JPH01274936A - 超高真空用精密テーブル - Google Patents

超高真空用精密テーブル

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Publication number
JPH01274936A
JPH01274936A JP63106415A JP10641588A JPH01274936A JP H01274936 A JPH01274936 A JP H01274936A JP 63106415 A JP63106415 A JP 63106415A JP 10641588 A JP10641588 A JP 10641588A JP H01274936 A JPH01274936 A JP H01274936A
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JP
Japan
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guide
thermal strain
base
spring
ultra
Prior art date
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Pending
Application number
JP63106415A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Saeki
宏 佐伯
Junji Ikeda
順治 池田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、超高真空環境において、電子ビームやフォー
カストイオンビームにより加工、検査を行なう半導体製
造装置等の薄膜加工装置、検査装置等に用いる超高真空
用精密テーブルに関するものである。
従来の技術 電子ビームやフォーカストイオンビームにより半導体の
薄膜加工、若しくは検査を行なう場合、加工表面の不純
物ガス、成分との反応による有害物生成を防止し、若し
くは検査表面層界面の状態を分析するための分解能を向
上するためには、これら薄膜加−工、検査装置に用いる
精密テーブル自身からの放出ガスの発生が少ない超高真
空環境で使用できるものが必要とされつつある。従来、
この種の超高真空用精密テーブルとしては、第12図な
いし第16図に示す構成が知られている。以下、この従
来の超高真空用精密チー・プルについて図面を参照しな
がら説明する。
第12図ないし第14図に示すようにベース201上に
@1のテーブル(Y輔デープル)202と第2のテーブ
ル(X輛テーブル)203がリニアガイド204と20
5 kmより直交方向に移動可能に支持されている。各
リニアガイド204.205はベース201側にポルト
206により固定されたリニアガイド台207と、第1
のテーブル202.若しくは第2のテ・−プル203側
にポルト208により固定された移動部209と、これ
らリニアガイド台207と移動部209との間に循環し
得るように介在された多数のポール21O(第15図、
第16図参照)とより構成され、グリースニップルシミ
1′幀1よりポ・−ル210の潤滑のためにシリコング
リースを注入するようになっている。第1と第2のテー
ブル202と203はそれぞれステッピングモータ2J
、1と送りねじ212およびナーy)213等からなる
動力伝達手段により移動される。すなわち、各送りねじ
212はその先端部がベース201上に固定された支持
部材214にベアリング215により回転可能に支持さ
れ、基部がベース201上に固定された支持部材216
にベアリング217により回転可能に支持されている。
送りねじ212の基部に形成されたねじ部に止めナラl
−218が螺合され、ねじ部に嵌合されたワッシャ21
9がベアリング217の内輪に当接され、ベアリング2
17の外輪はワッシャ219の反対側において支持部材
216内の段部により位置規制されている。各送りねじ
212の基端にはベローカップリグ220により真空槽
(図示省略)外に設置されたステッピングモータ211
の出力軸221に連結されている。一方、第1のテーブ
ル202にはブラケッl−222が突設され、このブラ
ケット222の先端部内側にナツト213がポルト22
3により固定され、このナツト213が送りねじ212
の中間部に螺合されている。同様に第2のテーブル20
3に突設されたブラケー2)224の先端部内側にナツ
ト213が取り付けられ、このナツト213が送りねじ
212の中間部に螺合されている。作業台225は下面
の四隅に柱状の摺動台226が突設され、これらの摺動
台226により第1と第2のテーブル202と203と
がそれぞれ挟まれ、各摺動台226はベース201上に
摺動可能に載せられている。
次に上記従来の動作について説明する。
