JPH038353Y2 - - Google Patents
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- JPH038353Y2 JPH038353Y2 JP9380386U JP9380386U JPH038353Y2 JP H038353 Y2 JPH038353 Y2 JP H038353Y2 JP 9380386 U JP9380386 U JP 9380386U JP 9380386 U JP9380386 U JP 9380386U JP H038353 Y2 JPH038353 Y2 JP H038353Y2
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- slide plate
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- slit
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- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 28
- 239000008187 granular material Substances 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 3
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 2
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002054 inoculum Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
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- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
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- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案は粉粒体供給装置に関し、特に粉粒体の
供給量を連続的に調整可能な粉粒体供給装置に関
するものである。
供給量を連続的に調整可能な粉粒体供給装置に関
するものである。
従来の技術
例えば、鋳鉄管の製造過程においては、溶湯に
対して種々の粉粒体からなる接種材を添加する必
要があり、かつその添加量は正確でなければなら
ない。そのため、上記接種材の添加に用いられる
粉粒体供給装置は、供給量の調整が容易でかつ供
給量が安定していることが必要である。
対して種々の粉粒体からなる接種材を添加する必
要があり、かつその添加量は正確でなければなら
ない。そのため、上記接種材の添加に用いられる
粉粒体供給装置は、供給量の調整が容易でかつ供
給量が安定していることが必要である。
従来、このような要件を満たすものとして、第
5図に示すように、粉粒体を収容したホッパー5
0から落下供給通路51を通して圧送室52内に
配置された受入ホッパー53に粉粒体を供給し、
この受入ホッパー53内の粉粒体は圧送室52内
の圧力気体にて供給管54を通して外部の所定場
所に気体輸送するように構成され、かつ粉粒体の
供給量を調整するため、前記落下供給通路51を
横断するようにスライド板55を配設するととも
に、このスライド板55には各供給量に対応した
断面積の複数の調節孔56を穿設し、このスライ
ド板55をスライド操作して前記落下供給通路5
1に適当な調節孔56を対応させるように構成さ
れている。また、前記スライド板55は、第6図
及び第7図に示すように、両側の案内部材57に
形成されたガイド溝58に両側部を摺動自在に嵌
合させて支持されていた。
5図に示すように、粉粒体を収容したホッパー5
0から落下供給通路51を通して圧送室52内に
配置された受入ホッパー53に粉粒体を供給し、
この受入ホッパー53内の粉粒体は圧送室52内
の圧力気体にて供給管54を通して外部の所定場
所に気体輸送するように構成され、かつ粉粒体の
供給量を調整するため、前記落下供給通路51を
横断するようにスライド板55を配設するととも
に、このスライド板55には各供給量に対応した
断面積の複数の調節孔56を穿設し、このスライ
ド板55をスライド操作して前記落下供給通路5
1に適当な調節孔56を対応させるように構成さ
れている。また、前記スライド板55は、第6図
及び第7図に示すように、両側の案内部材57に
形成されたガイド溝58に両側部を摺動自在に嵌
合させて支持されていた。
考案が解決しようとする問題点
ところが、このようなスライド板55及びその
支持構造では、各調節孔56の断面積にて供給量
を規制しているため、段階的にしか供給量を調整
できず、簡単に任意の供給量に調整することがで
きないという問題があつた。また、スライド板5
5と案内部材57の間の摺動部に粉粒体を噛み込
み、スライド板55の操作が円滑に行えなくなる
等の問題があつた。
支持構造では、各調節孔56の断面積にて供給量
を規制しているため、段階的にしか供給量を調整
できず、簡単に任意の供給量に調整することがで
きないという問題があつた。また、スライド板5
5と案内部材57の間の摺動部に粉粒体を噛み込
