリジウム
トリクロリド−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドを添
加することから成る内部電極粉末の焼結速度を変化させ
るための方法。
して重量で約0.25〜0.5パーセントのイリジウム
トリクロリド−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドを添
加することから成る内部電極粉末の焼結速度を変化させ
るための方法。
32、パラジウムと銀の混合物から成る導電性粉末に対
して約0.1〜0.25重量パーセントの量で2−エチ
ルヘキサン酸ロジウムを添加することから成る内部電極
粉末の焼結速度を変化させるための方法。
して約0.1〜0.25重量パーセントの量で2−エチ
ルヘキサン酸ロジウムを添加することから成る内部電極
粉末の焼結速度を変化させるための方法。
33、銀導電性粉末に対して重量で約0.25〜0.5
%のイリジウムトリクロリド−トリス−ジ−n−ブチル
スルフィドを添加することから成る内部電極材の焼結速
度を変化させるための方法。
%のイリジウムトリクロリド−トリス−ジ−n−ブチル
スルフィドを添加することから成る内部電極材の焼結速
度を変化させるための方法。
34、銀導電性粉末に対して約0.1〜0.25重量パ
ーセントの量で2−エチルヘキサン酸ロジウムを添加す
ることから成る内部電極材料の焼結速度を変化させるた
めの方法。
ーセントの量で2−エチルヘキサン酸ロジウムを添加す
ることから成る内部電極材料の焼結速度を変化させるた
めの方法。
35、内部電極材料は粉末の形態にある、上記第19項
記載の方法。
記載の方法。
36、内部電極材料はインキの形態にあり且つ溶剤に基
づく媒体を含有する、上記19項に記載の方法。
づく媒体を含有する、上記19項に記載の方法。
37、少なくとも2層の誘電体層及び誘電体層の間に配
置した少なくとも1層の内部電極層を含んで戊り、該内
部電極層はイリジウム金属及びロジウム金属から成るグ
ループから選択した焼結制御添加剤中の銀及び銀とパラ
ジウムの混合物から成るグループから選択した導電性材
料を含んで戊り、該焼結制御添加剤は焼結制御添加剤を
含有しない内部電極粉末と比較してより低い速度で且つ
より広い温度範囲で焼結が生じるように内部電極材料の
焼結速度を変化させるために十分な量で存在しているこ
とを特徴とする多層セラミックコンデンサー 38、焼結制御添加剤は内部電極材料の重量で約0.1
−10パーセントの量で存在する、上記第37項記載の
多層セラミックコンデンサー39、焼結制御添加剤は内
部電極材料の重量で約0.1−0.5パーセントの量で
存在する、上記第37項記載の多層セラミックコンデン
サー40、ロジウムを最初に2−エチルヘキサン酸ロジ
ウムとして添加し且つイリジウムを最初にイリジウムト
リクロリド−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドとして
添加する、上記第38項記載の多層セラミックコンデン
サー 41、導電性粉末はパラジウムと銀の混合物である、上
記第36項記載の多層セラミックコンデンサー 42、混合物は30重量パーセントのパラジウムと40
重量パーセントの銀から成る、上記第40項記載の多層
セラミックコンデンサー43、混合物は60重量パーセ
ントのパラジウムと40重量パーセントの銀から成る、
上記第40項記載の多層セラミックコンデンサー44、
導電性粉末は銀である上記第37項記載の多層セラミッ
クコンデンサー 45、少なくとも2層の誘電体層及びパラジウムと銀の
混合物重量で約0.25〜0.5パーセントのイリジウ
ムから成る少なくとも1層の内部電極層から成る多層セ
ラミックコンデンサー46、少なくとも2層の誘電体層
及び少なくとも1層の内部電極層から成り、該内部電極
層は導電性材料としてのパラジウムと銀の混合物及び重
Jtf約0.1−0.25パーセントのロジウムから成
る多層セラミックコンデンサー
置した少なくとも1層の内部電極層を含んで戊り、該内
部電極層はイリジウム金属及びロジウム金属から成るグ
ループから選択した焼結制御添加剤中の銀及び銀とパラ
ジウムの混合物から成るグループから選択した導電性材
料を含んで戊り、該焼結制御添加剤は焼結制御添加剤を
含有しない内部電極粉末と比較してより低い速度で且つ
より広い温度範囲で焼結が生じるように内部電極材料の
焼結速度を変化させるために十分な量で存在しているこ
とを特徴とする多層セラミックコンデンサー 38、焼結制御添加剤は内部電極材料の重量で約0.1
−10パーセントの量で存在する、上記第37項記載の
多層セラミックコンデンサー39、焼結制御添加剤は内
部電極材料の重量で約0.1−0.5パーセントの量で
存在する、上記第37項記載の多層セラミックコンデン
