JPH0392775U - - Google Patents

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JPH0392775U
JPH0392775U JP77190U JP77190U JPH0392775U JP H0392775 U JPH0392775 U JP H0392775U JP 77190 U JP77190 U JP 77190U JP 77190 U JP77190 U JP 77190U JP H0392775 U JPH0392775 U JP H0392775U
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  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図ないし第５図は本考案の実施例に係り、
第１図は気相表面処理装置用の薬液気化装置の概
略構成を示した一部破断斜視図、第２図は第１図
の−矢視断面図、第３図ないし第４図は気流
発生構造の変形例を示した断面図、第５図は実施
例に係る薬液気化装置を用いた気相表面処理装置
の概略構成図である。第６図は従来の薬液気化装
置を用いた気相表面処理装置の概略構成図である
。 １０……薬液気化装置、１１……容器本体、１
２……ヒータ、１３……薬液流入部、１４……キ
ヤリアガス流入部、１５……薬液蒸気流出部、１
６……冷却機構。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 薬液を気化させて、薬液の蒸気をキヤリアガス
    とともに気相処理室へ供給し、 気相処理室内に収容した被処理基板に薬液の蒸
    気を接触させることにより、 被処理基板に所要の気相表面処理を施す気相表
    面処理装置用の薬液気化装置であつて、 薬液が流入される薬液流入部と、キヤリアガス
    が流入されるキヤリアガス流入部と、キヤリアガ
    スと混合された薬液蒸気が流出される薬液蒸気流
    出部とを有する気密な内部空間を備えた容器本体
    と、 前記容器本体に流入された薬液を加熱する加熱
    手段と、 前記容器本体に流入されたキヤリアガスをその
    流入された勢いで前記容器本体の内部空間で渦巻
    状の気流に変える気流発生構造と、 前記容器本体の内部空間に連通する薬液流入部
    の末端に配設された冷却手段と、 を備えたことを特徴とする気相表面処理装置用の
    薬液気化装置。
JP77190U 1990-01-08 1990-01-08 気相表面処理装置用の薬液気化装置 Expired - Lifetime JPH0726365Y2 (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007053186A (ja) * 2005-08-17 2007-03-01 Sumitomo Chemical Co Ltd 有機金属化合物供給容器
JP2011124457A (ja) * 2009-12-14 2011-06-23 Mitsubishi Electric Corp はんだ接合装置
JP2012169671A (ja) * 2012-05-28 2012-09-06 Watanabe Shoko:Kk 気化器
JP2018050040A (ja) * 2016-09-08 2018-03-29 東京エレクトロン株式会社 基板処理システムのための渦状微粒化ノズルアセンブリ、気化器、及び関連する方法
JP2022055313A (ja) * 2020-09-28 2022-04-07 株式会社Kokusai Electric 気化システム、基板処理装置および半導体装置の製造方法

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