JPH0395840A - X線管ターゲット用の熱放射性被膜 - Google Patents
X線管ターゲット用の熱放射性被膜Info
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- JPH0395840A JPH0395840A JP2170421A JP17042190A JPH0395840A JP H0395840 A JPH0395840 A JP H0395840A JP 2170421 A JP2170421 A JP 2170421A JP 17042190 A JP17042190 A JP 17042190A JP H0395840 A JPH0395840 A JP H0395840A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/10—Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
- H01J35/105—Cooling of rotating anodes, e.g. heat emitting layers or structures
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
本発明はX線管陽極用の改良された熱放射性被膜に関す
るものである。更に詳しく言えば本発明は、高い熱放射
率を有すると共に、X線管陽極に対して改善された結合
性を示すような被膜に関する。
るものである。更に詳しく言えば本発明は、高い熱放射
率を有すると共に、X線管陽極に対して改善された結合
性を示すような被膜に関する。
本発明の場合と同じ譲受人に譲渡された米国特許第41
32916号明細書中に述べられている通り、X線管タ
ーゲットに衝突する電子ビームが有する全エネルギーの
うち、X線に変換されるのは約1%に過ぎないのであっ
て、残りの約99%は熱に変わることが知られている。
32916号明細書中に述べられている通り、X線管タ
ーゲットに衝突する電子ビームが有する全エネルギーの
うち、X線に変換されるのは約1%に過ぎないのであっ
て、残りの約99%は熱に変わることが知られている。
また、上記特許明細書の「発明の背景J中に説明されて
いるごとく、焦点軌道外のターゲット表面を各種の被膜
材料で被覆すれば、X線管ターゲットの熱放射率をある
程度まで向上させ得ることも知られている。
いるごとく、焦点軌道外のターゲット表面を各種の被膜
材料で被覆すれば、X線管ターゲットの熱放射率をある
程度まで向上させ得ることも知られている。
こうして放射された熱はX線管のガラス管球を通過し、
そして最終的にはX線管ケーシング内を循環する油に伝
達される. 従来、各種の熱放射率向上用被膜が使用されてきた。た
とえば、上記のごとき米国特許第4132916号明細
書中には、二酸化ジルコニウム( Z r O 2 )
、酸化ハフニウム(HfO)、酸化マグネシウム(Mg
O) 、酸化ストロンチウム(S ro )、二酸化セ
リウム(C eo 2)、酸化ランタン(La20,)
またはそれらの混合物を酸化カルシウム(Ca○)もし
くは酸化イットリウム(Y203)で安定化しかつ二酸
化チタン(TiO2)と混合して成るような被膜が記載
されている。この被膜は、X線管陽極上に「融合型」の
被膜を与える。この被膜は商業的用途のために採用され
てきたが、熱放射率がやや低いという点に問題があった
。一層重要な点は、この被膜を陽極上に設置するための
方法が厳しい条件を必要とすることであった。更にまた
、この被膜をある種の合金基体上に形戒する場合には、
所要の融着処理に際して被膜が非被覆領域上に流れる傾
向があり、そのために余分の加工工程が必要になるとい
う問題もあった.一層重大な問題の1つは、陽極上に設
置された被膜の真空焼或に際し、温度を1400℃以下
に保たなければならないことであった。このことは、使
用者がX線管の組立に先立って陽極のガス抜きを行う作
業にも制限を加えることになる。
そして最終的にはX線管ケーシング内を循環する油に伝
達される. 従来、各種の熱放射率向上用被膜が使用されてきた。た
とえば、上記のごとき米国特許第4132916号明細
書中には、二酸化ジルコニウム( Z r O 2 )
、酸化ハフニウム(HfO)、酸化マグネシウム(Mg
O) 、酸化ストロンチウム(S ro )、二酸化セ
リウム(C eo 2)、酸化ランタン(La20,)
またはそれらの混合物を酸化カルシウム(Ca○)もし
くは酸化イットリウム(Y203)で安定化しかつ二酸
化チタン(TiO2)と混合して成るような被膜が記載
されている。この被膜は、X線管陽極上に「融合型」の
被膜を与える。この被膜は商業的用途のために採用され
てきたが、熱放射率がやや低いという点に問題があった
。一層重要な点は、この被膜を陽極上に設置するための
方法が厳しい条件を必要とすることであった。更にまた
、この被膜をある種の合金基体上に形戒する場合には、
所要の融着処理に際して被膜が非被覆領域上に流れる傾
向があり、そのために余分の加工工程が必要になるとい
う問題もあった.一層重大な問題の1つは、陽極上に設