ステッピングモータ211の駆動により送りねじ212
を回転させることにより、これに螺合しているす一/)
213、ブラケット222および第1のテーブル202
等をリニアガイド204に沿ってY軸方向に移動させる
ことができ、これに伴い摺動h226を押してこの摺動
台226および作業台225をY軸方向に移動させるこ
とができる。一方、図示していないステッピングモータ
の駆動により送りねじ212を回転させることにより、
これに螺合しているナー2)213、ブラケット224
および第2のテーブル203等をリニアガイド205に
沿ってX軸方向に移動させることができ、これに伴い摺
動台226を押してこの摺動台226および作業台22
5をX軸方向に移動させることができる。
発明が解決しようとする課題 真空槽内を真空にするためには、真空槽を加熱して脱ガ
スすることが必要である。このとき、各部材に熱歪を生
じるが、上記従来例のようにリニアガイド204と20
5のリニアガイド台207紮ベース201にポルト20
6により固定し、移動部209を第1、若しくは第2の
チルプル202.203にポルト208により固定し、
各支持部材214.216をベース201に固定してい
ると、送りねじ212を回転させることができない、こ
のため、1G−7T 。
rrレベルの雰囲気でしか使用することができず、超高
真空環境で使用することができなかった。このような熱
歪による影響を避けるには。
あらかじめ機械的接触部分に大きなりリアランスを設け
ればよいが、これでは精度が大変悪い、また、上記従来
例では、その全部品がステンレス製であり、リニアガイ
ド204.205は油抜き処理、シリコングリースの使
用を必要とし、ポルト206.208、ナー、ト218
、ワッシャ209等の表面処理を施していない。
しかも、ベース201上には摺動台226を円滑に摺動
させるため、 MOS2等を塗布している。
このため、これらの油分等が真空槽内の真空度、真空の
質を悪くし、好ましい真空環境とは言えない、また、こ
の真空環境の悪化を少なくするため、ステッピングモー
タ211を真空槽外に設置し、その出力軸221と送り
ねじ212とをベローカップリング220により連結し
ているため、ステッピングモータ211の駆動の際、ベ
ローカップリング220の変動負荷〒送りねじ212の
回転角が変動し、送り精度を一層悪くしていた。
本発明は、上記のような従来技術の課題を解決するもの
であり、各部に熱歪が生じても、この熱歪を自由に吸収
することができ、したがって、超高真空環境において、
大気中と同様に円滑に、しかも、高精度に動作させるこ
とができるようにした超高真空用精密テーブルを提供す
ることを目的とするものである。
課題を解決するための手段     ′本発明は、上記
目的を達成するために、ベースと、このベース上に設け
られる第1のガイドと、この第1のガイドを基準に対し
ばねにより付勢して上記ベースに熱歪を吸収し得るよう
に保持する保持手段と、上記第1のガイドに沿って移動
させる第1のテーブルと、この第1のテーブルを基準に
対しばねにより付勢して上記第1のガイドに熱歪を吸収
し得るように移動可能に支持する移動装置と、上記第1
のテーブル上に上記第1のガイドと直交方向に設けられ
る第2のガイドと、この第2のガイドを基準に対しばね
により付勢して上記第1のテーブルに熱歪を吸収し得る
ように保持する保持手段と、上記第2のガイドに沿って
移動させる第2のテーブルと、この第2のテーブルを上
記第2のガイドに熱歪を吸収し得るようにばねを用いて
移動可能に支持する移動装置と、上記第1と第2のテー
ブルをそれぞれ移動させる第1と第2の駆動装置と、こ
れら第1と第2の駆動装置と第1と第2のテーブルにば
ねを用いて熱歪を吸収し得るように連係された第1と第
2の動力伝達手段とを備えたものである。
作用 本発明は、上記の構成により次のような作用を有する。
すなわち、第1の駆動装置により第1の動力伝達手段を
介し、第1のテーブルおよび第2のテーブルをベース上
のガイドによる第1のテーブルの移動装置の案内により
、ある方向に移動させ、第2の駆動装置により第2の動
力伝達手段を介し、第2のテーブルを第1のテーブル上
の第2のガイドによる第2のテーブルの移動装置の案内
により上記と直交方向に移動させることができる。そし
て、第1のガイドをベースに熱歪を吸収し得るようにば
ねを用いて保持し、第1のテーブルを第1のガイドに熱
歪を吸収し得るようにばねを用いて移動可能に支持し、
第2のガイドを第1のテーブルに熱歪を吸収し得るよう
にばねを用いて保持し、第2のテーブルを第2のガイド
に熱歪を吸収し得るようにばねを用いて移動可能に支持
し、第1と第2の駆動装置と第1と第2のテーブルをそ
れぞればねを用いた動力伝達手段により熱歪を吸収し得
るように連係しているので、真空槽を加熱して脱ガスす
る際に上記各部材が熱歪(熱膨張)を生じてもこれを吸