サー40、ロジウムを最初に2−エチルヘキサン酸ロジ
ウムとして添加し且つイリジウムを最初にイリジウムト
リクロリド−トリス−ジ−n−ブチルスルフィドとして
添加する、上記第38項記載の多層セラミックコンデン
サー 41、導電性粉末はパラジウムと銀の混合物である、上
記第36項記載の多層セラミックコンデンサー 42、混合物は30重量パーセントのパラジウムと40
重量パーセントの銀から成る、上記第40項記載の多層
セラミックコンデンサー43、混合物は60重量パーセ
ントのパラジウムと40重量パーセントの銀から成る、
上記第40項記載の多層セラミックコンデンサー44、
導電性粉末は銀である上記第37項記載の多層セラミッ
クコンデンサー 45、少なくとも2層の誘電体層及びパラジウムと銀の
混合物重量で約0.25〜0.5パーセントのイリジウ
ムから成る少なくとも1層の内部電極層から成る多層セ
ラミックコンデンサー46、少なくとも2層の誘電体層
及び少なくとも1層の内部電極層から成り、該内部電極
層は導電性材料としてのパラジウムと銀の混合物及び重
Jtf約0.1−0.25パーセントのロジウムから成
る多層セラミックコンデンサー
第1図は典型的な誘電体粉末の膨張計の記録を示す。
第2図は従来の典型的な内部電極粉末(実施例1)に対
する膨張計の記録を示す。 第3〜16図は本発明による実施例2〜13の材料に対
する膨張計を用いた収縮試験の結果を示す。 練熟膨張率 寸清変16 (mml 眸熱膠張牢 X 苺然膨張牽 私 鍔然膨張キ 婢然膣5&、千 1汰変化 1mm1 蘇鮎膨5&や 4汰安化 (mml す シ(灸イし くmml 1珠幻b (mm1 寸シム°支イ6 (mm1 寸汰乍It (mm1 寸ン(変イ6 (mml ′f31.’支イし くmm1 丁シ太−支16 (mml
する膨張計の記録を示す。 第3〜16図は本発明による実施例2〜13の材料に対
する膨張計を用いた収縮試験の結果を示す。 練熟膨張率 寸清変16 (mml 眸熱膠張牢 X 苺然膨張牽 私 鍔然膨張キ 婢然膣5&、千 1汰変化 1mm1 蘇鮎膨5&や 4汰安化 (mml す シ(灸イし くmml 1珠幻b (mm1 寸シム°支イ6 (mm1 寸汰乍It (mm1 寸ン(変イ6 (mml ′f31.’支イし くmm1 丁シ太−支16 (mml
Claims (3)
- 1.銀及び銀とパラジウムの混合物から成るグループか
ら選択した導電性粉末及びイリジウム金属有機樹脂酸塩
並びにロジウム金属有機樹脂酸塩から成るグループから
選択した焼結制御添加剤を含んで成る内部電極材料にし
て、該焼結制御添加剤は、焼結制御添加剤を含有しない
内部電極粉末と比較してより低い速度で且つより広い温
度範囲で焼結が生じるように内部電極粉末の焼結速度を
変化させるために十分な量で存在していることを特徴と
する該内部電極材料。 - 2.銀及びパラジウムと銀の混合物から成るグループか
ら選択した導電性粉末に対して、ロジウム金属樹脂酸塩
及びイリジウム金属樹脂酸塩から成るグループから選択
した焼結制御添加剤を、焼結制御添加剤を含有しない内
部電極材料と比較してより低い速度で且つより広い温度
範囲で焼結が生じるように内部電極粉末の焼結速度を変
化させるために十分な量で添加することを特徴とする内
部電極材料の焼結速度を変化させるための方法。 - 3.少なくとも2層の誘電体層及び誘電体層の間に配置
した少なくとも1層の内部電極層を含んで成り、該内部
電極層はイリジウム金属及びロジウム金属から成るグル
ープから選択した焼結制御添加剤中の銀及び銀とパラジ
ウムの混合物から成るグループから選択した導電性材料
を含んで成り、該焼結制御添加剤は焼結制御添加剤を含
有しない内部電極粉末と比較してより低い速度で且つよ
り広い温度範囲で焼結が生じるように内部電極材料の焼
結速度を変化させるために十分な量で存在していること
を特徴とする多層セラミツクコンデンサー。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US340952 | 1982-01-20 | ||
| US07/340,952 US5001598A (en) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | Sinter control additive |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0380513A true JPH0380513A (ja) | 1991-04-05 |
Family
ID=23335636
