JPH0393027A

JPH0393027A - 磁気記録媒体およびその製造方法

Info

Publication number: JPH0393027A
Application number: JP23077289A
Authority: JP
Inventors: Minoru Ichijo; 稔一條; Tetsuo Mizumura; 哲夫水村; Kunio Wakai; 若居　邦夫
Original assignee: Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Maxell Ltd
Priority date: 1989-09-06
Filing date: 1989-09-06
Publication date: 1991-04-18

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業ヒの利用分野コ本発明は、保護膜を自′する強磁性金属薄膜型磁気記録
媒体およびその製造方法に関する。更に詳細には、本発
明は耐食性および耐久性に優れた保護膜をｉｆする強磁
性金属薄膜型磁気記録媒体およびその製造方法に関する
。

［従来の技術コ従来から−・般に昔及している磁気記録媒体は、針状の
磁性粉と高分子結合剤とを主体とする磁性嗜料を非磁性
基体士に塗布して磁性層を形成した塗布型の磁気記録媒
体である。

現在、磁気記録再生装置はますます高密度化の傾向にあ
り、短波長記録特性に優れた磁気記録媒体が要望されて
いる。

しかし、塗布型磁気記録媒体における短波長記録特性の
改善には限界がある。これに対して、Ｃｏ．　　Ｆｅ＋
　　Ｎｉ＋　　ＣｏＮｉ，　　ＣｏＮｉＰ．　　ＣｏＣ
ｒなどの強磁性体を真空蒸着，スパッタリング，または
イオンプレーティング等のいわゆる物理蒸着法によって
非磁性基体Ｅに形成する金属薄膜型の磁気記録媒体は、
その磁性層中に非磁性の結合剤が混入されていないので
著しく高い残留磁東密度を得ることができ、かつ、磁性
層を極めて薄く形成することができるために、高出力で
短波長応答性に優れているという利点を有する。この特
徴により、最近は薄膜型磁気記録媒体が磁気媒体のＥ流
となりつつある。

〔発明が解決しようとする課題コ薄膜型磁気記録媒体は磁気記録密度が大きく、優れた短
波長記録特性を有する反面、Ｇ　ｏ　＋　Ｆ　ｅなとの
強磁性金属が比較的腐食され易く、しかも、磁性層が露
比しているために耐食性が悪く、磁気的に劣化しやすい
欠点を有しており、これが実用し大きな問題点となって
いる。

この問題点を解決するために例えば、磁気記録層七に防
錆剤としてチアゾール系化合物（特公昭５８−１８８３
３３号公報参照）、クベロン類（特公昭５８−１９４１
３８号公報参照）、ジアミン、ポリアミン類（特公昭５
９−３７２４号公報参照）等を塗布することが提案され
ている。これらはいずれも人気腐食のｔ因である高い湿
度−ドにおける表面腐食の抑制を意図したものである。

しかし、実際問題として耐食性を十分なレベルにまで改
善するには至っていない。

本発明は上記従来品が持っていた耐食性が劣るという欠
点を解決し、以て耐久性に優れた磁気記録媒体の提供を
目的とする。

［課題を解決するための千段コ前記目的を達成するために本允明では、非磁性基体上に
強磁性金属薄膜からなる磁気記録層と保護膜層を順次形
成してなる磁気記録媒体において、前記保護膜層は、防
錆剤と、防錆剤との徂量比が０．１〜ｉｏ．ｏの範囲内
の界面活性剤との混合物から形成されていることを特徴
とする磁気記録媒体を提供する。

保ｉ膜中の界面活性剤と防錆剤との重量比はＯ．２〜５
．０の範囲内であることが好ましい。

磁気記録層と保護膜との間に金属不動態層を存花させる
こともできる。

更に、本発明では、非磁性基体上に強磁性金属薄膜から
なる磁気記録層をｆ１する磁気記録媒体の製造方法にお
いて、該磁気記録層上に防錆剤と、防錆剤とのｉＴｌ比
が０．１〜１０．０の範囲内の界面活性剤とからなる混
合塗料を塗布し、保護膜層を形成させることを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法も提供する。

［作用］前記のように、本発明では、磁気記録媒体の保護膜層を
特定の重量比関係を有する防錆剤と界面活性剤との混合
物から形成することにより磁気記録媒体の耐食性を十分
なレベルにまで改善した。