収することができ、したがって、10” T o r 
r台の超高真空環境で動作させることができ、また、冷
却後、各部材を加熱前の状態に自動的に復帰させること
ができる。
実施例 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
第1図ないし第11図は本発明の一実施例における超高
真空用精密テーブルを示し、第1図は全体斜視図、第2
図は回転作業台部分を除去した平面図、第3図は一部を
破断した第1図の■矢視図、第4図は第1図のIV=I
V矢視断面図、第5図は第4図のV−V矢視断面図、第
6図は回転作業台部分の断面図、第7図はポールねじの
ねじ軸の端部支持部の断面図、第8図はポールねじのね
じ軸と螺合するナツト部の取り付は状態の断面図、第9
図はステッピングモータ部の断面図、第10図はステッ
ピングモータ部ステータ用ケーブルの断面図、第11図
は原点検出用スイッチの断面図である。
第1図ないし第5図、特に第4図および第5図から明ら
かなようにベース1上の中央部に第1のガイド2が保持
されている。#′なわち、第1のガイド2の複数箇所(
図示例では4箇所)に形成された穴3と一対の円建台座
A、5の穴6.7に保持ビン8が遊合状態に挿通され、
先端のねじ部8aがベース1に形成された穴9に挿入さ
れている。ねじ部8aには複数枚の皿ばね10が嵌装さ
れ、その外側よりねじ部8aに止めナツト11が螺着さ
れ、第1のガイド2がベースlに固定状態に保持されて
いる。この止めナツト11は軸と直角方向に割溝11a
が形成され、止めねじtibが割溝11aの外周部を拡
開するように螺入されることによりねじ部8aに固定さ
れる。第1のガイド2の一方の長辺側の外側部において
、ベース】上の複数箇所に基準ブロック12がボルト1
3により固定され、この基準ブロック12の7字状の凹
入部14と第1のガイド2の長辺(11端面との間に基
準ビン15が水平方向に介在されている。第1のガイド
2の他方の仮6辺偏の外側部において、ベース1上に支
持ブロック16が固定され、この支持ブロック16には
長辺側に沿って所定間隔毎に抑圧ビン17が水平方向に
摺動可能に支持されている。各抑圧ビン17の後方突出
部には圧縮ばね18が嵌装され、各抑圧ビン18の後方
突出端のねじ部にナツト19が螺合され、圧縮ばね18
の弾性により抑圧ビン17が第1のガイド2に付勢され
、第1のガイド2が基準ビン15に付勢されている。第
1のガイド2の一方の短辺側の外側部において、べ・−
ス1上の複数箇所に基準ブロック20がボルト21によ
り固定され、この基準ブロック20の7字状の凹入部2
2と第1のガイド2の短辺側端面との間に基準ビン23
が水平方向に介在されている。第1のガイド2の他方の
短辺側の外側面には複数箇所に受部材24が固定され、
第1のガイド2の短辺側端面に対向するようにベースl
上に支持ブロック25がボルト26により固定され、こ
の支持ブロック25には各受部材24と対応するように
押圧ビン27が水平方向に摺動可能に支持されている。
名抑圧ビン27の後方において支持ブロック25に調整
ねじ28が上ット29により取り付けられ、各押圧ビン
27ど調整ねじ28との間に介在された圧縮ばね30の
弾性により押圧ビン27が受部材24側に付勢されてい
る。受部材24の円錐状の凹入部3iと押圧ビン27と
の間にはポール32が介在され、圧縮ばね30の弾性に
より第1のガイド2が基準ビン23に付勢されている。
この状態で、常温では保持ビン8が第1のガイド2の穴
3の中央に位行するように設定されている。したがって
、加熱によりベース1、第1のガイド2等に熱歪(熱W
張)が生じても、これを基準ビン15.23を基準とし
て、皿ばね10、圧縮ばね18.30により吸収するこ
とができ、冷却により皿ばね10、圧縮ばね18.30
の反撥弾性により加熱前の原位置に自動的に復帰する。
上記第1のガイド2にはこの第1のガイド2に沿ってY
軸方向に移動する第1のテーブル(Y軸テーブル)33
が熱歪を吸収し得るように移動可使に支持されている。
すなわち、第1のガイド2の両側長辺側の外側において
、サイトガイド34.35の複数箇所(図示例では3箇
所)に形成された穴36に保持ビン37が遊合状態に挿
通され、保持ビン37のねじ部37aが第1のテーブル
33に形成された穴38に挿入され、保持ビン37のね
じ部37aには複数枚の皿ばね39が嵌装され、その外
側よりねじ部37aに上記と同様の止めナラ)40が螺
着され、サイドガイド34.35が第1のテーブル33
の下面に固定状態に保持されている。
サイドガイド34.35と第1のガイド2の対向面には
長手方向に沿って7字状面を有する凹入部41と42が
形成され、これら凹入部41と42に多数のポール43
が介在され、これらのポール43は保持器44により保
持されている。上記基準ブロック12側のサイドガイド
34の外側に位置して第1のテーブル33の下面の複数