置された被膜の真空焼或に際し、温度を1400℃以下
に保たなければならないことであった。このことは、使
用者がX線管の組立に先立って陽極のガス抜きを行う作
業にも制限を加えることになる。
米国特許第4029828号明細書中には、8O〜94
%のアルミナ(Al2O3)および6〜20%のTi○
2から成るX線管ターゲット用被膜が記載されている。
%のアルミナ(Al2O3)および6〜20%のTi○
2から成るX線管ターゲット用被膜が記載されている。
この被膜は良好な熱放射率を有するが、密着性の点で問
題があった。
題があった。
米国特許第4090103号明細書中には、モリブデン
、タングステン、ニオブおよび(または)タンタルのご
とき金属と20〜60(容量)%のセラミック酸化物[
たとえば、TiO2、A I20 ,および(または)
ZrO2]とを組合わせて或る被膜が開示されている。
、タングステン、ニオブおよび(または)タンタルのご
とき金属と20〜60(容量)%のセラミック酸化物[
たとえば、TiO2、A I20 ,および(または)
ZrO2]とを組合わせて或る被膜が開示されている。
この特許および米国特許第4029828号の被膜はX
線管陽極上に「非融合型」の被膜を与えるのであって、
これらは正規の動作条件下でも安定性に問題がある。
線管陽極上に「非融合型」の被膜を与えるのであって、
これらは正規の動作条件下でも安定性に問題がある。
発明の要約
本発明に従えば、電子により衝撃されてX線を発生する
ための表面領域を有する本体、および該表面領域とは異
なる部位に設置されて本体の熱放射率を向上させるため
の被膜から構戒されるX線管陽極が提供される。本発明
のX線管陽極は、上記の被膜が50〜80(重量)%の
A 120 3と5?〜20(重量)%のZrO2また
はL a20 3およびTio2との金属酸化物混合物
がら成り、がっTiO2とZrO2またはLa203と
が1=1〜10:1の範囲内の比率で存在することを特
徴とするものである.このような被膜は、黒体の理論的
な最大熱放射率を1、Oとした場合、0.91という高
い熱放射率を有している。
ための表面領域を有する本体、および該表面領域とは異
なる部位に設置されて本体の熱放射率を向上させるため
の被膜から構戒されるX線管陽極が提供される。本発明
のX線管陽極は、上記の被膜が50〜80(重量)%の
A 120 3と5?〜20(重量)%のZrO2また
はL a20 3およびTio2との金属酸化物混合物
がら成り、がっTiO2とZrO2またはLa203と
が1=1〜10:1の範囲内の比率で存在することを特
徴とするものである.このような被膜は、黒体の理論的
な最大熱放射率を1、Oとした場合、0.91という高
い熱放射率を有している。
好適な実施の態様に従えば、A1■03が被膜の重量を
基準として約80(重量)%の量で存在し、かつZrO
2およびTiO2が被膜の重量を基準して約20(重量
)%の量で存在する。
基準として約80(重量)%の量で存在し、かつZrO
2およびTiO2が被膜の重量を基準して約20(重量
)%の量で存在する。
本発明に従えばまた、熱放射率を向上させるようなX線
管陽極用の被膜材料が提供される.かかる被膜材料は上
記のごとき金属酸化物混合物がら成ると共に、それを陽
極に融着させることによって得られた被膜の表面からは
Al2O,の粒子が突出していることを特徴とするもの
である。これは、「融合型J兼「非融合型jの被膜が得
られることを意味している。
管陽極用の被膜材料が提供される.かかる被膜材料は上
記のごとき金属酸化物混合物がら成ると共に、それを陽
極に融着させることによって得られた被膜の表面からは
Al2O,の粒子が突出していることを特徴とするもの
である。これは、「融合型J兼「非融合型jの被膜が得
られることを意味している。
本発明に従えばまた、X線管陽極上に熱放射率?高い被
膜を形成するための方法が提供される.かかる方法によ
れば、先ず最初に、上記のごとき金属酸化物混合物から
或る被膜材料が陽極の特定の表面領域上に付着させられ
る。次いで、被膜材料を融着させるのに十分な時間にわ
たって前記陽極を真空条件および少なくとも1600℃
かつ最高1725℃までの温度の下で加熱することによ
り、Al2O3の粒子が被膜表面から突出している平滑
な黒色の被膜が形戒される。
膜を形成するための方法が提供される.かかる方法によ
れば、先ず最初に、上記のごとき金属酸化物混合物から
或る被膜材料が陽極の特定の表面領域上に付着させられ
る。次いで、被膜材料を融着させるのに十分な時間にわ
たって前記陽極を真空条件および少なくとも1600℃
かつ最高1725℃までの温度の下で加熱することによ
り、Al2O3の粒子が被膜表面から突出している平滑
な黒色の被膜が形戒される。
本発明の目的の1つは、より広い範囲の陽極使用条件を
与えるようなX線管陽極用の被膜材料を提供することに
ある, また、高い熱放射率を有するような上記のごとき被膜材
料を提供することも本発明の目的の1つである。
与えるようなX線管陽極用の被膜材料を提供することに
ある, また、高い熱放射率を有するような上記のごとき被膜材
料を提供することも本発明の目的の1つである。