本発明で用いる防錆剤はそれ自体は高い防錆能力を持つ
が、極性が高いために表面エネルギーが大きく、磁気記
録層上に塗布した時にいわゆる液滴状になって磁気記録
層表面を覆いきれずに十分な防錆効果が得られない。そ
こで防錆剤に界面活性剤を混入して表面エネルギーを低
下させ、磁気記録層を均−に被覆させることにより十分
な防錆効果を発揮させることができる。

界面活性剤の混入量は少なすぎると表面エネルギー低下
効果が得られず、多すぎると防錆効果を低減させるので
、防錆剤とのＮｍ比が０．１〜１０．０の範囲内にある
ことが奸まし＜、０．２〜５．０の範囲内にあることが
一層好ましい。

本発明で使用できる防錆剤としては、例えば、トリアゾ
ール、４−メチルトリアゾール、４−アミノトリアゾール等のトリアゾール誘導体類、ベンゾトリアゾール、５−メチルベンゾトリアゾール、５−ニトロベンゾトリアゾール、ベンゾトリアゾールステアリン酸塩等のベンゾトリアゾ
ール誘導体類、イミダゾール、２−デシルイミダゾール、２−アミノイミダゾール等のイミダゾール誘導体類、ペンズイミダゾール、２−メルカブトペンズイミダゾール、５−ニトロベンズイミダゾール等のペンズイミダゾール
誘導体類、チアゾール、２−アミノチアゾール等のチアゾール誘導体類、ベンゾ
チアゾール、５−メチルベンゾチアゾール、２−ヒドラジノベンゾチアゾール、２−アミノー４−メチルベンゾチアゾール等のベンゾチ
アゾール誘導体類、１−ナフトール、２−ニトロソーｌ−ナフトール、２−ナフトール、１−ニトロソ−２−ナフトール等のナフトール誘導体類
、フェノール、ｍ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール、０−ニトロフェノール等のフェノールＭｊＪＸ体類、キ
ノリン、８−アミノキノリン、８−ヒドロキシキノリン等のキノリン誘導体類、更に、
クベロン、１，８−ジアミノナフタレン、１１−フェニル−５−メルカブトテトラゾール、２−ア
ミノー４−ヒドロキシメチルピリミジン等が挙げられる
。これら防錆剤のうちの一種類または二種類以上を界面
活性剤と混合して使用する。

また、本発明で使翔できる界面活性剤としては、例えば
、ステアリン酸、パルミチン酸、リノール酸、オレイン酸、ミリスチン酸等の脂肪酸類、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸鉛、ステアリン酸コバルト等の脂肪酸金属塩類、ステアリン
酸イソプロビル、パルミチン酸メチル、ステアリン酸エチル等の脂肪酸エステル類、オクタデシ
ルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデケニルアミン等の脂肪族アミン類、更に、脂肪
族スルホン酸や脂肪族リン酸などが挙げられる。これら
界面活性剤のうちの一種類または二種類以上を防錆剤と
混合して使用する。

磁気記録ｆｌ　ＬｌにＬ記保護層を形成する方法として
は、グラビア塗布、スピン塗布、真空蒸着等、通常の有
機物層形成方法がすべて奸適に使用されるが、防錆剤と
界面活性剤を−Ｌ記の範囲内で混合して適当な溶媒で希
釈した塗料をグラビア塗布、スピン塗布等の方法で磁気
記録層上に塗布し保護膜を形成する方法が生産性が高く
好適である。

基体ヒに形成される磁気記録層は％　Ｃ　Ｏ　ｓ　Ｆ　
ｅ　ｓＮｉ１Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−
Ｐ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ合金などの強磁性金属や合金を
１″！，空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリン
グ、メッキ等の手段によって基体上に被着するなどの方
法で形成される。

磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、ポリイ
ミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とする磁気
テープ、ガラス板、アルミニウム板、合成樹脂板などを
基体とする磁気ディスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッド
と摺接する構造の種々の形態を包含する。