箇所に基準ブロック45がボルト46により固定されて
いる。基準ブロック45の内側の7字状の凹入部47と
サイドガイド34の側面との間に基準ビン48が水平方
向に介在されている。他方のサイドガイド35の外側面
には長手方向に沿って受部材49が複数箇所に固定され
ている。第1のテーブル33におけるサイドガイド35
例の外端面には支持ブロック50がボルト51により固
定されている。支持ブロック50には受部材49と対応
するように押圧ビン52が水平方向に摺動可能に支持さ
れている。各押圧ビン52の後方において支持ブロック
50に調整ねじ53がナツト54により取り付けられ、
各押圧ビン52と調整ねじ53との間に圧縮ばね55が
介在され、この圧縮ばね55の弾性により押圧ビン52
が受部材49偏に付勢されている。各受部材49の円錐
状の凹入部56と押圧ビン52との間にはポール57が
介在され、圧縮ばね55の弾性によりサイドガイド35
がポール43を介して第1のガイド2へ、第1のガイド
2がポール43を介してサイドガイド34へ、サイドガ
イド34が基準ビン48に順次付勢されている。各サイ
ドガイド34.35の一方の短辺側の外側部において、
第1のテーブル33の下面に上記基準ブロック20と一
直線状に基準ブロック58がボルト59により固定され
、この基準ブロック58の7字状の凹入部60とサイド
ガイド34の短辺側端面との間に基準ビン61が水平方
向に介在されている。各サイドガイド34.35の他方
の短辺側の外側面には受部材62が固定され、各受部材
62に対向するように第1のテーブル33の端面に支持
ブロック63がボルト64に固定され、この支持ブロッ
ク63には受部材62と対応するように押圧ピン65が
水平方向に摺動可能に支持されている。各押圧ピン65
の後方において支持ブロック63に調整ねじ66がナツ
ト67により取り付けられ、各押圧ピン65と調整ねじ
66との間に介在された圧縮ばね68の弾性により押圧
ピン65が受部材62側に付勢されている。受部材62
の円錐状の凹入部69と押圧ピン65との間にはポール
70が介在され、圧縮ばね68の弾性によりサイドガイ
ド34.35が基準ビン61に付勢されている。この状
態で、常温では保持ビン36がサイドガイド34.3−
5の六36の中央に位置するように設定されている。し
たがって、加熱により第1のガイド2、第1のテーブル
33等に熱歪が生じても、これを基準ビン48.61を
基準として1皿ばね39、圧縮ばね55.68により吸
収することができ、冷却により皿ばね39、圧縮55.
68の反撥弾性により加熱前の原位置に自動的に復帰す
る。そして、サイドガイド34.35、第1のテーブル
33等をポール43を介して第1のガイド2に対しY軸
方向に移動させることができる。
第1のテーブル33−ヒに一対の円柱状の第2のガイド
71が第1のガイド2と直交方向に保持されている0、
すなわち、第1のテーブル33上に支持台72が固定さ
れ、支持台72の両側部上に各一対の支持ブロック73
.74が固定されている。第2のガイド71の各一端は
支持ブロック73に基準となる円弧状の面を有する座7
5を介してボルト76により連結され、第2のガイド7
1の各他端は支持プ1ffツク74に皿ばね77、座7
8を介してボllz ) 79により連結されている。
したがって、加熱により第2のガイ171等に熱歪が生
じても、これを皿ばね77により吸収することができ、
冷却により皿ばね77の反撥弾性により加熱前の原位置
v二自動的に復帰する。
上記第2のガイド71にはこの第2のガイド71に沿っ
てX軸方向に移動する円板状の第2のテーブル(X軸テ
ーブル)80が熱歪を吸収し得るように移動可能に支持
されでいる。すなわち、第2のテーブル80には中心よ
り放射状位置において、雌ねじ81が形成され、各雌ね
じ81に調整用ナツト82が螺入され、各調整用ナツト
82の内側でポルト83により支持台84が水平位置調
整可能に取り伺けられている。支持台84の切欠き穴8
5内において、第2のテーブル80の下面に支持ブロッ
ク86が位置決めビン87とポルト88により固定され
ている。支持台84の切欠き六89内において、m2の
テーブル80の下面に支持ブロック90がポルト91に
より固定されている。支持ブロック86には一方の第2
のガイド71の方向に沿って2箇所に切欠き92が形成
され、各切欠き92内に鼓状のローラ93が配置され、
その両側の軸が支持台84にベアリング94を介して回
転可能に支持され、外側のベアリング94は支持台84
に螺入されたチー2ト95により抜は止めされている。
支持ブロック86には他方の第2のガイド71の中間部
上に位置して切欠き96が形成され、切欠き96内に円
柱状のローラ97が配置され、その両側の軸が支持台8
4にベアリング98を介して回転可能に支持され、外側
のベアリング98は支持台84に螺入されたナツト99
により抜は止めされている。支持ブロック86の下端部
