JPH038249A - 超高真空用精密テーブル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、超高真空環境において、電子ビームやフォー
カストイオンビームにより加工、検査を行なう半導体製
造装置等の薄膜加工装置、検査装置等に用いる超高真空
用精密テーブルに関するものである。

従来の技術 超高真空環境において、電子ビームやフォーカストイオ
ンビームにより半導体の薄膜加工、若しくは検査を行な
う場合、これら薄膜加工、検査装置に用いるテーブルを
確実に動作させ、また、薄膜の加工表面の不純物ガス、
成分との反応による有害物生成を防止し、若しくは検査
表面層界面の状態を分析するための分解能を向−トする
ためには、これら薄膜加工、検査装置に用いる精密テー
ブル自身からの放出ガスの発生が少ない超高真空環境で
使用できるものが必要とされつつある。従来、この種の
超高真空用精密テーブルとしては、第１２図ないし第１
６図に示す構成が知られている。以下、この従来の超高
真空用精密テーブルについて図面を参照しながら説明す
る。

第１２図ないし第１４図に示すようにベース２０１上に
第１のテーブル（Ｙ軸テーブル）２０２と第２のテーブ
ル（Ｘ軸テーブル）２０３がリニアガイド２０４と２０
５により直交方向に移動可能に支持されている。各リニ
アガイド２０４．２０５はベース２０１側にボルト２０
６により固定されたリニアガイに台２０７と、第１のテ
ーブル２０２、若しくは第２のテーブル２０３側にボル
ト２０８により固定された移動部２０９と、これらリニ
アガイド台２０７と移動部２０９との間に循環し得るよ
うに介在された多数のポール２１Ｏ（第１５図、第１６
図参照）とより構成され、グリースニップル２１１部よ
りポール２１０の１ｌｆｌ滑のためにシリコングリース
を注入するようになっている。第１と第２のテーブル２
０２と２０３はそれぞれステッピングモータ２１１と送
りねじ２１２およびナツト２１３等からなる動力伝達手
段により移動される。すなわち、各送りねじ２１２ばそ
の先端部がベース２０１Ｆに固定された支持部材２１４
にベアリング２１５により回転１目指に支持され、基部
がベース２　ＯＬ　、、ｈに固定された支持部材２１６
にベアリング２１７により回転可能に支持されている。

送りねじ２１２の基部に形成されたねじ部に止めナツト
２１８が中素合され、ねじ部に嵌合されたワッシャ２１
９がベアリング２１７の内輪に当接され、ベアリング２
１７の外輪はワッシャ２１９の反対側において支持部材
２１６内の段部により位置規制されている。各送りねじ
２１２の基端にはベローカップリング２２０により真空
槽（図示省略）外に設置されたステッピングモータ２１
１の出力軸２２１に連結されている。一方、第１のテー
ブル２０２にはブラケット２２２が突設され、このブラ
ケット２２２の先端部内側にナツト２１３がボルト２２
３により固定され、このナツト２１３が送りねじ２１２
の中間部に螺合されている。同様に第２のテーブル２０
３に突設されたブラダ＋７　）　２２４の先端部内側に
ナツト２１３が取り付けられ、このナツト２１３が送り
ねじ２１２の中間部に螺合されている０作業ｈ２２５は
下面の四隅に柱状の摺動台２２６が突設され、これらの
摺動台２２６により第１と第２のテーブル２０２と２０
３とがそれぞれ挟まれ、各摺動台２２６はベース２０１
上に摺動可能に載せられている。

次に上記従来例の動作について説明する。

ステッピングモータ２１１の駆動により送りねじ２１２
を回転させることにより、これに螺合しているナツト２
１３、ブラケット２２２および第１のテーブル２０２等
をリニアガイド２０４に沿ってＹ軸方向に移動させるこ
とができ、これに伴い摺動台２２６を押してこの摺動台
２２６および作業台２２５をＹｉｌｉ方向に移動させる
ことができる。一方、図示していないステッピングモー
タの駆動により送りねじ２１２を回転させることにより
、これに螺合しているナラ）２１３．　　ブラケット２
２４および第２のテーブル２０３等をリニアガイド２０
５に沿ってＸ軸方向に移動させることができ、これに伴
い摺動台２２６を押してこの摺動台２２６および作業台
２２５をＸ軸方向に移動させることができる。