［実施例］以−ド、実施例により本発明を更に詐細に説明する。

実丑律１［厚さ１０μｍのポリエステルフィルムを真空蒸着装置に
セットし、ｌＯ一〇Ｔｏｒｒの真空下でＣｏａｏＮｉｚ
ｏ合金を加熱蒸発させ、ポリエステルフィルムヒに厚さ
２０００入のＣｏＮｉ強磁性金属薄膜からなる磁気記録
層を形成した。次いで磁気記録層を形成したポリエステ
ルフィルムを２段式グラビア塗布装置にセットし、第１
段で磁気記録層を形成していない而にバックコート塗料
を塗布して厚さ１μｍのバックコート層を形成した。

続いて第２段で磁気記録層Ｌに５−二トロベンゾトリア
ゾールを０．１ｖｔ％、ステアリン酸を０．０５ｗｔ％
含有スるイソブロビルアルコール（ＩＰＡ）溶液を塗布
し、厚さ６０入の５−ニトロベンゾトリアゾールとステ
アリン酸からなる保護層を形成した。その後所定の幅に
哉断し第１図に示すような磁気テープを作った。図中、
符号ｌはポリエステルフィルムからなる非磁性基体、符
号３は強磁性金属薄膜層、符号５は保護層、符号７はバ
ックコート層をそれぞれ示す。

実ＪＵ注２− 実施例１にわいて５−ニトロベンゾトリアゾールを使用
する代わりに２−二トロン−１−ナフトールを同量使用
した他は、同様にして磁気テープを作った。保護層の厚
さは６０入だった。

Ｌ胤涯走実施例ｌにおいて５一二トロベンゾトリアゾールを使用
する代わりにベンゾイミダゾールを同敬使用した他は、
同様にして磁気テープを作った。

保護層の厚さは６０六だった。

失撫迩−４実施例ｉにおいて５一二トロベンゾトリアゾールを使用
する代わりに８−ヒドロキシキノリンを同量使用した他
は、同様にして磁気テープを作った。保護層の厚さは６
０λだった。

Ｋ息涯足実施例１においてステアリン酸を使用する代わりにステ
アリン酸イソブロビルを間歇使用した他は、同様にして
磁気テープを作った。保護層の厚さは８０Ａだった。

Ｌ五旌止実施例ｌにおいてステアリン酸を使用する代わりにステ
アリルアミンを同量使用した他は、同様にして磁気テー
プを作った。保護層の厚さは６０入だった。

Ｌ息鮭Ｌ実施例１においてステアリン酸を使用する代わりにステ
アリン酸アルミニｊ−ムを同量使用した他は、同様にし
て磁気テープを作った。保護層の厚さは６０入だった。

Ｌ血址止実施例１におけるステアリン酸の配合量０．０５ｗｔ％
を０．０２ｗｔ％に変更したこと以外は、同様にして磁
気テープを作った。保ｍＪｆｆｌの厚さは５０入だった
。

丈胤涯比実施例１における５−ニトロベンゾトリアゾールの配合
１０．ｌｖｔ％とステアリン酸の配合量０．０５ｖ＋ｔ
％を５−二トロベンゾトリアゾールはＯ．Ｑ５ｗｔ％に
、また、ステアリン酸は０．２５ｗｔ％に変史したこと
以外は、同様にして磁気テープを作った。保護層の厚さ
はＬ３０Ａだった。

比教数Ｕ一実施例１におけるステアリン酸の配合ｉｏ．ｏ５ｗｔ％
を０．００５ｗｔ％に変更したこと以外は、同様にして
磁気テープを作った。保護層の厚さは５０Ａだった。

止佼肚Ｚ実施例１における５−ニトロベンゾトリアゾールの配合
量０，ｌｖｔ％とステアリン酸の配合量０．０５ｗｔ％
を５−ニトロベンゾトリアゾールはＯ．Ｑ５ｗｔ％に、
また、ステアリン酸は１．Ｏｗｔ％に変更用したこと以
外は、同様にして磁気テープを作った。保護層の厚さは
３９０入だった。