には支持部材100の二股状部100aが嵌合されビン
101により上下方向に揺動可能に支持され、支持部材
100には揺動部材102の中間部の支持部103がベ
アリング104を介して回転可能に支持されている。、
揺動部材102の各先端部にはベアリング105がナツ
ト106により取り付けられている。支持部103には
ばね掛けlO7がナツト108により取り付けられ、−
方、支持ブロック90内にばばね掛け109が取り付け
られ、これらばね掛け107と109に引張ばね110
が張設されている。そして。
一方の第2のガイド71の上下が鼓状のローラ93とベ
アリング105により挟まれ、他方の第2のガイド71
の上下が円柱状のローラ97とベアリング105により
挟まれ、これらローラ93.97とベアリング105の
転勤により第2のテーブル80等がX軸方向に移動され
る。したがって、加熱により第2のガイド71、第2の
テーブル80、支持ブロック86等に熱歪が生じても、
鼓状のローラ93が引張ばね110の弾性に抗して上方
へ逃げると共に、円柱状のローラ97が第2のガイド7
1に対し軸心方向にずれて熱歪を吸収することができ、
冷却により引張ばね110の反撥弾性等により加熱前の
原位置に自動的に復帰する。
第2のテーブル80上には回転作業台111が設けられ
ている。すなわち、第6図に示すように第2のテーブル
80上、にハウジング112がポル)l 13により固
定され、回転作業台111の下面中央部に固定された回
転軸114がベアリング115と116により回転可能
に支持されている0回転軸114の中間部外周には中空
軸117が嵌合され、中空軸117の外周にはケイ素鋼
板118と磁石119からなるローターが溶接により固
定されている0回転軸114にはローターの下方におい
て止めナツト120が固定され、回転軸114の上方の
段部121により後退規制された楔122の先端部が中
空軸117の一端部と回転軸114との間に圧入され、
止めナーy)120により後退規制された楔123の先
端部が中空軸117の他端部と回転軸114との間に圧
入され、両者が固定されている。ハウジングL12の内
側にはローグーの外周においてステーター124が固定
されている。したがって、ローターの回転によりこれと
一体の回転軸114および回転作業台111が回転され
る。
上記第1と第2のテーブル33と80はそれぞれステッ
ピングモータ125.126とボールねじにより移動さ
れる。すなわち、ステッピングモータ125は第9図に
示すようにベースlにハウジング127がホット128
により固定されている。ハウジング127にはボールね
じのねじ軸129の端部がベアリング130.131に
より回転可能に支持されている。ねじ軸129の外周に
は中空軸132が嵌合され、中空軸132の外周にはケ
イ素鋼板133と磁石134からなるローターが溶接に
より固定されている。ねじ軸129にはローターの外方
において止めナツト135が固定され、ねじ軸129の
内方の段部136により後退規制された模137の先端
部が中空軸132の一端部とねじ軸129との間に圧入
され、止めナラ)135により後退規制された僕13g
の先端部が中空軸132の他端部とねじ軸129との間
に圧入され1両者が固定されている。ハウジング138
の内側にはローターの外周においてステーター139が
固定されている。ハウジング127にはねじ軸129の
外方において、プッシャー140が摺動可能に支持され
、プッシャー140の外方に止めねじ141が螺入され
、止めねじ141とブツシャ−140の間に圧縮ばね1
42が介在され、圧縮ばね142の弾性によりプッシャ
ー140がねじ軸129側に付勢されている。ねじ軸1
29の端面とブツシャ−140の端面の円錐状部に跨っ
てボール143が介在されている。したがって、ステー
タ139とローターのギャップが確保され、ローターの
回転によりこれと一体のねじ軸129が回転される。ね
じ軸129の他端部は第7図から明らかなようにベース
1にポルト144により固定された支持ブロック145
の内側にベアリング129を介して回転可能に支持され
ている。一方、第1のテーブル33にはブラケット14
7が取り付けられ、ブラケッ)147の穴148にはボ
ールねじのナツト149と150が遊合状態で挿通され
、ナツト150にはブラケット147とナラ) 150
の鍔状部151との間で円板152が遊嵌されている。
ナラ)150の鍔状部151と円板152とブラケッ)
147にはボルト153が遊合状態で挿通され、ナツト
149の外周に取り付けられたナラ)154に螺入され
、ブラケット147と円板152の間にボール155が
介在され、円板152と鍔状部151との間にボール1
56が介在され、ナラ)149の外周において。
ナツト154とブラヶッ)147の間に圧縮ばね157
が介在されている。上記ねじ軸129がナツト149.
