JPH0389502A - 磁性多層膜 - Google Patents
磁性多層膜Info
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- JPH0389502A JPH0389502A JP22687089A JP22687089A JPH0389502A JP H0389502 A JPH0389502 A JP H0389502A JP 22687089 A JP22687089 A JP 22687089A JP 22687089 A JP22687089 A JP 22687089A JP H0389502 A JPH0389502 A JP H0389502A
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Landscapes
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- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、磁気記録用磁気ヘッドの磁極等に適する磁性
多層膜に関するものである。
多層膜に関するものである。
（従来の技術および発明が解決しようとする課題）近年
、コンピューター用リジッド磁気ディスク装置を始めと
して、フレキシブル磁気ディスク装置、磁気テープ装置
等の磁気記録装置の高密度化が進められている。磁気記
録の高密度化のためには、記録媒体の保磁力（Ｈｅ）を
大きくすることが不可欠である。一方、信号の記録を行
なう磁気ヘッドには、このような高保磁力媒体を十分に
磁化するため、高飽和磁束密度（Ｂｓ）を有する材料が
必要とされる。また、信号の再生時に記録媒体からの信
号磁界を効率良く集束するために、磁気ヘッド材料は良
好な軟磁特性を合わせ持つ必要がある。このような磁気
ヘッド材料として、従来酸化鉄フェライト（Ｂｓ−５ｋ
Ｇａｕｓｓ）が広く用いられてきた。さらに、高Ｂｓの
軟磁性材料としてＮｉＦｅ合金（Ｂｓ−９ｋＧａｕｓｓ
）、Ｆｅ５ｉＡ１合金（Ｂｓ−１１ｋＧａｕｓｓ）等の
合金系軟磁性薄膜が現在用いられているが、１００００
ｅ以上の高保磁力媒体に書き込むことは困難である。
、コンピューター用リジッド磁気ディスク装置を始めと
して、フレキシブル磁気ディスク装置、磁気テープ装置
等の磁気記録装置の高密度化が進められている。磁気記
録の高密度化のためには、記録媒体の保磁力（Ｈｅ）を
大きくすることが不可欠である。一方、信号の記録を行
なう磁気ヘッドには、このような高保磁力媒体を十分に
磁化するため、高飽和磁束密度（Ｂｓ）を有する材料が
必要とされる。また、信号の再生時に記録媒体からの信
号磁界を効率良く集束するために、磁気ヘッド材料は良
好な軟磁特性を合わせ持つ必要がある。このような磁気
ヘッド材料として、従来酸化鉄フェライト（Ｂｓ−５ｋ
Ｇａｕｓｓ）が広く用いられてきた。さらに、高Ｂｓの
軟磁性材料としてＮｉＦｅ合金（Ｂｓ−９ｋＧａｕｓｓ
）、Ｆｅ５ｉＡ１合金（Ｂｓ−１１ｋＧａｕｓｓ）等の
合金系軟磁性薄膜が現在用いられているが、１００００
ｅ以上の高保磁力媒体に書き込むことは困難である。
これら合金系以外の新しい高Ｂｓ軟磁性材料として、高
Ｂｓを有するＦｅを非磁性の中間層材料と交互に積層し
て多層膜とすることによって軟磁気特性を得る、Ｆｅ／
Ｃ多層膜、Ｆｅ／５ｉ０２多層膜等のＦｅ系多層膜が注
目され、広く研究されている（例えば、千田正勝他著：
電子情報通信学会技術報告、ＭＲ８８−１６（１９８８
年）１７ページ、小林他著：ジャーナルオブアプライド
フイジツクス（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ
Ｐｈｙｓｉｃｓ）、６３巻（１９８８年）３２０３ペ
ージ）。しかし、これらの多層膜では中間層の非磁性体
によってＢｓが低下するという欠点がある。そこで、中
間層として強磁性体を用いたＦｅ／Ｎｉ多層膜、Ｆｅ／
ＦｅＣｏ多層膜、Ｆｅ／ＮｉＦｅ多層膜（例えば、特開
昭６４−３９０１２号公報や、アイ・イー・イー・イー
トランザクションズオンマグネティクス、ＩＥＥＥ ｔ
ｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ ｏｎ ｍａｇｎｅｔｉｃｓ）
、２３巻（１９８７年）２７４６ページ）等が検討され
ている。中でもＦｅ／ＮｉＦｅ多層膜は、中間層として
軟磁気特性に優れたＮｉＦｅ合金を用いているため、磁
気ヘッド用高Ｂｓ軟磁性材料として特に優れた特性が期
待される。
Ｂｓを有するＦｅを非磁性の中間層材料と交互に積層し
て多層膜とすることによって軟磁気特性を得る、Ｆｅ／
Ｃ多層膜、Ｆｅ／５ｉ０２多層膜等のＦｅ系多層膜が注
目され、広く研究されている（例えば、千田正勝他著：
電子情報通信学会技術報告、ＭＲ８８−１６（１９８８
年）１７ページ、小林他著：ジャーナルオブアプライド
フイジツクス（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ
Ｐｈｙｓｉｃｓ）、６３巻（１９８８年）３２０３ペ
ージ）。しかし、これらの多層膜では中間層の非磁性体
によってＢｓが低下するという欠点がある。そこで、中
間層として強磁性体を用いたＦｅ／Ｎｉ多層膜、Ｆｅ／
ＦｅＣｏ多層膜、Ｆｅ／ＮｉＦｅ多層膜（例えば、特開
昭６４−３９０１２号公報や、アイ・イー・イー・イー
トランザクションズオンマグネティクス、ＩＥＥＥ ｔ
ｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ ｏｎ ｍａｇｎｅｔｉｃｓ）
、２３巻（１９８７年）２７４６ページ）等が検討され
ている。中でもＦｅ／ＮｉＦｅ多層膜は、中間層として
軟磁気特性に優れたＮｉＦｅ合金を用いているため、磁
気ヘッド用高Ｂｓ軟磁性材料として特に優れた特性が期
待される。
しかし、このような多層膜材料は積層する２つの材料の
膜厚比、積層周期等によってその特性が大きく変化する
ため、これらを最適化しなければ所定の特性が得られな
いといった課題があった。
膜厚比、積層周期等によってその特性が大きく変化する
ため、これらを最適化しなければ所定の特性が得られな
いといった課題があった。
本発明の目的は、高Ｂｓで保磁力（Ｈｃ）、異方性磁界
（Ｈｋ）が小さい良好な軟磁気特性を有する磁性多層膜
を提供することにある。
（Ｈｋ）が小さい良好な軟磁気特性を有する磁性多層膜
を提供することにある。
（課題を解決するための手段）
本発明の磁性多層膜は、基板上にＦｅまたはＦｅを主成
分とする合金から成る第１の磁性層と、ＮｉＦｅ合金ま
たはＮｉＦｅ合金を主成分とする合金から戊る第２の磁
性層とが交互に積層された繰り返しによる周期構造を有
する磁性多層膜において、積層の周期が５０Ａ以上２０
ＯＡ以下であり、前記第１の磁性層が工周期に占める割
合が４０％以上６０％以下であることを特徴とする。
分とする合金から成る第１の磁性層と、ＮｉＦｅ合金ま
たはＮｉＦｅ合金を主成分とする合金から戊る第２の磁
性層とが交互に積層された繰り返しによる周期構造を有
する磁性多層膜において、積層の周期が５０Ａ以上２０
ＯＡ以下であり、前記第１の磁性層が工周期に占める割
合が４０％以上６０％以下であることを特徴とする。
以下、図面を参照して本発明をさらに詳細に説明する。
第１図は本発明の磁性多層膜の一例を示す部分断面構造
図である。基板１上に、ＦｅまたはＦｅを主成分とする
強磁性層２とＮｉＦｅまたはＮｉＦｅを主成分とする強
磁性層３とが交互に積層された繰り返しによる周期構造
を有する。第１図では基板上にまずＦｅ層を形威し、次
にＮｉＦｅ層を形成し最後の層もＮｉＦｅ層で終わるよ
うに記しであるが、本発明の磁性多層膜の特性はこれら
の層の積層順序には依らない。
図である。基板１上に、ＦｅまたはＦｅを主成分とする
強磁性層２とＮｉＦｅまたはＮｉＦｅを主成分とする強
磁性層３とが交互に積層された繰り返しによる周期構造
を有する。第１図では基板上にまずＦｅ層を形威し、次
にＮｉＦｅ層を形成し最後の層もＮｉＦｅ層で終わるよ
うに記しであるが、本発明の磁性多層膜の特性はこれら
の層の積層順序には依らない。
本発明に係わる基板１の材料にはガラス、Ｓｉ、Ａｌ２
Ｏ３、ＴｉＣ，ＳｉＣ，Ａｌ２Ｏ３とＴｉｃとの焼結体
