JPH038099B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH038099B2 JPH038099B2 JP56205012A JP20501281A JPH038099B2 JP H038099 B2 JPH038099 B2 JP H038099B2 JP 56205012 A JP56205012 A JP 56205012A JP 20501281 A JP20501281 A JP 20501281A JP H038099 B2 JPH038099 B2 JP H038099B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- valve
- sample
- preliminary chamber
- conductance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Details Of Valves (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は、電子ビーム露光装置の改良に関す
る。
る。
発明の技術的背景とその問題点
近時、半導体ウエーハやマスク等の試料に微細
なパターンを形成するものとして、電子ビーム露
光装置が用いられているが、この装置は一般に第
１図に示す如く構成されている。試料室１の上部
には電子銃２、レンズ系３および偏向系（図示せ
ず）等からなる電子光学鏡筒４が設けられ、試料
室１の側部にはゲートバルブ５を介して予備室６
が連設されている。試料室１内にはＸ−Ｙ方向に
移動可能な試料ステージ７が配置され、このステ
ージ７上に試料８が載置されるものとなつてい
る。また、試料室１内は図示しない真空ポンプに
より真空排気され、予備室６内は真空ポンプ９に
より真空排気されている。そして、上記試料室１
および予備室６の外壁面には冷却水配管１０が取
着され、各室１，６内は冷却されるものとなつて
いる。
なパターンを形成するものとして、電子ビーム露
光装置が用いられているが、この装置は一般に第
１図に示す如く構成されている。試料室１の上部
には電子銃２、レンズ系３および偏向系（図示せ
ず）等からなる電子光学鏡筒４が設けられ、試料
室１の側部にはゲートバルブ５を介して予備室６
が連設されている。試料室１内にはＸ−Ｙ方向に
移動可能な試料ステージ７が配置され、このステ
ージ７上に試料８が載置されるものとなつてい
る。また、試料室１内は図示しない真空ポンプに
より真空排気され、予備室６内は真空ポンプ９に
より真空排気されている。そして、上記試料室１
および予備室６の外壁面には冷却水配管１０が取
着され、各室１，６内は冷却されるものとなつて
いる。
しかして、電子銃２から発射された電子ビーム
（図中１点鎖線で示す）をレンズ系３および偏向
系により収束偏向して、試料ステージ７上に試料
８の表面に焦点を結ぶことにより、試料８が露光
される。このとき、試料８は複数枚まとめて処理
されるよう予め予備室６内に収容されており、試
料室１での露光が終了するとゲートバルブ５が開
かれ試料室１を予備室６との間で試料８が搬送さ
れ交換されるものとなつている。パターン形成を
0.1〔μｍ〕或いはそれ以下の位置精度で行うため
には、試料８の熱変形を極力押さえる必要がある
が、この目的のために従来装置では前記冷却水配
管１０等の冷却系を設け、予備室６と試料室１
（特にステージ７周辺）とが同一温度となるよう
温度制御している。
（図中１点鎖線で示す）をレンズ系３および偏向
系により収束偏向して、試料ステージ７上に試料
８の表面に焦点を結ぶことにより、試料８が露光
される。このとき、試料８は複数枚まとめて処理
されるよう予め予備室６内に収容されており、試
料室１での露光が終了するとゲートバルブ５が開
かれ試料室１を予備室６との間で試料８が搬送さ
れ交換されるものとなつている。パターン形成を
0.1〔μｍ〕或いはそれ以下の位置精度で行うため
には、試料８の熱変形を極力押さえる必要がある
が、この目的のために従来装置では前記冷却水配
管１０等の冷却系を設け、予備室６と試料室１
（特にステージ７周辺）とが同一温度となるよう
温度制御している。
ところが、上述した従来装置にあつては試料８
の温度制御が必ずしも十分行われているとは云え
ず、電子ビーム露光本来の精度を損つていた。す
なわち、予備室６内には複数枚の試料８が収容さ
れ、大気圧から高真空に排気されるが、短時間に
排気が完了するよう予備室６の排気コンダクタン
スを大きくしているため、大気からの排気開始時
の急激な排気によつて予備室６内の気体が断熱膨
張を起こす。その結果、予備室６内の試料８の温
度は大きく低下する。一度冷やされた試料８は真
空中であるがため、正規の温度まで回復するのに