更にまた、「融合型」兼「非融合型」の被膜を与えると
共に、焼成に際して流れを生じないような被膜材料を提
供することも本発明の目的の1つである。
共に、焼成に際して流れを生じないような被膜材料を提
供することも本発明の目的の1つである。
本発明の上記およびその他の目的や利点は、添付の図面
を参照しながら以下の詳細な説明を読むことによって自
ら明らかとなろう。
を参照しながら以下の詳細な説明を読むことによって自
ら明らかとなろう。
好適な実施の態様の説明
先ず第1図を見ると、本発明の被膜材料を使用し得る典
型的な回転陽極X線管10が示されている。かかるX線
管10は、一端に陰極支持体■2を封止したガラス管球
11を含んでいる。陰極支持体12には、電子放出用フ
ィラメンI・14および集束カップ15から成る陰極構
造物13が取付けられている.また、フィラメントに加
熱電流を供給するための1対の導線16、および陰極を
大地電位またはターゲットに対して負の電位に維持する
ための別の導線17が設けられている。
型的な回転陽極X線管10が示されている。かかるX線
管10は、一端に陰極支持体■2を封止したガラス管球
11を含んでいる。陰極支持体12には、電子放出用フ
ィラメンI・14および集束カップ15から成る陰極構
造物13が取付けられている.また、フィラメントに加
熱電流を供給するための1対の導線16、および陰極を
大地電位またはターゲットに対して負の電位に維持する
ための別の導線17が設けられている。
陰極構造物13からの電子ビームの衝撃を受けてX線を
発生する陽極またはターゲットは、参照番号18によっ
て示されている.かかるターゲット18は、通例、モリ
ブデン、タングステンまたはそれらの合金のごとき高融
点金属で作られている.なお、最高の定格出力を有する
X線管においては、ターゲット18はモリブデン合金製
の基体上にタングステンを配置したものから或るのが普
通である.第lおよび2図中には、ターゲットの回転時
に電子ビームの衝撃を受けてX線を発生するための焦点
軌道を威す表面層l9の断面が示されている。かかる表
面層19は、公知の理由に基づいてタングステンーレニ
ウム合金から戒るのが普通である。
発生する陽極またはターゲットは、参照番号18によっ
て示されている.かかるターゲット18は、通例、モリ
ブデン、タングステンまたはそれらの合金のごとき高融
点金属で作られている.なお、最高の定格出力を有する
X線管においては、ターゲット18はモリブデン合金製
の基体上にタングステンを配置したものから或るのが普
通である.第lおよび2図中には、ターゲットの回転時
に電子ビームの衝撃を受けてX線を発生するための焦点
軌道を威す表面層l9の断面が示されている。かかる表
面層19は、公知の理由に基づいてタングステンーレニ
ウム合金から戒るのが普通である。
図示された実施の態様においては、ターゲット18の後
面20は平坦であることが好ましい.かかる後面20は
、高い熱汲射率を有する本発明の被膜を設置し得る表面
の1つである.所望ならば、後面20が凹面または凸面
を戒していてもよい。
面20は平坦であることが好ましい.かかる後面20は
、高い熱汲射率を有する本発明の被膜を設置し得る表面
の1つである.所望ならば、後面20が凹面または凸面
を戒していてもよい。
本発明の被膜はまた、焦点軌道の外側に位置するターゲ
ットの表面領域(たとえば、ターゲットの前面21およ
び外周面22)にも設置することができる。
ットの表面領域(たとえば、ターゲットの前面21およ
び外周面22)にも設置することができる。
第1図においては、ターゲット18はロータ24から突
き出た軸23上に固定されている.ロータ24は内部の
ジャーナル軸受面25上に支持されており、またジャー
ナル軸受面25はガラス管球11の端部に封止されたフ
ェルール26によって支持されている.第l図において
は、誘導電動機としてロータ24を駆動するためのステ
ータコイルは省略されている.陽rii構造物中のター
ゲット18には、コネクタ27に接続された給電線路(
図示せず)によって高電圧が供給される。
き出た軸23上に固定されている.ロータ24は内部の
ジャーナル軸受面25上に支持されており、またジャー
ナル軸受面25はガラス管球11の端部に封止されたフ
ェルール26によって支持されている.第l図において
は、誘導電動機としてロータ24を駆動するためのステ
ータコイルは省略されている.陽rii構造物中のター
ゲット18には、コネクタ27に接続された給電線路(
図示せず)によって高電圧が供給される。
公知の通り、回転陽極X線管はケーシング(図示せず)
の内部に封入されているのが通例である.かかるケーシ
ングは互いに離隔した壁体を有していて、それらの間を
循環する油が回転するターゲット18から放射される熱
を運び去るために役立つ.多くの場合、タングステン1
8の本体温度はX線管の動作に際して1350℃にも達
するが、かかる熱の大部分はガラス管球11内の真空を
通しての放射によってゲーシング内の油中に放散させな
ければならない。なお、かかる油は熱交換器(図示せず
)を通して冷却することができる.ロータ24を支持す
る軸受が過熱するのを防止するため、ロータ24を二酸