、フェライト等を用いることができ、また第１の強磁性
層２にはＦｅまたはＦｅ−Ｃｏ５Ｆｅ−Ｎｉ、 Ｆｅ−
Ｔｉ、 Ｆｅ−８ｉ、 Ｆｅ−Ｃ等の強磁性合金、ある
いはこれらに添加物を加えたものを用いることができる
。また、本発明に係わる第２の強磁性層３の材料として
はＮｉＦｅ合金、あるいはこれらに添加物を加えたもの
を用いることができる。
Ｏ３、ＴｉＣ，ＳｉＣ，Ａｌ２Ｏ３とＴｉｃとの焼結体
、フェライト等を用いることができ、また第１の強磁性
層２にはＦｅまたはＦｅ−Ｃｏ５Ｆｅ−Ｎｉ、 Ｆｅ−
Ｔｉ、 Ｆｅ−８ｉ、 Ｆｅ−Ｃ等の強磁性合金、ある
いはこれらに添加物を加えたものを用いることができる
。また、本発明に係わる第２の強磁性層３の材料として
はＮｉＦｅ合金、あるいはこれらに添加物を加えたもの
を用いることができる。
上記の第１の強磁性材料と第２の強磁性材料とを２基の
蒸発源を持つ真空蒸着装置、もしくは２基のターゲット
を持つスパッタリング装置で蒸発させ、２基の蒸発源の
シャッターを交互に開閉したり、あるいは基板を２基の
蒸発源上を交互に通過させることによって、基板上に２
種類の材料を交互に積層させることができる。
蒸発源を持つ真空蒸着装置、もしくは２基のターゲット
を持つスパッタリング装置で蒸発させ、２基の蒸発源の
シャッターを交互に開閉したり、あるいは基板を２基の
蒸発源上を交互に通過させることによって、基板上に２
種類の材料を交互に積層させることができる。
Ｆｅ、 ＮｉＦｅ合金層は共に従来より良く用いられて
いる材料であるが、特定の積層周期、Ｆｅ層とＮｉＦｅ
層の膜厚比を選ぶことによって優れた軟磁気特性が得ら
れる。
いる材料であるが、特定の積層周期、Ｆｅ層とＮｉＦｅ
層の膜厚比を選ぶことによって優れた軟磁気特性が得ら
れる。
（作用）
このように特定の積層周期、膜厚比で優れた軟磁気特性
が得られる原因は明らかではないが、−般的にＦｅ系多
層膜で軟磁性が得られる原因としてはＦｅ層の結晶粒の
微細化と積層による歪みの導入が挙げられており、本発
明のＦｅ／ＮｉＦｅ多層膜においても積層周期と膜厚比
によって、結晶粒径や膜内の歪が軟磁気特性を得るため
の最適値となっているものと考えられる。
が得られる原因は明らかではないが、−般的にＦｅ系多
層膜で軟磁性が得られる原因としてはＦｅ層の結晶粒の
微細化と積層による歪みの導入が挙げられており、本発
明のＦｅ／ＮｉＦｅ多層膜においても積層周期と膜厚比
によって、結晶粒径や膜内の歪が軟磁気特性を得るため
の最適値となっているものと考えられる。
（実施例）
以下、本発明の実施例について説明する。２基の蒸発源
を用いた電子ビーム真空蒸着法により、Ｆｅ層とＮｉＦ
ｅ合金（Ｎｉ８２％、Ｆｅ１８％）層とを交互に連続的
に積層したＦｅ／ＮｉＦｅ多層膜を作成した。基板には
ガラス基板を用い、基板温度は１００°Ｃとした。成膜
速度はＬＡ／秒とし、各蒸発源のシャッターの開閉時間
を変えて各層の膜厚を制御した、蒸着中の真空度は５
Ｘ １Ｏ−８ｔｏｒｒであった。また、成膜中に基板面
内に５０００ｅの直流磁界を印加して、膜中に一軸性の
磁気異方性を誘起した。膜全体の厚さは全て２００ＯＡ
と一定にした。これらの試料の磁気特性を振動試料型磁
力計で測定した。
を用いた電子ビーム真空蒸着法により、Ｆｅ層とＮｉＦ
ｅ合金（Ｎｉ８２％、Ｆｅ１８％）層とを交互に連続的
に積層したＦｅ／ＮｉＦｅ多層膜を作成した。基板には
ガラス基板を用い、基板温度は１００°Ｃとした。成膜
速度はＬＡ／秒とし、各蒸発源のシャッターの開閉時間
を変えて各層の膜厚を制御した、蒸着中の真空度は５
Ｘ １Ｏ−８ｔｏｒｒであった。また、成膜中に基板面
内に５０００ｅの直流磁界を印加して、膜中に一軸性の
磁気異方性を誘起した。膜全体の厚さは全て２００ＯＡ
と一定にした。これらの試料の磁気特性を振動試料型磁
力計で測定した。
第２図はＦｅ層とＮｉＦｅ層の比率をｌ：ｌに固定して
積層周期を変えた時の保磁力（Ｈｅ）と異方性磁界（Ｈ
ｋ）の変化を調べた結果である。第２図から明らかなよ
うに、積層周期が５０Ａ以上２００Å以下の範囲ではＨ
ｃは１０ｅ以下、Ｈｋも５０ｅ以下と良好な軟磁気特性
が得られる。なお、これらの膜のＢｓはほぼ１５ｋＧａ