長時間を要する。試料８の熱変形を、例えば0.1
〔μｍ〕以内に押さえるには試料８の温度変化は
±0.1〔℃〕しか許されないが、排気初期の断熱膨
張により試料８には10〜20〔℃〕の温度変化が起
こり得る。そして、この変化した温度を元の設定
温度に復帰させるには２〜４時間を要する。この
ため、生産性を著しく低下させる大きな要因とな
る。また、上述した問題を避けるため排気コンダ
クタンスを小さくすることが考えられるが、この
方法では断熱膨張を押されることはできても排気
時間が従来より数倍も長くなり、結局装置稼動率
低下を招く。
の温度制御が必ずしも十分行われているとは云え
ず、電子ビーム露光本来の精度を損つていた。す
なわち、予備室６内には複数枚の試料８が収容さ
れ、大気圧から高真空に排気されるが、短時間に
排気が完了するよう予備室６の排気コンダクタン
スを大きくしているため、大気からの排気開始時
の急激な排気によつて予備室６内の気体が断熱膨
張を起こす。その結果、予備室６内の試料８の温
度は大きく低下する。一度冷やされた試料８は真
空中であるがため、正規の温度まで回復するのに
長時間を要する。試料８の熱変形を、例えば0.1
〔μｍ〕以内に押さえるには試料８の温度変化は
±0.1〔℃〕しか許されないが、排気初期の断熱膨
張により試料８には10〜20〔℃〕の温度変化が起
こり得る。そして、この変化した温度を元の設定
温度に復帰させるには２〜４時間を要する。この
ため、生産性を著しく低下させる大きな要因とな
る。また、上述した問題を避けるため排気コンダ
クタンスを小さくすることが考えられるが、この
方法では断熱膨張を押されることはできても排気
時間が従来より数倍も長くなり、結局装置稼動率
低下を招く。
そこで最近、前記試料８の温度低下および排気
時間の長時間化を防ぐものとして、排気コンダク
タンスを可変に方法が考案された。すなわち、大
気からの排気開始時には小さいコンダクタンスで
断熱膨張を緩和し、予備室の真空度がある程度高
くなつた時点で大きなコンダクタンスとし短時間
排気を可能とするものであり、具体的には真空度
をモニタしながら、予備室と排気系との間に設け
たバルブのコンダクタンスを制御する構造となつ
ている。
時間の長時間化を防ぐものとして、排気コンダク
タンスを可変に方法が考案された。すなわち、大
気からの排気開始時には小さいコンダクタンスで
断熱膨張を緩和し、予備室の真空度がある程度高
くなつた時点で大きなコンダクタンスとし短時間
排気を可能とするものであり、具体的には真空度
をモニタしながら、予備室と排気系との間に設け
たバルブのコンダクタンスを制御する構造となつ
ている。
しかしながら、このような装置では真空度をモ
ニタするモニタ装置およびこのモニタ装置のモニ
タ出力に応じてバルブのコンダクタンスを制御す
る制御装置が必要となり、システムの複雑化およ
び装置製造コストの増大を招き好ましくない。
ニタするモニタ装置およびこのモニタ装置のモニ
タ出力に応じてバルブのコンダクタンスを制御す
る制御装置が必要となり、システムの複雑化およ
び装置製造コストの増大を招き好ましくない。
発明の目的
本発明の目的は、予備室を真空にするための排
気時間の長大化および予備室内の試料の温度低下
を防止することができ、かつ装置構成の簡略化を
はかり得る電子ビーム露光装置を提供することに
ある。
気時間の長大化および予備室内の試料の温度低下
を防止することができ、かつ装置構成の簡略化を
はかり得る電子ビーム露光装置を提供することに
ある。
発明の概要
本発明は、予備室と真空排気系との間に予備室
および真空排気系の圧力差に応じてその排気コン
ダクタンスが自動的に可変するバルブを設け、か
つこのバルブのコンダクタンスが予備室の圧力が
真空排気系の圧力を上廻るとき小となり、予備室
および真空排気系の各圧力が略等しいとき大とな
るようにしたものである。
および真空排気系の圧力差に応じてその排気コン
ダクタンスが自動的に可変するバルブを設け、か
つこのバルブのコンダクタンスが予備室の圧力が
真空排気系の圧力を上廻るとき小となり、予備室
および真空排気系の各圧力が略等しいとき大とな
るようにしたものである。
発明の効果
本発明によれば、予備室内の圧力が真空排気系
の圧力を大幅に上廻るとき、つまり予備室の真空
排気開始時にはバルブのコンダクタンスが小とな
るため、予備室内の気体の断熱膨張を抑えること
ができ、試料の温度低下を小さくすることができ
る。さらに、予備室内の圧力と真空排気系の圧力
とが略等しいとき、つまり予備室の真空排気開始
より一定時間過ぎたのちはバルブのコンダクタン
スが大となるため、排気時間が増大することを防
止できる。また、バルブが自動的に可変するため
モニタ装置や制御装置を設ける必要がなく、装置
構成の簡略化をはかり得る。
の圧力を大幅に上廻るとき、つまり予備室の真空
排気開始時にはバルブのコンダクタンスが小とな