発明が解決しようとする課題 真空槽内を真空にするためには、真空槽をｈａ熱して脱
ガス（ベーキング）することが必要である。このとき、
各部材に熱歪を生じるが、上記従来例のように案内手段
にリニアガイド２０４と２０５を用いると、そのリニア
ガイド台２０７をベース２０１にボルト２０６により固
定し、移動部２０９を第１．若しくは第２のテープル２
０２．２０３にポルト２０８により固定し、各支持部材
２１４．２１６をベース２０１に固定していると、送り
ねじ２１２を回転させることができない、このため、ｌ
Ｎ７Ｔ　ｏ　ｒ　ｒレベルの雰囲気でしか使用すること
ができず、超高真空環境で使用することができなかった
。このような熱歪による影響を避けるには、あらかじめ
機械的接触部分に大きなりリアランスを設ければよいが
、これでは精度が大変悪い、また、上記従来例では、そ
の全部品がステンレス製であり、リニアガイド２０４．
２０５は油抜き処理、シリコングリースの使用を必要と
し、ポルト２０６．２０８、ナツト２１８、ワッシャ２
０９等も表面処理を施していない、しかも、ベース２０
１土には摺動台２２６を円滑に摺動させるため、ＭＯＳ
２等を塗布している。このため、これらの油分等が真空
槽内の真空度、真空の質を悪くし、好ましい真空環境と
は言えない、また、この真空Ｊｌ境の悪化を少なくする
ため、ステッピングモータ２１１を真空槽外に設置し、
そのＩＢ力輪軸２２１送りねじ２１２とをベローカップ
リング２２０により連結しているため、ステッピングモ
ータ２１１の駆動の際、ベローカー７プリング２２０の
変動負荷で送りねじ２１２の回転角が変動し、送り精度
を一層悪くしていた。

本発明は、上記のような従来技術の課題を解決するもの
であり、各部に熱歪が生じても、この熱歪を自由に吸収
することができ、したがって、超高真空環境において、
大気中と同様に円滑に、しかも、高精度に動作させるこ
とができるようにした超高真空用精密テーブルを提供す
ることを目的とするものである。

課題を解決するための手段 本発明は、上記目的を達成するために、ベースと、この
ベース上に設けられる第１のガイドと、この第１のガイ
ドを基準に対しばねにより付勢して上記ベースに熱歪を
吸収し得るように保持する保持手段と、上記第１のガイ
ドに沿って移動させる第１のテーブルと、この第１のテ
ーブルを基準に対しばねにより付勢して上記第１のガイ
ドに熱歪を吸収し得るように移動可能に支持する移動装
置と、上記第１のテーブル上に上記第１のガイドと直交
方向に設けられる第２のガイドと、この第２のガイドを
基準に対しばねにより付勢して上記第１のテーブルに熱
歪を吸収し得るように保持する保持手段と、上記第２の
ガイドに沿って移動させる＠２のテーブルと、この第２
のテーブルを上記第２のガイドに熱歪を吸収し得るよう
にばねを用いて移動可能に支持する移動装置と、上記第
１と第２のテーブルをそれぞれ移動させる第１と第２の
駆動装置と、これら第１と第２の駆動装置と第１と第２
のテーブルにばねを用いて熱歪を吸収し得るように連係
された第１と第２の動力伝達手段とを備えたものである
。

作用 本発明は、上記の構成により次のような作用を有する。

第１の駆動装置により第１の動力伝達手段を介し、第１
のテーブルおよび第２のテーブルをベース上のガイドに
よる第１のテーブルの移動装置の案内により、ある方向
に移動させ、第２の駆動装置により第２の動力伝達手段
を介し、第２のテーブルを第１のテーブル上の第２のガ
イドによる第２のテーブルの移動装置の案内によりＬ記
と直交方向に移動させることができる。そして、第１の
ガイドをベースに熱歪を吸収し得るようにばねを用いて
保持し、第１のテーブルを第１のガイドに熱歪を吸収し
得るようにばねを用いて移動可能に支持し、第２のガイ
ドを第１のテーブルに熱歪を吸収し得るようにばねを用
いて保持し、第２のテーブルを第２のガイドに熱歪を吸
収し得るようにばねを用いて移動可能に支持し、第１と
第２の駆動装置と第１と第２のテーブルをそれぞればね
を用いた動力伝達手段により熱歪を吸収し得るように連
係しているので、真空槽を加熱して脱ガスする際に上記
各部材が熱歪（熱膨張）を生じてもこれを吸収すること
ができ、したがって、ｔｏ　１１Ｔｏｒｒ台の超高真空
環境で動作させることができ、また、冷却後、各部材を
加熱前の状態に自動的に復帰させることができる。

実施例 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。

第１図ないし第１１図は本発明の一実施例における超高
真空用精密テーブルを示し、第１図は全体斜視図、第２
図は回転作業台部分を除去した平面図、第３図は一部を
破断した第１図の■矢視図、第４図は第１図のｒＶ−ｒ
Ｖ矢視断面図、第５図は第４図のＶ−■矢視断面図、第
６図は回転作業台部分の断面図、第７図はポールねじの
ねじ軸の端部支持部の断面図、第８図はポールねじのね
じ軸と螺合するナツト部の取り付は状態の断面図、第９
図はステッピングモータ部の断面図、第１０図はステ７
ビングモータのステータ用ケーブルの断面図、第１１図
は原点検出用スイッチの断面図である。