化チタンのごとき粗面材料で被覆して熱放射率を増大さ
せることが臀通である.ターゲット18の蓄熱容量が十
分に大きくなかったり、あるいはそれの冷却速度が小さ
かったりすると、動作サイクルを短縮しなければならな
い。これは、ターゲット18が安全な温度に達するまで
X線管を休止させなければならないことを意味している
.その結果、X線診断操作に要する時間がしばしば延長
することになる.それ故、ターゲット表面の熱放射率を
できるだけ高めることは重要なのである. 本発明を一層詳しく説明するため、以下に実施例を示す
。なお、本発明はこれらの実施例中に記載された特定の
成分、比率、温度またはその他の条件によって限定され
ないことを理解すべきである。
の内部に封入されているのが通例である.かかるケーシ
ングは互いに離隔した壁体を有していて、それらの間を
循環する油が回転するターゲット18から放射される熱
を運び去るために役立つ.多くの場合、タングステン1
8の本体温度はX線管の動作に際して1350℃にも達
するが、かかる熱の大部分はガラス管球11内の真空を
通しての放射によってゲーシング内の油中に放散させな
ければならない。なお、かかる油は熱交換器(図示せず
)を通して冷却することができる.ロータ24を支持す
る軸受が過熱するのを防止するため、ロータ24を二酸
化チタンのごとき粗面材料で被覆して熱放射率を増大さ
せることが臀通である.ターゲット18の蓄熱容量が十
分に大きくなかったり、あるいはそれの冷却速度が小さ
かったりすると、動作サイクルを短縮しなければならな
い。これは、ターゲット18が安全な温度に達するまで
X線管を休止させなければならないことを意味している
.その結果、X線診断操作に要する時間がしばしば延長
することになる.それ故、ターゲット表面の熱放射率を
できるだけ高めることは重要なのである. 本発明を一層詳しく説明するため、以下に実施例を示す
。なお、本発明はこれらの実施例中に記載された特定の
成分、比率、温度またはその他の条件によって限定され
ないことを理解すべきである。
実施rIA1
96個のモリブデン基合金製陽極(18)において、タ
ングステン合金製の焦点軌道(19)の反対側に位置す
る後面(20)に対し、80%のA1203 .18%
ノT i O 2および2%(7)ZrO2(4%の酸
化カルシウムによって安定化したもの)から成る被膜材
料をプラズマ溶射法によって吹付けた.渦電流装置によ
って測定したところ、吹付けたままの被膜は3. 0〜
3.8ミルの厚さを有していた。被覆済みの陽極を高真
空の炉内において1650℃で30〜35分間にわたり
焼成したところ、被膜は艶の無い黒色の外観を呈した。
ングステン合金製の焦点軌道(19)の反対側に位置す
る後面(20)に対し、80%のA1203 .18%
ノT i O 2および2%(7)ZrO2(4%の酸
化カルシウムによって安定化したもの)から成る被膜材
料をプラズマ溶射法によって吹付けた.渦電流装置によ
って測定したところ、吹付けたままの被膜は3. 0〜
3.8ミルの厚さを有していた。被覆済みの陽極を高真
空の炉内において1650℃で30〜35分間にわたり
焼成したところ、被膜は艶の無い黒色の外観を呈した。
外見上、被膜が当初の被覆領域を越える部位にまで流れ
た形跡は認められなかった。2ミクロンの波長範囲内に
おいて室温下で測定したところ、熱放射率は0.90〜
0、91であった. 実施例2 上記実施例1において作製した被覆陽極のうち、16個
を真空中において1600℃に加熱した、そしてこの過
熱操作を全部で14回にわたって繰返した.外見上、被
膜の劣化や流れは認められず、また熱放射率は0.89
であった。
た形跡は認められなかった。2ミクロンの波長範囲内に
おいて室温下で測定したところ、熱放射率は0.90〜
0、91であった. 実施例2 上記実施例1において作製した被覆陽極のうち、16個
を真空中において1600℃に加熱した、そしてこの過
熱操作を全部で14回にわたって繰返した.外見上、被
膜の劣化や流れは認められず、また熱放射率は0.89
であった。
実施例3
上記実施例1に記載された被膜材料をプラズマ溶射法に
よって4個の陽極に吹付け、そして1600℃で30分
間にわたり真空焼成した.外見上、焼成後の被膜は実施
例1において得られた被膜と同じであった.なお、エネ
ルギー分散X線分析(EDAX分析)によれば、該被膜
中に多少のアルゴンが存在することが判明したが、これ
は恐らく焼成時のガス抜きが不完全であったことに原因
するものである。このことは、上記の被膜材料について
はより高い焼戒温度が必要であることを示している. 実施例4 上記実施例1に記載された被膜材料をプラズマ溶射法に
よって4個の陽極に吹付け、そして1625℃で30分
間にわたり真空焼戒した。外見上、焼或後の被膜は実施
例1において得られた被膜と同じであり、またEDAX
分析結果についても同様であった. 実施例5 上記実施IMIに記載された被膜材料をプラズマ溶射法
によって4個の1ii極に吹付け、そして1700℃で
30分間にわたり真空焼或した.外見上焼戒後の被膜は
実施%1において得られた被膜と同じであり、またED