み、スライド板55の操作が円滑に行えなくなる
等の問題があつた。
本考案は上記問題点を解決するもので、粉粒体
の供給量を連続的に調整することができ、かつス
ライド板の摺動部への粉粒体の噛み込みを抑制で
きる粉粒体供給装置を提供することを目的とする
ものである。
の供給量を連続的に調整することができ、かつス
ライド板の摺動部への粉粒体の噛み込みを抑制で
きる粉粒体供給装置を提供することを目的とする
ものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために、本考案は粉粒体
の落下供給通路を横断するようにスライド板を配
設するとともに、このスライド板の両側縁をロー
ラにて移動自在に支持し、かつこのスライド板に
粉粒体の通過量を調整するスリツトを設け、この
スリツトはスライド板の移動方向に連続的にスリ
ツト幅を変化させて形成したのである。
の落下供給通路を横断するようにスライド板を配
設するとともに、このスライド板の両側縁をロー
ラにて移動自在に支持し、かつこのスライド板に
粉粒体の通過量を調整するスリツトを設け、この
スリツトはスライド板の移動方向に連続的にスリ
ツト幅を変化させて形成したのである。
作 用
上記構成により、スライド板のスリツト幅が連
続的に変化しているため、スライド板の位置調整
により落下供給通路に臨むスリツト開口の面積を
連続的に調整することができ、粉粒体の供給量を
連続的に調整することが可能となる。また、スラ
イド板の両側をローラで支持しているので、スラ
イド板はローラにて線接触状態で支持され、粉粒
体の噛み込みを抑制して円滑なスライド板の操作
状態を維持することができるのである。
続的に変化しているため、スライド板の位置調整
により落下供給通路に臨むスリツト開口の面積を
連続的に調整することができ、粉粒体の供給量を
連続的に調整することが可能となる。また、スラ
イド板の両側をローラで支持しているので、スラ
イド板はローラにて線接触状態で支持され、粉粒
体の噛み込みを抑制して円滑なスライド板の操作
状態を維持することができるのである。
実施例
以下、本考案の一実施例を第1図〜第4図に基
づいて説明する。1は粉粒体を収容する密閉構造
のホツパーで、その下端開口1aは圧送室2の上
部に配設された中間室3の上部に設けられた落下
供給筒4の上端開口4aに密封接続されている。
また、前記ホツパー1と圧送室2内とは図示しな
い連通管にて同圧に保持されている。前記荷下供
給筒4には、上端部を除いて内周にりん青銅製の
上部ブツシユ材6が嵌着されており、その下端に
スライド板7が摺動自在に当接されている。スラ
イド板7は周囲が補強枠8にて補強され、かつ補
強枠8の両側縁は断面形状山形に形成されてい
る。また、スライド板7にはその長手方向にスリ
ツト9が形成されている。このスリツト9はその
一端から他端に向かつてスリツト幅が直線的に変
化するように形成されている。前記中間室3の上
壁からスライド板7を支持する支持枠10が垂設
され、この支持枠10の四隅部に回転自在にロー
ラ11が配設されている。これらローラ11に前
記補強枠8の断面山形の両側縁が移動自在に係合
している。
づいて説明する。1は粉粒体を収容する密閉構造
のホツパーで、その下端開口1aは圧送室2の上
部に配設された中間室3の上部に設けられた落下
供給筒4の上端開口4aに密封接続されている。
また、前記ホツパー1と圧送室2内とは図示しな
い連通管にて同圧に保持されている。前記荷下供
給筒4には、上端部を除いて内周にりん青銅製の
上部ブツシユ材6が嵌着されており、その下端に
スライド板7が摺動自在に当接されている。スラ
イド板7は周囲が補強枠8にて補強され、かつ補
強枠8の両側縁は断面形状山形に形成されてい
る。また、スライド板7にはその長手方向にスリ
ツト9が形成されている。このスリツト9はその
一端から他端に向かつてスリツト幅が直線的に変
化するように形成されている。前記中間室3の上
壁からスライド板7を支持する支持枠10が垂設
され、この支持枠10の四隅部に回転自在にロー
ラ11が配設されている。これらローラ11に前
記補強枠8の断面山形の両側縁が移動自在に係合
している。
前記スライド板7の下面には前記上部ブツシユ
材6に対向してりん青銅製の下部ブツシユ材12
が配設されている。尚、前記ホッパー1の下端開
口1a、落下供給筒4及び上部ブツシユ材6並び
にこの下部ブツシユ材12にて落下供給通路Pが
構成されている。前記下部ブツシユ材12は、前
記支持枠10の下面に一端が上下揺動自在に枢支
されかつ他端がバネ14にて上方に付勢された押
付レバー13の中間部に枢着ピン15を介して首
振り自在に装着され、スライド板7の板面に倣う
ように構成されている。また、前記押付レバー1
3には横断面形状コ字状の案内フード16が垂設
されている。17は、前記下部ブツシユ材12の
下端開口を開閉可能に閉鎖する蓋体であり、前記
支持枠10の側方位置に配設された回転軸19に
一端が固定され他端側が前記案内フード16の側
部開口を通つて下部ブツシユ材12の下部に延び
る開閉レバー18の先端に取付けられている。前
記回転軸19は前記中間室3の周壁を貫通し、中
間室3の側方位置に配設されたシリンダ装置20
にて回転駆動される。
材6に対向してりん青銅製の下部ブツシユ材12
が配設されている。尚、前記ホッパー1の下端開
口1a、落下供給筒4及び上部ブツシユ材6並び
にこの下部ブツシユ材12にて落下供給通路Pが