第１図ないし第５図、特に第４図および第５図から明ら
かなようにベース１上の中央部に第１のガイド２が保持
されている。すなわち、第１のガイド２の複数箇所（図
示例では４箇所）に形成された穴３と一対の円錐台座４
．５の穴６．７に保持ビン８が遊合状態に挿通され、先
端のねじ部８ａがベースｌに形成された穴９に挿入され
ている。ねじ部８ａには複数枚の皿ばねｌＯが嵌装され
、その外側よりねじ部８ａに止めナー、ト１１が螺着さ
れ、第１のガイド２がベースｌに固定状態に保持されて
いる。この止めナツト１１は軸と直角方向に割溝１１ａ
が形成され、止めねじ第１ｂが割溝１１ａの外周部を拡
開するように螺入されることによりねじ部８ａに固定さ
れる。第１のガイド２の一方の長辺側の外側部において
、ベース１上の複数箇所に基準ブロック１２がボルト１
３により固定され、この基準ブロック１２の７字状の凹
入部１４と第１のガイド２の長辺側端面との間に基準ビ
ン１５が水平方向に介在されている。第１のガイド２の
他方の長辺側の外側部において、ベース１上に支持ブロ
ック１６が固定され、この支持ブロック１６には長辺側
に沿って所定間隔毎に抑圧ビン１７が水平方向に摺動可
能に支持されている。各抑圧ビン１７の後方突出部には
引張ばね１８が嵌装され、各抑圧ビン１７の後方突出端
のねじ部にナラ）１９が螺合され、引張ばね１８の両端
が支持ブロック１６とす７ト１９に係止され、引張ばね
１８の弾性により抑圧ビン１７が第１のガイド２に付勢
され、第１のガイド２が基準ビン１５に付勢されている
。第１のガイド２の一方の短辺側の外側部において、ベ
ース１上の複数箇所に基準ブロック２０がボルト２１に
より固定され、この基準ブロック２０の７字状の凹入部
２２と第１のガイド２の短辺側端面との間に基準ビン２
３が水平方向に介在されている。第１のガイド２の他方
の短辺側の外側面には複数箇所に受部材２４が固定され
、第１のガイド２の短辺側端面に対向するようにベース
１上に支持ブロック２５がボルト２６により固定され、
この支持ブロック２５には各受部材２４と対応するよう
に押圧ビン２７が水平方向に摺動可能に支持されている
。

各抑圧ビン２７の後方において支持ブロック２５に調整
ねじ２８がナツト２９により取り付けられ、各押圧ビン
２７と調整ねじ２８との間に介在された圧縮ばね３０の
弾性により抑圧ビン２７が受部材２４側に付勢されてい
る。受部材２４の円錐状の凹入部３１と押圧ビン２７と
の間にはポール３２が介在され、圧縮ばね３０の弾性に
より第１のガイド２が基準ビン２３に付勢されている。

この状態で、常温では保持ビン８が第１のガイド２の穴
３の中央に位置するように設定されている。したがって
、加熱によりベース１、第１のガイド２等に熱歪（熱膨
張）が生じても、これを基準ビン１５．２３を基準とし
て、皿ばね１０、圧縮ばね１８．３０により吸収するこ
とができ、冷却により皿ばねｌＯ１圧縮ばね１８．３０
の反撥弾性により加熱前の原位置に自動的に復帰する。

上記第１のガイド２にはこの第りのガイド２に沿ってＹ
軸方向に移動する第１のテーブル（Ｙ軸テーブル）３３
が熱歪を吸収し得るように移動可能に支持されている。

すなわち、第１のガイド２の両側長辺側の外側において
、サイドガイド３４．３５の複数箇所（図示例では３箇
所）に形成された穴３６に保持ビン３７が遊合状態に挿
通され、保持ビン３７のねじ部３７ａが第１のテーブル
３３に形成された穴３８に挿入され、保持ビン３７のね
じ部３７ａには複数枚の皿ばね３９が嵌装され、その外
側よりねじ部３７ａに上記と同様の止めナツト４０が螺
着され、サイドガイド３４．３５が第１のテーブル３３
の下面に固定状態に保持されている。