ｕｓｓ一定となっており、従来材料と比較して高い値と
なっている。
積層周期を変えた時の保磁力（Ｈｅ）と異方性磁界（Ｈ
ｋ）の変化を調べた結果である。第２図から明らかなよ
うに、積層周期が５０Ａ以上２００Å以下の範囲ではＨ
ｃは１０ｅ以下、Ｈｋも５０ｅ以下と良好な軟磁気特性
が得られる。なお、これらの膜のＢｓはほぼ１５ｋＧａ
ｕｓｓ一定となっており、従来材料と比較して高い値と
なっている。
第３図は積層周期を１０ＯＡ一定としてＦｅ層とＮｌｃ
ｅ層の比率を変えた時の保磁力（Ｈｃ）と異方性磁界（
Ｈｋ）の変化を調べた結果である。第３図から明らかな
ように、Ｆｅ層の厚さを１周期の４０％以上、６０％以
下の範囲にすると、保磁力１０ｅ以下、Ｈｋ５０ｅ以下
の良好な軟磁気特性が得られる。
ｅ層の比率を変えた時の保磁力（Ｈｃ）と異方性磁界（
Ｈｋ）の変化を調べた結果である。第３図から明らかな
ように、Ｆｅ層の厚さを１周期の４０％以上、６０％以
下の範囲にすると、保磁力１０ｅ以下、Ｈｋ５０ｅ以下
の良好な軟磁気特性が得られる。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明によるＦｅ／ＮｉＦｅ多層
膜は基板上に、ＦｅまたはＦｅを主成分とする合金から
成る第１の磁性膜と、ＮｉＦｅ合金まはたＮｉＦｅ合金
を主成分とする合金から成る第２の磁性層とが交互に積
層された繰り返しによる周期構造を有する磁性多層膜に
おいて、積層の周期が５０Ａ以上２００Ａ以下であり、
前記第１の磁性層が１周期に占める割合が４０％以上６
０％以下である構造を有することにより、高Ｂｓでかつ
良好な軟磁気特性を有する磁性多層膜が得られる。
膜は基板上に、ＦｅまたはＦｅを主成分とする合金から
成る第１の磁性膜と、ＮｉＦｅ合金まはたＮｉＦｅ合金
を主成分とする合金から成る第２の磁性層とが交互に積
層された繰り返しによる周期構造を有する磁性多層膜に
おいて、積層の周期が５０Ａ以上２００Ａ以下であり、
前記第１の磁性層が１周期に占める割合が４０％以上６
０％以下である構造を有することにより、高Ｂｓでかつ
良好な軟磁気特性を有する磁性多層膜が得られる。
第１図は本発明の磁性多層膜の一例を示す部分断面構造
図である。第２図はＦｅ層とＮｉＦｅ層の比率を１：１
に固定して、積層周期を変えたＦｅ／ＮｉＦｅ多層膜の
保磁力（Ｈｅ）と異方性磁界（Ｈｋ）の変化を示す図で
ある。第３図は積層周期を１００人一定としてＦｅ層と
ＮｉＦｅ層の比率を変えたＦｅ／ＮｉＦｅ多層膜の保磁
力（Ｈｃ）と異方性磁界（Ｈｋ）の変化を示す図である
。 １・・・基板、２・・−ＦｅまたはＦｅを主成分とする
強磁性層、３・・・ＮｉＦｅまたはＮｉＦｅを主成分と
する強磁性層第 図 第 図 積層周期（′Ａ）
図である。第２図はＦｅ層とＮｉＦｅ層の比率を１：１
に固定して、積層周期を変えたＦｅ／ＮｉＦｅ多層膜の
保磁力（Ｈｅ）と異方性磁界（Ｈｋ）の変化を示す図で
ある。第３図は積層周期を１００人一定としてＦｅ層と
ＮｉＦｅ層の比率を変えたＦｅ／ＮｉＦｅ多層膜の保磁
力（Ｈｃ）と異方性磁界（Ｈｋ）の変化を示す図である
。 １・・・基板、２・・−ＦｅまたはＦｅを主成分とする
強磁性層、３・・・ＮｉＦｅまたはＮｉＦｅを主成分と
する強磁性層第 図 第 図 積層周期（′Ａ）
Claims (1)
- 基板上に、ＦｅまたはＦｅを主成分とする合金から成
る第１の磁性層と、ＮｉＦｅ合金またはＮｉＦｅ合金を
主成分とする合金から成る第２の磁性層とが交互に積層
された繰り返しによる周期構造を有する磁性多層膜にお
いて、積層の周期が５０Å以上２００Å以下であり、前
記第１の磁性層が１周期に占める割合が４０％以上６０
％以下であることを特徴とする磁性多層膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22687089A JPH0389502A (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 磁性多層膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22687089A JPH0389502A (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 磁性多層膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0389502A true JPH0389502A (ja) | 1991-04-15 |