150にボール(T5!J示省略)を介して噛合わされ
ている。したがって、ステッピングモータ125の駆動
によりねじ軸129を回転させることにより、ナツト1
49.150を介して第1のテーブル33、第2のテー
ブル80および回転作業台111等を第1のガイド2に
沿ってY軸方向に移動させることができる。そして、ナ
ツト149,150を圧縮ばね154、ボール155,
156等を介してブラケット147に支持させることに
より。
加熱による各部材の熱歪を吸収することができ、また、
ねじ軸129の曲がりが第1のテーブル33へ影響を及
ぼすのを防止することができる。一方、ステッピングモ
ータ126も上記ステッピングモータ125と同様に構
成されて支持台72上に取り付けられ、このステッピン
グモータ126の駆動により回転されるねじ軸129も
同様に支持台72上に取り付けられた支持ブロック14
5にベアリング(図示省略)を介して回転可能に支持さ
れ、このねじ軸129が支持台84より突出するブラヶ
ッ)147に同様に支持されたナラ)149と150に
ボール(図示省略)を介して噛合わされている。したが
って、ステッピングモータ126の駆動によりねじ軸1
29を回転させることにより、ナツト149.150を
介して支持台84、第2のテーブル80および回転作業
台111等を第2のガイド2に沿1てX軸方向に移動さ
せることができる。
特に第1図、第2図および第11図から明らかなように
第1のテーブル33の原点検出用スイッチ158がベー
・ス1と、第1のテーブル33に固定された支持ブロッ
ク50に設りすられている。ベース1にブラケット15
9がポルト160により固定され、ブラケット159の
穴161にスリーブ162が遊合状態に挿通されている
。スリーブ162の内側にセラミックスからなる絶縁体
163を介して端子164が固定されている。スリーブ
162の基部突出部には止めリング165が止めねじ1
66により固定され、スリーブ162の先端側の鍔状部
167とブラケット159との間には圧縮ばね168が
介在されている。端子164の先端にはベツド169が
止めねじ170により固定され、端子164の基端には
圧着端子171を介してケー・プル】72に接続されて
いる。〜方、支持ブロック50にブラケット173が固
定され。
ブラケー、ト173の穴174にスリーブ175が固定
され、スリーブ175の内側に絶縁体176を介して端
子177が固定されている。端子177の先端はスリー
ブ175の先方へ突出され、端子177の基端には圧着
端子178を介してケーブル179が接続されている。
したがって、上記のように第1のテーブル33、支持ブ
ロック50等がX軸方向に移動する際、支持ブロー2り
50側の端子177をベース1側の端子164のヘッド
169に接触させておくことにより、原点位置を検出す
ることができ、このとき、端子177をヘッド169に
強く押し当てても圧縮ばねlB9によりその衝撃を吸収
することができるや第1のテーブル33のX軸方向へ移
動を規制するための一対の近接スイッチi80がそれぞ
れベースlにポル)181により固定されたプラク′ッ
ト182に支持され、一方、第4図から明らかなように
上記近接スイッチ180を動作させる磁石183が支持
ブロック50にポルト184により固定されている。し
たがって、上記のように第1のテーブル33、支持ブロ
ック50等がX軸方向に移動する際、磁石183がいず
れかの近接スイッチ180を動作させて限界移動位置を
検出することができる。第1図に示すように第2のテー
ブル80の原点検出用のスイッチ185が支持台72と
支持台84に上記と同様にブラケット159と173に
より取り付けられ、また、第1図、第2図に示すように
第2のテーブル80のX軸方向への移動を規制するため
の一対の近接スイッチ186がそれぞれ支持台72に上
記と同様にブラケット182により支持され、これらの
近接スイッチ3.86を動作させる磁石187゛が支持
台84に取り付けられている。したがって、」;記と同
様に原点検出用のスイッチ185により第2のテーブル
80の原点位置を検出し、近接スイッチ186により第
2のテーブル80の限界移動位置を検出することができ
る。第6図に示すように回転作業台111の回転位置検
出用の近接スイッチ188はハウジング112にポル)
189により取り付けられたブラケッ)190に支持さ
れでいる。一方、回転作業台l11にブラケット191
がポルト192により固定され、このブラケット191
に近接スイッチ188を動作させる磁石193がポルト
194により固定されている。したがって、磁石193
による近接スイッチ188の動作により回転作業台11
1の回転位置を検出することができる。