サイドガイド３４．３５と第１のガイド２の対向面には
長手方向に沿って７字状面を有する凹入部４１と４２が
形成され、これら凹入部４１と４２に多数のポール４３
が介在され、これらのポール４３は保持器４４により保
持されている。上記基準ブロック１２側のサイドガイド
３４の外側に位置して第１のテーブル３３の下面の複数
箇所に基準ブロック４５がポルト４６により固定されて
いる。基準ブロック４５の内側の７字状の凹入部４７と
サイドガイド３４の側面との間に基準ビン４８が水平方
向に介在されている。他方のサイドガイド３５の外側面
には長手方向に沿って受部材４９が複数箇所に固定され
ている。第１のテーブル３３におけるサイドガイド３５
側の外端面には支持ブロック５０がポルト５１により固
定されている。支持ブロック５０には受部材４９と対応
するように抑圧ビン５２が水平方向に摺動可能に支持さ
れている。各押圧ビン５２の後方において支持ブロック
５０に調整ねじ５３がナツト５４により取り付けられ、
各押圧ビン５２と調整ねじ５３との間に圧縮ばね５５が
介在され、この圧縮ばね５５の弾性により抑圧ビン５２
が受部材４９側に付勢されている。各受部材４９の円錐
状の凹入部５６と押圧ビン５２との間にはポール５７が
介在され、圧縮ばね５５の弾性によりサイドガイド３５
がポール４３を介して第１のガイド２へ、第１のガイド
２がポール４３を介してサイドガイド３４へ、サイドガ
イド３４が基準ビン４８へ順次付勢されている。各サイ
ドガイド３４．３５の一方の短辺側の外側部において、
第１のテーブル３３の下面に上記基準ブロック２０と一
直線状に基準ブロック５８がポルト５９により固定され
、この基準ブロック５８の７字状の凹入部６０とサイド
ガイド３４の短辺側端面との間に基準ビン６１が水平方
向に介在されている。各サイドガイド３４．３５の他方
の短辺側の外側面には受部材６２が固定され、各受部材
６２に対向するように第１のテーブル３３の端面に支持
ブロック６３がポルト６４に固定され、この支持ブロッ
ク６３には受部材６２と対応するように押圧ビン６５が
水平方向に摺動可能に支持されている。各抑圧ビン６５
の後方において支持ブロック６３に調整ねじ６６がナツ
ト６７により取り付けられ、各押圧ビン６５と調整ねじ
６６との間に介在された圧縮ばね６８の弾性により押圧
ビン６５が受部材６２側に付勢されている。受部材６２
の円錐状の凹入部６９と押圧ビン６５との間にはポール
７０が介在され、圧縮ばね６８の弾性によりサイドガイ
ド３４．３５が基準ビン６１に付勢されている。この状
態で、常温では保持ビン３６がサイドガイド３４．３５
の穴３６の中央に位こするように設定されている。した
がって、加熱により第１のガイド２、第１のテーブル３
３等に熱歪が生じても、これを基準ビン４８．６１を基
準として、皿ばね３９、圧縮ばね５５．６８により吸収
することができ、冷却により皿ばね３９．圧縮ばね５５
，６８の反撥弾性により加熱前の原位置に自動的に復帰
する。そして、サイドガイド３４．３５．第１のテーブ
ル３３等をポール４３を介して第１のガイド２に対しＹ
軸方向に移動させることができる。

第１のテーブル３３上にｉ対の円柱状の＄２のガイド７
１が第１のガイド２．！−直交方向に保持されている。

すなわち、第１のテーブル３３上に支持台７２が固定さ
れ、支持台７２の両側部」−に各一対の支持ブロック７
３．７４が固定されている。第２のガイド７１の各一端
は支持ブロック７３に基準となる円弧状の面を有する座
７５を介してポルト７６により連結され、第２のガイド
７１の各他端は支持ブロック７４に皿ばね７７、座７８
を介してポルト７９により連結されている。したがって
、加熱により第２のガイド７１等に熱歪が生じても、こ
れを皿ばね７７により吸収することができ、冷却により
皿ばね７７の反撥弾性により加熱前の原位置に自動的に
復帰する。

−１−足温２のガイド７エにはこの第２のガイド７エに
沿ってｘｆｄ１方向に移動する円板状の第２のテーブル
（Ｘ袖テーブル）８０が熱歪を吸収し得るように移動可
能に支持されている。すなわち、第２のテーブル８０に
は中心より放射状位置において、雌ねじ８１が形成され
、６雌ねじ８１に調整用ナツト８２が螺入され、各調整
用ナツト８２の内側でポルト８３により支持台８４が水
平位Ｉｎ整可能に取り付けられている。支持台８４の切
欠き穴８５内において、第２のテーブル８０の下面に支
持ブロック８６が位置決めビン８７とポルト８８により
固定されている。支持台８４の切欠き穴８９内において
、第２のテーブル８０の下面に支持ブロック９０がポル
）９１により固定されている。支持台８４には一方の第
２のガイド７１の方向に沿って２箇所に切欠き９２が形
成され、各切欠き９２内に鼓状の溝付きのガイドローラ
９３が配置され、その両側の軸が支持台８４にベアリン
グ９４を介して回転可能に支持され、外側のベアリング
９４は支持台８４に螺入されたナツト９５により抜けＩ
Ｆめされている。支持台８４には他方の第２のガイド７
１の中間部上に位置して切欠き９６が形成され、切欠き
９６内に円柱状のガイドローラ９７が配置され、その両
側の軸が支持台８４にベアリング９８を介して回転可能
に支持され、外側のベアリング９８は支持台８４に螺入
されたナツト９９により抜は止めされている。支持ブロ
ック８６の下端部には支持部材工ＯＯの二股状部１００
ａが嵌合され、ビン１０１により上下方向に揺動可能に
支持され、支持部材ｌＯＯには揺動部材１０２の中間部
の支持部１０３がベアリング１０４を介して回転可能に
支持されている。揺動部材ｌＯ２の各先端部にはベアリ
ング１０５がナツト１０６により取り付けられている。