AX分析結果についても同様であった. 実施例6 上記実施例lに記載された被膜材料をプラズマ溶射法に
よって4個の陽極に吹付け、そして1750℃で30分
間にわたり真空焼成した.焼戒後の被膜は結晶質の外観
を呈すると共に、本来被覆しなかった陽極領域にまで薄
い黒色の被膜が広がっていた.このような現象は「流れ
」と呼ばれる。
よって4個の陽極に吹付け、そして1600℃で30分
間にわたり真空焼成した.外見上、焼成後の被膜は実施
例1において得られた被膜と同じであった.なお、エネ
ルギー分散X線分析(EDAX分析)によれば、該被膜
中に多少のアルゴンが存在することが判明したが、これ
は恐らく焼成時のガス抜きが不完全であったことに原因
するものである。このことは、上記の被膜材料について
はより高い焼戒温度が必要であることを示している. 実施例4 上記実施例1に記載された被膜材料をプラズマ溶射法に
よって4個の陽極に吹付け、そして1625℃で30分
間にわたり真空焼戒した。外見上、焼或後の被膜は実施
例1において得られた被膜と同じであり、またEDAX
分析結果についても同様であった. 実施例5 上記実施IMIに記載された被膜材料をプラズマ溶射法
によって4個の1ii極に吹付け、そして1700℃で
30分間にわたり真空焼或した.外見上焼戒後の被膜は
実施%1において得られた被膜と同じであり、またED
AX分析結果についても同様であった. 実施例6 上記実施例lに記載された被膜材料をプラズマ溶射法に
よって4個の陽極に吹付け、そして1750℃で30分
間にわたり真空焼成した.焼戒後の被膜は結晶質の外観
を呈すると共に、本来被覆しなかった陽極領域にまで薄
い黒色の被膜が広がっていた.このような現象は「流れ
」と呼ばれる。
このことは、上記の被膜材料にとって1750℃の焼成
温度は高過ぎることを示している。
温度は高過ぎることを示している。
実施例7
上記実施例1に記載された被膜材料をプラズマ溶射法に
よって4個の陽極に吹付け、そして1725℃で30分
間にわたり真空焼戒した。外見上、焼戒後の被膜は実施
例lにおいて得られた被膜と同じであった. 実1jIipA8 上記実施例の場合と同様にして、80%のAl2O3、
4%のTiO2および16%のZrO2 (4%の酸化
カルシウムによって安定化したもの)から戒る被膜材料
を4個のモリブデン基合金製陽極に吹付けた.渦電流装
置によって測定したところ、吹付けたままの被膜の厚さ
は実施例1の場合と同じであった。被覆済みの陽極を高
真空の炉内において1700℃で30分間にわたり焼成
したところ、被膜は艷の無い灰黒色の外観を呈し、かつ
流れの形跡を示さなかった。熱放射率は僅か0. 7に
過ぎなかった。
よって4個の陽極に吹付け、そして1725℃で30分
間にわたり真空焼戒した。外見上、焼戒後の被膜は実施
例lにおいて得られた被膜と同じであった. 実1jIipA8 上記実施例の場合と同様にして、80%のAl2O3、
4%のTiO2および16%のZrO2 (4%の酸化
カルシウムによって安定化したもの)から戒る被膜材料
を4個のモリブデン基合金製陽極に吹付けた.渦電流装
置によって測定したところ、吹付けたままの被膜の厚さ
は実施例1の場合と同じであった。被覆済みの陽極を高
真空の炉内において1700℃で30分間にわたり焼成
したところ、被膜は艷の無い灰黒色の外観を呈し、かつ
流れの形跡を示さなかった。熱放射率は僅か0. 7に
過ぎなかった。
実施例9
上記実施例の場合と同様にして、50%のAl2O3、
10%のTiO2および40%のZrO2から戒る被膜
材料を4個のモリブデン基合金製陽極に吹付けた.被覆
済みの陽極を高真空の炉内において1650℃で30分
間にわたり焼戒した.得られた被膜は0.87という良
好な熱放射率を有していたが、それは陽極上への設置に
際して流れを示した. 上記の実施例中には、18%のTiO2および2%のZ
rO2を80%のA I20 3と組合わせて使用?る
ことによって有用な被膜が得られたことが記載されてい
るが、 15%のTi○2および5%のZrO2あるい
は10%のTiO2および10%のZrO2を使用した
場合にも有用な被膜が得られたことを指摘しておきたい
。それ故、本発明に従えば,AI■03、TiO■およ
びZrO■は被膜の重量を規準とした重量パーセントで
表わされる下記範囲内の量で使用される。
10%のTiO2および40%のZrO2から戒る被膜
材料を4個のモリブデン基合金製陽極に吹付けた.被覆
済みの陽極を高真空の炉内において1650℃で30分
間にわたり焼戒した.得られた被膜は0.87という良
好な熱放射率を有していたが、それは陽極上への設置に
際して流れを示した. 上記の実施例中には、18%のTiO2および2%のZ
rO2を80%のA I20 3と組合わせて使用?る
ことによって有用な被膜が得られたことが記載されてい
るが、 15%のTi○2および5%のZrO2あるい
は10%のTiO2および10%のZrO2を使用した
場合にも有用な被膜が得られたことを指摘しておきたい
。それ故、本発明に従えば,AI■03、TiO■およ
びZrO■は被膜の重量を規準とした重量パーセントで
表わされる下記範囲内の量で使用される。