構成されている。前記下部ブツシユ材12は、前
記支持枠10の下面に一端が上下揺動自在に枢支
されかつ他端がバネ14にて上方に付勢された押
付レバー13の中間部に枢着ピン15を介して首
振り自在に装着され、スライド板7の板面に倣う
ように構成されている。また、前記押付レバー1
3には横断面形状コ字状の案内フード16が垂設
されている。17は、前記下部ブツシユ材12の
下端開口を開閉可能に閉鎖する蓋体であり、前記
支持枠10の側方位置に配設された回転軸19に
一端が固定され他端側が前記案内フード16の側
部開口を通つて下部ブツシユ材12の下部に延び
る開閉レバー18の先端に取付けられている。前
記回転軸19は前記中間室3の周壁を貫通し、中
間室3の側方位置に配設されたシリンダ装置20
にて回転駆動される。
前記スライド板7の一端は中間室3の周壁を貫
通する出退軸21の一端に連結され、出退軸21
の他端は駆動モータ23にてトルクリミツター2
4を介して駆動されるスクリユージヤツキ22に
連結されている。また、前記スクリユージヤツキ
22には出退位置を検出するアブソリユート型の
ロータリエンコーダ25が接続され、かつ歯車列
26を介して手動操作回転軸27が接続されてい
る。
通する出退軸21の一端に連結され、出退軸21
の他端は駆動モータ23にてトルクリミツター2
4を介して駆動されるスクリユージヤツキ22に
連結されている。また、前記スクリユージヤツキ
22には出退位置を検出するアブソリユート型の
ロータリエンコーダ25が接続され、かつ歯車列
26を介して手動操作回転軸27が接続されてい
る。
前記圧送室2の上部には、前記案内フード16
の直下位置には中継ホツパー28が配設され、そ
の下部に落下する粉粒体の流量検出センサ29が
配設されている。前記中継ホツパー28及び流量
検出センサ29は、圧送室2の側壁に形成された
開口2aの閉蓋30から延出された支持腕31に
て支持され、容易に点検調整できるように構成さ
れている。前記流量検出センサ29の下方には、
受入ホツパー32が配設されるとともにこの受入
ホツパー32から圧送室2外に向かつて供給管3
3が延出されている。また、圧送室2の側壁には
圧力気体の供給口34が設けられている。
の直下位置には中継ホツパー28が配設され、そ
の下部に落下する粉粒体の流量検出センサ29が
配設されている。前記中継ホツパー28及び流量
検出センサ29は、圧送室2の側壁に形成された
開口2aの閉蓋30から延出された支持腕31に
て支持され、容易に点検調整できるように構成さ
れている。前記流量検出センサ29の下方には、
受入ホツパー32が配設されるとともにこの受入
ホツパー32から圧送室2外に向かつて供給管3
3が延出されている。また、圧送室2の側壁には
圧力気体の供給口34が設けられている。
前記スライド板7の位置制御は、次のように行
なわれる。即ち、第4図に示すように、スライド
板7の位置に対応するエンコーダ25の出力が、
変換器35にて2進数から2進化10進数にされて
比較器36に入力されるとともにドライバー37
を介して表示器38にて表示される。また、比較
器36には設定器39または外部の設定信号が入
力されるとともに、切替スイツチ40にていずれ
かの設定信号あるいは手動操作を選択できるよう
に構成されている。前記比較器36の出力信号
は、駆動モータ23を制御するコントローラ40
に入力され、スライド板7の位置が設定値に一致
するように制御される。また、コントローラ40
には手動操作時における選択スイツチ41からの
信号が入力されている。
なわれる。即ち、第4図に示すように、スライド
板7の位置に対応するエンコーダ25の出力が、
変換器35にて2進数から2進化10進数にされて
比較器36に入力されるとともにドライバー37
を介して表示器38にて表示される。また、比較
器36には設定器39または外部の設定信号が入
力されるとともに、切替スイツチ40にていずれ
かの設定信号あるいは手動操作を選択できるよう
に構成されている。前記比較器36の出力信号
は、駆動モータ23を制御するコントローラ40
に入力され、スライド板7の位置が設定値に一致
するように制御される。また、コントローラ40
には手動操作時における選択スイツチ41からの
信号が入力されている。
以上の構成において、所定量の粉粒体を供給す
る場合は、その供給量に対応するスライド板7の
位置を設定器39あるいは外部信号等にて設定す
ると、この設定値とエンコーダ25にて検出され
るスライド板7の位置との差に応じて駆動モータ
23が作動し、スクリユージヤツキ22が作動し
てスライド板7が所定位置まで移動する。こうし
て、スライド板7が所定位置に位置すると、落下
供給通路Pに臨むスリツト9の開口面積が粉粒体
の供給量に対応することになる。このときスリツ
ト9のスリツト幅が連続的に変化しているので、
落下供給通路Pに臨むスリツト9の開口面積を連
続的に調整することができる。又、このスライド
板7の移動時に、スライド板7はローラ11にて
支持されているので、粉粒体の噛み込みが殆どな
く、円滑に移動操作することができる。この状態
で、シリンダ装置20を作動させて開閉レバー1
8を開動作させると、蓋体17が下方回動して開
き、ホツパー1内の粉粒体がその落下量をスライ
ド板7のスリツト9により制御されて落下供給通
路Pを通つて落下し、中継ホツパー28を介し、
流量検出センサ29にて落下流量を検出された後
受け入れホツパー32内に供給され、圧送室2の