支持部１０３にはばね掛け１０７がナツト１０８により
取り刊けられ、一方、支持ブロック９０内にばばね掛け
１０９が取り付けられ、これらばね掛け１０７と１０９
に引張ばね１１０が張設されている。そして、一方の第
２のガイド７１の上下が鼓状のガイドローラ９３とベア
リング１０５により挟まれ、他方の第２のガイド７１の
上下が円柱状のガイドローラ９７とベアリング１０５に
より挟まれ、これらガイドローラ９３．９７とベアリン
グ１０５の転勤により第２のテーブル８０等がＸ軸方向
に移動される。したがって、加熱により第２のガイド７
１、第２のテーブル８０、支持ブロック８６等に熱歪が
生じても、鼓状のガイドローラ９３が引張ばね１１０の
弾性に抗して上方へ逃げると共に、円柱状のガイドロー
ラ９７が第２のがイド７１に対し軸心方向にずれて熱歪
を吸収することができ、冷却により引張ばね１１０の反
撥弾性等により加熱前の原位置に自動的に復帰する。

第２のテーブル８０上には回転作業台１１１が設けられ
ている。すなわち、第６図に示すように第２のテーブル
８０上にノ＼ウジング１１２がポルト１１３により固定
され、回転作業台１１１の下面中央部に固定された回転
軸１１４がベアリング１１５と１１６により回転可能に
支持されている０回転軸１１４の中間部外周には中空軸
１１７が嵌合され、中空軸１１７の外周にはケイ素鋼板
１１８と磁石１１９からなるローターが溶接により固定
されている０回転軸１１４にはローターの下方において
止めナツト１２０が固定され、回転軸１１４の上方の段
部１２１により後退規制された撲１２２の先端部が中空
軸１１７の一端部と回転軸１１４との間に圧入され、止
めナラ）１２０により後退規制された楔１２３の先端部
が中空軸１１７の他端部と回転軸１１４との間に圧入さ
れ１両者が固定されている。ハウジング１１２の内側に
はローターの外周においてステーター１２４が固定され
ている。したがって、ローターの回転によりこれと一体
の回転軸１１４および回転作業台１１１が回転される。

上記第１と第２のテーブル３３と８０はそれぞれステッ
ピングモータ１２５．１２６とポールねじにより移動さ
れる。すなわち、ステッピングモータ１２５は第９図に
示すようにベースｌにハウジング１２７がポルト１２８
により固定されている。ハウジング１２７にはポールね
じのねじ軸１２９の端部がベアリング１３０．１３１に
より回転可能に支持されている。ねじ軸１２９の外周に
は中空軸１３２が嵌合され、中空軸１３２の外周にはケ
イ素鋼板１３３と磁石１３４からなるローターが溶接に
より固定されている。ねじ軸１２９にはローターの外方
において止めナラ）１３５が固定され、ねじ軸１２９の
内方の段部１３６により後退規制された喫１３７の先端
部が中空軸１３２の一端部とねじ軸１２９との間に圧入
され、止めナツト１３５により後退規制された１３！１
３８の先端部が中空軸１３２の他端部とねじ軸１２９と
の間に圧入され、両者が固定されている。ハウジング１
２７の内側にはローグーの外局においてステーター１３
９が固定されている。ハウジング１２７にはねじ軸１２
９の外方において、プッシャー１４０が摺動可能に支持
され、ブツシャ−１４０の外方に止めねじ１４１が螺入
され、止めねじ１４１とプッシャー１４０の間に圧縮ば
ね１４２が介在され、圧縮ばね１４２の弾性によりプッ
シャー１４０がねじ軸１２９側に付勢されている。ねじ
軸１２９の端面とブツシャ−１４０の端面の円錐状部に
跨ってポール１４３が介在されている。したがって、ス
テータ１３９とローターのギャップが確保され。