AI.03 50〜80(重量)%
TiO2 10〜25(重量)%
ZrO2 2〜25〈重量〉%なお、TiO2
およびZrO2の合計量は被膜の重量を基準として50
〜20(重量)%の範囲内にあるものとする. 上記の実施例および本明細書中に記載されたその他の試
験例は、TiO2とZrO2との比率を1=1〜10:
1の範囲内に維持することが重要であることを示してい
る.この点に関しては、実施例l、2、4、5および7
並びに15%のTiO2および5%のZrO■あるいは
10%のTf02および10%のZrO2を用いて有用
な被膜を得た試験例を実施例8および9と比較されたい
.上記の実施例中に記載されたごとく、金属酸化物混合
物から戒る被膜材料をターゲット上に付着させる望まし
い方法の1つはプラズマガンを用いてそれを吹付けるこ
とである。プラズマガンは、タングステン電極とそれを
取巻く銅電極との間にアークを発生させるような公知の
装置である.かかるアーク中を通過しながら、被膜材料
がアルゴンガス流によって運ばれる.イオン化した気体
原子の再結合によって生じたプラズマ中を通過する際に
、粒子は融解し、そしてガス流によりターゲット表面に
向けて投射される。その際、溶融した粒子が被覆すべき
表面に衝突することによって初期付着力が得られる。吹
付けたままの表面は薄い灰色を呈している。引続いて真
空焼戒を行うことにより、光沢のある外観を呈する「融
合型」兼「非融合型」の被膜が得られる。かかる被膜の
被膜表面からはAl2O3粒子が突出しているが、この
ことは走査電子顕微鏡写真において観察された.?成後
の被膜は艶の無い黒色の外観を呈する.かかる被膜はそ
の他の方法によって設置することもできる.たとえば、
金属酸化物を適当な結合剤またはその他の揮発性液状ビ
ヒクル中に分散させ、そしてターゲット表面上に吹付け
もしくは塗布することができる.更にまた、不活性ガス
中において金属酸化物の真空スパッタリングを行うこと
によって付着させることもできるし、あるいは金属酸化
物を楕戒する金属の真空スパッタリングを酸素分圧の存
在下で行うことによって金属酸化物被膜を形戒すること
もできる. 前述の米国特許第4132916号明細書中に記載され
ている通り、プラズマ溶射法の場合には、プラズマアー
クが極めて高い温度を有するため、混合物中のTiO2
から部分的に酸素が奪われる.この段階において、最初
は白色であったTiO2が青黒色に変わる.混合物中に
存在するTiO■の量に応じ、吹付け後の被膜は約0.
6〜0.85の範囲内の熱放射率を有する.また、肉
眼もしくは極めて低い拡大倍率の下で検査してみると、
ががる被?は粒子から戒る粗面状の外観を呈している.
このような状況下では、ターゲット表面の金属に対する
拡散および結合はまだ十分に達成されていると言えない
。
およびZrO2の合計量は被膜の重量を基準として50
〜20(重量)%の範囲内にあるものとする. 上記の実施例および本明細書中に記載されたその他の試
験例は、TiO2とZrO2との比率を1=1〜10:
1の範囲内に維持することが重要であることを示してい
る.この点に関しては、実施例l、2、4、5および7
並びに15%のTiO2および5%のZrO■あるいは
10%のTf02および10%のZrO2を用いて有用
な被膜を得た試験例を実施例8および9と比較されたい
.上記の実施例中に記載されたごとく、金属酸化物混合
物から戒る被膜材料をターゲット上に付着させる望まし
い方法の1つはプラズマガンを用いてそれを吹付けるこ
とである。プラズマガンは、タングステン電極とそれを
取巻く銅電極との間にアークを発生させるような公知の
装置である.かかるアーク中を通過しながら、被膜材料
がアルゴンガス流によって運ばれる.イオン化した気体
原子の再結合によって生じたプラズマ中を通過する際に
、粒子は融解し、そしてガス流によりターゲット表面に
向けて投射される。その際、溶融した粒子が被覆すべき
表面に衝突することによって初期付着力が得られる。吹
付けたままの表面は薄い灰色を呈している。引続いて真
空焼戒を行うことにより、光沢のある外観を呈する「融
合型」兼「非融合型」の被膜が得られる。かかる被膜の
被膜表面からはAl2O3粒子が突出しているが、この
ことは走査電子顕微鏡写真において観察された.?成後
の被膜は艶の無い黒色の外観を呈する.かかる被膜はそ
の他の方法によって設置することもできる.たとえば、
金属酸化物を適当な結合剤またはその他の揮発性液状ビ
ヒクル中に分散させ、そしてターゲット表面上に吹付け
もしくは塗布することができる.更にまた、不活性ガス
中において金属酸化物の真空スパッタリングを行うこと
によって付着させることもできるし、あるいは金属酸化
物を楕戒する金属の真空スパッタリングを酸素分圧の存
在下で行うことによって金属酸化物被膜を形戒すること
もできる. 前述の米国特許第4132916号明細書中に記載され
ている通り、プラズマ溶射法の場合には、プラズマアー
クが極めて高い温度を有するため、混合物中のTiO2
から部分的に酸素が奪われる.この段階において、最初
は白色であったTiO2が青黒色に変わる.混合物中に
存在するTiO■の量に応じ、吹付け後の被膜は約0.