上記各部材において、部品固定用のポルト、ナツト、ワ
ッシャ、ばね、受部材、ポール、基準ビン、ベアリング
等の強度部材には酸洗、加熱脱ガス処理を行ない、また
は、表面にAgでコートしたステンレス材を用い、その
他の主要部材はアルミニウム合金を計+02中で加工し
、表面に緻密で硬い酸化膜を形成し、不純物を少なくし
た材料を用いている。したがって、加熱の際に各部材か
らの放出ガスの発生を極めて少なくすることができる。
また、上記第1のテープル33と第2のテーブル80を
移動させる各ステッピングモータ125.126のステ
ータ139および回転作業台111を回転させるモータ
のステータ124に用いるケーブルは第1O図に示すよ
うに芯線195の外周に絶縁被覆196が施され、絶縁
被覆196の外周がステンレスからなるチューブ197
により被覆されている。したがって、加熱の際に放出ガ
スの発生を極めて少なくすることができ、これにより各
ステッピングモータ125,126を真空槽(図示省略
)内に設置することができる。
次に上記実施例の動作について説明する。
ステッピングモータ125の駆動により上記のように第
1のテーブル33、第2のテーブル80、回転作業台1
11等を第1のガイド2に沿ってY軸方向に移動させ、
ステッピングモータ12Bの駆動により上記のように第
2のテーブル80、回転作業台111等を第2のガイド
71に沿ってX軸方向に移動させる。また、回転作業台
111を上記のようにハウジング112に内臓したモー
タの駆動により回転させることにより回転作業台111
上で素子に対する薄膜加工、検査等を用いることができ
る。そして、真空槽を加熱し、真空槽内を脱ガスし、超
高真空環境にする際、上記のように第1のガイド2等の
熱歪を基準ピン14.23を基準として皿ばね10、圧
縮ばね30により吸収し、第1のテーブル33等の熱歪
を基準ピン48.61を基準として皿ばね39、圧縮ば
ね68により吸収し、第2のガイド71等の熱歪を支持
ブロック73と座75を基準として皿ばね77により吸
収し、第2のテーブル80等の熱歪を鼓状のローラ93
の案内側の第2のガイド71を基準として引張ばねll
Oにより吸収することができる。また、各部材を上記の
ように各ばねにより常に押し付けているので、各部材間
の熱伝達を効果的に行なうことができ、温度勾配を小さ
くすることができる。したがって、1O−11Torr
台の超高真空環境において第1のテーブル33、第2の
テーブル80、回転作業台111を大気中と同様に円滑
に、しかも、高精度に動作させることができる。また、
各部材を上記のように加熱の際の放出ガスの極めて少な
い材料により形成しているので、真空槽内の好ましい環
境に保つことができる。また、上記のように第1と第2
のテーブル33と80を移動させるステッピングモータ
125.126を真空槽内に設置することができるよう
にしているので、従来のような動力伝達機構の変動をな
くし、送り精度を更に一層向上さ°せることができる。
試験の結果、13” T o r rの超高真空環境に
おいて、大気中での動作と同じように動作させることが
でき、各テーブル33.80のピッチング、ヨーイング
はいずれもサブミクロン台であった。
発明の効果 以上述べたように本発明によれば、第1の駆動装置によ
り第1の動力伝達手段を介し、第1のテーブルおよび第
2のテーブルをベース上のガイドによる第1のテーブル
の移動装置の案内により一方向に移動させ、第2の駆動
装置により第2の動力伝達手段を介し、第2のテーブル
を第1のテーブル上の第2のガイドによる第2のテーブ
ルの移動装置の案内により上記と直交方向に移動させる
ようにし、第1のガイドをベースに熱歪を吸収し得るよ
うにばねを用いて保持し、第1にテーブルを第1のガイ
ドに熱歪を吸収し得るようにばねを用いて移動可能に支
持し、第2のガイドを第1のテーブルに熱歪を吸収し得
るようにばねを用いて保持し、第2のテーブルを第2の
ガイドに熱歪を吸収し得るようにばねを用いて移動可能
に支持し、第1と第2の駆動装置と第1と第2のテーブ
ルをそれぞればねを用いて熱歪を吸収し得るように連係
しているので、真空槽を加熱して脱ガスする際に上記各
部材が熱歪(熱膨張)を生じてもこれを吸収することが
でき、したがって、10” T 。
rr台の超高真空環境で円滑に、しかも、高精度に動作
させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第11図は本発明の一実施例における超高
真空用精密テーブルを示し、第1図は全体斜視図、第2
図は回転作業台部分を除去した平面図、第3図は一部を
破断17た第1図の■矢視図、第4図は第1図の■−=
IV矢視断面図、第5図は第4図のV−■矢視断面図、