Family
ID=16851864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22687089A Pending JPH0389502A (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 磁性多層膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0389502A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5750251A (en) * | 1993-05-06 | 1998-05-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Multilayered soft magnetic film and magnetic head using the same |
| JP2001209910A (ja) * | 2000-01-24 | 2001-08-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
| JP2019523984A (ja) * | 2016-05-31 | 2019-08-29 | ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ ユニヴァーシティ オブ アラバマ | Ｆｅ系磁性薄膜 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63293802A (ja) * | 1987-05-27 | 1988-11-30 | Hitachi Ltd | 積層磁性薄膜およびこれを用いた磁気ヘツド |
| JPH01119005A (ja) * | 1987-10-31 | 1989-05-11 | Nec Home Electron Ltd | 磁性体膜およびその製造方法 |
-
1989
- 1989-08-31 JP JP22687089A patent/JPH0389502A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63293802A (ja) * | 1987-05-27 | 1988-11-30 | Hitachi Ltd | 積層磁性薄膜およびこれを用いた磁気ヘツド |
| JPH01119005A (ja) * | 1987-10-31 | 1989-05-11 | Nec Home Electron Ltd | 磁性体膜およびその製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5750251A (en) * | 1993-05-06 | 1998-05-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Multilayered soft magnetic film and magnetic head using the same |
| JP2001209910A (ja) * | 2000-01-24 | 2001-08-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
| JP2019523984A (ja) * | 2016-05-31 | 2019-08-29 | ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ ユニヴァーシティ オブ アラバマ | Ｆｅ系磁性薄膜 |
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