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2105132A Pending JPH0380513A (ja) | 1989-04-20 | 1990-04-20 | パラジウム銀電着粉末の焼結速度の変化方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5001598A (ja) |
| EP (1) | EP0394037A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0380513A (ja) |
| CA (1) | CA2012040A1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4954926A (en) * | 1989-07-28 | 1990-09-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Thick film conductor composition |
| JPH07105283B2 (ja) * | 1991-03-07 | 1995-11-13 | 富士ゼロックス株式会社 | 抵抗体膜形成材料、抵抗体膜および電子部品 |
| US5481428A (en) * | 1992-06-18 | 1996-01-02 | Martin Marietta Energy Systems, Inc. | Process for manufacturing multilayer capacitors |
| US5495386A (en) * | 1993-08-03 | 1996-02-27 | Avx Corporation | Electrical components, such as capacitors, and methods for their manufacture |
| US5632833A (en) * | 1993-10-29 | 1997-05-27 | Nec Corporation | Method of manufacturing laminated ceramic capacitor |
| KR100229231B1 (ko) | 1995-04-04 | 1999-11-01 | 미다라이 후지오 | 전자 방출 소자 형성용 금속 함유 조성물, 및 전자방출소자,전자원및화상형성장치의제조방법 |
| US6487774B1 (en) * | 1998-01-22 | 2002-12-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of forming an electronic component using ink |
| EP2946854A1 (en) * | 2014-05-23 | 2015-11-25 | Heraeus Precious Metals North America Conshohocken LLC | Coated conductive metallic particles |
| CN112201474B (zh) * | 2020-07-03 | 2022-09-13 | 成都宏科电子科技有限公司 | 一种用于射频微波瓷介电容器的纯钯内电极浆料及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3118095A (en) * | 1960-09-29 | 1964-01-14 | Vitramon Inc | Capacitor and terminal therefor |
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-
1989
- 1989-04-20 US US07/340,952 patent/US5001598A/en not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-03-13 CA CA002012040A patent/CA2012040A1/en not_active Abandoned
- 1990-04-19 EP EP19900304207 patent/EP0394037A3/en not_active Withdrawn
- 1990-04-20 JP JP2105132A patent/JPH0380513A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0394037A3 (en) | 1992-04-15 |
| CA2012040A1 (en) | 1990-10-20 |
| EP0394037A2 (en) | 1990-10-24 |
| US5001598A (en) | 1991-03-19 |
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