止佼咀よ実施例１においてステアリン酸の使用を省いた他は同様
にして磁気テープを作った。保護層の厚さは５０入だっ
た。

比致池」エ実施例ｌにおいて磁気記録層上への保護層の形；戊を省
いた他は同様にして磁気テープを作った。

前記のようにして作製した各磁気テープについて耐食性
を調べた。耐食Ｙｌは４Ｅ硫酸ガス１０ｐｐｍ１４０゜
Ｃ１８０％ＲＨ環境下に４時間放置した時の硫黄と磁性
金属の原子数比（腐食率）と６０’Ｃ、９０％ＲＨ環境
−ドに４週間放置した時の飽和磁化（Ｍｓ）の劣化率に
より評価し゜た。結里をド記の表１に要約して示す。

表二Ｌ前記の結果から明らかなように、防錆剤と界面活ｔ’ｌ
Ｅ剤を特定の重量比範囲内で混合使用すると優れたー・
１食性を有する磁気記録媒体が得られる。

［発明の効果コ以−Ｌ説明したように、本発明により、防錆剤に所定の
重量比範囲内の界面活性剤を添加すると、防錆剤の表面
エネルギーが低下され、磁気記録層を均一に被覆させる
ことができる。その結果、優れた防錆効果を発揮させる
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明で得られる磁気テープの１例を示す部分
拡大断面図である。１・・・ポリエステルフィルム非磁性星体，３・・・強
磁性金属薄膜層，５・・・保護層，７・・・バックコート層

Claims

【特許請求の範囲】

（１）非磁性基体上に強磁性金属薄膜からなる磁気記録
層と保護膜層を順次形成してなる磁気記録媒体において
、前記保護膜層は、防錆剤と、防錆剤との重量比が０．
１〜１０．０の範囲内の界面活性剤との混合物から形成
されていることを特徴とする磁気記録媒体。
（２）保護膜中の界面活性剤と防錆剤との重量比が０．
２〜５．０の範囲内であることを特徴とする請求項１記
載の磁気記録媒体。
（３）磁気記録層と保護層との間に金属不動態層が更に
存在することを特徴とする請求項１または２記載の磁気
記録媒体。
（４）界面活性剤は炭素原子を８個以上含有する脂肪酸
であることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の
磁気記録媒体。
（５）界面活性剤は炭素原子を８個以上含有する脂肪酸
金属塩であることを特徴とする請求項１〜３の何れかに
記載の磁気記録媒体。
（６）界面活性剤は炭素原子を８個以上含有する脂肪酸
エステルであることを特徴とする請求項１〜３の何れか
に記載の磁気記録媒体。
（７）界面活性剤は炭素原子を８個以上含有する脂肪族
アミンであることを特徴とする請求項１〜３の何れかに
記載の磁気記録媒体。
（８）防錆剤はトリアゾール誘導体であることを特徴と
する請求項１〜７の何れかに記載の磁気記録媒体。
（９）防錆剤はベンゾトリアゾール誘導体であることを
特徴とする請求項１〜７の何れかに記載の磁気記録媒体
。
（１０）防錆剤はイミダゾール誘導体であることを特徴
とする請求項１〜７の何れかに記載の磁気記録媒体。
（１１）防錆剤はベンゾイミダゾール誘導体であること
を特徴とする請求項１〜７の何れかに記載の磁気記録媒
体。
（１２）防錆剤はチアゾール誘導体であることを特徴と
する請求項１〜７の何れかに記載の磁気記録媒体。
（１３）防錆剤はベンゾチアゾール誘導体であることを
特徴とする請求項１〜７の何れかに記載の磁気記録媒体
。
（１４）防錆剤はナフトール誘導体であることを特徴と
する請求項１〜７の何れかに記載の磁気記録媒体。
（１５）防錆剤はフェノール誘導体であることを特徴と
する請求項１〜７の何れかに記載の磁気記録媒体。
（１６）防錆剤はキノリン誘導体であることを特徴とす
る請求項１〜７の何れかに記載の磁気記録媒体。
（１７）非磁性基体上に強磁性金属薄膜からなる磁気記
録層を有する磁気記録媒体の製造方法において、該磁気
記録層上に防錆剤と、防錆剤との重量比が０．１〜１０
．０の範囲内の界面活性剤とからなる混合塗料を塗布し
、保護膜層を形成させることを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。
（１８）混合塗料中の界面活性剤と防錆剤との重量比が
０．２〜５．０の範囲内であることを特徴とする請求項
１７記載の磁気記録媒体の製造方法。