ローターの回転によりこれと一体のねじ軸１２９が回転
される。第７図から明らかなようにベース１に支持ブロ
ック１４４がポルト１４５により固定され、この支持ブ
ロック１４５の穴にスリーブ１９５が挿入され、スリー
ブ１９５と一体に設けられたフランジ１９５ａがポルト
１９６により支持ブロック１４４に固定されている。ス
リーブ１９５にはステッピングモータ１２５．１２８の
ねじ軸１２９の先端部がベアリング１４６を介して回転
可能に支持されている。一方、第１のテーブル３３には
ブラケット１４７が取り付けられ、ブラケット１４７の
穴１４８にはポールねじのナツト１４９と１５０が遊合
状態で挿通され、ナツト１５０にはブラケット１４７と
ナツト１５０の鍔状部１５１との間で環状板１５２が遊
嵌されている。ブラケット１４７と環状板１５２の対向
面には軸心と直交方向に断面Ｖ字状の凹入溝１４７ａ、
１５２ａが形成され、環状板１５２の反対側の面には凹
入溝１５２ａと直交方向に断面Ｖ字状の凹入溝１５２ｂ
が形成されている。ナツト１５０の鍔状部１５１と環状
板１５２とブラケット１４７には複数本のポルト１５３
が遊合状態で挿通され、ナツト１４９の外周に取り付け
られたナツト１５４に螺入されている。ブラケット１４
７と環状板１５２の凹入溝１４７ａ、１５２ａ間に複数
個のポール１５５が介在され、環状板１５２の凹入溝１
５２ｂと鍔状部１５１との間に複数個のポール１５６が
介在され、ナツト１４９の外周において、ナツト１５４
とブラケット１４７の間に圧縮ばね１５７が介在され、
圧縮ばね１５７の弾性によりナツト１５０の鍔状部１５
１がポール１５６を介して環状板１５２に圧接され、環
状板１５２がポール１５５を介してブラケット１４７に
圧接されている。上記ねじ軸１２９がナツト１４９．１
５０にポール（図示省略）を介して噛合わされている６
　したがって、ステッピングモータ１２５の駆動により
ねじ軸１２９を回転させることにより、ナツト１４９．
１５０を介して第１のテーブル３３、第２のテーブル８
０および回転作業台１１１等を第１のガイド２に沿って
Ｙ軸方向に移動させることができる。そして、ナツト１
４９．１５０を圧縮ばね１５４、ポール１５５．１５６
等を介してブラケット１４７に支持させることにより、
加熱による各部材の熱歪を吸収することができ、また、
ねじ軸１２９の曲がりが第１のテーブル３３等へ影響を
及ぼすのを防止することができる。一方、ステッピング
モータ１２６も上記ステッピングモータ１２５と同様に
構成されて支持台７２上に取り付けられ、このステッピ
ングモータ１２６の駆動により回転されるねじ軸１２９
も同様に支持台７２」−に取り付けられた支持ブロック
１４５内のスリーブ１９５にベアリング（図示省略）を
介して回転可能に支持され、このねじ軸１２９が支持台
８４より突出するブラケット１４７に同様に支持された
ナツト１４９と１５０にポール（図示省略）を介して噛
合わされている。したがって、ステッピングモータ１２
６の駆動によりねじ軸１２９を回転させることにより、
ナツト１４９．１５０を介して支持台８４．第２のテー
ブル８０および回転作業台１１１等を第２のガイド２に
沿ってＸ軸方向に移動させることができる。そして、ス
テッピングモータ１２５のねじ軸１２９側と同様に加熱
による各部材の熱歪を吸収することができ、また、ねじ
軸１２９の曲がりが第２のテーブル８０等へ影響を及ぼ
すのを防止することができる。

特に第１図、第２図および第１１図から明らかなように
第１のテーブル３３の原点検出用スイッチ１５８がベー
スｌと、第１のテーブル３３に固定された支持ブロック
５０に設けられている。ベースｌにブラケ、）　１５９
がポルト１６０により固定され、ブラケット１５９の穴
１６１にスリーブ１６２が遊合状態に挿通されている。

スリーブ１６２の内側にセラミックスからなる絶縁体１
６３を介して端子１６４が固定されている。スリーブ１
６２の基部突出部には止めリング１６５が止めねじ１６
６により固定され、スリーブ１６２の先端側の鍔状部１
６７とブラケット１５９との間には圧縮ばね１６８が介
在されている。端子１６４の先端にはヘッド１６９が止
めねじ１７０により固定され、端子１６４の基端には圧
着端子１７１を介してケーブル１７２に接続されている
。一方、支持ブロック５０にブラケット１７３が固定さ
れ。