るため、予備室内の気体の断熱膨張を抑えること
ができ、試料の温度低下を小さくすることができ
る。さらに、予備室内の圧力と真空排気系の圧力
とが略等しいとき、つまり予備室の真空排気開始
より一定時間過ぎたのちはバルブのコンダクタン
スが大となるため、排気時間が増大することを防
止できる。また、バルブが自動的に可変するため
モニタ装置や制御装置を設ける必要がなく、装置
構成の簡略化をはかり得る。
発明の実施例
第２図は本発明の一実施例に係わるバルブ構造
を示す断面図である。前記予備室６と真空ポンプ
９との間に設けられた排気管１１は、その内径が
予備室６側で大きく形成され、ここに弁収容部が
設けられている。排気管１１の弁収容部１１ａに
はばね１２を介して小さな貫通口１３を有する弁
１４が設けられている。上記ばね１２は予備室６
と真空ポンプ９との各圧力が略等しいとき弁１４
を予備室６側に押し出し、弁１４と排気管１１の
予備室側開口との間にすきまがあくように作られ
ている。また、予備室６の圧力が真空ポンプ９の
圧力をある程度上廻るときは弁１４により真空ポ
ンプ側に圧縮され、これにより上記すきまが閉じ
られるものとなつている。
を示す断面図である。前記予備室６と真空ポンプ
９との間に設けられた排気管１１は、その内径が
予備室６側で大きく形成され、ここに弁収容部が
設けられている。排気管１１の弁収容部１１ａに
はばね１２を介して小さな貫通口１３を有する弁
１４が設けられている。上記ばね１２は予備室６
と真空ポンプ９との各圧力が略等しいとき弁１４
を予備室６側に押し出し、弁１４と排気管１１の
予備室側開口との間にすきまがあくように作られ
ている。また、予備室６の圧力が真空ポンプ９の
圧力をある程度上廻るときは弁１４により真空ポ
ンプ側に圧縮され、これにより上記すきまが閉じ
られるものとなつている。
このような構成であれば、予備室６の排気開始
時には、予備室６側の圧力は略大気圧で、ポンプ
９側の圧力は急激に小さくなるので第３図ａに示
す如く弁１４がポンプ１１側に押しつけられ、排
気管１１の予備室側開口と弁１４との間のすきま
は閉じられる。このため、予備室６は弁１４の貫
通孔１３を通じて大きいコンダクタンスで排気さ
れる。したがつて、予備室６内の気体の断熱膨張
は小さくなり、試料８の温度低下は極めて小さい
ものとなる。
時には、予備室６側の圧力は略大気圧で、ポンプ
９側の圧力は急激に小さくなるので第３図ａに示
す如く弁１４がポンプ１１側に押しつけられ、排
気管１１の予備室側開口と弁１４との間のすきま
は閉じられる。このため、予備室６は弁１４の貫
通孔１３を通じて大きいコンダクタンスで排気さ
れる。したがつて、予備室６内の気体の断熱膨張
は小さくなり、試料８の温度低下は極めて小さい
ものとなる。
一方、排気がある程度進むと、予備室６と真空
ポンプ９との圧力差が小さくなり、第３図ｂに示
す如く弁１４は予備室６側の押しやられ、その結
果前記すきまがあく。このため、予備室６は上記
すきまおよび貫通孔１４を介して大きなコンダク
タンスで排気されることになる。
ポンプ９との圧力差が小さくなり、第３図ｂに示
す如く弁１４は予備室６側の押しやられ、その結
果前記すきまがあく。このため、予備室６は上記
すきまおよび貫通孔１４を介して大きなコンダク
タンスで排気されることになる。
このように予備室６の排気開始時には小さなコ
ンダクタンスで、排気がある程度進むと大きなコ
ンダクタンスで自動的に排気されることになる。
したがつて、予備室１１内の気体の断熱膨張に起
因する試料８の温度低下を小さく抑えることがで
きると共に、排気時間の短縮化をはかり得る。さ
らに、バルブの構造が極めて簡単であり、かつモ
ニタ装置や制御装置も必要としないので、全体構
成が簡略化される等の効果を奏する。
ンダクタンスで、排気がある程度進むと大きなコ
ンダクタンスで自動的に排気されることになる。
したがつて、予備室１１内の気体の断熱膨張に起
因する試料８の温度低下を小さく抑えることがで
きると共に、排気時間の短縮化をはかり得る。さ
らに、バルブの構造が極めて簡単であり、かつモ
ニタ装置や制御装置も必要としないので、全体構
成が簡略化される等の効果を奏する。
なお、本発明は上述した実施例に限定されるも
のではない。例えば、前記弁に設けた貫通孔の大
きさ、ばねの強さおよびすきま等は、ポンプの大
きさ、ばねの強さおよびすきま等は、ポンプの排
気速度、予備室の容積および基板温度変化の許容
量等の条件に応じて適宜定めればよい。また、電
子光学鏡筒や試料室等の構成も、仕様に応じて適
宜変更できるのは勿論のことである。その他、本
発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実
施することができる。
のではない。例えば、前記弁に設けた貫通孔の大
きさ、ばねの強さおよびすきま等は、ポンプの大