第6図は回転作業台部分の断面図、第7図はポールねじ
のねじ軸の端部支持部の断面図、第8図はポールねじの
ねじ軸と螺合するナツト部の取巻1付は状態の断面図、
第9図1iステワビングモータ部の断面図、第1θ図は
ステー2ピングモータのステータ用ケー・プルの断面図
、第11図は原点検山川スイッチの断面図、第12図な
いし第16図は従来の真空用精密テーブルを示し、第1
2図は全体斜視図、第13図は第12図の虐−虐矢視断
面図、第14図は第12図の’47−凄矢視断面図、第
15図はリニアガイドの横断面図、第16図はリニアガ
イドの一部破断側面図である。 1・・・ベース、2・・・第1のガイド、8・・・保持
ビン、10・・・皿ばね、12・・・基準ブロック、1
5・・・基準ビン、16・・・支持ブロック、j8・・
・圧縮ばね、20・・・基準ブロック、z3・・・基準
ビン、25・・・支持ブロック、30・・・圧縮ばね、
33・・・第1のテーブル、349.35・・・サイド
ガイド、37・・・保持ピン245・・・基準ブロック
、48・・・基準ビン、50・・・支持ブロック、55
・・・圧縮ばね、58・・・基準ノロツク、6見・・・
基準ビン、68・・・圧縮ばね、72・・−支持台、7
3.74支持ブロツク、77・・・皿ばね、80・・・
第2のテーブル、86・・・支持ブロック、93・・・
ローラ、97・・・ローラ、105・・・ベアリング、
110・・・引張ばね、111・・・回転作業台、12
5.126・・・ステッピングモータ、129・・・ポ
ールねじのねじ軸、149.150・・・ポールねじの
ナツト、158・・・原点検出用スイッチ、180・・
・近接スイッチ、185・・・原点検出用スイッチ、1
86・・・近接スイッチ、188・・・近接スイッチ。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ほか1名第7図  
    129−ねし゛軸 ω               ■ 塚            塚 へ た 、271−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  ベースと、このベース上に設けられる第1のガイドと
    、この第1のガイドを基準に対しばねにより付勢して上
    記ベースに熱歪を吸収し得るように保持する保持手段と
    、上記第1のガイドに沿って移動させる第1のテーブル
    と、この第1のテーブルを基準に対しばねにより付勢し
    て上記第1のガイドに熱歪を吸収し得るように移動可能
    に支持する移動装置と、上記第1のテーブル上に上記第
    1のガイドと直交方向に設けられる第2のガイドと、こ
    の第2のガイドを基準に対しばねにより付勢して上記第
    1のテーブルに熱歪を吸収し得るように保持する保持手
    段と、上記第2のガイドに沿って移動させる第2のテー
    ブルと、この第2のテーブルを上記第2のガイドに熱歪
    を吸収し得るようにばねを用いて移動可能に支持する移
    動装置と、上記第1と第2のテーブルをそれぞれ移動さ
    せる第1と第2の駆動装置と、これら第1と第2の駆動
    装置と第1と第2のテーブルにばねを用いて熱歪を吸収
    し得るように連係された第1と第2の動力伝達手段とを
    備えたことを特徴とする超高真空用精密テーブル。
JP63106415A 1988-04-28 1988-04-28 超高真空用精密テーブル Pending JPH01274936A (ja)

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JP63106415A JPH01274936A (ja) 1988-04-28 1988-04-28 超高真空用精密テーブル

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6446950B2 (en) 2000-03-23 2002-09-10 Hitachi, Ltd. Travelling worktable apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6446950B2 (en) 2000-03-23 2002-09-10 Hitachi, Ltd. Travelling worktable apparatus
US6659441B2 (en) 2000-03-23 2003-12-09 Hitachi, Ltd. Travelling worktable apparatus

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