ブラケット１７３の穴１７４にスリーブ１７５が固定さ
れ、スリーブ１７５の内側に絶縁体１７６を介して端子
１７７が固定されている。端子１７７の先端はスリーブ
１７５の先方へ突出され、端子１７７の基端には圧着端
子１７８を介してケーブル１７９が接続されている。し
たがって、上記のように第１のテーブル３３、支持ブロ
ック５０等がＹ軸方向に移動する際、支持ブロック５０
側の端子１７７をベース１側の端子１６４のヘッド１６
９に接触させておくことにより、原点位置を検出するこ
とができ、このとき、端子１７７をヘッド１６９に強く
押し当てても圧縮ばね１６９によりその衝撃を吸収する
ことができる。第１のテーブル３３のＹ軸方向へ移動を
規制するための一対の近接スイッチ１８０がそれぞれベ
ース１にポルト１８１により固定されたブラケッ）１８
２に支持され、一方、第４図から明らかなように上記近
接スイッチ１８０を動作させる磁石１８３が支持ブロッ
ク５０にポル）１８４により固定されている。したがっ
て、上記のように第１のテーブル３３、支持ブロック５
０等がＹ軸方向に移動する際、磁石１８３がいずれかの
近接スイッチ１８０を動作させて限界移動位置を検出す
ることができる。第１図に示すように第２のテーブル８
０の原点検出用のスイッチ１８５が支持台７２と支持台
８４に上記と同様にブラケット１５９と１７３により取
り付けられ、また、第１図、第２図に示すように第２の
テーブル８０のＸ軸方向への移動を規制するための一対
の近接スイッチ１８６がそれぞれ支持台７２に上記と同
様にブラケット１８２により支持され、これらの近接ス
イッチ１８６を動作させる磁石１８７が支持台８４に取
り付けられている。したかって、上記と同様に原点検出
用のスイッチ１８５により第２のテーブル８０の原点位
置を検出し、近接スイッチ１８６により第２のテーブル
８０の限界移動位置を検出することができる。第６図に
示すように回転作業台１１１の回転位置検出用の近接ス
イッチ１８８はハウジング１１２にポル）１８９により
取り付けられたブラケット１９０に支持されている。一
方１回転作業台１１１にブラケッ）１９１がポル）１９
２により固定され、このブラケット１９１に近接スイッ
チ１８８を動作させる磁石１９３がポルト１９４により
固定されている。したがって、磁石１９３による近接ス
イッチ１８８の動作により回転作業台１１１の回転位置
を検出することができる。

上記各部材において、部品固定用のボルト、ナツト、ワ
ッシャ、ばね、受部材、ポール、基準ビン、ベアリング
等の強度部材には酸洗、加熱脱ガス処理を行ない、また
は１表面にＡｇでコートしたステンレス材を用い、その
他の主要部材はアルミニウム合金をＡｒ＋０２中で加工
し、表面に緻密で硬い酸化膜を形成し、不純物を少なく
した材料を用いている。したがって、加熱の際に各部材
からの放出ガスの発生を極めて少なくすることができる
。また、上記第１のテーブル３３と第２のテーブル８０
を移動させる各ステッピングモータ１２５．１２Ｂのス
テータ１３９および回転作業台１１１を回転させるモー
タのステータ１２４に用いるケーブルは第１０図に示す
ように芯線１９５の外周に絶縁被覆１９６が施され、絶
縁被覆１９６の外周がステンレスからなるチューブ１９
７により被覆されている。したがって、加熱の際に放出
ガスの発生を極めて少なくすることができ、これにより
各ステッピングモータ１２５，１２６を真空槽（図示省
略）内に設置することができる。

次に上記実施例の動作について説明する。

ステッピングモータ１２５の駆動により上記のように第
１のテーブル３３、第２のテーブル８０、回転作業台ｉ
ｌｌ等を第１のガイド２に沿ってＹ軸方向に移動させ、
ステッピングモータ１２６の駆動により上記のように第
２のテーブル８０、回転作業台１１１等を第２のガイド
７１に沿ってＸ軸方向に移動させることができる。また
、回転作業台１１１を上記のようにハウジング１１２に
内臓したモータの駆動により回転させることがで！、こ
の回転作業台１１１上で素子に対する薄膜加工、検査等
を行なうことができる。そして、真空槽を加熱し、真空
槽内を脱ガスし、超高真空環境にする際、上記のように
第１のガイド２等の熱歪を基準ビン１４．２３を基準と
して皿ばね１０、圧縮ばね３０により吸収し、第１のテ
ーブル３３等の熱歪を基準ビン４８．６１を基準として
皿ばね３９、圧縮ばね６８により吸収し、第２のガイド
７エ等の熱歪を支持ブロック７３と座７５を基準として
皿ばね７７により吸収し、第２のテーブル８０等の熱歪
を鼓状のローラ９３の案内側の第２のがイド７１を基準
として引張ばね１１０により吸収することができる。ま
た、各部材を上記のように各ばねにより常に押し付けて
いるので、各部材間の熱伝達を効果的に行なうことがで
き、温度勾配を小さくすることができる。したがって、
１０”　Ｔ　ｏ　ｒ　ｒ台の超高真空環境において第１
のテーブル３３、第２のテーブル８０１回転作業台１１
１を大気中と同様に円滑に、しかも、高精度に動作させ
ることができる。また、各部材を上記のように加熱の際
の放出ガスの極めて少ない材料により形成しているので
、真空槽内の好ましい環境に保つことができる。また、
上記のように第１と第２のテーブル３３と８０を移動さ
せるステッピングモータ１２５，１２６を真空槽内に設
置することができるようにしているので、従来のような
動力伝達機構の変動をなくし、送り精度を更に一層向上
させることができる。試験の結果、１Ｏ−１１Ｔｏｒｒ
の超高真空環境において、大気中での動作と同じように
動作させることができ、各テーブル３３．８０のピッチ
ング、ヨーイングはいずれもサブミクロン台であった。