きさ、ばねの強さおよびすきま等は、ポンプの排
気速度、予備室の容積および基板温度変化の許容
量等の条件に応じて適宜定めればよい。また、電
子光学鏡筒や試料室等の構成も、仕様に応じて適
宜変更できるのは勿論のことである。その他、本
発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実
施することができる。
第１図は電子ビーム露光装置の概略構成を示す
模式図、第２図は本発明の一実施例装置に用いた
バルブ構造を示す断面図、第３図ａ，ｂは上記実
施例バルブの作用を説明するための断面図であ
る。 １……試料室、４……電子光学鏡筒、５……ゲ
ートバルブ、６……予備室、７……試料ステー
ジ、８……試料、９……真空ポンプ、１０……冷
却水配管、１１……排気管、１２……ばね、１３
……貫通孔、１４……弁。
模式図、第２図は本発明の一実施例装置に用いた
バルブ構造を示す断面図、第３図ａ，ｂは上記実
施例バルブの作用を説明するための断面図であ
る。 １……試料室、４……電子光学鏡筒、５……ゲ
ートバルブ、６……予備室、７……試料ステー
ジ、８……試料、９……真空ポンプ、１０……冷
却水配管、１１……排気管、１２……ばね、１３
……貫通孔、１４……弁。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 電子ビーム露光に供される試料が配置される
真空排気された試料室と、この試料室に連接して
設けられ上記試料を露光前および露光後に収容す
る予備室と、この予備室を真空排気する真空排気
系と、上記予備室と真空排気系との間に設けられ
該予備室および真空排気系の圧力差に応じてその
排気コンダクタンスが可変せられるバルブとを具
備し、上記バルブは前記予備室の圧力が前記真空
排気系の圧力より上廻るときそのコンダクタンス
が小となり、前記予備室および真空排気系の圧力
が略等しいときそのコンダクタンスが大となるも
のであることを特徴とする電子ビーム電光装置。 ２ 前記バルブは、前記予備室と真空排気系との
圧力差により上記予備室および真空排気系の連通
路を開閉する微小貫通孔が設けられた弁、この弁
を予備室側に押圧するばねからなるものであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の電子
ビーム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56205012A JPS58106830A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 電子ビ−ム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56205012A JPS58106830A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 電子ビ−ム露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58106830A JPS58106830A (ja) | 1983-06-25 |
| JPH038099B2 true JPH038099B2 (ja) | 1991-02-05 |
Family
ID=16499981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56205012A Granted JPS58106830A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 電子ビ−ム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58106830A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100775870B1 (ko) | 2006-11-02 | 2007-11-13 | 양용찬 | 진공 흡착 시스템 |
| TW201221769A (en) * | 2010-11-26 | 2012-06-01 | Jen Sian Ind Co Ltd | Venturi tube component and manual/pneumatic pump with venturi tube thereof |
-
1981
- 1981-12-18 JP JP56205012A patent/JPS58106830A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58106830A (ja) | 1983-06-25 |
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