6〜0.85の範囲内の熱放射率を有する.また、肉
眼もしくは極めて低い拡大倍率の下で検査してみると、
ががる被?は粒子から戒る粗面状の外観を呈している.
このような状況下では、ターゲット表面の金属に対する
拡散および結合はまだ十分に達成されていると言えない
。
上記のごとき方法のいずれかによって被膜材料を均一に
付着させた後に実施される次の工程は重要である.この
工程は、熱放射率を最適化すると共に、一部の粒子がそ
のまま残存しているような融合型の被膜を形戒すること
を目的とするものである。すなわち、被覆後のX線管タ
ーゲットを真空中(実際には、1 0−5Torr以下
の低い圧力下〉で焼或することにより、融合した黒色の
被膜が形戒される。その際、TiO■からは更に酸素が
奪われる。焼或温度は少なくとも1600℃であること
を要するが、1725℃を越えてはならない.焼成温度
が高過ぎると、溶融した被膜が被覆すべきでない領域に
まで流れることがある.真空中における焼成の結果、得
られた被膜はX線管の高真空中において少なくとも16
00℃までの温度に対して安定である.この温度は、焦
点軌道外のターゲット領域に関して予想されるいかなる
温度よりも高い値である.本発明の方法に従って形戒さ
れた被膜は、一貫して0.90〜0.91の熱放射率を
示した. 当業者にとっては自明の通り、ターゲット18はロータ
24に取付けた後に焼戒することはできない.なぜなら
、ロータの銅製および鋼製部分はそれぞれ1083℃お
よび1450℃の融点を有するからである. 好適な実施の態様に従えば、ZrO2は4(重量)%の
酸化カルシウムによって安定化される。
付着させた後に実施される次の工程は重要である.この
工程は、熱放射率を最適化すると共に、一部の粒子がそ
のまま残存しているような融合型の被膜を形戒すること
を目的とするものである。すなわち、被覆後のX線管タ
ーゲットを真空中(実際には、1 0−5Torr以下
の低い圧力下〉で焼或することにより、融合した黒色の
被膜が形戒される。その際、TiO■からは更に酸素が
奪われる。焼或温度は少なくとも1600℃であること
を要するが、1725℃を越えてはならない.焼成温度
が高過ぎると、溶融した被膜が被覆すべきでない領域に
まで流れることがある.真空中における焼成の結果、得
られた被膜はX線管の高真空中において少なくとも16
00℃までの温度に対して安定である.この温度は、焦
点軌道外のターゲット領域に関して予想されるいかなる
温度よりも高い値である.本発明の方法に従って形戒さ
れた被膜は、一貫して0.90〜0.91の熱放射率を
示した. 当業者にとっては自明の通り、ターゲット18はロータ
24に取付けた後に焼戒することはできない.なぜなら
、ロータの銅製および鋼製部分はそれぞれ1083℃お
よび1450℃の融点を有するからである. 好適な実施の態様に従えば、ZrO2は4(重量)%の
酸化カルシウムによって安定化される。
所望ならば、酸化カルシウムの量を8%にまで増加させ
ることもできる.あるいはまた、酸化イットリウムのご
とき安定剤を上記の場合と同じ量で使用することもでき
る. A I.0 ,およびTiO2と組合わせて使用するた
めに好適な材料はZrO2であるが、その代りに酸化ラ
ンタン(La20s>を使用することもできる.La2
03を用いた被膜材料は、ZrO2を用いた被膜材料の
場合と同様にしてターゲットの後面2oに付着させるこ
とができる。
ることもできる.あるいはまた、酸化イットリウムのご
とき安定剤を上記の場合と同じ量で使用することもでき
る. A I.0 ,およびTiO2と組合わせて使用するた
めに好適な材料はZrO2であるが、その代りに酸化ラ
ンタン(La20s>を使用することもできる.La2
03を用いた被膜材料は、ZrO2を用いた被膜材料の
場合と同様にしてターゲットの後面2oに付着させるこ
とができる。
第1図は本発明の被膜材料を適用し得る典型的な回転陽
極X線管の断面図、そして第2図は第1図に示されたX
線管ターゲットの断面図である。 図中、10はX線管、11はガラス管球、12は陰極支
持体、13は陰極構造物、14はフィラメント、15は
集束カップ、18は陽極またはターゲット、19は焦点
軌道、20は後面、21は前面、22は外周面、そして
24はロータを表わす。
極X線管の断面図、そして第2図は第1図に示されたX
線管ターゲットの断面図である。 図中、10はX線管、11はガラス管球、12は陰極支
持体、13は陰極構造物、14はフィラメント、15は
集束カップ、18は陽極またはターゲット、19は焦点
軌道、20は後面、21は前面、22は外周面、そして
24はロータを表わす。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、電子により衝撃されてX線を発生するための表面領
域を有する本体、および前記表面領域とは異なる部位に
設置されて前記本体の熱放射率を向上させるための被膜
から構成されるX線管陽極において、前記被膜が50〜
80(重量)%のAl_2O_3と50〜20(重量)
%のZrO_2またはLa_2O_3およびTiO_2
との金属酸化物混合物から成り、かつ前記TiO_2と
前記ZrO_2またはLa_2O_3とが1:1〜10
:1の範囲内の比率で存在することを特徴とするX線管
陽極。 2、前記Al_2O_3が前記被膜の重量を基準として
約80(重量)%の量で存在し、かつ前記ZrO_2お
よび前記TiO_2が前記被膜の重量を基準として約2
0(重量)%の量で存在する請求項1記載の陽極。 3、前記ZrO_2が前記被膜の重量を基準として約2
〜25(重量)%の範囲内の量で存在する請求項1記載
の陽極。 4、前記ZrO_2が前記被膜の重量を基準として約2
(重量)%の量で存在する請求項1記載の陽極。 5、前記ZrO_2および前記TiO_2が相等しい量
で存在する請求項1記載の陽極。 6、前記ZrO_2が酸化カルシウム(カルシア)によ
って安定化されている請求項1記載の陽極。 7、電子により衝撃されてX線を発生するための表面領