発明の効果 以）：述べたように本発明によれば、第１の駆動装置に
より第１の動力伝達手段を介し、第１のテーブルおよび
第２のテーブルをベース上のガイドによる第１のテーブ
ルの移動装置の案内により一方向に移動させ、第２の駆
動装置により第２の動力伝達手段を介し、第２のテーブ
ルを第１のテーブル上の第２のガイドによる第２のテー
ブルの移動装置の案内により土足と直交方向に移動させ
るようにし、第１のガイドをベースに熱歪を吸収し得る
ようにばねを用いて保持し、第１にテーブルを第１のガ
イドに熱歪を吸収し得るようにばねを用いて移動可能に
支持し、第２のガイドを第１のテーブルに熱歪を吸収し
得るようにばねを用いて保持し、第２のテーブルを第２
のガイドに熱歪を吸収し得るようにばねを用いて移動可
能に支持し、第１と第２の駆動装置と第１と第２のテー
ブルをそれぞればねを用いて熱歪を吸収し得るように連
係しているので、真空槽を加熱して脱ガスする際に上記
各部材が熱歪（熱膨張）を生じてもこれを吸収すること
ができ、したがって、１０”　Ｔ　。

ｒｒ台の超高真空環境で円滑に、しかも、高精度に動作
させることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第１１図は本発明の一実施例における超高
真空用精密テーブルを示し、第１図は全体斜視図、第２
図は回転作業台部分を除去した平面図、第３図は一部を
破断した第１図のｍ矢視図、第４図は第１図のＴＶ−Ｉ
Ｖ矢視断面図、第５図は第４図のＶ−■矢視断面図、第
６図は回転作業台部分の断面図、第７図はポールねじの
ねじ軸の端部支持部の断面図、第８図はポールねじのね
じ軸と螺合するナツト部の取り付は状態の断面図、第９
図はステッピングモータ部の断面図、第１０図はステッ
ピングモータのステータ用ケーブルの断面図、第１１図
は原点検出用スイッチの断面図、第１２図ないし第１６
図は従来の真空用精密テーブルを示し、第１２図は全体
斜視図、第１３図は第１２図のに−４矢視断面図、第１
４図は第１２図のＷ−Ｗ矢視断面図、第１５図はリニア
ガイドの横断面図、第１６図はリニアガイドの一部破断
側面図である。 ｌ・・・ベース、２・・・第１のガイド、８・・・保持
ビン　１０・・・皿ばね、１２・・・基準ブロック、１
５・・・基準ビン、１６・・・支持ブロック、１８・・
・圧縮ばね、２０・・・基準ブロック、２３・・・基準
ビン、２５・・・支持ブロック、３０・・・圧縮ばね、
３３・・・第１のテーブル、３４．３５・・・サイドガ
イド、３７・・・保持ビン、４５・・・基準ブロック、
４８・・・基準ビン、５０・・・支持ブロック、５５・
・・圧縮ばね、５８・・・基準ブロック、６１・・・基
準ビン、６８・・・圧縮ばね、７２・・・支持台、７３
．７４支持ブロツク、７７・・・皿ばね、８０・・・第
２のテーブル、８６・・・支持ブロック、９３・・・ロ
ーラ、９７・・・ローラ、１０５・・・ベアリング、１
１０・・・引張ばね、１１１・・・回転作業台、１２５
．１２６・・・ステッピングモータ、１２９・・・ポー
ルねじのねじ軸、１４９．１５０・・・ポールねじのナ
ツト。 １５８・・・原点検出用スイッチ、１８０・・・近接ス
イッチ、１８５・・・原点検出用スイッチ、１８６・・
・近接スイッチ、１８８・・・近接スイッチ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ベースと、このベース上に設けられる第１のガイドと、
   この第１のガイドを基準に対しばねにより付勢して上記
   ベースに熱歪を吸収し得るように保持する保持手段と、
   上記第１のガイドに沿って移動させる第１のテーブルと
   、この第１のテーブルを基準に対しばねにより付勢して
   上記第１のガイドに熱歪を吸収し得るように移動可能に
   支持する移動装置と、上記第１のテーブル上に上記第１
   のガイドと直交方向に設けられる第２のガイドと、この
   第２のガイドを基準に対しばねにより付勢して上記第１
   のテーブルに熱歪を吸収し得るように保持する保持手段
   と、上記第２のガイドに沿って移動させる第２のテーブ
   ルと、この第２のテーブルを上記第２のガイドに熱歪を
   吸収し得るようにばねを用いて移動可能に支持する移動
   装置と、上記第１と第２のテーブルをそれぞれ移動させ
   る第１と第２の駆動装置と、これら第１と第２の駆動装
   置と第１と第２のテーブルにばねを用いて熱歪を吸収し
   得るように連係された第１と第２の動力伝達手段とを備
   えたことを特徴とする超高真空用精密テーブル。