圧力気体とともに供給管33から外部に気体輸送
される。なお、前記流量検出センサ29にて検出
された粉粒体の流量が設定値と合致しない場合に
は、このセンサ29からの信号によりスライド板
7をフイードバツク制御する。
る場合は、その供給量に対応するスライド板7の
位置を設定器39あるいは外部信号等にて設定す
ると、この設定値とエンコーダ25にて検出され
るスライド板7の位置との差に応じて駆動モータ
23が作動し、スクリユージヤツキ22が作動し
てスライド板7が所定位置まで移動する。こうし
て、スライド板7が所定位置に位置すると、落下
供給通路Pに臨むスリツト9の開口面積が粉粒体
の供給量に対応することになる。このときスリツ
ト9のスリツト幅が連続的に変化しているので、
落下供給通路Pに臨むスリツト9の開口面積を連
続的に調整することができる。又、このスライド
板7の移動時に、スライド板7はローラ11にて
支持されているので、粉粒体の噛み込みが殆どな
く、円滑に移動操作することができる。この状態
で、シリンダ装置20を作動させて開閉レバー1
8を開動作させると、蓋体17が下方回動して開
き、ホツパー1内の粉粒体がその落下量をスライ
ド板7のスリツト9により制御されて落下供給通
路Pを通つて落下し、中継ホツパー28を介し、
流量検出センサ29にて落下流量を検出された後
受け入れホツパー32内に供給され、圧送室2の
圧力気体とともに供給管33から外部に気体輸送
される。なお、前記流量検出センサ29にて検出
された粉粒体の流量が設定値と合致しない場合に
は、このセンサ29からの信号によりスライド板
7をフイードバツク制御する。
考案の効果
本考案の粉粒体供給装置によれば、以上のよう
にスライド板のスリツト幅が連続的に変化してい
るため、スライド板の位置調整により粉粒体の供
給量を連続的に調整することが可能となり、また
スライド板の両側をローラで支持しているので、
スライド板はローラにて線接触状態で支持され、
粉粒体の噛み込みを抑制して円滑なスライド板の
操作状態を維持することができるという効果があ
る。
にスライド板のスリツト幅が連続的に変化してい
るため、スライド板の位置調整により粉粒体の供
給量を連続的に調整することが可能となり、また
スライド板の両側をローラで支持しているので、
スライド板はローラにて線接触状態で支持され、
粉粒体の噛み込みを抑制して円滑なスライド板の
操作状態を維持することができるという効果があ
る。
第1図〜第4図は本考案の一実施例を示し、第
1図は縦断正面図、第2図は縦断側面図、第3図
は第1図の−線横断平面図、第4図は制御装
置の構成を示すブロツク図、第5図〜第7図は従
来例を示し、第5図は概略構成を示す正面図、第
6図はスライド板の平面図、第7図は同横断側面
図である。 P……落下供給通路、1……ホツパー、4……
落下供給筒、6……上部ブツシユ材、7……スラ
イド板、9……スリツト、12……下部ブツシユ
材。
1図は縦断正面図、第2図は縦断側面図、第3図
は第1図の−線横断平面図、第4図は制御装
置の構成を示すブロツク図、第5図〜第7図は従
来例を示し、第5図は概略構成を示す正面図、第
6図はスライド板の平面図、第7図は同横断側面
図である。 P……落下供給通路、1……ホツパー、4……
落下供給筒、6……上部ブツシユ材、7……スラ
イド板、9……スリツト、12……下部ブツシユ
材。
Claims (1)
- 粉粒体の落下供給通路を横断するようにスライ
ド板を配設するとともに、このスライド板の両側
縁をローラにて移動自在に支持し、かつこのスラ
イド板に粉粒体の通過量を調整するスリツトを設
け、このスリツトはスライド板の移動方向に連続
的にスリツト幅を変化させて形成したことを特徴
とする粉粒体供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9380386U JPH038353Y2 (ja) | 1986-06-19 | 1986-06-19 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9380386U JPH038353Y2 (ja) | 1986-06-19 | 1986-06-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS631628U JPS631628U (ja) | 1988-01-07 |
| JPH038353Y2 true JPH038353Y2 (ja) | 1991-02-28 |
Family
ID=30956693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9380386U Expired JPH038353Y2 (ja) | 1986-06-19 | 1986-06-19 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH038353Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-06-19 JP JP9380386U patent/JPH038353Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS631628U (ja) | 1988-01-07 |
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