域を有する本体、および前記表面領域とは異なる部位に
設置されて前記本体の熱放射率を向上させるための被膜
から構成されるX線管陽極用の被膜材料において、前記
被膜材料が50〜80(重量)%のAl_2O_3と5
0〜20(重量)%のZrO_2またはLa_2O_3
およびTiO_2との金属酸化物混合物から成り、前記
TiO_2と前記ZrO_2またはLa_2O_3とが
1:1〜10:1の範囲内の比率で存在し、かつ前記被
膜材料を前記陽極に融着させることによって得られた被
膜の表面からは前記Al_2O_3の粒子が突出してい
ることを特徴とする被膜材料。 8、前記Al_2O_3が前記被膜材料の重量を基準と
して約80(重量)%の量で存在し、かつ前記ZrO_
2および前記TiO_2が前記被膜材料の重量を基準と
して約20(重量)%の量で存在する請求項7記載の被
膜材料。 9、前記ZrO_2が前記被膜材料の重量を基準として
約2〜25(重量)%の範囲内の量で存在する請求項7
記載の被膜材料。 10、前記ZrO_2が前記被膜材料の重量を基準とし
て約2(重量)%の量で存在する請求項7記載の被膜材
料。 11、前記ZrO_2および前記TiO_2が相等しい
量で存在する請求項7記載の被膜材料。 12、前記ZrO_2が酸化カルシウムによって安定化
されている請求項7記載の被膜材料。 13、X線管陽極上に熱放射率の高い被膜を形成するた
めの方法において、(a)50〜80(重量)%のAl
_2O_3と50〜20(重量)%のZrO_2または
La_2O_3およびTiO_2との粒子状金属酸化物
混合物から成り、かつ前記TiO_2と前記ZrO_2
またはLa_2O_3とが1:1〜10:1の範囲内の
比率で存在するような被膜材料を前記陽極の特定の表面
領域上に付着させ、次いで(b)前記被膜材料を融着さ
せるのに十分な時間にわたつて前記陽極を真空条件およ
び少なくとも1600℃の温度の下で加熱することによ
り、前記Al_2O_3の粒子が被膜表面から突出して
いる平滑な黒色の被膜を形成する両工程から成ることを
特徴とする方法。 14、前記温度が1725℃を越えない請求項13記載
の方法。 15、前記被膜材料がプラズマ溶射法によって前記陽極
に付着させられる請求項13記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US373,723 | 1989-06-29 | ||
| US07/373,723 US4953190A (en) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | Thermal emissive coating for x-ray targets |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0395840A true JPH0395840A (ja) | 1991-04-22 |
| JP2606953B2 JP2606953B2 (ja) | 1997-05-07 |
Family
ID=23473602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2170421A Expired - Fee Related JP2606953B2 (ja) | 1989-06-29 | 1990-06-29 | X線管ターゲット用の熱放射性被膜 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4953190A (ja) |
| EP (1) | EP0405133B1 (ja) |
| JP (1) | JP2606953B2 (ja) |
| AT (1) | ATE112890T1 (ja) |
| DE (1) | DE69013240T2 (ja) |
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- 1990-05-22 AT AT90109669T patent/ATE112890T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-05-22 DE DE69013240T patent/DE69013240T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-06-29 JP JP2170421A patent/JP2606953B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2009064710A (ja) * | 2007-09-07 | 2009-03-26 | Hitachi Medical Corp | X線発生装置及びx線ct装置 |
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| US9251993B2 (en) | 2013-04-30 | 2016-02-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | X-ray tube and anode target |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0405133A1 (en) | 1991-01-02 |
| DE69013240D1 (de) | 1994-11-17 |
| EP0405133B1 (en) | 1994-10-12 |
| US4953190A (en) | 1990-08-28 |
| ATE112890T1 (de) | 1994-10-15 |
| DE69013240T2 (de) | 1995-05-04 |
| JP2606953B2 (ja) | 1997-05-07 |
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